照明裝置、處理裝置及器件制造方法

文檔序號：2709885閱讀：128來源：國知局

照明裝置、處理裝置及器件制造方法
【專利摘要】照明裝置(IU)具有：第1光源部(21a)；光的射出方向與第1光源部不同的第2光源部(21b)；和以使來自第1光源部的光和來自第2光源部的光的行進方向一致的方式使光的至少一部分偏轉的偏轉部(22)。第1光源部和第2光源部以使從各光源部射出并經(jīng)由偏轉部的光所射入的照明區(qū)域沿規(guī)定方向連續(xù)地排列的方式在規(guī)定方向上配置在不同位置。
【專利說明】照明裝置、處理裝置及器件制造方法

【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及照明裝置、處理裝置及器件制造方法。
[0002] 本申請基于2012年5月29日的美國臨時申請61/652, 719號主張優(yōu)先權，并在此援用其內(nèi)容。

【背景技術】
[0003] 近年來，作為電視機等的顯示裝置，大多使用例如液晶顯示面板等平板顯示器。在平板顯示器這樣的各種器件的制造中，利用曝光裝置等處理裝置。例如，利用基于曝光裝置而實現(xiàn)的光刻方法、蝕刻技術等，在玻璃板上形成透明薄膜電極等各種膜圖案，由此來制造液晶顯示面板。作為光刻方法，提出有取代玻璃板而在卷繞成卷狀的片狀基板上對掩膜圖案的像進行投影曝光的方法（例如，參照下述的專利文獻1)。
[0004] 現(xiàn)有技術文獻 [0005] 專利文獻
[0006] 專利文獻1 :日本國特開2007-114385號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 出于能夠高效地制造器件等的觀點而期待曝光裝置等處理裝置擴大處理范圍，在用于這樣的處理裝置的照明裝置中，期望擴大與被處理物的移動方向垂直的方向上的光的照射范圍。
[0008] 本發(fā)明方案的目的在于，提供一種能夠擴大處理范圍的照明裝置、處理裝置及器件制造方法。
[0009] 根據(jù)本發(fā)明的第1方案，提供一種照明裝置，具有：第1光源部；第2光源部，其光的射出方向與上述第1光源部不同；和偏轉部，其以使來自上述第1光源部的光和來自上述第2光源部的光的行進方向一致的方式，使該光的至少一部分偏轉，上述第1光源部和上述第2光源部以使從各光源部射出并經(jīng)由上述偏轉部的光所射入的照明區(qū)域在規(guī)定方向上連續(xù)地排列的方式，在上述規(guī)定方向上配置在不同位置。
[0010] 根據(jù)本發(fā)明的第2方案，提供一種處理裝置，將形成為掩膜圖案的圖案轉印到具有感應層的基板上，該處理裝置具有：對上述掩膜圖案進行照明的第1方案的照明裝置；和使上述掩膜圖案和上述基板沿與上述規(guī)定方向垂直的方向相對移動的移動裝置。
[0011] 根據(jù)本發(fā)明的第3方案，提供一種器件制造方法，包括：通過第2方案的處理裝置，一邊使上述掩膜圖案和上述基板相對移動一邊將上述圖案連續(xù)地轉印到上述基板上；利用轉印有上述圖案的上述基板的感應層的變化來實施后續(xù)處理。
[0012] 發(fā)明效果
[0013] 根據(jù)本發(fā)明的方式，能夠提供一種可擴大處理范圍的照明裝置、處理裝置及器件制造方法。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0014] 圖1是表示器件制造系統(tǒng)的一例的圖。
[0015] 圖2是表示第1實施方式的處理裝置（曝光裝置）的側視圖。
[0016] 圖3是表示第1實施方式的處理裝置（曝光裝置）的主視圖。
[0017] 圖4A是表示第1實施方式的照明模塊的圖。
[0018] 圖4B是表示第1實施方式的照明模塊的圖。
[0019] 圖5是表示第1實施方式的偏轉部的立體圖。
[0020] 圖6是表示第1實施方式的偏轉部的俯視圖。
[0021] 圖7是表不照度分布及濾光片的一例的圖。
[0022] 圖8是表示照度分布及濾光片的其他例子的圖。
[0023] 圖9是表示第2實施方式的處理裝置（曝光裝置）的側視圖。
[0024] 圖10是表示第2實施方式的照明裝置的立體圖。
[0025] 圖11是表示第2實施方式的照明裝置的俯視圖。
[0026] 圖12是表示第2實施方式的照明裝置的光源的俯視圖。
[0027] 圖13A是表示第2實施方式的照明裝置的光學桿部件的圖。
[0028] 圖13B是表示第2實施方式的照明裝置的光學桿部件的圖。
[0029] 圖14是表示第2實施方式的照明裝置的中繼透鏡的俯視圖。
[0030] 圖15是表示第2實施方式的照明裝置的偏轉部的圖。
[0031] 圖16是表示第2實施方式的照明裝置的光闌部件的圖。
[0032] 圖17是表示第3實施方式的處理裝置（曝光裝置）的側視圖。
[0033] 圖18是表示第3實施方式的處理裝置（曝光裝置）的俯視圖。
[0034] 圖19是表示第4實施方式的處理裝置（曝光裝置）的側視圖。
[0035] 圖20是表示第4實施方式的處理裝置（曝光裝置）的主視圖。
[0036] 圖21是表示第4實施方式的照明裝置的偏轉部的主視圖。
[0037] 圖22是表示器件制造方法的一例的流程圖。

【具體實施方式】
[0038] [第1實施方式]
[0039] 圖1是表示器件制造系統(tǒng)SYS(柔性顯示器生產(chǎn)線）的結構例的圖。在此，示出了從供給卷FRl引出的撓性基板P(片、膜等）依次經(jīng)由η臺處理裝置U1、U2、U3、U4、U5、? Un而卷繞至回收卷FR2為止的例子。
[0040] 在圖1中，將XYZ正交坐標系設為，基板P的表面（或背面）被設定為與XZ面垂直，與基板P的搬送方向（長度方向）正交的方向（寬度方向）被設定為Y軸方向。Z軸方向被設定為例如鉛垂方向，X軸方向及Y軸方向被設定為水平方向。此外，為了便于說明，有時將從X軸方向（搬送方向的下游）觀察到的圖稱為主視圖，將從Y軸方向（旋轉中心軸的方向）觀察到的圖稱為側視圖，將從Z軸方向（鉛垂方向的上方）觀察到的圖稱為俯視圖。
[0041] 卷繞在供給卷FRl上的基板P通過夾持的驅動輥DRl而被引出，通過邊緣位置控制器EPCl而在Y方向上被定位并向處理裝置Ul輸送。
[0042] 處理裝置Ul是以印刷方式將感光性功能液（感光膠、感光性耦合材料、UV固化樹脂液等）沿基板P的搬送方向（長度方向）連續(xù)地或選擇性地涂敷于基板P表面的涂敷裝置。在處理裝置Ul內(nèi)設有涂敷機構Gpl和干燥機構Gp2等，其中，該涂敷機構Gpl包括卷繞基板P的壓版輥DR2、用于在該壓版輥DR2上將感光性功能液均勻地涂敷于基板P表面的涂敷用輥或將感光性功能液選擇性地涂敷的凸版或凹版的印版輥等，干燥機構Gp2用于快速地除去被涂敷于基板P的感光性功能液所包含的溶劑或水分。
[0043] 處理裝置U2是加熱裝置，用于將從處理裝置Ul搬送來的基板P加熱至規(guī)定溫度 (例如，數(shù)l〇°C至120°C左右）而使被涂敷于表面的感光性功能層穩(wěn)定地固定。在處理裝置 U2內(nèi)設有用于將基板P折返搬送的多個輥和空氣轉向桿（air turn bar)、冷卻室部HA2、夾持的驅動輥DR3等。
[0044] 作為曝光裝置的處理裝置U3包括曝光裝置，該曝光裝置對從處理裝置U2搬送來的基板P的感光性功能層照射與顯示器用的電路圖案和布線圖案對應的紫外線的經(jīng)圖案化的光。在處理裝置U3內(nèi)設有將基板P的Y方向（寬度方向）的中心控制于固定位置的邊緣位置控制器EPC2、夾持的驅動輥DR4、通過空氣軸承層以規(guī)定張力對沿X方向搬送的基板P的背面以平面或圓筒狀的彎曲面進行支承的基板載置臺ST (基板支承部件）、以及用于對基板P賦予規(guī)定的松弛（余裕）DL的兩組驅動輥DR6、DR7等。
[0045] 而且在處理裝置U3內(nèi)還設有：旋轉滾筒14,其在外周面上卷繞有片狀的掩膜基板 (以下稱作掩膜圖案M)且繞與Y方向平行的中心線旋轉；照明裝置IU，其對卷繞在該旋轉滾筒14上的掩膜圖案M照射沿Y方向延伸的狹縫狀的曝光用照明光而將掩膜圖案M的圖案轉印到由基板載置臺ST以平面狀支承的基板P的一部分上；以及對準顯微鏡AM，其為了使被轉印的圖案與基板P相對對位（對準）而檢測預先形成在基板P上的對準標記等。
[0046] 圖1的處理裝置U3包括所謂的接近（proximity)方式的曝光裝置，將卷繞有掩膜圖案M的旋轉滾筒14作為掩膜體，使掩膜體和基板P以規(guī)定間隙（數(shù)十μ m以內(nèi)）接近，而將掩膜體上的圖案轉印到基板P上。不限定于基于處理裝置U3而實現(xiàn)的圖案的轉印方式，也可以是通過投影光學系統(tǒng)對掩膜圖案的像進行投影的方式、或將基板P卷繞在圓筒狀的掩膜體的外周上的接觸方式。另外，關于掩膜體，旋轉滾筒14和掩膜圖案M可以能夠分離，也可以無法分離。例如，掩膜體可以在旋轉滾筒14的表面上形成掩膜圖案M而成。
[0047] 處理裝置U4是濕式處理裝置，對從處理裝置U3搬送來的基板P的感光性功能層進行基于濕式的顯影處理、無電解電鍍處理等這樣的各種濕式處理中的至少一種。
