光瞳亮度分布的評價方法和改善方法、照明光學(xué)系統(tǒng)及其調(diào)整方法、曝光裝置、曝光方法 ...的制作方法
【專利摘要】例如通過遍及光瞳亮度分布的大致整體的離散性微小調(diào)制，可靠且迅速地改善光瞳亮度分布。包含：第5工序，使用由第1工序至第4工序構(gòu)成的評價方法，求出通過形成在照明光瞳上的光瞳亮度分布得到的指標(biāo)值；第6工序，按單位光瞳區(qū)域求出在前面的工序中求出的離散數(shù)據(jù)中、指標(biāo)值的單位變化量；第7工序，利用使用單位變化量的改善方法，以使指標(biāo)值接近目標(biāo)指標(biāo)值的方式求出調(diào)制后的離散數(shù)據(jù)；以及第8工序，使用由第1工序至第4工序構(gòu)成的評價方法，求出與在第7工序中求出的調(diào)制后的離散數(shù)據(jù)對應(yīng)地得到的指標(biāo)值，通過重復(fù)第6工序至第8工序直到與調(diào)制后的離散數(shù)據(jù)對應(yīng)地得到的指標(biāo)值的誤差收斂在容許范圍內(nèi)，改善應(yīng)形成在照明光瞳上的光瞳亮度分布。
【專利說明】光瞳亮度分布的評價方法和改善方法、照明光學(xué)系統(tǒng)及其 調(diào)整方法、曝光裝置、曝光方法以及器件制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及光瞳亮度分布的評價方法和改善方法、照明光學(xué)系統(tǒng)及其調(diào)整方法、 曝光裝置、曝光方法以及器件制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 在用于制造半導(dǎo)體元件等器件的曝光裝置中，從光源射出的光經(jīng)由作為光學(xué)積分 器的蠅眼（fly eye)透鏡，形成由許多光源構(gòu)成的作為實質(zhì)性面光源的二次光源（一般來 說，照明光瞳上的預(yù)定的光強(qiáng)度分布）。以下，將在照明光瞳上的光強(qiáng)度分布稱為"光瞳亮 度分布"。照明光瞳被定義為如下位置：通過照明光瞳與被照射面（在曝光裝置的情況下為 掩?；蚓┲g的光學(xué)系統(tǒng)的作用，被照射面成為照明光瞳的傅里葉變換面的位置。
[0003] 來自二次光源的光在由聚光光學(xué)系統(tǒng)聚光后，重疊地對形成有預(yù)定圖案的掩模進(jìn) 行照明。透射過掩模的光經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)而成像在晶片上，并在晶片上投影曝光（轉(zhuǎn)?。?掩模圖案。形成在掩模上的圖案被微細(xì)化，為了將該微細(xì)圖案正確地轉(zhuǎn)印在晶片上，在晶片 上獲得均勻的照度分布是不可缺少的。
[0004] 以往已知有如下照明光學(xué)系統(tǒng)：使用由多個微小的反射鏡部件構(gòu)成的可動多反射 鏡來實現(xiàn)期望的光瞳亮度分布，所述多個微小的反射鏡部件呈陣列狀排列且被獨立地驅(qū)動 控制傾斜角和傾斜方向。在該照明光學(xué)系統(tǒng)中，由于使用了作為空間光調(diào)制器的可動多反 射鏡，與光瞳亮度分布的外形形狀和分布的變更相關(guān)的自由度高，并能夠精度良好地實現(xiàn) 光瞳亮度分布，所述光瞳亮度分布具有根據(jù)應(yīng)轉(zhuǎn)印的圖案的特性而適當(dāng)決定的復(fù)雜的外形 形狀和分布。
[0005] 但是，實際形成在照明光瞳上的光瞳亮度分布由于各種原因而與設(shè)計上的光瞳亮 度分布稍微不同，或者光瞳亮度分布以外的光學(xué)特性與設(shè)計了光瞳亮度分布的條件不同， 從而難以達(dá)成與設(shè)計上的光瞳亮度分布相應(yīng)的期望的成像性能。因此，為了使與實際的光 瞳亮度分布相應(yīng)的成像性能接近與設(shè)計上的光瞳亮度分布相應(yīng)的期望的成像性能，提出了 進(jìn)行光瞳亮度分布的最優(yōu)化的方法（參照專利文獻(xiàn)1)。
[0006] 在先技術(shù)文獻(xiàn)
[0007] 專利文獻(xiàn)
[0008] 專利文獻(xiàn)1 :國際公開第2011/102109號小冊子
【發(fā)明內(nèi)容】
[0009] 發(fā)明要解決的問題
[0010] 在以往的光瞳亮度分布的最優(yōu)化方法中，由于用函數(shù)表現(xiàn)光瞳亮度分布，能夠用 比較少的參數(shù)，以比較良好的預(yù)測性來最優(yōu)化光瞳亮度分布。然而，不能說充分發(fā)揮了由多 個微小的反射鏡部件構(gòu)成的空間光調(diào)制器原本具備的與光瞳亮度分布的外形形狀和分布 的變更相關(guān)的高自由度。 toon] 本發(fā)明鑒于前述問題而做出，其目的在于提供一種例如通過光瞳亮度分布的離散 性微小調(diào)制，能夠可靠且迅速地改善光瞳亮度分布的改善方法。另外，本發(fā)明的目的在于提 供一種照明光學(xué)系統(tǒng)，其使用可靠且迅速地改善光瞳亮度分布的改善方法，能夠以期望的 成像性能為目標(biāo)適當(dāng)?shù)卣{(diào)整光瞳亮度分布。另外，本發(fā)明的目的在于提供一種曝光裝置， 其使用適當(dāng)?shù)卣{(diào)整光瞳亮度分布的照明光學(xué)系統(tǒng)，能夠在適當(dāng)?shù)恼彰鳁l件下進(jìn)行良好的曝 光。
[0012] 用于解決問題的手段
[0013] 為了解決所述問題，在第1方式中，提供一種評價形成在照明光學(xué)系統(tǒng)的照明光 瞳上的光瞳亮度分布的方法，所述照明光學(xué)系統(tǒng)向成像光學(xué)系統(tǒng)供給照明光，所述成像光 學(xué)系統(tǒng)將配置在第1面上的圖案的像形成在第2面上，其特征在于，包含：
[0014] 第1工序，按單位光瞳區(qū)域求出利用從多個單位光瞳區(qū)域的各區(qū)域供給的單位亮 度水平的光形成在所述第2面上的單位強(qiáng)度分布，所述多個單位光瞳區(qū)域是假想地分割所 述照明光瞳而得的區(qū)域；
