一種pdlc顯示模塊的制作方法
【專利摘要】一種PDLC顯示模塊，包括上下兩層透明導(dǎo)電膜，以及夾在該兩層透明導(dǎo)電膜之間的PDLC層，所述透明導(dǎo)電膜包括減反結(jié)構(gòu)和襯底，所述減反結(jié)構(gòu)包括介質(zhì)層-抗氧化金屬層-金屬導(dǎo)電層-抗氧化金屬層-介質(zhì)層，所述抗氧化金屬層為鋅或鈦，其中所述兩層透明導(dǎo)電膜中的襯底面對面設(shè)置，所述兩層透明導(dǎo)電膜中的減反結(jié)構(gòu)則朝外設(shè)置，形成背靠背的結(jié)構(gòu)。該P(yáng)DLC所使用的透明導(dǎo)電膜在總體厚度遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于現(xiàn)有的ITO膜的情況下，實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的光學(xué)性能和電學(xué)性能，并且可以實(shí)現(xiàn)大規(guī)模、大面積生產(chǎn)。同時(shí)由于減反部分是“背對背”的結(jié)構(gòu)，可以直接在透明導(dǎo)電膜的外側(cè)施加電壓，PDLC外側(cè)布線工藝的復(fù)雜性會(huì)大大減少。
【專利說明】—種PDLC顯示模塊
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明PDLC顯示領(lǐng)域，特別是一種具有高透光性能透明導(dǎo)電膜的roLC顯示模塊?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]聚合物分散液晶(Polymerdispersed liquid crystal, PDLC)是一種通過調(diào)控電壓控制透過率的智能調(diào)光薄膜。roLC是將小分子液晶(LC)分散于透明的聚合物基體中，聚合物為液晶微滴提供穩(wěn)定的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)，小分子液晶形成微米或納米尺寸的液晶微粒。沒有施加電壓時(shí)，液晶分子是無序排列的，入射光照射進(jìn)來以后在液晶分子與高分子基體的界面上多次折射與反射，顯示出白色的散射態(tài)。當(dāng)施加電壓時(shí)，液晶分子會(huì)沿著電場的方向排列，從而入射光進(jìn)來以后不會(huì)發(fā)生反射和折射而直接透射出來。與傳統(tǒng)的液晶器件相比，PDLC的優(yōu)勢在于不需要偏振片和取向?qū)?，制備工藝簡單，易于制成大面積柔性顯示器，目前在各種隱私保護(hù)的商業(yè)空間裝飾、辦公室、酒店裝潢、投影展示、3D投影等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。
[0003]當(dāng)前市場上有很多關(guān)于roLC產(chǎn)品的專利，例如京東方科技集團(tuán)股份有限公司(申請?zhí)?201310198447.x)最近公開了一種TOLC液晶面板的制備方法以解決現(xiàn)有TOLC液晶面板亮度不均的問題。它主要將液晶分子、光引發(fā)劑和預(yù)聚物混合均勻得到液晶混合物；將得到的液晶混合物注入到液晶空盒中形成液晶盒；利用強(qiáng)弱均勻交替的光線照射液晶盒，在液晶盒內(nèi)的液晶混合物發(fā)生聚合反應(yīng)后得到roLC液晶面板。北京三五九投資有限公司(申請?zhí)?201310002541.3)設(shè)計(jì)的TOLC柔性顯示模板，它采用光刻、刻蝕工藝形成透明導(dǎo)電柵條、之后用涂布工藝、光固化、噴繪油墨層的方法制備。為了解決液晶分子從電場方向回復(fù)到上電前狀態(tài)慢的問題，京東方科技集團(tuán)股份有限公司(申請?zhí)?201210378891.5)在某個(gè)透明導(dǎo)電膜層上設(shè)計(jì)了 2組電極，很好地解決回復(fù)慢的問題。京東方科技集團(tuán)股份有限公司(申請?zhí)?201120449388.5 )還設(shè)計(jì)出一種雙面I3DLC顯示裝置，共有兩個(gè)I3DLC層，可實(shí)現(xiàn)單面或雙面顯示，具有體積小、重量輕且厚度小，能夠符合電子產(chǎn)品輕、薄、短、小的趨勢。