[0048] 處理裝置U5是加熱干燥裝置，對從處理裝置U4搬送來的基板P進行加熱，將在濕式工藝中潤濕的基板P的水分含量調(diào)整為規(guī)定值，但省略詳細說明。然后，將經(jīng)過若干處理裝置并通過一系列工藝的最后處理裝置Un后的基板P經(jīng)由夾持的驅動輥DR9和邊緣位置控制器EPC3而卷繞至回收卷FR2。
[0049] 上級控制裝置CONT統(tǒng)一控制構成生產(chǎn)線的各處理裝置Ul至Un的運轉，也基于各處理裝置Ul至Un的處理狀況和處理狀態(tài)的監(jiān)視、處理裝置間的基板P的搬送狀態(tài)的監(jiān)測、事前/事后的檢查/計測的結果來進行反饋修正或前饋修正等。
[0050] 本實施方式中使用的基板P是例如樹脂膜、由不銹鋼等金屬或合金構成的箔 (foil)等。樹脂膜的材質(zhì)包括例如聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚酯樹脂、乙烯-乙烯基共聚物樹脂、聚氯乙烯樹脂、纖維素樹脂、聚酰胺樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂中的一種或兩種以上。
[0051] 期望基板P選擇熱膨脹系數(shù)小的材料，從而在各種處理工序中能夠實質(zhì)忽略因受熱導致的變形量。熱膨脹系數(shù)可以通過例如將無機填充劑混合于樹脂膜中而設定成小于與工藝溫度等相應的閾值。無機填充劑可以是例如氧化鈦、氧化鋅、鋁、氧化硅等。另外，基板 P可以是以浮制（float)法等制造的厚度為ΙΟΟμπι左右的極薄玻璃的單層體，也可以是在該極薄玻璃上貼合上述樹脂膜、箔等而成的層疊體。另外，基板P可以預先通過規(guī)定的前處理將其表面改性而活性化、或在表面上形成有用于精密圖案化的微細的隔壁構造（凹凸構造）。
[0052] 圖1的器件制造系統(tǒng)SYS重復或連續(xù)地對基板P執(zhí)行用于制造器件（顯示面板等）的各種處理。被執(zhí)行各種處理后的基板P按每個器件而分割（切割），而成為多個器件。關于基板P的尺寸，例如，寬度方向（作為短邊的Y軸方向）的尺寸為IOcm至2m左右，長度方向（作為長邊的X軸方向）的尺寸為IOm以上。
[0053] 接著，對處理裝置U3的結構進行更詳細的說明。圖2是作為處理裝置U3的曝光裝置EX的側視圖，圖3是該曝光裝置EX的主視圖。
[0054] 圖2所示的曝光裝置EX是所謂的掃描曝光裝置，使基板P (感光片）與掩膜圖案M 相對移動而用來自掩膜圖案M的曝光用光對基板P進行掃描，由此將形成于掩膜圖案M的曝光圖案轉印到基板P上?；遢d置臺ST上的基板P的搬送方向與從掩膜圖案M射出的曝光用光在基板P上掃描的方向（掃描方向）大致相同。
[0055] 另外，曝光裝置EX是接近方式的曝光裝置，在使基板P和掩膜圖案M相互接近的狀態(tài)下，用來自照明裝置IU的照明光L對掩膜圖案M進行照明，并使從被照明的掩膜圖案 M射出的曝光用光照射到基板P上，由此，不經(jīng)由投影光學系統(tǒng)地將曝光圖案轉印到基板P 上。
[0056] 曝光裝置EX具有：使基板P和掩膜圖案M相對移動的移動裝置10 ;對掩膜圖案M 進行照明的照明裝置IU ;用于使被轉印的曝光圖案和基板P相對對位的對準顯微鏡AM(對準光學系統(tǒng)）；檢測從照明裝置IU照射于基板P的照明光L的照度（光強度）的照度監(jiān)測裝置11 (計測裝置）；和對曝光裝置EX的各部分進行控制的控制裝置12。
[0057] 移動裝置10具有：搬送基板P的搬送部13 ;保持掩膜圖案M且能夠旋轉的旋轉滾筒14 ;和對旋轉滾筒14進行旋轉驅動的驅動部15。
[0058] 搬送部13包括圖1所示的驅動輥DR4、驅動輥DR6等，使基板P在基板載置臺ST 上直線移動。被搬送的基板P的位置由位置檢測傳感器16檢測。控制裝置12基于位置檢測傳感器16的檢測結果來控制搬送部13,由此控制由搬送部13搬送的基板P的位置。
[0059] 旋轉滾筒14具有圓筒面狀的外周面（以下，也稱作圓筒面14a)，以使透射型的掩膜圖案M沿著圓筒面14a的方式將其彎曲成圓筒面狀而保持。圓筒面是繞規(guī)定中心線以規(guī) 定半徑彎曲的面，例如，是圓柱或圓筒的外周面的至少一部分。
[0060] 旋轉滾筒14以圓筒面14a的切面與基板載置臺ST上的基板P大致平行的方式配置。旋轉滾筒14設置成能夠繞規(guī)定的旋轉中心軸AXl旋轉。旋轉滾筒14的旋轉中心軸 AXl設定成例如與在基板載置臺ST上搬送時的基板P的移動方向大致正交（與基板P的寬度方向大致平行）。
[0061] 驅動部15使旋轉滾筒14繞旋轉中心軸AXl旋轉。旋轉滾筒14的旋轉位置由旋轉檢測傳感器17檢測?？刂蒲b置12基于旋轉檢測傳感器17的檢測結果來控制驅動部15，由此通過驅動部15來控制旋轉中的旋轉滾筒14的旋轉位置。
[0062] 移動裝置10由控制裝置12控制，對基板P和掩膜圖案M同步驅動?？刂蒲b置12 控制搬送部13及驅動部15,以使得基板P的移動速度（搬送速度）和保持于旋轉滾筒14 的掩膜圖案M的移動速度（線速度）大致相同。此外，移動裝置10也能夠在Y軸方向及Z 軸方向的一方或雙方上調(diào)整基板載置臺ST上的基板P與旋轉滾筒14的相對位置。
[0063] 照明裝置IU配置在旋轉滾筒14的內(nèi)側，以照明光L從旋轉滾筒14的內(nèi)側對掩膜圖案M的一部分（照明區(qū)域IR)進行照明。照明區(qū)域IR是例如將與基板載置臺ST上的基板P的搬送方向正交的方向作為長度方向的帶狀區(qū)域。即，照明裝置IU將以與旋轉滾筒14 的旋轉中心軸AXl大致平行的方向為長邊的狹縫形狀的照明光L(線形光）照射于掩膜圖案M 0
[0064] 來自照明裝置IU的照明光L的射出方向設定為例如旋轉滾筒14的徑向。在該情況下，照明裝置IU從掩膜圖案M的大致法線方向將照明光L照射于旋轉滾筒14上的沿著外周面的掩膜圖案M。照明裝置IU將例如被視為大致平行光的照明光L照射于掩膜圖案 M0
[0065] 在曝光裝置EX中，在旋轉滾筒14 (掩膜圖案M)與基板載置臺ST (基板P)之間的光路上設有光闌部件18。光闌部件18是所謂的視場光闌，通過規(guī)定從照明裝置IU射出并經(jīng)由掩膜圖案M后的光的通過范圍，來規(guī)定基板P上的光的射入范圍。
[0066] 如圖3所示，對準顯微鏡AM在例如基板載置臺ST的下方設于旋轉中心軸AXl的一側（+Y側）和另一側（-Y側）。在旋轉滾筒14 (掩膜圖案M)和基板載置臺ST (基板P) 上，在例如+Y側和-Y側設有對準標記。對準顯微鏡AM通過檢測這些對準標記來檢測基板 P的X軸方向的位置、Y軸方向的位置、繞Z軸的旋轉位置中的至少一個。
[0067] 照度監(jiān)測裝置11配置在例如基板載置臺ST的下方，以使得從照明裝置IU射出的照明光L射入。照度監(jiān)測裝置11能夠計測照明區(qū)域IR中的照度分布。照度監(jiān)測裝置11 例如一邊沿與旋轉中心軸AXl平行的方向移動，一邊計測照明區(qū)域IR的一部分區(qū)域中的照度，由此計測與旋轉中心軸AXl平行的方向上的照度分布。
[0068] 照明裝置IU具有多個照明模塊20,通過使每個照明模塊20的照明區(qū)域沿與基板 P的搬送方向正交的規(guī)定方向（Y軸方向）對接，而對以規(guī)定方向為長邊的照明區(qū)域IR進行照明。在以下說明中，適當?shù)貙⒚總€照明模塊20的照明區(qū)域稱作局部照明區(qū)域IRa。
[0069] 多個照明模塊20配置成從基板P的搬送方向（X軸方向）觀察時沿規(guī)定方向（Y 軸方向）排列。照明模塊20以其局部照明區(qū)域IRa的端部與另一照明模塊20的局部照明區(qū)域IRa的端部重疊的方式在規(guī)定方向上相互接近地配置。
[0070] 如圖2所示，照明模塊20具有射出照明光L的光源部21、和使從光源部21射出的照明光L偏轉的偏轉部22。多個光源部21 (參照圖3)以使從偏轉部22射出的照明光L 的光點（局部照明區(qū)域IRa)在規(guī)定方向上連續(xù)的方式排列。
[0071] 多個光源部21以使局部照明區(qū)域IRa的一部分重疊的方式在規(guī)定方向（Y軸方向）上相互接近。因此，如圖2所示，多個光源部21以使光源部21的至少一部分不與其他光源部21發(fā)生干涉（物理沖突）的方式，使在基板P的搬送方向（Y軸方向）上的位置錯開而配置。例如，第1照明模塊20a所具有的第1光源部21a相對于從基板P的搬送方向觀察時配置于第1照明模塊20a旁邊的第2照明模塊20b所具有的第2光源部21b，在基板 P的搬送方向上的位置錯開。
[0072] 為了能夠使多個光源部21的位置在基板P的搬送方向（基于照明光L而實現(xiàn)的基板P的掃描方向）上錯開并能夠使局部照明區(qū)域IRa相接，將來自多個光源部21的照明光L的射出方向設定為從規(guī)定方向觀察時彼此交叉的多個方向。在此，為了便于說明，將來自多個光源部21的照明光L的射出方向設為兩個方向，將朝向該兩個方向中的第1方向射出照明光L的光源部21設為第1光源部21a，將朝向該兩個方向中的第2方向射出照明光 L的光源部21設為第2光源部21b。