[0015] 第2工序，按照如下的三維模型求出近似的所述光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)，所述 三維模型是所述多個單位光瞳區(qū)域的各區(qū)域分別具有用所述單位亮度水平的倍數(shù)來表示 的亮度水平；
[0016] 第3工序，基于在所述第1工序中按單位光瞳區(qū)域求出的多個所述單位強(qiáng)度分布、 和在所述第2工序中求出的所述離散數(shù)據(jù)，求出由所述光瞳亮度分布形成在所述第2面上 的空間像的光強(qiáng)度分布；以及
[0017] 第4工序，基于在所述第3工序中求出的所述空間像的光強(qiáng)度分布，求出由所述光 瞳亮度分布得到的成像特性的指標(biāo)值。
[0018] 在第2方式中，提供一種改善應(yīng)形成在照明光學(xué)系統(tǒng)的照明光瞳上的光瞳亮度分 布的方法，所述照明光學(xué)系統(tǒng)向成像光學(xué)系統(tǒng)供給照明光，所述成像光學(xué)系統(tǒng)將配置在第1 面上的圖案的像形成在第2面上，其特征在于，包含：
[0019] 第5工序，使用第1方式的評價方法，求出利用以基準(zhǔn)性光瞳亮度分布為目標(biāo)形成 在所述照明光瞳上的光瞳亮度分布得到的指標(biāo)值；
[0020] 第6工序，按單位光瞳區(qū)域求出在前面的工序中求出的離散數(shù)據(jù)中、一個單位光 瞳區(qū)域的亮度水平變化了單位亮度水平時的所述指標(biāo)值的單位變化量；
[0021] 第7工序，利用使用在所述第6工序中按單位光瞳區(qū)域求出的多個所述指標(biāo)值的 單位變化量的改善方法，以使利用根據(jù)在前面的工序求出的離散數(shù)據(jù)調(diào)制后的離散數(shù)據(jù)而 得到的指標(biāo)值接近目標(biāo)指標(biāo)值的方式求出所述調(diào)制后的離散數(shù)據(jù)；以及
[0022] 第8工序，使用第1方式的評價方法，求出與在所述第7工序中求出的所述調(diào)制后 的離散數(shù)據(jù)對應(yīng)地得到的指標(biāo)值，
[0023] 通過重復(fù)所述第6工序至所述第8工序直到與所述調(diào)制后的離散數(shù)據(jù)對應(yīng)地得到 的指標(biāo)值與所述目標(biāo)指標(biāo)值之差收斂在容許范圍內(nèi)，從而改善應(yīng)形成在所述照明光瞳上的 光瞳亮度分布。
[0024] 在第3方式中，提供一種利用來自光源的光對被照射面進(jìn)行照明的照明光學(xué)系統(tǒng) 的調(diào)整方法，其特征在于，包含 ：
[0025] 使用第2方式的改善方法，改善應(yīng)形成在所述照明光學(xué)系統(tǒng)的照明光瞳上的光瞳 亮度分布；以及
[0026] 以所述改善后的光瞳亮度分布為目標(biāo)而調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度 分布。
[0027] 在第4方式中，提供一種評價形成在照明光學(xué)系統(tǒng)的照明光瞳上的光瞳亮度分布 的方法，所述照明光學(xué)系統(tǒng)向成像光學(xué)系統(tǒng)供給照明光，所述成像光學(xué)系統(tǒng)將配置在第1 面上的圖案的像形成在第2面上，其特征在于，包含：
[0028] 第1工序，按單位光瞳區(qū)域求出利用從多個單位光瞳區(qū)域的各區(qū)域供給的單位亮 度水平的光形成在所述第2面上的單位強(qiáng)度分布，所述多個單位光瞳區(qū)域是假想地分割所 述照明光瞳而得的區(qū)域；
[0029] 第2工序，按照如下的三維模型求出基準(zhǔn)性光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)，所述三維 模型是所述多個單位光瞳區(qū)域的各區(qū)域分別具有用所述單位亮度水平的倍數(shù)來表示的亮 度水平；
[0030] 第3工序，基于在所述第1工序中按單位光瞳區(qū)域求出的多個所述單位強(qiáng)度分布、 和在所述第2工序中求出的所述基準(zhǔn)性光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)，求出由所述基準(zhǔn)性光瞳 亮度分布形成在所述第2面上的空間像的光強(qiáng)度分布；
[0031] 第4工序，基于在所述第3工序中求出的所述空間像的光強(qiáng)度分布，求出由所述基 準(zhǔn)性光瞳亮度分布得到的成像特性的指標(biāo)值；以及
[0032] 第5工序，按單位光瞳區(qū)域求出所述基準(zhǔn)性光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)中、一個單 位光瞳區(qū)域的亮度水平變化了單位亮度水平時得到的所述指標(biāo)值的單位變化量。
[0033] 在第5方式中，提供一種利用來自光源的光對被照射面進(jìn)行照明的照明光學(xué)系統(tǒng) 的調(diào)整方法，其特征在于，包含 ：
[0034] 使用第4方式的評價方法，評價形成在所述照明光學(xué)系統(tǒng)的照明光瞳上的光瞳亮 度分布；以及
[0035] 基于所述評價的結(jié)果調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分布。
[0036] 在第6方式中，提供一種照明光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于利用第3方式或第5方式的調(diào) 整方法調(diào)整而成。
[0037] 在第7方式中，提供一種利用來自光源的光對被照射面進(jìn)行照明的照明光學(xué)系 統(tǒng)，其特征在于，包括：
[0038] 光瞳分布測量裝置，測量形成在所述照明光學(xué)系統(tǒng)的照明光瞳上的光瞳亮度分 布；