[0004]一種常見的I3DLC結(jié)構(gòu)如圖1所示，它的主要結(jié)構(gòu)是附著在基材10上的透明導(dǎo)電膜20 “面對面”排列，在透明導(dǎo)電膜20中間有一層聚合物分散液晶30。透明導(dǎo)電膜20邊緣有引線導(dǎo)出。器件在工作時(shí)，在透明導(dǎo)電膜兩側(cè)加電壓，電場將產(chǎn)生在TOLC層中，液晶分子會(huì)沿著電場的方向排列，從而入射光進(jìn)來以后不會(huì)發(fā)生反射和折射而直接透射出來。關(guān)閉電源，液晶分子排布趨向無序，對光的散射作用加強(qiáng)。因此，通過改變電壓可以有效地控制TOLC器件的透過率。然而由于上下兩層透明導(dǎo)電膜20本身的透光性能不是很好，使得PDLC的光線利用率不高。一種提高透明導(dǎo)電膜的減反性的主要方法是再加一層減反膜來降低界面對光的反射作用，增加界面對光的透過。通過理論計(jì)算分析出，對波長為λ的光，要實(shí)現(xiàn)減反射，減反膜的折射率n= Oi1Ii2) °_5，其中Ii1和η2分別是空氣和基材的折射率，減反膜的最小光學(xué)厚度為λ/4 (其中λ為光的波長)。單層膜只對某一特定波長的光波減反，為使在更大波長范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)減反，人們通常利用多層膜來實(shí)現(xiàn)。本公司的技術(shù)人員通過理論設(shè)計(jì)，發(fā)現(xiàn)規(guī)整膜系的多層減反膜的厚度需要達(dá)到248nm才能有較好的減反效果。較大的厚度會(huì)造成成本的提高和價(jià)格上的劣勢。上海交通大學(xué)的一個(gè)課題組提出了電介質(zhì)層/金屬層/電介質(zhì)層三層結(jié)構(gòu)，厚度在IOOnm以下，同時(shí)具有較好的導(dǎo)電性可見光透過率性，然而，由于金屬層很容易被氧化，導(dǎo)致使用壽命不高，在實(shí)際生產(chǎn)和使用中還存在很大問題(專利申請?zhí)?03116461.7)。另外，使用傳統(tǒng)的ITO作為透明導(dǎo)電膜的主要材料，靶材貴重，鍍膜前需要對柔性基材表面進(jìn)行硬化處理和涂覆折射率匹配層等，鍍膜后需要進(jìn)行晶化處理，導(dǎo)致了生產(chǎn)成本的大幅度增加。
[0005]因此，對于目前roLC的產(chǎn)品上的不足，主要?dú)w結(jié)于以下幾個(gè)因素:1.在制備ITO膜時(shí)需要進(jìn)行退火處理和基材的表面硬化處理，導(dǎo)致了生產(chǎn)成本過高；2.1TO不具有減反效應(yīng)，如果按規(guī)整膜系設(shè)計(jì)減反膜，則厚度會(huì)超過兩百多納米，同樣提高了生產(chǎn)成本和原料的消耗；3.透明導(dǎo)電ITO薄膜的方塊電阻值高達(dá)100-150Ω/ □，導(dǎo)致器件的驅(qū)動(dòng)電壓大，反應(yīng)緩慢；4.目前的roLC產(chǎn)品由于ITO層是“面對面”結(jié)構(gòu)，需要有專門的引線將內(nèi)側(cè)的ITO透明導(dǎo)電薄膜引出，使得布線較為復(fù)雜。