[0073] 在此，第1光源部21a和第2光源部21b相對于YZ面對稱地配置。在從基板P的搬送方向觀察到的照明模塊20(參照圖3)的排列中，從一端朝向另一端的排列順序為第奇數(shù)個的照明模塊20的光源部21，在從規(guī)定方向觀察的情況下，配置在例如圖2所示的第1 光源部21a的位置。另外，其排列順序為第偶數(shù)個的照明模塊20的光源部21，在從規(guī)定方向觀察的情況下，配置在例如圖2所示的第2光源部21b的位置。
[0074] 其排列順序為第偶數(shù)個的照明模塊20配置成例如使來自光源部21的照明光 L(光束）的主光線相對于基板P的法線方向具有+ Θ的角度。另外，其排列順序為第奇數(shù) 個的照明模塊20配置成例如使來自光源部21的照明光L的主光線相對于基板P的法線方向具有-Θ的角度。
[0075] 這樣的第1光源部21a和第2光源部21b以從規(guī)定方向觀察時使照明光L射入到大致相同區(qū)域的方式，設定成照明光L的射出方向相互交叉。例如，第1光源部21a設置成相對于YZ面從-X側朝向+X側射出照明光L，第2光源部21b設置成相對于YZ面從+X側朝向-X側射出照明光L。
[0076] 偏轉部22以使從第1光源部21a射出的照明光L的行進方向和從第2光源部21b 射出的照明光L的行進方向一致的方式，使照明光L偏轉。在從規(guī)定方向（Y軸方向）觀察時，偏轉部22配置在來自第1光源部21a的照明光L的行進方向與來自第2光源部21b的照明光L的行進方向的交叉點附近。
[0077] 接著，對照明裝置IU(照明模塊20)進行更詳細說明。圖2所示的第1照明模塊 20a和第2照明模塊20b具有相同結構，相對于YZ面對稱地配置。因此，在此作為多個照明模塊20的代表，對第1照明模塊20a進行說明。
[0078] 圖4A是第1照明模塊20a的從旋轉中心軸AXl的方向（Y軸方向）觀察到的側視圖，圖4B是第1照明模塊20a的從基板P的搬送方向（X軸方向）觀察到的主視圖。
[0079] 多個照明模塊20分別具有射出照明光L的光源部21、和使從光源部21射出的照明光L偏轉的偏轉部件22a。在此，偏轉部件22a沿規(guī)定方向（Y軸方向）排列有多個，偏轉部22由多個偏轉部件22a構成。偏轉部件22a由相對于紫外區(qū)域的光具有高透射率的石英等制成。
[0080] 圖4A及4B所示的光源部21構成為使向偏轉部件22a射入時的照明光L的光點成為以規(guī)定方向（Y軸方向）為長邊的形狀。光源部21具有：射出照明光L的光源23; 使從光源23射出的照明光L(光束）在規(guī)定方向（Y軸方向）上擴散的線段生成器（line generator) 24 (光學部件）；和使由線段生成器24擴散的照明光L平行化的準直器25 (平行化部件）。
[0081] 光源23包括例如激光二極管、發(fā)光二極管（LED)等固體光源、準分子激光光源、燈光源。從光源23發(fā)出的照明光L可以是例如KrF準分子激光（波長248nm)、ArF準分子激光（波長193nm)等遠紫外光（DUV光）、水銀燈等射出的紫外區(qū)域的亮線（g線、h線、i 線）。
[0082] 此外，光源部21也可以是將來自光源23的光經(jīng)由光纖等導光部件向線段生成器 24引導的結構。在該情況下，光源23可以配置在旋轉滾筒14的外側，也可以配置在內(nèi)側。另外，光源部21也可以是將來自光纖的射出端面的光在通過準直器等平行化后向線段生成器24引導的結構。
[0083] 線段生成器24將來自光源23的光束沿一個方向（規(guī)定方向）拉長。從線段生成器24通過的照明光L如圖4B所示，規(guī)定方向（Y軸方向）上的擴散角（放射角）變大，并且如圖4A所示，在與規(guī)定方向正交的方向上擴散角幾乎不變。
[0084] 線段生成器24包括例如美國專利第4826299號、美國專利第5283694號等記載那樣的鮑威爾透鏡。如圖4B所示，鮑威爾透鏡將來自例如光源23的光束在規(guī)定方向上空間分割，并使分割后的光束分別沿規(guī)定方向擴散。另外，鮑威爾透鏡以使分割后的光束中的照度相對較低的部分相互重疊的方式，使分割后的光束分別偏轉。例如，當要使來自光源23 的光的照度分布遵從高斯分布時，鮑威爾透鏡以照度分布的峰值附近為邊界將光束分割，并以使相當于高斯分布底部的光束重疊的方式，使分割后的光束偏轉。因此，由鮑威爾透鏡形成的照明光L成為所謂的top-hat型的照度分布，規(guī)定方向上的照度分布均勻化。
[0085] 線段生成器24可以是通過例如圓柱透鏡使光束擴散的結構。在該情況下，光源部 21可以包含用于使從線段生成器24射出的照明光L的照度分布均勻化的光學部件。另外，線段生成器24可以包含衍射光學元件，也可以是通過衍射使光束擴散的結構。另外，線段生成器24可以包含凸面鏡等反射部件，也可以是通過反射使光束擴散的結構。
[0086] 準直器25使沿規(guī)定方向（Y軸方向）擴散的光束平行化。在此，從線段生成器24 射出的光束如圖4B所示沿Y軸方向擴散，且如圖4A所示在與Y軸方向正交的面內(nèi)幾乎不擴散。因此，準直器25是在例如包含規(guī)定方向（Y軸方向）的面內(nèi)具有機能（power)、且在與該面正交的面內(nèi)不具有機能的光學部件，由例如圓柱透鏡等構成。圖4B所示的準直器25 為相對于與XZ面大致平行的對稱面而對稱的形狀。從光源部21射出的光束（照明光L) 的主光線與對稱面大致平行地傳播。
[0087] 像這樣，從光源23射出的照明光L在通過線段生成器24沿規(guī)定方向擴散后，通過準直器25而被平行化，由此，向偏轉部件22a射入時的光點成為以規(guī)定方向為長邊的帶狀。
[0088] 圖4A及4B所示的偏轉部件22a作為光學棱鏡發(fā)揮功能，具有供照明光L從光源部21射入的傾斜的界面26a。偏轉部件22a通過該界面26a上的折射使來自光源部21的照明光L偏轉。入射到界面26a上的照明光L從偏轉部件22a的內(nèi)部通過（透射）而從偏轉部件22a射出，而入射到照明區(qū)域IR(掩膜圖案M)。偏轉部件22a例如以使照明光L從大致法線方向向掩膜圖案M上的照明區(qū)域IR入射的方式，使照明光L偏轉。在此，照明光 L向掩膜圖案M射入時的行進方向（參照圖2及圖3)與從掩膜圖案M射出的照明光L(曝光用光）向基板P (曝光區(qū)域）射入時的行進方向大致相同，與Z軸方向大致平行。
[0089] 在圖4A所示的照明模塊20中，光源部21從Z軸方向（基板P的法線方向）向-X 側傾斜，為了使來自這樣的光源部21的照明光L沿與Z軸方向大致平行的方向行進，偏轉部件22a的界面26a設定成其法線方向從Z軸方向向+X側傾斜。
[0090] 偏轉部件22a設置成，如圖4A所示，使從光源部21射出的照明光L的行進方向在與規(guī)定方向（Y軸方向）正交的XZ面內(nèi)折曲，并且如圖4B所示使照明光L的行進方向在規(guī) 定方向（Y軸方向）上幾乎不變。
[0091] 圖5是表示偏轉部22的立體圖。圖5所示的偏轉部22是使偏轉部件22a沿規(guī)定方向（Y軸方向）排列而成的構造。在偏轉部22中多個偏轉部件22a通過例如相互粘結而一體化。
[0092] 在第1光源部21a和第2光源部21b中照明光L的射出方向不同，由此，在偏轉部 22中供照明光L射入的界面（界面26a及界面26b、第1面及第2面）根據(jù)射出向各界面 26a、26b射入的光的光源部21的姿勢，而向不同方向傾斜。
[0093] 詳細而言，偏轉部22具有供照明光L從第1光源部2Ia射入的界面26a、和供照明光L從第2光源部21b射入的界面26b。在此，在各照明模塊20 (參照圖4A及4B)中，偏轉部件22a與光源部21--對應地設置，界面26a是與第1光源部21a對應的偏轉部件22a 的界面，界面26b是與第2光源部21b對應的偏轉部件22a的界面。界面26a的法線方向是從Z軸方向（基板P的法線方向）向+X側傾斜的方向，界面26b的法線方向是從Z軸方向（基板P的法線方向）向-X側傾斜的方向。
[0094] 圖5所示的偏轉部22具有使照明光L朝向掩膜圖案M射出的界面26c。界面26c 例如在多個偏轉部件22a中配置在大致同一平面（大致平齊），相對于基板P的法線方向大致垂直地配置。像這樣，偏轉部22構成為例如在界面26c上不會使照明光L偏轉，但也可以使照明光L在界面26c上偏轉。
[0095] 圖6是表示偏轉部22的俯視圖。如圖6所示，界面26a及界面26b分別為梯形狀，沿規(guī)定方向（Y軸方向）相鄰地配置。界面26a和界面26b為大致相同的形狀，但配置成相對于YZ面為彼此反轉的關系。即，配置成界面26a的長邊和界面26b的短邊并排，同樣地，配置成界面26b的長邊和界面26a的短邊并排。
[0096] 像這樣，偏轉部22構成為，當從來自偏轉部22的照明光L的射出方向（Z軸方向）觀察時，界面26a與界面26b的邊界27 (梯形的斜邊）與規(guī)定方向（Y軸方向）非垂直地交叉。換言之，在界面26a中與邊界27相鄰的偏轉部件22a的部分27a和在界面26b中與邊界27相鄰的偏轉部件22a的部分27b在從X軸方向觀察時重疊，并且部分27a在規(guī)定方向 (Y軸方向）上的位置與部分27b大致相同。即，隔著邊界27而彼此相鄰的偏轉部件22a的部分27a、部分27b在XY面內(nèi)成為相同的頂角。