[0039] 光瞳調(diào)整裝置，調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分布；以及
[0040] 控制部，為了以使用第2方式的改善方法改善后的光瞳亮度分布為目標(biāo)而調(diào)整形 成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分布，控制所述光瞳調(diào)整裝置。
[0041] 在第8方式中，提供一種利用來自光源的光對被照射面進(jìn)行照明的照明光學(xué)系 統(tǒng)，其特征在于，包括：
[0042] 光瞳分布測量裝置，測量形成在所述照明光學(xué)系統(tǒng)的照明光瞳上的光瞳亮度分 布；
[0043] 光瞳調(diào)整裝置，調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分布；以及
[0044] 控制部，為了使用第4方式的評價方法調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分 布而控制所述光瞳調(diào)整裝置。
[0045] 在第9方式中，提供一種曝光裝置，其特征在于，包括用于對預(yù)定圖案進(jìn)行照明的 第6方式、第7方式或第8方式的照明光學(xué)系統(tǒng)，并將所述預(yù)定圖案曝光在感光性襯底上。
[0046] 在第10方式中，提供一種曝光方法，利用照明光學(xué)系統(tǒng)照明預(yù)定圖案，并經(jīng)由投 影光學(xué)系統(tǒng)將所述預(yù)定圖案曝光在感光性襯底上，所述照明光學(xué)系統(tǒng)利用第3方式或第5 方式的調(diào)整方法調(diào)整而成，其特征在于，
[0047] 調(diào)整所述投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑、所述感光性襯底相對于所述投影光學(xué)系統(tǒng)的 散焦量以及所述投影光學(xué)系統(tǒng)的波前像差中的至少一個，使得成像特性的指標(biāo)值接近所述 目標(biāo)指標(biāo)值。
[0048] 在第11方式中，提供一種器件的制造方法，其特征在于，包含：使用第9方式的曝 光裝置或第10方式的曝光方法，將所述預(yù)定圖案曝光在所述感光性襯底上；以及
[0049] 將轉(zhuǎn)印有所述預(yù)定圖案的所述感光性襯底顯影，在所述感光性襯底的表面上形成 與所述預(yù)定圖案對應(yīng)的形狀的掩模層；以及
[0050] 經(jīng)由所述掩模層加工所述感光性襯底的表面。
[0051] 發(fā)明的效果
[0052] 在按照實施方式的光瞳亮度分布的改善方法中，例如通過光瞳亮度分布的離散性 的微小調(diào)制，能夠可靠且迅速地改善光瞳亮度分布從而能夠得到與期望的成像性能充分接 近的成像性能。在實施方式的照明光學(xué)系統(tǒng)中，使用可靠且迅速地改善光瞳亮度分布的改 善方法，能夠以期望的成像性能為目標(biāo)而適當(dāng)?shù)卣{(diào)整光瞳亮度分布。在實施方式的曝光裝 置中，使用適當(dāng)?shù)卣{(diào)整光瞳亮度分布的照明光學(xué)系統(tǒng)，能夠在適當(dāng)?shù)恼彰鳁l件下進(jìn)行良好 的曝光，進(jìn)而能夠制造良好的器件。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0053] 圖1是說明成像光學(xué)系統(tǒng)的像面坐標(biāo)和照明光學(xué)系統(tǒng)的光瞳面坐標(biāo)的圖。
[0054] 圖2是表示實施方式的光瞳亮度分布的改善方法的流程圖。
[0055] 圖3是表示沿著正交的兩個方向假想地分割光瞳面而得到的多個矩形單位光瞳 區(qū)域的圖。
[0056] 圖4是表示由來自單位光源的光形成在投影光學(xué)系統(tǒng)的像面上的單位強(qiáng)度分布 的情況的圖。
[0057] 圖5是說明用于求出光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)的三維模型的圖。
[0058] 圖6是概略地表示實施方式的曝光裝置的構(gòu)成的圖。
[0059] 圖7是概略地表示空間光調(diào)制單元的構(gòu)成和作用的圖。
[0060] 圖8是空間光調(diào)制單元中的空間光調(diào)制器的部分透視圖。
[0061] 圖9是概略地表示光瞳分布測量裝置的內(nèi)部構(gòu)成的圖。
[0062] 圖10是實施方式的照明光學(xué)系統(tǒng)的調(diào)整方法的流程圖。
[0063] 圖11是表示第2實施方式的光瞳亮度分布的評價方法的流程圖。
[0064] 圖12是表示在第2實施方式的評價方法中假想作為應(yīng)評價光瞳亮度分布的設(shè)計 上的光瞳亮度分布的圖。
[0065] 圖13是表示在第2實施方式的評價方法中假想作為應(yīng)形成圖案像的4種圖案像 的圖。
[0066] 圖14是表示針對除去了錨定（anchor)圖案的3種掩模圖案，按單位光瞳區(qū)域求 出的圖案線寬的單位變化量的分布的圖。
[0067] 圖15是表示實際形成了以設(shè)計上的光瞳亮度分布為目標(biāo)的環(huán)帶狀光瞳亮度分布 的情況的圖。
[0068] 圖16是表示基準(zhǔn)性光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)與實際光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)的 差值的分布的一例的圖。
[0069] 圖17是表示按單位光瞳區(qū)域求出與圖16的差值分布對應(yīng)的圖案線寬的變化量而 得到的線寬變化量的分布的圖。
[0070] 圖18是表示在經(jīng)過第2實施方式的光瞳亮度分布的評價方法后，調(diào)整形成在照明 光瞳上的光瞳亮度分布的工序的流程圖。