[0006]因此亟需發(fā)展出一種新型透明導(dǎo)電膜來取代ITO薄膜用于TOLC中，一方面它需要具有較高的減反性和較低的電阻率，另一方面需要節(jié)省成本，使用方便。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種roLC顯示模塊，該roLC顯示模塊使用一種特殊的透明導(dǎo)電膜，該透明導(dǎo)電膜不僅具備高透光、低電阻的優(yōu)勢，同時(shí)能夠以“背對背”的方式，將導(dǎo)電部分設(shè)置在roLC顯示模塊的外側(cè)，方便電路的布局。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的目的提出的一種roLC顯示模塊，包括上下兩層透明導(dǎo)電膜，以及夾在該兩層透明導(dǎo)電膜之間的roLC層，所述透明導(dǎo)電膜包括減反結(jié)構(gòu)和襯底，所述減反結(jié)構(gòu)包括介質(zhì)層-抗氧化金屬層-金屬導(dǎo)電層-抗氧化金屬層-介質(zhì)層，所述抗氧化金屬層為鋅或鈦，其中所述兩層透明導(dǎo)電膜中的襯底面對面設(shè)置，所述兩層透明導(dǎo)電膜中的減反結(jié)構(gòu)則朝外設(shè)置，形成背靠背的結(jié)構(gòu)。
[0009]優(yōu)選的，所述兩層介質(zhì)層的總光學(xué)厚度為I個(gè)光學(xué)單位，且該兩層介質(zhì)層的光學(xué)厚度以中間的導(dǎo)電金屬層為鏡像對稱。
[0010]優(yōu)選的，所述金屬導(dǎo)電層的厚度小于10nm，抗氧化金屬層的厚度在Ι-lOnm之間，且該兩層抗氧化金屬層以中間的導(dǎo)電金屬層為鏡像對稱。
[0011]優(yōu)選的，所述兩層介質(zhì)層的折射率分別大于2。
[0012]優(yōu)選的，所述導(dǎo)電金屬層為金或銀。
[0013]優(yōu)選的，所述減反結(jié)構(gòu)的方塊電阻小于10Ω / 口。
[0014]優(yōu)選的，所述介質(zhì)層的材質(zhì)為TiOx、NbOx, ZrOx, ZnOx, CeOx, TaOx, ZnSe或ZnS中的一種。
[0015]優(yōu)選的，所述襯底為柔性透明材質(zhì)。
[0016]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下的技術(shù)優(yōu)勢:
[0017]1、該TOLC顯示模塊所使用的減反結(jié)構(gòu)，其總厚度僅在幾十個(gè)納米范圍，比傳統(tǒng)的規(guī)整膜系降低了一個(gè)數(shù)量級(jí)，制備出來的減反膜在可見光范圍內(nèi)的單面反射率低于
2.0-3.0%，具有90%以上的高透射率。
[0018]2、通過加入了抗氧化金屬層，對傳統(tǒng)的三明治結(jié)構(gòu)透明導(dǎo)電膜加以優(yōu)化，一方面降低了減反膜的方塊電阻，僅在10 Ω / □以下，具有優(yōu)秀的導(dǎo)電性能，另一方面對防止導(dǎo)電金屬層氧化，提高使用壽命起到重要的作用。
[0019]3、本發(fā)明所使用的透明導(dǎo)電膜制作起來簡單快捷，并可大面積生產(chǎn)，不僅降低了生產(chǎn)成本，而且為工業(yè)化應(yīng)用提供了可能。。
[0020]4、由于透明導(dǎo)電膜的減反結(jié)構(gòu)本身具有優(yōu)異的附著性能，可以使用“背對背”結(jié)構(gòu)代替現(xiàn)有的ITO膜的“面對面”結(jié)構(gòu)，使得roLC顯示模塊可直接在外側(cè)進(jìn)行供電，簡化了布線等生產(chǎn)工藝，使用起來也更方便。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0021]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0022]圖1為一種常見的I3DLC結(jié)構(gòu)。
[0023]圖2是本發(fā)明實(shí)施方式中的五層U型減反射結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0024]圖3為中間金屬層的厚度從6-10nm變化的光學(xué)減反膜的反射曲線族。
[0025]圖4為該透明導(dǎo)電膜的總體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]圖5是本發(fā)明的減反膜與現(xiàn)有的ITO膜的反射率的比較圖。