[0097] 因此，從第1光源部21a入射到界面26a的部分27a上的照明光L、和從第2光源部 21b入射到界面26b的部分27b上的照明光L，向照明區(qū)域IR中的Y軸方向的位置大致相同的區(qū)域入射。S卩，該區(qū)域成為基于經(jīng)由界面26a的照明光L而照明的局部照明區(qū)域IRa(參照圖3)、和基于經(jīng)由界面26b的照明光L而照明的局部照明區(qū)域IRa重復的區(qū)域（稱作重復區(qū)域）。該重復區(qū)域被由來自第1光源部21a的照明光L的一部分和來自第2光源部21b 的照明光L的一部分混合而成的光照明，其光量的混合比根據(jù)邊界27相對于規(guī)定方向的傾斜而連續(xù)變化。其結果為，即使在第1光源部21a和第2光源部21b中照明光L的亮度不同的情況下，也能夠抑制發(fā)生照明區(qū)域IR的照度分布在規(guī)定方向上不連續(xù)地變化的情況。
[0098] 另外，照明裝置IU通過將照明模塊20沿與基板P的掃描方向（X軸方向）大致垂直的規(guī)定方向（Y軸方向）排列多個，而能夠增大與掃描方向垂直的規(guī)定方向上的轉印圖案的曝光寬度，但可能產(chǎn)生與掃描方向垂直的規(guī)定方向上的照度分布的不均勻性。因此，圖 2 (圖3)所示的照明裝置IU構成為，通過用于對基于從偏轉部22射出的照明光L而實現(xiàn)的照度分布進行調(diào)整的濾光片28,來確保規(guī)定方向上的照度分布的均勻性。
[0099] 圖7是表示照明區(qū)域IR中的規(guī)定方向上的照度分布及濾光片28的一例的圖，圖 8是表示照明區(qū)域IR中的規(guī)定方向上的照度分布及濾光片28的其他例子的圖。圖7及圖 8中分別關聯(lián)地示出偏轉部22的從照明光L的射出方向觀察到的俯視圖（圖上部）、表示模擬在沒有設置濾光片28的結構中從偏轉部22射出的照明光L的照度分布而得到的結果的曲線圖（圖中部）、和表示濾光片28的透射率的曲線圖（圖下部）。強調(diào)照度的變化而示意地示出照明光L的照度分布。
[0100] 在圖7及圖8中，橫軸表示規(guī)定方向（Y軸方向）的位置。另外，附圖標記30a表示來自第1光源部21a的照明光L在照明區(qū)域IR上的照度分布，附圖標記30b表示來自第 2光源部21b的照明光L在照明區(qū)域IR上的照度分布，附圖標記30c表示來自第1光源部 21a的照明光L和來自第2光源部21b的照明光L在照明區(qū)域IR上的照度分布，附圖標記 30d表示與規(guī)定方向對應的方向上的濾光片28的透射率分布。
[0101] 在圖7所示的例子中，基于每個光源部21的照明光L而實現(xiàn)的照度分布（照度分布30a及照度分布30b)分別為所謂的top-hat型的分布。多個光源部21配置成局部照明區(qū)域IRa的端部與相鄰的局部照明區(qū)域IRa的端部重疊，局部照明區(qū)域IRa具有相鄰的局部照明區(qū)域IRa的端部相互重疊的重復區(qū)域IRb、和相鄰的局部照明區(qū)域Ira相互不重疊的非重復區(qū)域IRc 0
[0102] 在非重復區(qū)域IRc中，照度分布30c與基于來自第1光源部21a或第2光源部21b 的照明光L而實現(xiàn)的照度分布30a或照度分布30b大致相同，在此照度大致均勻。
[0103] 另外，在重復區(qū)域IRb中，照度分布30c以將照度分布30a及照度分布30b相加的方式分布。局部照明區(qū)域IRa的規(guī)定方向（Y軸方向）上的間距Py (中心間距離）越大則重復區(qū)域IRb中的照度分布30c的照度越低，該間距Py的越窄則重復區(qū)域IRb中的照度分布30c的照度越高。局部照明區(qū)域IRa的規(guī)定方向（Y軸方向）上的間距Py能夠通過例如光源部21的規(guī)定方向上的間距而調(diào)整，光源部21的規(guī)定方向上的間距的越窄則局部照明區(qū)域IRa的規(guī)定方向上的間距Py也越窄。
[0104] 像這樣，重復區(qū)域IRb中的照度分布30c的照度能夠通過調(diào)整局部照明區(qū)域IRa 的間距Py而調(diào)整成與非重復區(qū)域IRc中的照度分布30c的照度相同的程度，但相對于非重復區(qū)域IRc中的照度會產(chǎn)生例如幾％程度的差。例如，在圖7所示的例子中，照度在照明模塊20的對接部（重復區(qū)域IRb)中與非重復區(qū)域IRc相比減少，在圖8所示的例子中，照度在重復區(qū)域IRb中與非重復區(qū)域IRc相比增加。
[0105] 這樣的照度的不均勻性（偏差）在處于例如與照明裝置IU的用途相應的允許范圍內(nèi)的情況等下可以不修正，但在此出于提高曝光精度等的觀點而進行修正。
[0106] 作為上述那樣的使規(guī)定方向上的照度分布均勻化的濾光片28,只要將向照明區(qū)域 IR中的照度相對較高的區(qū)域射入的光的光路中的透射率設定得相對較低、將向照明區(qū)域 IR中的照度相對較低的區(qū)域射入的光的光路中的透射率設定得相對較高即可。
[0107] 例如，在圖7所示的例子中，由于局部照明區(qū)域IRa中的重復區(qū)域IRb的照度比非重復區(qū)域IRc的照度低，所以濾光片28的透射率分布30d設定為，向重復區(qū)域IRb射入的光所通過的光路中的透射率比向非重復區(qū)域IRc射入的光所通過的光路中的透射率高。
[0108] 另外，在圖8所示的例子中，由于局部照明區(qū)域IRa中的重復區(qū)域IRb的照度比非重復區(qū)域IRc的照度高，所以濾光片28的透射率分布30d設定為，向重復區(qū)域IRb射入的光所通過的光路中的透射率比向非重復區(qū)域IRc射入的光所通過的光路中的透射率低。
[0109] 另外，作為照度分布的不均勻性的產(chǎn)生原因，能夠列舉例如每個照明模塊20(光源部21)的光量的偏差（第1原因）、照明模塊20(偏轉部22)的對接部處的光量的偏差 (第2原因）、各照明模塊20內(nèi)的照度的偏差（第3原因）等。為了緩解或消除照度分布的不均勻性，能夠按這些原因的種類進行處理。另外，作為使照度分布均勻化的方法，除了使用濾光片28以外，也存在調(diào)整部件的形狀、配置等的方法。以下，關于對照度分布的不均勻性的處理方法，按照度分布的不均勻性的產(chǎn)生原因進行說明。
[0110] 第1原因包括由于照明模塊20的構成要素（例如光源23)的制造公差等而導致從各光源部21射出照明光L的照度在多個光源部21中產(chǎn)生偏差等的要因。圖2及圖3所示的照明裝置IU，作為濾光片28而具有配置在光源23與線段生成器24之間的光量修正濾光片28a，通過光量修正濾光片28a降低每個光源23的照明光L的偏差。
[0111] 光量修正濾光片28a例如在來自多個光源23中的與規(guī)定電力相對的輸出相對較高的光源23的照明光L所射入的部分處使透射率相對較低，在來自多個光源23中的與規(guī) 定電力相對的輸出相對較低的光源23的照明光L所射入的部分使透射率相對較高。
[0112] 此外，也能夠通過光源23的驅動方法來減少每個光源23的照明光L的光量的偏差。例如，也可以在多個光源23中，以使照明光L的光量一致的方式，使向輸出相對較高的光源23供給的電力相對較低，使向輸出相對較低的光源23供給的電力相對較高。這樣的驅動方法可以通過在驅動電路等上設置電氣濾波器而實現(xiàn)，也可以通過用于驅動光源23 的程序等而實現(xiàn)。
[0113] 由第2原因產(chǎn)生的照度分布的不均勻性能夠通過調(diào)整偏轉部件22a的棱鏡形狀、調(diào)整局部照明區(qū)域IRa的間距Py (照明模塊20的間距）、增加由線段生成器24擴散的照明光L的寬度（光點的規(guī)定方向上的尺寸）等來緩解或消除。但是，在每個光源部21的照度分布30b、照度分布30c中局部照明區(qū)域IRa的端部的傾斜從線形偏離的情況等下，可能會有照度分布的不均勻性的殘留。圖2及圖3所示的照明裝置IU具有配置在光源部21與旋轉滾筒14的圓筒面14a (掩膜圖案M)之間的對接部修正濾光片28b，通過對接部修正濾光片28b以減少非重復區(qū)域IRc與重復區(qū)域IRb的照度差的方式進行修正。
[0114] 第3原因包括例如照明模塊20中的像差殘留、由于通過線段生成器24使照明光L 擴散而導致照度分布的偏差沿規(guī)定方向擴大等。后者在例如維持照明區(qū)域IR的規(guī)定方向上的尺寸并減少照明模塊20的數(shù)量的情況等下，由線段生成器24擴散的照明光L的寬度越大而越容易產(chǎn)生。換言之，由第3原因產(chǎn)生的照度分布的不均勻性能夠通過在照明模塊 20中增加光學部件以減少像差、增加照明模塊20的數(shù)量等以減小由線段生成器24擴散的照明光L的寬度等來緩解或消除。