[0071] 圖19是表示僅利用1次失真多項式的調(diào)制作用的圖。
[0072] 圖20是表示僅利用3次失真多項式的調(diào)制作用的圖。
[0073] 圖21是表示僅利用4次失真多項式的調(diào)制作用的圖。
[0074] 圖22是表示僅利用8次失真多項式的調(diào)制作用的圖。
[0075] 圖23是表示僅利用12次失真多項式的調(diào)制作用的圖。
[0076] 圖24是表示半導(dǎo)體器件的制造工序的流程圖。
[0077] 圖25是表不液晶顯不兀件等液晶器件的制造工序的流程圖。
【具體實施方式】
[0078] 在實施方式的具體說明之前，說明本實施方式的光瞳亮度分布的評價方法和改善 方法的基本想法。在曝光裝置中，使用可動多反射鏡形成在照明光瞳上的實際光瞳亮度分 布會成為與企圖要形成在照明光瞳上的基準(zhǔn)性光瞳亮度分布稍微不同的分布。另外，通過 實際光瞳亮度分布得到的成像性能也會稍微不同于與設(shè)計上的光瞳亮度分布相應(yīng)的期望 的成像性能。以下，為了容易理解說明，企圖要形成在照明光瞳上的基準(zhǔn)性光瞳亮度分布設(shè) 為設(shè)計上的光瞳亮度分布。
[0079] 設(shè)計上的光瞳亮度分布根據(jù)應(yīng)轉(zhuǎn)印的圖案的特性而適當(dāng)?shù)貨Q定，有時具有復(fù)雜的 外形形狀和分布。具體而言，作為設(shè)計上的光瞳亮度分布，有時也采用光瞳的填充率比較低 的自由形狀（自由形式）的光強(qiáng)度分布。在該情況下，為了達(dá)成與對應(yīng)于設(shè)計上的光瞳亮 度分布的期望成像性能充分接近的成像性能，例如需要通過改善方法，求出根據(jù)設(shè)計上的 光瞳亮度分布調(diào)制的光瞳亮度分布以及以調(diào)制后的光瞳亮度分布為目標(biāo)而調(diào)整光瞳亮度 分布，以使得實際的成像性能充分接近期望的成像性能。
[0080] 圖1是說明成像光學(xué)系統(tǒng)的像面坐標(biāo)和照明光學(xué)系統(tǒng)的光瞳面坐標(biāo)的圖。在圖 1中，示意性地示出了成像光學(xué)系統(tǒng)（與曝光裝置的投影光學(xué)系統(tǒng)對應(yīng)）的像面正交坐標(biāo) ( X，y)和照明光學(xué)系統(tǒng)的光瞳面正交坐標(biāo)（ξ，η)。作為根據(jù)光瞳亮度分布而得到的成像 特性的指標(biāo)，已知有OPE (Optical proximity effect:光學(xué)鄰近效應(yīng)）。具體而言，曝光裝 置中的OPE值是例如形成在感光性襯底上的抗蝕劑圖案的線寬。
[0081] 在該情況下，OPE值成為取決于投影光學(xué)系統(tǒng)的像面位置的分布即二維分布。但 是，由于在投影光學(xué)系統(tǒng)的像面上沿著相互正交的兩個方向的抗蝕劑圖案的線寬具有重要 的含義，所以能夠?qū)⒀刂鳫方向（例如中的X方向）的OPE值的一維分布和沿著V方向（例 如圖1中的y方向）的OPE值的一維分布作為OPE值的信息進(jìn)行處理。
[0082] 在光瞳亮度分布的改善中應(yīng)著眼的物理量是OPE誤差，即通過設(shè)計上的光瞳亮度 分布應(yīng)達(dá)成的期望的目標(biāo)OPE值與通過以設(shè)計上的光瞳亮度分布為目標(biāo)而形成在照明光 瞳上的實際光瞳亮度分布而得到的OPE值之差。在本實施方式的光瞳亮度分布的改善方法 中，改善應(yīng)形成在向成像光學(xué)系統(tǒng)供給照明光的照明光學(xué)系統(tǒng)的照明光瞳上的光瞳亮度分 布，使得作為成像性能的指標(biāo)的OPE誤差充分變小。以下，為了容易理解，說明應(yīng)形成在照 明光學(xué)系統(tǒng)的照明光瞳上的光瞳亮度分布的改善，所述照明光學(xué)系統(tǒng)在曝光裝置中向投影 光學(xué)系統(tǒng)供給照明光。
[0083] 在本實施方式的改善方法中，如圖2的流程圖所示，按單位光瞳區(qū)域求出利用單 位亮度水平的光形成在投影光學(xué)系統(tǒng)的像面上的單位強(qiáng)度分布，所述單位亮度水平的光從 假想地分割照明光瞳而得到的多個單位光瞳區(qū)域的各區(qū)域供給（Sll)。具體而言，在步驟 Sll中，如圖3所示，通過在照明光瞳面中沿著相互正交的兩個方向即ξ方向和η方向假 想地分割光瞳面，從而得到多個矩形的單位光瞳區(qū)域41。
[0084] 在圖3中，作為一例，通過將正方形的光瞳區(qū)域43在ξ方向上256等分割且在η 方向上256等分割，得到256X256 = 65536個正方形的單位光瞳區(qū)域41，所述正方形光瞳 區(qū)域43與在照明光學(xué)系統(tǒng)的照明光瞳面中可形成光瞳亮度分布的最大圓形區(qū)域42外接。 針對光瞳面的假想分割，即針對光瞳面的ξ方向上的分割數(shù)和η方向上的分割數(shù)，進(jìn)而單 位光瞳區(qū)域的形狀和大小等，可有各種形態(tài)。
[0085] 另外，在步驟Sll中，如圖4所示，例如，求出僅在照明光學(xué)系統(tǒng)的光瞳面的最大圓 形區(qū)域42中的一個單位光瞳區(qū)域41a中具有單位亮度水平的光時，來自該單位光源的光經(jīng) 由掩模M和投影光學(xué)系統(tǒng)PL而形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面Im上的光強(qiáng)度分布（單位 強(qiáng)度分布）44a。通過基于掩模M的圖案的三維構(gòu)造、投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)特性等的嚴(yán)密 的成像計算而正確地求出單位強(qiáng)度分布44a。