[0027]圖6是本發(fā)明的TOLC “背對背”結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0028]正如【背景技術(shù)】中所述，現(xiàn)有的TOLC顯示模塊，受限于ITO薄膜本身的劣勢，具有如下的問題:1.在制備ITO膜時(shí)需要進(jìn)行退火處理和基材的表面硬化處理，導(dǎo)致了生產(chǎn)成本過高；2.1TO不具有減反效應(yīng)，如果按規(guī)整膜系設(shè)計(jì)減反膜，則厚度會(huì)超過兩百多納米，同樣增加了生產(chǎn)成本和原料的消耗；3.透明導(dǎo)電ITO薄膜的電阻值高達(dá)100-150Ω/ □，導(dǎo)致器件的驅(qū)動(dòng)電壓大，反應(yīng)緩慢；4.目前的TOLC產(chǎn)品都是“面對面”結(jié)構(gòu)，需要有專門的引線將內(nèi)側(cè)的ITO導(dǎo)電膜引出，使得布線較為復(fù)雜。
[0029]目前的高透低電阻多層膜結(jié)構(gòu)一般為金屬氧化物/導(dǎo)電層/金屬氧化物這種所謂的三明治結(jié)構(gòu)，就如專利申請?zhí)枮?3116461.7的專利中所體現(xiàn)的，然而，這種結(jié)構(gòu)主要有兩點(diǎn)劣勢，第一，導(dǎo)電層首先不能太厚，否則會(huì)對透過性產(chǎn)生不好的影響，然而，太薄的金屬導(dǎo)電層(如IOnm以下)很容易形成島狀結(jié)構(gòu)而非連續(xù)薄膜，這將導(dǎo)致金屬導(dǎo)電層的導(dǎo)電性能下降；第二，導(dǎo)電層一般選用金屬Ag，金屬氧化物中的氧原子和外界環(huán)境中的氧原子容易將Ag層所氧化，降低Ag層的導(dǎo)電性。為了解決這些問題，我們選用一層與氧較容易發(fā)生反應(yīng)的抗氧化金屬層，將該抗氧化金屬層引入到三明治結(jié)構(gòu)中，一方面可以填充Ag層中島狀結(jié)構(gòu)附近的空隙，得到較高的導(dǎo)電性，另一方面，金屬氧化物中的氧原子與該抗氧化金屬層反應(yīng)，形成致密的氧化膜，對最內(nèi)層的金屬導(dǎo)電層起到極佳的保護(hù)作用。而所形成的金屬鍵也為提高金屬氧化物與抗氧化金屬層的附著力起到重要的作用。我們選用Zn和Ti這兩種金屬作為抗氧化金屬層，這是由于Zn和Ti的較為活潑，很容易氧化生成致密的氧化膜，而氧化膜的性能非常穩(wěn)定，化學(xué)性能也很穩(wěn)定，可以有效地保護(hù)最內(nèi)層的導(dǎo)電金屬層。[0030]因此，在傳統(tǒng)的介質(zhì)層/金屬層/介質(zhì)層三明治結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，本發(fā)明提出了一種新型減反結(jié)構(gòu)的透明導(dǎo)電膜及使用該透明導(dǎo)電膜的roLC顯示模塊，該減反結(jié)構(gòu)包括介質(zhì)層-抗氧化金屬層-金屬導(dǎo)電層-抗氧化金屬層-介質(zhì)層五層結(jié)構(gòu)，且總厚度只有幾十個(gè)納米，與現(xiàn)有的多層減反膜相比，膜層的數(shù)量減少，厚度也大大減少，因此降低了單次膜的鍍膜時(shí)間，為大面積、大規(guī)模生產(chǎn)提供了可行性。由于加入了抗氧化金屬層，極大地提高了減反射膜的導(dǎo)電性和抗氧化性，提高了減反射膜的使用壽命。同時(shí)由于本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜沒有ITO膜那樣容易受到環(huán)境影響，因此可以安裝在外面，即采用“背對背”結(jié)構(gòu)。這樣做的好處是，在使用過程中，直接可以用接有正負(fù)極的夾子夾在兩側(cè)，避免了 roLC器件在制備過程中布線的復(fù)雜程度，簡化了制備工藝。