[0115] 圖2及圖3所示的照明裝置IU具有配置在光源部21與旋轉滾筒14的圓筒面 14a (掩膜圖案M)之間的照度分布修正濾光片28c，通過照度分布修正濾光片28c使各照明模塊20內(nèi)的照度分布均勻化。照度分布修正濾光片28c例如按每個照明模塊20而設置。當使用這樣的照度分布修正濾光片28c時，例如能夠在維持照明模塊20的數(shù)量的同時提高照度分布的均勻性，另外也能夠在減少照明模塊20的數(shù)量的同時維持照度分布的均勻性。
[0116] 上述那樣的各種濾光片的透射率可以是固定的也可以是可變的。透射率可變的濾光片能夠通過例如預先將透射率沿掃描方向（X軸方向）變化的濾光片可移動地設置在掃描方向上而實現(xiàn)。照明裝置IU通過使透射率可變的濾光片移動而能夠例如調(diào)整照明區(qū)域 IR的照度分布。例如，照明裝置IU能夠基于由圖2及圖3所示的照度監(jiān)測裝置11計測到的照度分布，進行微調(diào)整以使照度分布均勻化。另外，這樣的照度分布調(diào)整也可以在例如照明模塊20的特性隨時間變化的情況、更換照明模塊20的至少一部分（例如光源部21)的情況等下進行。
[0117] 上述那樣的本實施方式的照明裝置IU通過將多個照明模塊20沿規(guī)定方向排列、并將照明模塊20的局部照明區(qū)域IRa沿規(guī)定方向連續(xù)排列，而能夠將照明區(qū)域IR的規(guī)定方向上的尺寸擴大為期望的值。因此，處理裝置U3(曝光裝置EX)能夠擴大轉印圖案的與掃描方向垂直的方向上的寬度，例如，能夠高效地處理大片的基板。其結果為，器件制造系統(tǒng) 能夠高效地制造大型的平板顯示器等器件，能夠使用大片的拼版用基板高效地制造器件。
[0118] 另外，照明裝置IU將掃描方向上的位置錯開的多個光源部21以使從規(guī)定方向觀察時的照明光L的射出方向交叉的方式配置，通過偏轉部22以使來自多個光源部21的照明光L的行進方向一致的方式使照明光L偏轉。因此，多個光源部21的配置自由度提高，例如能夠避免多個光源部21的干涉（沖突）。
[0119] 另外，光源部21射出在偏轉部22中以規(guī)定方向為長邊的形狀的光點的照明光L，因此，能夠在維持照明模塊20的數(shù)量的同時沿規(guī)定方向擴大照明區(qū)域IR，能夠在維持照明區(qū)域IR的大小的同時減少照明模塊20的數(shù)量。
[0120] 此外，照明裝置IU也可以是如下結構：通過進行將照明光L(光束）向一個方向拉長的變形來使照明光L的擴散角在基板P的掃描方向（X軸方向）和與掃描方向垂直的規(guī) 定方向（Y軸方向）上不同。在該結構中，當被轉印的圖案在掩膜圖案M上的線寬一致時，被轉印的圖案在基板P上的線寬在掃描方向和規(guī)定方向上不同。對于使被轉印的圖案在基板P上的線寬一致，例如，只要考慮與照明光L的擴散角的各向異性相應的掩膜圖案M上的線寬來設計掩膜圖案M即可。另外，照明裝置IU也可以構成為使照明光L的擴散角在基板 P的掃描方向（X軸方向）和規(guī)定方向（Y軸方向）上為各向同性。
[0121] 此外，照度監(jiān)測裝置11可以設置為照明裝置IU的一部分，也可以將照度監(jiān)測裝置 11和對準顯微鏡AM的一方或雙方配置在旋轉滾筒14的內(nèi)側。另外，也可以使由多個照明模塊20構成的照明光學系統(tǒng)的至少一部分配置在旋轉滾筒14的外側。
[0122] [第2實施方式]
[0123] 接著，對第2實施方式進行說明。在本實施方式中，有時會對與上述實施方式相同的結構標注相同的附圖標記并簡化或省略其說明。
[0124] 圖9是表示本實施方式的處理裝置U3(曝光裝置EX)的側視圖，圖10是表示照明裝置IU的立體圖，圖11是表示照明裝置的俯視圖。圖9所示的曝光裝置EX的支承基板P 的基板支承部件（旋轉滾筒35)的結構和照明裝置IU的結構與第1實施方式不同。
[0125] 圖9所示的曝光裝置EX取代圖2所示的基板載置臺ST而具有旋轉滾筒35,并通過旋轉滾筒35支承基板P。旋轉滾筒35設置成能夠繞旋轉中心軸AX2旋轉。旋轉滾筒35 的旋轉中心軸AX2設定成與旋轉滾筒14的旋轉中心軸AXl大致平行。旋轉滾筒35通過省略圖示的驅動部而被旋轉驅動，并支承基板P而旋轉，由此搬送基板P。
[0126] 照明裝置IU具有圖10等所示那樣的多個照明模塊20,但圖9中作為代表而示出一個照明模塊20。照明裝置IU的照明區(qū)域IR設定在旋轉滾筒14中的與旋轉滾筒35最接近的部分附近。
[0127] 曝光裝置EX通過例如圖2所示那樣的控制裝置12, 一邊使旋轉滾筒14和旋轉滾筒35同步地旋轉，一邊以來自照明裝置IU的照明光L對保持于旋轉滾筒14上的掩膜圖案 M進行照明。由此，射入到掩膜圖案M上的照明光L成為與被轉印的圖案相應的光（曝光用光），該曝光用光對被旋轉滾筒35搬送的基板P進行掃描。曝光用光向基板P入射的區(qū)域 (曝光區(qū)域PR)設定在旋轉滾筒35中的與旋轉滾筒14最接近的部分附近。曝光用光對基板P進行掃描的方向與旋轉滾筒35的旋轉中心軸AX2 (Y軸方向）大致垂直，是與曝光區(qū)域 PR的切面大致平行的方向（X軸方向）。
[0128] 接著，對照明裝置IU進行更詳細說明。圖10及圖11所示的照明裝置IU是使多個照明模塊20沿規(guī)定方向（Y軸方向）排列而成的結構。多個照明模塊20均為相同的結構，但配置成按沿Y軸方向排列的順序，而相對于YZ面的姿勢交替地反轉。
[0129] 圖9所示的照明模塊20具有第1光源部21a、和與光源部21--對應地設置的偏轉部件22a。光源部21具有射出照明光L的光源23、供來自光源23的照明光L射入的光學桿部件36、和供從光學桿部件36通過的照明光L射入的中繼透鏡37及中繼透鏡38。
[0130] 光源部21從相對于照明區(qū)域IR的法線方向（Z軸方向）傾斜的方向射出照明光 L。例如，如圖10所示，第1照明模塊20a的第1光源部21a從自照明區(qū)域IR的法線方向 (Z軸方向）向-X側傾斜的方向射出照明光L。另外，從曝光用光的掃描方向（X軸方向）觀察時配置于第1照明模塊20a旁邊的第2照明模塊20b (參照圖11)的第2光源部21b，從自照明區(qū)域IR的法線方向向+X側傾斜的方向射出照明光L。
[0131] 像這樣，第1照明模塊20a和第2照明模塊20b配置成從規(guī)定方向觀察時的來自光源部21的光的射出方向交叉。由此，第1照明模塊20a的光源部21和第2照明模塊20b 的光源部21配置成相互不干涉。
[0132] 例如，如圖11所示，光源部21中的規(guī)定方向上的尺寸最大的部件為中繼透鏡38，多個光源部21配置成，通過使從X軸方向觀察時相鄰的光源部21的中繼透鏡38的位置錯開，中繼透鏡38在規(guī)定方向（Y軸方向）上不會與其他光源部21的中繼透鏡38發(fā)生干涉。
[0133] 接著，對照明模塊20進行更詳細說明。圖12是表示光源23的俯視圖，圖13A及 13B是表示光學桿部件36的圖，圖14是表示中繼透鏡38的俯視圖，圖15是表示偏轉部件 22a的側視圖，圖16是表示光闌部件42的俯視圖。圖13A示出了從Z軸方向觀察到的圖，圖13B示出了從Y軸方向觀察到的圖。
[0134] 圖12所示的光源23具有多個固體光源40和設置在各個固體光源40上的導光部件41。固體光源40為例如激光二極管。導光部件41為例如光纖，將來自固體光源40的照明光L向光學桿部件36(參照圖11)引導。多個導光部件41集束成束狀，而具有一個射出端面41a。從光纖通過的照明光L的擴散角由光纖的直徑（識）確定，是各向同性地擴散的光。
[0135] 圖13A及13B所示的光學桿部件36由例如石英玻璃等形成，具有：供來自光源23 的照明光L射入的射入端面36a ;使射入到射入端面36a上的照明光L反射的內(nèi)面36b ;和使在內(nèi)面36b上反射的照明光L射出的射出端面36c。在光源23中，在多個導光部件41的射出端面41a上，按每個導光部件41而形成有光源像，照明光L的照度分布在射出端面41a 上變得不均勻。這樣的照明光L通過在光學桿部件36的內(nèi)面36b上重復反射而使擴散角內(nèi)的擴散度平均化，從而射出端面36c上的照度分布均勻化。從光學桿部件36射出時的照明光L與向光學桿部件36射入前相比，擴散角幾乎不變，是各向同性地擴散的光。
[0136] 像這樣，由于在光學桿部件36的射出端面36c上照度分布變得均勻，所以照明模塊20構成為照明區(qū)域IR與光學桿部件36的射出端面36c成為共軛。因此，光學桿部件36 的射出端面36c設定成例如與局部照明區(qū)域IRa相同的形狀。在此，射出端面36c設定成與規(guī)定方向對應的Y軸方向上的尺寸大于與掃描方向對應的Z軸方向上的尺寸。即，光源部21構成為局部照明區(qū)域IRa在規(guī)定方向上與掃描方向相比較長。
[0137] 在圖13A及13B中，在來自光學桿部件36的射出端面36c的照明光L所射入的位置上，設有光闌部件42。光闌部件42是所謂的視場光闌，用于規(guī)定局部照明區(qū)域IRa的形狀。光闌部件42具有供照明光L通過的開口 42a。關于開口 42a的平面形狀將在后敘述。