[0086] 一般來說，在應(yīng)用本實施方式的改善方法時，掩模M的圖案的三維構(gòu)造、投影光學(xué) 系統(tǒng)PL的光學(xué)特性等信息是已知且固定的。因此，按單位光瞳區(qū)域求出單位強(qiáng)度分布的成 像計算雖然是需要比較多的時間的計算（負(fù)載比較大的計算），但是能夠在改善步驟的實 質(zhì)應(yīng)用前預(yù)先進(jìn)行的事前性（或者準(zhǔn)備性）作業(yè)。即，雖然按單位光瞳區(qū)域求出單位強(qiáng)度 分布的成像計算所需的時間比較長，但能夠預(yù)先準(zhǔn)備。
[0087] 在步驟SI 1中，不一定需要針對最大圓形區(qū)域42中的全部單位光瞳區(qū)域按單位光 瞳區(qū)域求出單位強(qiáng)度分布。針對被認(rèn)為與后述各工序關(guān)聯(lián)而需要的所需數(shù)量的單位光瞳區(qū) 域41，按單位光瞳區(qū)域求出單位強(qiáng)度分布即可。順便說一句，針對最大圓形區(qū)域42中的全 部單位光瞳區(qū)域按單位光瞳區(qū)域求出單位強(qiáng)度分布的成像計算所需時間，與求出由對應(yīng)于 最大圓形區(qū)域42的圓形光瞳亮度分布而得到的空間像的光強(qiáng)度分布的成像計算所需要的 時間是同等程度的。因此，針對所需數(shù)量的單位光瞳區(qū)域，按單位光瞳區(qū)域要求單位強(qiáng)度分 布，并將求出的多個單位強(qiáng)度分布的信息與對應(yīng)的單位光瞳區(qū)域關(guān)聯(lián)而做成數(shù)據(jù)庫，在時 間上、容量上均不會增加過大的負(fù)擔(dān)。
[0088] 當(dāng)使用公式表示時，在步驟Sll中，求出在照明光學(xué)系統(tǒng)的光瞳面坐標(biāo)（ξ，η)中 由僅在位于坐標(biāo)（ξ η，nn)的一個單位光瞳區(qū)域具有單位亮度水平的光的單位光源形成的 單位強(qiáng)度分布Iu(x，y，ξη，ηη)。即，針對所需數(shù)量的單位光瞳區(qū)域41，分別求出單位強(qiáng)度 分布 Iu (X，y，ξ !，η !)，Iu (X，y，ξ 2，η 2)，…Iu (X，y，ξ Ν，η Ν)。
[0089] 接著，在本實施方式的改善方法中，按照多個單位光瞳區(qū)域的各區(qū)域分別具有以 單位亮度水平的倍數(shù)（包括〇倍）表示的亮度水平的三維模型，求出近似的光瞳亮度分 布的離散數(shù)據(jù)（S12)。具體而言，作為三維模型的一例，如圖5所示，能夠采用如下模型， 256X256 = 65536個正方形的單位光瞳區(qū)域的各區(qū)域分別具有用256個等級的單位亮度水 平表不的殼度水平。
[0090] 在步驟S12中，測量以設(shè)計上的光瞳亮度分布為目標(biāo)而實際形成在照明光學(xué)系統(tǒng) 的照明光瞳上的光瞳亮度分布，基于該測量結(jié)果，按照圖5所示的三維模型，求出近似的光 瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)。這樣，形成在照明光瞳上的光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)被表現(xiàn)作為 分別賦予給圖5所示的256X256X256 = 16777216個單位立方體的0或1的集合體，進(jìn)而 被做成數(shù)據(jù)庫。在圖5所示的三維模型中，集合體的底面與光瞳面對應(yīng)，其高度方向與亮度 水平的方向?qū)?yīng)。
[0091] 在圖5所示的集合體的底面部分的256X256 = 65536個單位立方體中，以0表示 的單位立方體意味著對應(yīng)的單位光瞳區(qū)域沒有亮度，以1表示的單位立方體意味著對應(yīng)的 單位光瞳區(qū)域具有亮度。而且，具有亮度的單位光瞳區(qū)域意味著具有在對應(yīng)的256個單位 立方體中以1表示的單位立方體的數(shù)量乘以單位亮度水平而得到的亮度水平。此外，也可 以是，根據(jù)需要將各單位光瞳區(qū)域中的亮度水平的等級數(shù)設(shè)定為小于光瞳面的ξ方向的 分割數(shù)和η方向的分割數(shù)。
[0092] 接著，在本實施方式的改善方法中，基于在步驟Sll中按單位光瞳區(qū)域求出的多 個單位強(qiáng)度分布和在步驟S12中求出的離散數(shù)據(jù)，求出由光瞳亮度分布形成在投影光學(xué)系 統(tǒng)的像面上的空間像的光強(qiáng)度分布（S13)。具體而言，在步驟S13中，通過以各單位光瞳區(qū) 域41的亮度水平為系數(shù)的多個單位強(qiáng)度分布的線性結(jié)合，求出與光瞳亮度分布對應(yīng)地得 到的空間像的光強(qiáng)度分布。
[0093] 當(dāng)使用公式表示時，在步驟S13中，基于在步驟Sll中求出的多個單位強(qiáng)度分布 iu(x，y，ξη，nn)、和在步驟S12中求出的離散數(shù)據(jù)中位于光瞳面坐標(biāo)（ξ η，nn)的單位光瞳 區(qū)域的亮度水平s(€n，Iin),利用以下式（1)求出基于測量到的光瞳亮度分布s(€，η)形 成在投影光學(xué)系統(tǒng)的像面上的空間像的光強(qiáng)度分布I Ix，y，S ( ξ，Ii)}。
[0094] [公式 1]
【權(quán)利要求】