[0031]下面將通過具體的結(jié)構(gòu)對上述現(xiàn)象做詳細(xì)介紹。
[0032]如圖2所示，該減反結(jié)構(gòu)包括位于上下外側(cè)的兩層介質(zhì)層111和115、位于中間的導(dǎo)電金屬層113和分別夾在導(dǎo)電金屬層與兩層介質(zhì)層之間的兩層抗氧化金屬層112和114。其中導(dǎo)電金屬層113的厚度小于10nm，其材料考慮到電學(xué)性能，優(yōu)選為金或銀?？寡趸饘賹?12和114 一方面可以“抓住”介質(zhì)層111和115中的氧離子，使介質(zhì)層呈欠氧狀態(tài)，進(jìn)而形成所謂的隧穿效應(yīng)提高導(dǎo)電性，一方面可以防止導(dǎo)電金屬層被外界及氧化物介質(zhì)層的氧化而失效，同時(shí)在導(dǎo)電金屬層因厚度過小出現(xiàn)間隙時(shí)進(jìn)行填充，從而增加導(dǎo)電性能。它的厚度在1-1Onm之間，優(yōu)選為鋅或鈦?？紤]到介質(zhì)膜的厚度對光線減反效果的影響，我們?nèi)蓪咏橘|(zhì)膜111和115的總光學(xué)厚度為I個(gè)光學(xué)單位。在本發(fā)明中，為了有效降低五層結(jié)構(gòu)的總體厚度，我們?nèi)≌凵渎食^2的高折射率介質(zhì)材料作為該兩層介質(zhì)層111和115的材料。比如TiOx、NbOx, ZrOx, ZnOx, CeOx, TaOx, ZnSe, ZnS等。這樣一來，在滿足兩層介質(zhì)層的總光學(xué)厚度為λ/4 (即一個(gè)光學(xué)單位)的情況下，每層介質(zhì)層的物理厚度可以盡可能的低。以TiO2為例，其折射率η=2.32，當(dāng)入射光的波長為550nm時(shí)，根據(jù)光學(xué)厚度的計(jì)算公式nd= λ/4可知(其中η為介質(zhì)層的折射率，d為介質(zhì)層的物理厚度，λ/4為一個(gè)光學(xué)單位)，單層介質(zhì)層的厚度約為27nm，此時(shí)該減反結(jié)構(gòu)的總體厚度可以控制在70nm左右，遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于現(xiàn)有的其他減反膜的厚度。需要指出的是，對于兩層介質(zhì)層111、115和兩層抗氧化金屬層112、114，可以分別選用相同的材料，也可以是不同的材料，但是兩層介質(zhì)層的光學(xué)厚度，和兩層抗氧化金屬層的物理厚度都以中間的導(dǎo)電金屬層為鏡像對稱。
[0033]請?jiān)賲⒁妶D3，如圖3所示，圖3為中間導(dǎo)電金屬層的厚度從6-10nm變化的光學(xué)減反膜的反射曲線族，其中曲線I表示中間金屬層的厚度為6nm，曲線2表示中間金屬層的厚度為7nm,曲線3表不中間金屬層的厚度為8nm,曲線4表不中間金屬層的厚度為9nm,曲線5表示中間金屬層的厚度為10nm。從圖中可以看出，絕大多數(shù)情況下，本發(fā)明的減反結(jié)構(gòu)在整個(gè)可見光波段都呈現(xiàn)較低的反射特性。其中當(dāng)金屬層的厚度在6nm時(shí)，表現(xiàn)出W型反射率曲線，效果最好。
[0034]基于上述減反結(jié)構(gòu)，本發(fā)明提出了一種可應(yīng)用在TOLC的透明導(dǎo)電膜。請參見圖4，圖4是該透明導(dǎo)電膜的總體結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示，該透明導(dǎo)電膜包括襯底2和附著在該襯底2 —側(cè)的減反結(jié)構(gòu)I。該襯底2最好為柔性透明材料，具體可以為聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)等，選擇柔性基材，通過卷對卷磁控濺射的方法，可以大規(guī)模生產(chǎn)出具有優(yōu)異光電性能的減反射膜，可以將之應(yīng)用于TOLC中取代傳統(tǒng)的ITO透明導(dǎo)電膜，具有極大的發(fā)展?jié)摿Α0035]請參見圖5，圖5是本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜和現(xiàn)有的的ITO薄膜的反射率比較圖。