[0138] 包括圖9所示的中繼透鏡37及中繼透鏡38的中繼光學系統(tǒng)形成光學桿部件36 的射出端面36c的像。照明區(qū)域IR設定在光學桿部件36的射出端面36c的像所形成的面的位置或其附近。包括中繼透鏡37及中繼透鏡38的中繼光學系統(tǒng)以例如調(diào)整從光源部21 射出時的照明光L的擴散角的方式設定倍率。例如，向掩膜圖案M射入時的照明光L的擴散角根據(jù)圖案的線寬等而設定，以成為這樣的擴散角的方式設定包括中繼透鏡37及中繼透鏡38的中繼光學系統(tǒng)的倍率。
[0139] 中繼透鏡38 (參照圖14)在從其光軸的方向俯視觀察時，形成為規(guī)定方向（Y軸方向）比與規(guī)定方向正交的方向長的形狀。中繼透鏡38被設定成例如從繞其光軸旋轉對稱的透鏡形狀38a適當省略沒有照明光L通過的部分38b而成的形狀、即與局部照明區(qū)域IRa 相應的形狀。由此，能夠避免中繼透鏡38與其他結構要素之間的干涉。
[0140] 如圖9及圖10所示，在從中繼透鏡37至中繼透鏡38的光路上配置有光闌部件 43。光闌部件43是所謂的開口光闌（〇光闌），限制照明光L的擴散角（所謂的數(shù)值孔徑 NA)。光闌部件43具有供照明光L通過的開口，以使從中繼透鏡37及中繼透鏡38通過的照明光L的擴散角成為規(guī)定值的方式設定開口的直徑。
[0141] 另外，在從中繼透鏡37至中繼透鏡38的光路上配置有反射鏡44。反射鏡44是所謂的折曲反射鏡，使從中繼透鏡37射出的照明光L偏轉。如圖10所示，從光源23射出的照明光L沿與X軸方向大致平行的方向行進而在鏡44上發(fā)生反射，向比Z軸方向向-X側或+X側傾斜的方向行進。由此，能夠使光源部21縮小，從而例如容易將光源部21配置在旋轉滾筒14的內(nèi)側。
[0142] 從上述那樣的多個光源部21射出的照明光L，如圖10所示，向偏轉部22射入，通過偏轉部22而偏轉，由此使行進方向一致。偏轉部22包括沿規(guī)定方向排列的多個偏轉部件22a。多個偏轉部件22a均為相同的形狀，但配置成按沿Y軸方向排列的順序而相對于 YZ面的姿勢交替地反轉（參照圖10及圖11)。
[0143] 偏轉部件22a(參照圖15)具有供照明光L射入的界面26a、和使照明光L射出的界面26c。在此，界面26a及界面26c分別相對于照明區(qū)域IR的法線方向（Z軸方向）傾斜。即，偏轉部件22a通過使照明光L分別在界面26a及界面26c上折射來使照明光L偏轉。
[0144] 如圖10所示，從偏轉部件22a(照明模塊20)射出的照明光L向局部照明區(qū)域IRa 射入，多個局部照明區(qū)域IRa沿規(guī)定方向相接，由此，照明裝置IU對以規(guī)定方向為長邊的照明區(qū)域IR進行照明。
[0145] 另外，如參照圖7及圖8所說明那樣，照明區(qū)域IR的規(guī)定方向上的照度分布存在不均勻的情況。在此，偏轉部22 (參照圖11)設置成使沿規(guī)定方向相鄰的一對偏轉部件22a 的邊界27相對于規(guī)定方向而傾斜地交叉。由此，能夠緩解或消除照明區(qū)域IR中的規(guī)定方向上的照度分布的不均勻性。
[0146] 另外，這樣的照度分布的不均勻性也能夠通過在圖13A及13B所示的光闌部件42 中調(diào)整供照明光L通過的開口的形狀來緩解或消除。在圖7所示的例子中，由于重復區(qū)域 IRb的照度比非重復區(qū)域IRc的照度低，所以為了降低這樣的照度的不均勻性，例如，增加向重復區(qū)域IRb射入的照明光L的光量、或減少向非重復區(qū)域IRc射入的照明光L的光量等是有效的。為了實現(xiàn)這樣的光量調(diào)整，光闌部件42(參照圖13A及13B)設定有供照明光 L通過的開口 42a的形狀。
[0147] 圖16所示的光闌部件42的開口 42a具有：供向局部照明區(qū)域IRa(參照圖7)中的重復區(qū)域IRb射入的光通過的第1部分42b ;和供向局部照明區(qū)域IRa中的非重復區(qū)域 IRc射入的光通過的第2部分42c。由于重復區(qū)域IRb和非重復區(qū)域IRc的位置在規(guī)定方向（Y軸方向）上不同，所以第1部分42b和第2部分42c在與規(guī)定方向對應的方向（Y軸方向）上配置在不同位置。第1部分42b和第2部分42c通過在照明區(qū)域IR中使與垂直于規(guī)定方向的方向對應的光闌部件42上的方向（Z軸方向）的尺寸不同，而使從各自Y軸方向的單位長度的區(qū)域通過的照明光L的光量不同。
[0148] 圖16所示的光闌部件42假定如圖7所示那樣在重復區(qū)域IRb中照度相對較低的照度分布。在與Y軸方向正交的Z軸方向上，當將第1部分42b的內(nèi)尺寸設為hl、將第2部分42c的內(nèi)尺寸設為h2時，第1部分的內(nèi)尺寸hi大于第2部分的內(nèi)尺寸h2。因此，第1部分42b的從Y軸方向的單位長度的區(qū)域通過的照明光L的光量比第2部分42c多，其結果為，照明區(qū)域IR中的規(guī)定方向上的照度分布均勻化。例如，重復區(qū)域IRb的照度相對于非重復區(qū)域IRc的照度降低5%。在該情況下，第1部分42b的內(nèi)尺寸hi例如相對于第2部分的內(nèi)尺寸h2設定為102. 5%。
[0149] 在此，光闌部件42的開口 42a形成為X軸方向上的內(nèi)尺寸在第1部分42b與第2 部分42c之間連續(xù)地變化。因此，抑制照度在重復區(qū)域IRb和非重復區(qū)域IRc中不連續(xù)變化。
[0150] 接著，說明照明裝置IU的各要素的一例。
[0151] 圖12所示的光源23作為多個固體光源40而能夠使用20個射出波長為403nm的紫外區(qū)域的激光的激光二極管。另外，作為導光部件41，能夠使用識為0. 125mm的光纖，能夠使其以20條集束而成為識為0. 65mm的束。在該情況下，從導光部件41射出時的照明光 L的擴散角在NA換算下為0.2。
[0152] 圖13A及13B所示的光學桿部件36,例如，X軸方向的尺寸為100mm，Y軸方向的尺寸為10mm，Z軸方向的尺寸為I. 4mm。從光學桿部件36射出的照明光L的擴散角與從導光部件41射出的照明光L的擴散角大致相同，在NA換算下為0. 2。
[0153] 關于圖16所示的光闌部件42,例如，Z軸方向上的外尺寸與光學桿部件36的射出端面36c相同（I. 4mm)。關于光闌部件42的開口 42a的尺寸，例如，Y軸方向的尺寸為 10mm，第1部分的內(nèi)尺寸hi為1mm，第2部分的內(nèi)尺寸h2為I. 025mm。
[0154] 在此，向掩膜圖案M射入時，照明光L的擴散角在NA換算下設定為0. 04。從光學桿部件36射出的照明光L的擴散角為0. 2,中繼透鏡37及中繼透鏡38將光學桿部件36的射出端面36c的像放大5倍而投影于照明區(qū)域IR。因此，將向照明區(qū)域IR射入時的照明光 L的擴散角換算成NA而得到的值，為將從光學桿部件36射出的照明光L的擴散角換算成 NA而得到的值（0. 2)的1/5倍，即為0. 04。中繼透鏡37的焦距（Π )設定為例如20mm，中繼透鏡38的焦距（f2)設定為例如100mm。另外，光闌部件43的開口的直徑（識）設定為 8mm，以使得從中繼透鏡37及中繼透鏡38通過的照明光L的擴散角在NA換算下為0. 04。
[0155] 圖15所示的偏轉部件22a由相對于紫外區(qū)域的光而透射率高的石英等制成，例如，設定成頂角Sl為20. 5Γ，底面角δ 2為80°，底面角δ 3為79.49°。在此，中繼透鏡38的光軸與Z軸方向所成的角度Θ為例如1〇°。從中繼透鏡38的光軸與偏轉部件22a 的交點至照明區(qū)域IR(掩膜圖案Μ)的距離S(參照圖9)為例如16mm。
[0156] 基于這樣的各照明模塊20而實現(xiàn)的局部照明區(qū)域IRa中，X軸方向的尺寸為大約 5mm，Y軸方向的尺寸為大約50mm。照明裝置IU將這樣的照明模塊20排列5組，照明區(qū)域 IR的X軸方向的尺寸為大約5mm，Y軸方向的尺寸為大約250mm。在此，光源23的每個激光二極管的光量功率為〇. 5W，光纖的透射率為0. 7,基于光闌部件42實現(xiàn)的光的利用效率為1/1. 4,從光學桿部件36至偏轉部件22a的透射率為0. 8。在該情況下，每個照明模塊20 的光量功率為4W，當照明模塊20的局部照明區(qū)域IRa的尺寸為5mmX 50mm時，照度估計為 1600mW/cm2〇
[0157] 另外，向照明區(qū)域IR(掩膜圖案Μ)射入時的照明光L的擴散角為例如2. 3° (NA 換算下為〇. 04)，在照明區(qū)域IR中相對于Z軸產(chǎn)生0. 6mm左右的錯位。該錯位量與掃描方向上的照明區(qū)域IR的寬度（5mm)相比十分小，在進行曝光處理后能夠忽略。另外，在以該條件進行計算的情況下，照明區(qū)域IR上的非點像差為〇. 84mm。由此，能夠以相對于XZ面內(nèi) 的光束成像的Z軸方向上的位置而使焦點面一致的方式，預先設計及制造照明裝置IU。由于該非點像差，YZ面內(nèi)的光束在焦點位置上具有0. 07mm左右的擴散度，但若為這種程度，則在進行曝光處理后能夠忽略。在此所示的照明裝置IU的各要素為一例，當然能夠進行適當變更。