1. 一種評價形成在照明光學(xué)系統(tǒng)的照明光瞳上的光瞳亮度分布的方法，所述照明光學(xué) 系統(tǒng)向成像光學(xué)系統(tǒng)供給照明光，所述成像光學(xué)系統(tǒng)將配置在第1面上的圖案的像形成在 第2面上，其特征在于，包含： 第1工序，按單位光瞳區(qū)域求出利用從多個單位光瞳區(qū)域的各區(qū)域供給的單位亮度水 平的光形成在所述第2面上的單位強(qiáng)度分布，所述多個單位光瞳區(qū)域是假想地分割所述照 明光瞳而得的區(qū)域； 第2工序，按照如下的三維模型求出近似的所述光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)，所述三維 模型是所述多個單位光瞳區(qū)域的各區(qū)域分別具有用所述單位亮度水平的倍數(shù)來表示的亮 度水平； 第3工序，基于在所述第1工序中按單位光瞳區(qū)域求出的多個所述單位強(qiáng)度分布、和在 所述第2工序中求出的所述離散數(shù)據(jù)，求出由所述光瞳亮度分布形成在所述第2面上的空 間像的光強(qiáng)度分布；以及 第4工序，基于在所述第3工序中求出的所述空間像的光強(qiáng)度分布，求出由所述光瞳亮 度分布得到的成像特性的指標(biāo)值。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的評價方法，其特征在于， 在所述第1工序中，通過沿著在所述照明光瞳中相互正交的兩個方向假想地分割所述 照明光瞳，得到多個矩形的所述單位光瞳區(qū)域。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的評價方法，其特征在于， 在所述第2工序中，測量形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分布，并基于其測量結(jié)果 求出所述離散數(shù)據(jù)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的評價方法，其特征在于， 在所述第3工序中，利用以各單位光瞳區(qū)域的亮度水平為系數(shù)的所述多個單位強(qiáng)度分 布的線性結(jié)合，求出所述空間像的光強(qiáng)度分布。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的評價方法，其特征在于， 在所述第4工序中，求出由所述光瞳亮度分布得到的圖案的線寬作為所述指標(biāo)值。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的評價方法，其特征在于， 在所述第4工序中，求出由所述光瞳亮度分布得到的OPE值作為所述指標(biāo)值。
7. -種改善應(yīng)形成在照明光學(xué)系統(tǒng)的照明光瞳上的光瞳亮度分布的方法，所述照明光 學(xué)系統(tǒng)向成像光學(xué)系統(tǒng)供給照明光，所述成像光學(xué)系統(tǒng)將配置在第1面上的圖案的像形成 在第2面上，其特征在于，包含： 第5工序，使用權(quán)利要求1至6中的任一項所述的評價方法，求出利用光瞳亮度分布得 到的指標(biāo)值，所述光瞳亮度分布以基準(zhǔn)性光瞳亮度分布為目標(biāo)而形成在所述照明光瞳上； 第6工序，按單位光瞳區(qū)域求出在前面的工序中求出的離散數(shù)據(jù)中、一個單位光瞳區(qū) 域的亮度水平變化了單位亮度水平時的所述指標(biāo)值的單位變化量； 第7工序，利用使用在所述第6工序中按單位光瞳區(qū)域求出的多個所述指標(biāo)值的單位 變化量的改善方法，根據(jù)在前面的工序求出的離散數(shù)據(jù)求出調(diào)制后的離散數(shù)據(jù)，以使得利 用所述調(diào)制后的離散數(shù)據(jù)而得到的指標(biāo)值接近目標(biāo)指標(biāo)值；以及 第8工序，使用權(quán)利要求1至5中的任一項所述的評價方法，求出與在所述第7工序中 求出的所述調(diào)制后的離散數(shù)據(jù)對應(yīng)地得到的指標(biāo)值， 通過重復(fù)所述第6工序至所述第8工序直到與所述調(diào)制后的離散數(shù)據(jù)對應(yīng)地得到的指 標(biāo)值與所述目標(biāo)指標(biāo)值之差收斂在容許范圍內(nèi)，從而改善應(yīng)形成在所述照明光瞳上的光瞳 亮度分布。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的改善方法，其特征在于， 在所述第6工序中，針對所選擇的多個單位光瞳區(qū)域，按單位光瞳區(qū)域求出亮度水平 變化了單位亮度水平時的所述指標(biāo)值的單位變化量。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的改善方法，其特征在于， 所述所選擇的多個單位光瞳區(qū)域是具有所述單位亮度水平以上的亮度水平的第1組 單位光瞳區(qū)域和與該第1組單位光瞳區(qū)域相鄰的第2組單位光瞳區(qū)域。
10. 根據(jù)權(quán)利要求7至9中任一項所述的改善方法，其特征在于， 在所述第7工序中，利用參照了按單位光瞳區(qū)域求出的所述指標(biāo)值的單位變化量的相 互比率的最陡下降法，求出所述調(diào)制后的離散數(shù)據(jù)。
11. 一種照明光學(xué)系統(tǒng)的調(diào)整方法，所述照明光學(xué)系統(tǒng)利用來自光源的光對被照射面 進(jìn)行照明，其特征在于，包含： 使用權(quán)利要求7至10中的任一項所述的改善方法，改善應(yīng)形成在所述照明光學(xué)系統(tǒng)的 照明光瞳上的光瞳亮度分布；以及 以所述改善后的光瞳亮度分布為目標(biāo)而調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分布。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的調(diào)整方法，其特征在于， 在以所述改善后的光瞳亮度分布為目標(biāo)而調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分 布時，基于通過所述被照射面的光，測量與所述照明光瞳光學(xué)上共軛的面上的光強(qiáng)度分布。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的調(diào)整方法，其特征在于， 在以所述改善后的光瞳亮度分布為目標(biāo)而調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分 布時，基于朝向所述被照射面的光，測量與所述照明光瞳光學(xué)上共軛的面上的光強(qiáng)度分布。