其中曲線I為現(xiàn)有的ITO膜的反射率，曲線2為本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜(PET/NbOx/Ti/Ag/Ti/NbOx/Air)的反射率，其五層減反結(jié)構(gòu)的總物理厚度為65nm左右。從圖中可以看出在400-700nm可見光波段，不同波長內(nèi)本發(fā)明的減反膜反射率大部分在2_3%以下，反射曲線是W型，具有優(yōu)秀的減反射效果。
[0036]下表為改變不同抗氧化金屬層的厚度，所設(shè)計(jì)的五層減反結(jié)構(gòu)的反射率、方塊電阻、水煮半小時(shí)以后的方塊電阻以及的水煮半小時(shí)以后的附著力實(shí)驗(yàn)結(jié)果。其中表一為金屬Zn,表二為金屬Ti。可以看出，在兩種抗氧化金屬層的厚度為1-1Onm之間，反射率一直在4%以下，具有優(yōu)秀的減反射性能，同時(shí)具有較低的方塊電阻，均在10 Ω / □以下，水煮半小時(shí)的耐候性測試也表明方塊電阻沒有發(fā)生太大變化，附著力良好，具有很好的耐候性。難能可貴的是，相比于市場上的增透膜產(chǎn)品，膜系結(jié)構(gòu)簡單，厚度非常薄(僅在一個(gè)光學(xué)厚度左右)，具有很大的產(chǎn)業(yè)化優(yōu)勢。
[0037]表一.不同抗氧化金屬層厚度的減反結(jié)構(gòu)的光電性能及耐候性測試結(jié)構(gòu)(Zn)
[0038]
【權(quán)利要求】
1.一種roLC顯示模塊，其特征在于:包括上下兩層透明導(dǎo)電膜，以及夾在該兩層透明導(dǎo)電膜之間的roLC層，所述透明導(dǎo)電膜包括減反結(jié)構(gòu)和襯底，所述減反結(jié)構(gòu)包括介質(zhì)層-抗氧化金屬層-金屬導(dǎo)電層-抗氧化金屬層-介質(zhì)層，所述抗氧化金屬層為鋅或鈦，其中所述兩層透明導(dǎo)電膜中的襯底面對面設(shè)置，所述兩層透明導(dǎo)電膜中的減反結(jié)構(gòu)則朝外設(shè)置，形成背靠背的結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的TOLC顯示模塊，其特征在于:所述兩層介質(zhì)層的總光學(xué)厚度為I個(gè)光學(xué)單位，且該兩層介質(zhì)層的光學(xué)厚度以中間的導(dǎo)電金屬層為鏡像對稱。
3.如權(quán)利要求1所述的roLC顯示模塊，其特征在于:所述金屬導(dǎo)電層的厚度小于10nm，抗氧化金屬層的厚度在1-1Onm之間，且該兩層抗氧化金屬層以中間的導(dǎo)電金屬層為鏡像對稱。
4.如權(quán)利要求1所述的roLC顯示模塊，其特征在于:所述兩層介質(zhì)層的折射率分別大于2。
5.如權(quán)利要求1所述的roLC顯示模塊，其特征在于:所述導(dǎo)電金屬層為金或銀。
6.如權(quán)利要求1所述的roLC顯示模塊，其特征在于:所述減反結(jié)構(gòu)的方塊電阻小于10 Ω / 口。
7.如權(quán)利要求1所述的roLC顯示模塊，其特征在于:所述介質(zhì)層的材質(zhì)為TiOx、NbOx、ZrOx、ZnOx、CeOx、TaOx、ZnSe 或 ZnS 中的一種。
8.如權(quán)利要求1所述的roLC顯示模塊，其特征在于:所述襯底為柔性透明材質(zhì)。
【文檔編號(hào)】G02F1/133GK103744220SQ201410042063
【公開日】2014年4月23日 申請日期:2014年1月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月28日
【發(fā)明者】于甄, 胡坤, 劉玉婷 申請人:張家港康得新光電材料有限公司