[0158] 上述那樣的本實施方式的照明裝置IU能夠以各向同性地擴散的照明光L對照明區(qū)域IR進行照明，被轉印的圖案的線寬與被轉印的潛像的線寬之比成各向同性，因此，能夠降低例如掩膜圖案M的設計成本。
[0159] [第3實施方式]
[0160] 接著，對第3實施方式進行說明。在本實施方式中有時會對與上述實施方式相同的結構標注相同的附圖標記并簡化或省略其說明。
[0161] 圖17是表示本實施方式的處理裝置U3 (曝光裝置EX)的側視圖，圖18是表示曝光裝置EX的俯視圖。圖17及圖18所示的照明裝置IU的偏轉部22的結構與第1實施方式不同。圖17及圖18所示的偏轉部22包括沿Y軸方向排列的多個反射鏡45(偏轉部件），通過使來自光源部21的照明光L在反射鏡45上反射來使照明光L偏轉。
[0162] 在此，當將照明區(qū)域IR的法線方向設為Z軸方向、將從規(guī)定方向（Y軸方向）觀察到的來自光源部21的照明光L的射出方向與Z軸方向所成的角度設為α時，反射鏡45相對于Z軸方向僅以α /2的角度傾斜地配置。在圖17所示的例子中，α為90°，反射鏡45 的法線方向與Z軸方向所成的角度設定為45°。
[0163] 反射鏡45包括例如外形為梯形狀的反射面。圖18所示的反射鏡45配置成，在Y 軸方向上相鄰的一對反射鏡45的邊界46相對于以照明光L對基板P進行掃描的掃描方向 (X軸方向）傾斜地交叉。由此，能夠使照明區(qū)域IR的規(guī)定方向上的照度分布均勻化。另夕卜，照明裝置IU由于是通過偏轉部22進行反射而使光偏轉的結構，所以能夠減少例如光的損失等。
[0164] [第4實施方式]
[0165] 接著，對第4實施方式進行說明。在本實施方式中有時會對與上述實施方式相同的結構標注相同的附圖標記并簡化或省略其說明。
[0166] 圖19是表示本實施方式的處理裝置U3(曝光裝置EX)的側視圖，圖20是表示曝光裝置EX的俯視圖，圖21是表示偏轉部22的照明圖。
[0167] 圖19及圖20所示的照明裝置IU的偏轉部22的結構與第1實施方式不同。圖19 所示的偏轉部22構成為，使來自第1光源部21a的照明光L通過，并使來自第2光源部21b 的照明光L反射，由此使照明光L的行進方向一致。在此，第1光源部21a配置在照明區(qū)域 IR的法線方向（Z軸方向）上，來自第1光源部21a的照明光L不通過偏轉部22偏轉，而是從法線方向向照明區(qū)域IR射入。另外，第2光源部21b配置成，在從規(guī)定方向（Y軸方向）觀察時，與Z軸方向成角度β，來自第2光源部21b的照明光L通過偏轉部22偏轉，從法線方向向照明區(qū)域IR射入。在圖19中，角度β設定為90°，但角度β只要是絕對值大于 0°且小于180°的角度就能夠任意設定。
[0168] 圖21所示的偏轉部22具有：供來自第1光源部21a的照明光L通過的通過部46 ; 和使來自第2光源部21b的照明光L反射的反射部47。通過部46和反射部47沿規(guī)定方向 (Y軸方向）交替重復地配置。在此，在通過部46中光的透射率大致均勻（Y軸方向上的透射率的梯度大致為〇)，在反射部47中光的反射率大致均勻（Y軸方向上反射率的梯度大致為〇) 〇
[0169] 在通過部46與反射部47之間配置有中間部48。中間部48設定成，與通過部46 相比照明光L的反射率較高，且與反射部47相比照明光L的反射率較低。在此，中間部48 中的照明光L的反射率設定成，隨著從通過部46側趨向于反射部47側而連續(xù)地或階梯性地變高。另外，中間部48中的照明光L的透射率設定成，與通過部46相比較低且與反射部 47相比較高。在此，中間部48中的照明光L的透射率設定成，隨著從通過部46側趨向于反射部47側而連續(xù)地或階梯性地降低。
[0170] 來自第1光源部21a的照明光L向通過部46和與該通過部46相鄰的兩個中間部 48射入。另外，來自第2光源部21b的照明光L向反射部47和與該反射部47相鄰的兩個中間部48射入。因此，在中間部48上，照明光L分別從第1光源部21a和第2光源部21b 射入。即，中間部48具有將來自第1光源部21a的照明光L和來自第2光源部21b的照明光L合成的功能。
[0171] 照明區(qū)域IR中的從中間部48射出的照明光L所射入的區(qū)域（圖7的重復區(qū)域 IRb)的照度，成為將來自第1光源部21a的照明光L的一部分的照度和來自第2光源部21b 的照明光L的一部分的照度相加而成的照度。因此，能夠避免圖7所示的重復區(qū)域IRb的照度與非重復區(qū)域IRc的照度不連續(xù)。
[0172] 這樣的偏轉部22 (光束合成部）例如通過將以規(guī)定方向（Y軸方向）為長度方向的一個三棱鏡49 (參照圖19)接合而成。該三棱鏡49的與長度方向正交的截面為直角三角形，具有與相互正交的兩邊成45°角的斜邊49a。一對三棱鏡49通過將三棱鏡49的包括斜邊49a和長度方向的斜面相互接合而形成為棱柱狀的棱鏡。在三棱鏡49的斜面上通過蒸鍍法等而成膜有例如鋁等反射材料，由此形成反射膜。通過部46、反射部47及中間部 48的反射率通過例如反射膜的密度分布等而調(diào)整。
[0173] 反射膜的密度以例如單位面積區(qū)域上的反射膜所占的覆蓋面積的比率表示，可以將三棱鏡中的反射膜的密度相對較高的區(qū)域作為反射部47,將反射膜的密度比反射部低的區(qū)域作為中間部48,將反射膜的密度比中間部48低的區(qū)域作為通過部46。
[0174] 作為偏轉部22的形成方法，例如，能夠列舉以下方法：在三棱鏡的斜面上成膜反射膜后通過蝕刻等局部除去反射膜，將除去了反射膜的部分作為通過部46或中間部48,將沒有除去反射膜的部分作為反射部47。在這樣的偏轉部22的形成方法中，能夠通過使蝕刻條件例如蝕刻時間在通過部46和中間部48中不同來實現(xiàn)上述那樣的反射膜的密度分布。
[0175] 另外，作為偏轉部22的其他形成方法，能夠列舉例如以下方法：在三棱鏡的斜面上對反射膜進行局部成膜，將成膜有反射膜的部分作為反射部47或中間部48,將沒有成膜反射膜的部分作為通過部46。在這樣的偏轉部22的形成方法中，能夠通過使反射膜的成膜條件例如成膜時間在反射部47和中間部48中不同來實現(xiàn)上述那樣的反射膜的密度分布。
[0176] 上述那樣的本實施方式的照明裝置IU，由于在偏轉部22中通過在通過部46與反射部47之間設置中間部48來使局部照明區(qū)域IRa相接，所以能夠使照明區(qū)域IR的規(guī)定方向上的照度分布均勻化。
[0177] 此外，本發(fā)明不限定于上述實施方式。例如，存在省略上述實施方式中說明的一個以上的要素的情況。另外，能夠適當組合上述實施方式中說明的要素。另外，在法律允許的范圍內(nèi)，援用上述實施方式中引用的全部公開公報及美國專利的公開內(nèi)容并使其為本文記載的一部分。
[0178] 此外，在第1實施方式中，將以平面方式支承基板P的基板載置臺ST作為基板支承部件，但這樣的基板支承部件也能夠在其他實施方式中適用。另外，在第2實施方式中將旋轉滾筒35作為基板支承部件，但這樣的基板支承部件也能夠適用于其他實施方式。
[0179] 此外，在上述的各實施方式中使用了圓筒狀的掩膜圖案M，但也可以使用例如所謂的環(huán)帶狀的掩膜圖案M，還可以使用平面狀的掩膜圖案M，掩膜保持部件的方式能夠根據(jù)掩膜圖案M的方式而適當變更。
[0180] 此外，在第1實施方式中，照明裝置IU的光源部21通過線段生成器24使光束擴散，但這樣的光源部21也能夠適用于其他實施方式。另外，在第2實施方式中，照明裝置IU 的光源部21通過光學桿部件36使各照明模塊20的照度分布均勻化，但這樣的光源部21 也能夠適用于其他實施方式。
[0181] 此外，在第3實施方式中，照明裝置IU的偏轉部22通過反射使照明光L偏轉，但這樣的偏轉部22也能夠適用于其他實施方式。偏轉部22使照明光L偏轉的方向能夠根據(jù) 來自光源部21的照明光L的射出方向而適當變更。
[0182] 此外，在上述實施方式中，來自多個光源部21的照明光L的射出方向設定為兩個方向，但來自多個光源部21的照明光L的射出方向也可以設定為三個方向以上，在該情況下，偏轉部22使照明光L偏轉的方向能夠適當變更。
[0183] 此外，曝光裝置EX可以是多透鏡方式或微透鏡陣列方式的投影型曝光裝置，在該情況下能夠將上述那樣的照明裝置IU適用于多個照明光學系統(tǒng)中的至少一個。
[0184] 另外，在鏡像投影（mirror projection)型掃描曝光裝置中也能夠組入本實施方式的照明裝置IU，其中，在鏡像投影型掃描曝光裝置中，將平面狀的掩膜的圖案經(jīng)由具有圓弧狀的投影視場的OfTner型的反射投影光學系統(tǒng)而投影于平面狀的感光基板上，并使掩膜和感光基板相對于反射投影光學系統(tǒng)掃描移動。該情況下，例如，取代圖5、圖6、圖10所示的使多個偏轉部件22a沿Y方向以直線排列（接合）的配置，而使多個偏轉部件22a彎曲地排列以使掩膜上的照明區(qū)域IR近似于圓弧狀的投影視場即可。為此，在圖6中，只要使形成彼此相鄰的偏轉部件22a的邊界27的側端面的部分27a、27b的XY面內(nèi)的頂角不同即可。