14. 根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的調(diào)整方法，其特征在于， 在以所述改善后的光瞳亮度分布為目標(biāo)而調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分 布時求出指標(biāo)值差，所述指標(biāo)值差對應(yīng)于所述改善后的光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)與所述光 強(qiáng)度分布的測量結(jié)果的離散數(shù)據(jù)的差值。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的調(diào)整方法，其特征在于， 按單位光瞳區(qū)域求出在所述改善后的光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)中、一個單位光瞳區(qū)域 的亮度水平變化了單位亮度水平時的指標(biāo)值的單位變化量，使用按單位光瞳區(qū)域求出的多 個所述指標(biāo)值的單位變化量，求出與所述差值對應(yīng)的指標(biāo)值差。
16. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的調(diào)整方法，其特征在于， 基于所述光強(qiáng)度分布的測量結(jié)果的離散數(shù)據(jù)和按所述單位光瞳區(qū)域求出的單位強(qiáng)度 分布，求出與所述光強(qiáng)度分布的測量結(jié)果的離散數(shù)據(jù)對應(yīng)地在所述第2面上得到的空間像 的光強(qiáng)度分布，并基于求出的所述空間像的光強(qiáng)度分布，求出與所述差值對應(yīng)的指標(biāo)值差。
17. 根據(jù)權(quán)利要求11至16中任一項所述的調(diào)整方法，其特征在于， 通過控制空間光調(diào)制器，以所述改善后的光瞳亮度分布為目標(biāo)而調(diào)整形成在所述照明 光瞳上的光瞳亮度分布，所述空間光調(diào)制器是所述照明光學(xué)系統(tǒng)所具備的空間光調(diào)制器， 用于在所述照明光瞳上形成光瞳亮度分布。
18. -種評價形成在照明光學(xué)系統(tǒng)的照明光瞳上的光瞳亮度分布的方法，所述照明光 學(xué)系統(tǒng)向成像光學(xué)系統(tǒng)供給照明光，所述成像光學(xué)系統(tǒng)將配置在第1面上的圖案的像形成 在第2面上，其特征在于，包含： 第1工序，按單位光瞳區(qū)域求出利用從多個單位光瞳區(qū)域的各區(qū)域供給的單位亮度水 平的光形成在所述第2面上的單位強(qiáng)度分布，所述多個單位光瞳區(qū)域是假想地分割所述照 明光瞳而得的區(qū)域； 第2工序，按照如下的三維模型求出基準(zhǔn)性光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)，所述三維模型 是所述多個單位光瞳區(qū)域的各區(qū)域分別具有用所述單位亮度水平的倍數(shù)來表示的亮度水 平； 第3工序，基于在所述第1工序中按單位光瞳區(qū)域求出的多個所述單位強(qiáng)度分布、和在 所述第2工序中求出的所述基準(zhǔn)性光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)，求出由所述基準(zhǔn)性光瞳亮度 分布形成在所述第2面上的空間像的光強(qiáng)度分布； 第4工序，基于在所述第3工序中求出的所述空間像的光強(qiáng)度分布，求出由所述基準(zhǔn)性 光瞳亮度分布得到的成像特性的指標(biāo)值；以及 第5工序，按單位光瞳區(qū)域求出所述基準(zhǔn)性光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)中、一個單位光 瞳區(qū)域的亮度水平變化了單位亮度水平時得到的所述指標(biāo)值的單位變化量。
19. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的評價方法，其特征在于， 在所述第1工序中，通過沿著在所述照明光瞳中相互正交的兩個方向假想地分割所述 照明光瞳，得到多個矩形的所述單位光瞳區(qū)域。
20. 根據(jù)權(quán)利要求18或19所述的評價方法，其特征在于， 在所述第3工序中，利用以各單位光瞳區(qū)域的亮度水平為系數(shù)的所述多個單位強(qiáng)度分 布的線性結(jié)合，求出所述空間像的光強(qiáng)度分布。
21. 根據(jù)權(quán)利要求18至20中任一項所述的評價方法，其特征在于， 在所述第4工序中，求出由所述基準(zhǔn)性光瞳亮度分布得到的圖案的線寬作為所述指標(biāo) 值。
22. 根據(jù)權(quán)利要求18至21中任一項所述的評價方法，其特征在于， 在所述第5工序中，針對所選擇的多個單位光瞳區(qū)域，按單位光瞳區(qū)域求出亮度水平 變化了單位亮度水平時的所述指標(biāo)值的單位變化量。
23. 根據(jù)權(quán)利要求18至22中任一項所述的評價方法，其特征在于，還包含： 第6工序，測量形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分布，并基于其測量結(jié)果和所述三 維模型，求出所述測量到的光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)。
24. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的評價方法，其特征在于，還包含： 第7工序，按單位光瞳區(qū)域求出所述基準(zhǔn)性光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)與所述測量到的 光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)的差值，并按單位光瞳區(qū)域求出與所述差值對應(yīng)的所述指標(biāo)值的 變化量。
