光學(xué)薄膜及其制造方法【專利摘要】本發(fā)明提供一種光學(xué)薄膜及其制造方法，即使將薄層的光學(xué)薄膜卷繞成卷狀，也可防止卷偏或卷松，并且可防止黑帶故障或薄膜變形故障。將薄膜厚度目標(biāo)值TM(x)mm設(shè)為下式，即，沿薄膜寬度方向每隔0.5mm對(duì)所制成的薄膜進(jìn)行測(cè)定，將對(duì)其測(cè)定值進(jìn)行繪圖而連成的函數(shù)設(shè)為T(x)mm，以使T(x)處于TM(x)的100±0.8％以內(nèi)的方式而對(duì)厚度分布進(jìn)行調(diào)整?！緦＠f(shuō)明】光學(xué)薄膜及其制造方法【
技術(shù)領(lǐng)域：
】[0001]本發(fā)明涉及一種光學(xué)薄膜及其制造方法，特別是涉及一種用于偏光板的保護(hù)薄膜等的包含乙酸纖維素(celluloseacetate)或聚酯(polyester)等的光學(xué)薄膜及其制造方法?！?br>背景技術(shù)：
】[0002]用于偏光板的保護(hù)薄膜等的光學(xué)薄膜是使用溶液制膜法或熔融制膜法來(lái)制造。[0003]在溶液制膜法中，是借由如下方式來(lái)制造:將濃稠溶液(濃液(dope))澆鑄于移動(dòng)的環(huán)狀(endless)支撐體上，在所述濃液干燥而產(chǎn)生自我支撐性之后，連續(xù)地剝下然后使其干燥。[0004]對(duì)于以如上所述方式制成的帶狀薄膜，例如，如專利文獻(xiàn)I所示，在側(cè)端部(寬度方向的端部)賦予滾花(knurl)之后，卷繞成卷狀，而作為薄膜卷加以保存、搬送。滾花是又被稱為壓紋(emboss)、壓花(knurling)加工的微小的凹凸，既可防止卷偏或卷松，又可防止薄膜彼此密接(粘連(blocking))而引起的黑帶故障。在此，黑帶故障是指在卷繞的卷狀內(nèi)，膜層和膜層互相密接，結(jié)果膜互相黏住而顯現(xiàn)成為透明狀的外觀的部份。如果產(chǎn)生黑帶故障，那么在將薄膜彼此剝離時(shí)會(huì)產(chǎn)生折彎(knick)狀的變形而無(wú)法獲得均勻的偏光度，因此尤其在用作光學(xué)用途薄膜時(shí)會(huì)產(chǎn)生問(wèn)題。[0005]已成為薄膜卷的光學(xué)薄膜在下一個(gè)步驟中被倒卷開，在一側(cè)的面上實(shí)施用于防眩處理等的涂布。然后，借由自己去除側(cè)端部的部分(制品部)切取規(guī)定的形狀，來(lái)制造偏光板保護(hù)薄膜等制品。[0006][現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)][0007][專利文獻(xiàn)][0008][專利文獻(xiàn)I]日本專利特開2003-167314號(hào)公報(bào)【
發(fā)明內(nèi)容】[0009]本發(fā)明欲解決的課題[0010]然而，近年來(lái)，隨著智能手機(jī)(smartphone)、平板電腦(tabletcomputer)的發(fā)展，薄層的光學(xué)薄膜的需求高漲起來(lái)。其原因在于，在移動(dòng)設(shè)備中，為了確保電池容量，優(yōu)選薄的光學(xué)薄膜。[0011]現(xiàn)有的厚度(60μπι左右)的光學(xué)薄膜是有韌性的，因此如專利文獻(xiàn)I所示可借由滾花加工來(lái)防止黑帶故障，然而薄層的光學(xué)薄膜則容易發(fā)生變形，因此會(huì)產(chǎn)生如下問(wèn)題，即，不僅顯現(xiàn)發(fā)黑帶故障，而且顯現(xiàn)由卷繞所引起的薄膜變形(凹陷、凹部)故障。再者，在由卷繞所引起的薄膜變形(凹陷、凹部)中存在龜紋凹陷及扭曲凹陷，龜紋凹陷是看起來(lái)為龜甲殼紋路的變形故障，扭曲凹陷是因扭曲而產(chǎn)生縱向褶皺的變形故障。[0012]所述變形故障是由于在對(duì)薄膜進(jìn)行卷繞時(shí)將空氣卷入至卷繞輥內(nèi)，隨著時(shí)間經(jīng)過(guò)空氣(air)排出，所述部分發(fā)生屈曲而產(chǎn)生。[0013]本發(fā)明是由于如上所述的情況而開發(fā)，目的在于提供一種光學(xué)薄膜及其制造方法，即使將薄層的光學(xué)薄膜卷繞成卷狀，也可防止卷偏或卷松，并且可防止黑帶故障或薄膜變形故障。[0014]解決課題的手段[0015]為了達(dá)成所述目的，本發(fā)明的一實(shí)施方式提供一種光學(xué)薄膜的制造方法，包括如下步驟:當(dāng)將自薄膜寬度方向的左右端部算起進(jìn)入3mm的部位的厚度的平均值設(shè)為Ts(mm),將自薄膜寬度方向的一端算起的位置設(shè)為x(mm),將薄膜寬度設(shè)為W(mm),將在薄膜兩端經(jīng)滾花加工而成的滾花的高度設(shè)為R(mm)時(shí)，將作為它們的函數(shù)而表示的薄膜厚度目標(biāo)值TM(X)(mm)設(shè)為下式，SP，【權(quán)利要求】1.一種光學(xué)薄膜的制造方法，其特征在于，包括如下步驟:當(dāng)將自薄膜寬度方向的兩端算起進(jìn)入3mm的部位的厚度的平均值設(shè)為Tsmm,將自所述薄膜寬度方向的一端算起的位置設(shè)為Xmm，將所述薄膜寬度設(shè)為Wmm，將在所述薄膜兩端經(jīng)滾花加工而成的滾花的高度設(shè)為R_時(shí)，將作為它們的函數(shù)而表示的薄膜厚度目標(biāo)值TM(X)mm設(shè)為下式，即，2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)薄膜的制造方法，其特征在于:所述光學(xué)薄膜的厚度為10μm~40μm03.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的光學(xué)薄膜的制造方法，其特征在于:所述光學(xué)薄膜被卷繞3800m以上。4.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的光學(xué)薄膜的制造方法，其特征在于:所述光學(xué)薄膜為三乙酸纖維素薄膜。5.一種光學(xué)薄膜，其特征在于:當(dāng)將自薄膜寬度方向的左右端部算起3mm的部位的厚度的平均值設(shè)為Tsmm，將自所述薄膜寬度方向的一端算起的位置設(shè)為Xmm，將所述薄膜寬度設(shè)為Wmm，將在所述薄膜兩端經(jīng)滾花加工而成的滾花的高度設(shè)為R_時(shí)，將作為它們的函數(shù)而表示的薄膜厚度目標(biāo)值TM(X)mm設(shè)為下式，即，【文檔編號(hào)】G02B5/30GK104015350SQ201410067706【公開日】2014年9月3日申請(qǐng)日期:2014年2月26日優(yōu)先權(quán)日:2013年2月28日【發(fā)明者】松村善仁申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社