[0185] 另外，在上述實施方式中，將照明裝置IU適用于曝光裝置EX，但照明裝置IU也能夠適用于例如退火裝置等。
[0186] [器件制造方法]
[0187] 接著，對器件制造方法進行說明。圖22是表示本實施方式的器件制造方法的流程圖。
[0188] 在圖22所示的器件制造方法中，首先，進行例如液晶顯示面板、有機EL顯示面板等器件的功能/性能設計（步驟201)。接著，基于器件的設計，制作掩膜圖案M(步驟202)。另外，通過采購或制造等預先準備作為器件基材的透明膜或片、或者極薄的金屬箔等基板 (步驟203)。
[0189] 接著，將準備好的基板投入卷式、批式的生產(chǎn)線，在該基板上形成構成器件的電極和布線、絕緣膜、半導體膜等的TFT底板（back plane)層、成為像素部的有機EL發(fā)光層（步驟204)。在步驟204中，典型地包括在基板上的膜上形成抗蝕圖案的工序、和以該抗蝕圖案為掩膜對上述膜進行蝕刻的工序。在抗蝕圖案的形成中實施以下工序：將抗蝕膜均勻地形成于基板表面的工序；根據(jù)上述各實施方式以經(jīng)由掩膜圖案M而圖案化的曝光用光對基板的抗蝕膜進行曝光的工序；通過該曝光使形成有掩膜圖案的潛像的抗蝕膜顯影的工序。
[0190] 在同時使用印刷技術等的柔性器件制造的情況下，實施在基板表面上通過涂敷式而形成功能性感光層（感光性硅烷耦合材料等）的工序、根據(jù)上述的各實施方式將經(jīng)由掩膜圖案M而圖案化的曝光用光照射于功能性感光層而在功能性感光層上形成根據(jù)圖案形狀而親水化的部分和疏水化的部分的工序、在功能性感光層的親水性高的部分上涂敷電鍍底液等并通過無電解電鍍析出形成金屬性圖案的工序等。
[0191] 接著，根據(jù)制造的器件，例如，實施例如將基板切割或切斷、貼合以其他工序制造的其他基板例如具有密封功能的片狀的彩色濾光片或薄玻璃基板等的工序，從而組裝器件 (步驟205)。接著，進行檢查器件等的后續(xù)處理（步驟206)。能夠通過以上來制造器件。
[0192] 附圖標記說明
[0193] 10…移動裝置，21···光源部，21a…第1光源部，21b…第2光源部，22···偏轉部， 23…光源，24···線段生成器，25···準直器，28···濾光片，35···旋轉滾筒，36···光學桿部件，37、 38…中繼透鏡，42···光闌部件，45···反射鏡，46···通過部，47···反射部，48···中間部，EX…曝光裝置，IU···照明裝置，L···照明光，M···掩膜圖案，P···基板，S···距離，U3···處理裝置
【權利要求】
1. 一種照明裝置，其特征在于，具有：第1光源部；第2光源部，其光的射出方向與所述第1光源部不同；和偏轉部，其W使來自所述第1光源部的光和來自所述第2光源部的光的行進方向一致的方式，使該光的至少一部分偏轉，所述第1光源部和所述第2光源部W使從各光源部射出并經(jīng)由所述偏轉部的光所射入的照明區(qū)域在規(guī)定方向上連續(xù)地排列的方式，在所述規(guī)定方向上配置在不同位置。
2. 如權利要求1所述的照明裝置，其特征在于，具有包括所述第1光源部及所述第2光源部的多個光源部，所述第1光源部在所述多個光源部中，在從與所述規(guī)定方向垂直的方向觀察時配置在所述第2光源部旁邊。
3. 如權利要求1或2所述的照明裝置，其特征在于，所述第1光源部及所述第2光源部配置成，所述照明區(qū)域的所述規(guī)定方向上的端部相互重疊。
4. 如權利要求1?3中任一項所述的照明裝置，其特征在于，所述第1光源部和所述第2光源部從所述規(guī)定方向觀察時配置在不同的位置上。
5. 如權利要求1?4中任一項所述的照明裝置，其特征在于，所述第1光源部和所述第2光源部相對于與所述規(guī)定方向平行的面而對稱地設置。
6. 如權利要求5所述的照明裝置，其特征在于，所述平行的面與來自所述偏轉部的光的射出方向平行。
7. 如權利要求1?6中任一項所述的照明裝置，其特征在于，所述偏轉部具有：供來自所述第1光源部的光射入的第1面；和朝向與所述第1面不同的方向并供來自所述第2光源部的光射入的第2面。
8. 如權利要求7所述的照明裝置，其特征在于，從來自所述偏轉部的光的射出方向觀察時，所述第1面與所述第2面的邊界與所述規(guī) 定方向非垂直地交叉。
9. 如權利要求7或8所述的照明裝置，其特征在于，所述偏轉部通過所述第1面和所述第2面中的一方或雙方上的折射使來自所述光源部的光偏轉。
10. 如權利要求7或8所述的照明裝置，其特征在于，所述偏轉部通過所述第1面和所述第2面中的一方或雙方上的反射使來自所述光源部的光偏轉。
11. 如權利要求7或8所述的照明裝置，其特征在于，所述偏轉部在所述第1面和所述第2面中的一個面上使來自所述光源部的光通過，并在另一個面上使來自所述光源部的光反射而偏轉。
12. 如權利要求11所述的照明裝置，其特征在于，所述偏轉部具有：通過部，其包括所述一個面的一部分，并使來自所述第1光源部的光通過；反射部，其包括所述另一個面的一部分，并使來自所述第2光源部的光反射；和中間部，其配置在所述通過部與所述反射部之間，與所述通過部相比反射率較高，且與所述反射部相比反射率較低。
13.如權利要求1?12中任一項所述的照明裝置，其特征在于，所述偏轉部W使來自所述偏轉部的光從法線方向向所述照明區(qū)域射入的方式，使光偏轉。
14.如權利要求1?13中任一項所述的照明裝置，其特征在于，從所述光源部射出的光的光點設定成W所述規(guī)定方向為長邊的形狀。
15.如權利要求14所述的照明裝置，其特征在于，所述光源部具有：光源；將從所述光源射出的光沿所述規(guī)定方向擴散的光學部件；和使由所述光學部件擴散的所述光平行化的平行化部件。
16.如權利要求1?14中任一項所述的照明裝置，其特征在于，所述光源部具有：光源；光學桿部件，其具有供來自所述光源的光射入的射入端面、及使射入到所述射入端面的光射出且與所述規(guī)定方向對應的方向為長邊的射出端面；和中繼透鏡，其與所述射出端面形成共輛面。
17.如權利要求16所述的照明裝置，其特征在于，具有光闊部件，該光闊部件將從所述光學桿部件射出的光的通過范圍在與所述規(guī)定方向垂直的方向上進行規(guī)定，W使得所述照明區(qū)域的所述規(guī)定方向上的照度分布均勻化。
18.如權利要求1?17中任一項所述的照明裝置，其特征在于，具有用于調(diào)整所述照明區(qū)域的照度分布的濾光片。
19.如權利要求18所述的照明裝置，其特征在于，所述濾光片包括用于使光量在包括所述第1光源部及所述第2光源部的多個光源部中一致的第1濾光片。
20. 如權利要求18或19所述的照明裝置，其特征在于，與所述第1光源部對應的所述照明區(qū)域包括和與所述第2光源部對應的所述照明區(qū)域重疊的重復區(qū)域、及不與其重疊的非重復區(qū)域，所述濾光片包括用于使照度在所述重復區(qū)域和所述非重復區(qū)域中一致的第2濾光片。
21. 如權利要求18?20中任一項所述的照明裝置，其特征在于，與所述第1光源部對應的所述照明區(qū)域包括和與所述第2光源部對應的所述照明區(qū)域重疊的重復區(qū)域、及不與其重疊的非重復區(qū)域，所述濾光片包括用于W使所述非重復區(qū)域的照度分布均勻化的方式使照度一致的第3 濾光片。
22. 如權利要求17?21中任一項所述的照明裝置，其特征在于，所述濾光片的至少一個，其光的透射率是可變的。
23.如權利要求22所述的照明裝置，其特征在于，所述濾光片的至少一個，其光的透射率是空間變化的，并設置成相對于向所述照明區(qū) 域射入的光的光路而能夠移動。
24. 如權利要求1?23中任一項所述的照明裝置，其特征在于，還具有對所述照明區(qū)域的所述規(guī)定方向上的照度分布進行計測的計測裝置。
25. -種處理裝置，將形成為掩膜圖案的圖案轉印到具有感應層的基板上，其特征在于，具有：對所述掩膜圖案進行照明的權利要求1?24中任一項所述的照明裝置；和使所述掩膜圖案和所述基板沿與所述規(guī)定方向垂直的方向相對移動的移動裝置。
26. 如權利要求25所述的處理裝置，其特征在于，所述移動裝置具有掩膜保持部件，該掩膜保持部件保持所述掩膜圖案且能夠繞與所述規(guī)定方向平行的中屯、線旋轉。
27. -種器件制造方法，其特征在于，包括：通過權利要求25或26所述的處理裝置，一邊使所述掩膜圖案和所述基板相對移動一邊將所述圖案連續(xù)地轉印到所述基板上；利用轉印有所述圖案的所述基板的感應層的變化來實施后續(xù)處理。
【文檔編號】G03F7/20GK104471486SQ201380037678
【公開日】2015年3月25日申請日期:2013年5月22日優(yōu)先權日:2012年5月29日
【發(fā)明者】根岸武利, 福井達雄申請人:株式會社尼康

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