25. 根據(jù)權(quán)利要求24所述的評價方法，其特征在于， 在所述第7工序中，基于按單位光瞳區(qū)域求出的所述指標(biāo)值的單位變化量、和按單位 光瞳區(qū)域求出的所述差值，按單位光瞳區(qū)域求出與所述差值對應(yīng)的所述指標(biāo)值的變化量。
26. 根據(jù)權(quán)利要求24或25所述的評價方法，其特征在于，還包含： 第8工序，利用按單位光瞳區(qū)域求出的與所述差值對應(yīng)的所述指標(biāo)值的變化量的總 和，求出與所述測量到的光瞳亮度分布對應(yīng)地得到的指標(biāo)值與目標(biāo)指標(biāo)值的誤差。
27. -種照明光學(xué)系統(tǒng)的調(diào)整方法，所述照明光學(xué)系統(tǒng)利用來自光源的光對被照射面 進(jìn)行照明，其特征在于，包含： 使用權(quán)利要求18至26中的任一項所述的評價方法，評價形成在所述照明光學(xué)系統(tǒng)的 照明光瞳上的光瞳亮度分布；以及 基于所述評價的結(jié)果調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分布。
28. 根據(jù)權(quán)利要求27所述的調(diào)整方法，其特征在于， 所述評價包含： 第6工序，測量形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分布，并基于其測量結(jié)果和所述三 維模型，求出所述測量到的光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)； 第7工序，按單位光瞳區(qū)域求出所述基準(zhǔn)性光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)與所述測量到的 光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)的差值，并按單位光瞳區(qū)域求出與所述差值對應(yīng)的所述指標(biāo)值的 變化量；以及 第8工序，利用按單位光瞳區(qū)域求出的與所述差值對應(yīng)的所述指標(biāo)值的變化量的總 和，求出與所述測量到的光瞳亮度分布對應(yīng)地得到的指標(biāo)值與目標(biāo)指標(biāo)值的誤差， 所述調(diào)整包含： 設(shè)定由多個調(diào)制參數(shù)規(guī)定的調(diào)制模型，并求出根據(jù)所述測量到的光瞳亮度分布的離散 數(shù)據(jù)按調(diào)制參數(shù)調(diào)制成的光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)的工序； 按單位光瞳區(qū)域求出所述基準(zhǔn)性光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)與按所述調(diào)制參數(shù)調(diào)制后 的光瞳亮度分布的離散數(shù)據(jù)的差值，并按單位光瞳區(qū)域求出與所述差值對應(yīng)的所述指標(biāo)值 的變化量的工序； 利用按單位光瞳區(qū)域求出的與所述差值對應(yīng)的所述指標(biāo)值的變化量的總和，求出與按 所述調(diào)制參數(shù)調(diào)制的光瞳亮度分布對應(yīng)地得到的指標(biāo)值與目標(biāo)指標(biāo)值的誤差的工序； 求出所述多個調(diào)制參數(shù)的值，使得：與根據(jù)所述測量到的光瞳亮度分布調(diào)制而成的光 瞳亮度分布對應(yīng)地得到的指標(biāo)值與所述目標(biāo)指標(biāo)值的誤差，變得小于與所述測量到的光瞳 亮度分布對應(yīng)地得到的指標(biāo)值與所述目標(biāo)指標(biāo)值的誤差的工序；以及 基于所述多個調(diào)制參數(shù)的值，以根據(jù)所述測量到的光瞳亮度分布調(diào)制而成的光瞳亮度 分布為目標(biāo)，調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分布的工序。
29. 根據(jù)權(quán)利要求28所述的調(diào)整方法，其特征在于， 所述多個調(diào)制參數(shù)包含與透射率分布對應(yīng)的調(diào)制參數(shù)。
30. 根據(jù)權(quán)利要求28或29所述的調(diào)整方法，其特征在于， 所述多個調(diào)制參數(shù)包含與像差對應(yīng)的調(diào)制參數(shù)。
31. 根據(jù)權(quán)利要求30所述的調(diào)整方法，其特征在于， 使用與光瞳亮度分布的變形對應(yīng)的調(diào)制參數(shù)，作為與所述像差對應(yīng)的調(diào)制參數(shù)。
32. 根據(jù)權(quán)利要求28至31中任一項所述的調(diào)整方法，其特征在于， 所述多個調(diào)制參數(shù)包含與模糊效果對應(yīng)的調(diào)制參數(shù)。
33. 根據(jù)權(quán)利要求28至32中任一項所述的調(diào)整方法，其特征在于， 所述多個調(diào)制參數(shù)包含與眩光對應(yīng)的調(diào)制參數(shù)。
34. 根據(jù)權(quán)利要求28至33中任一項所述的調(diào)整方法，其特征在于， 在以所述調(diào)制后的光瞳亮度分布為目標(biāo)而調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分 布時，基于通過所述被照射面的光，測量與所述照明光瞳光學(xué)上共軛的面上的光強(qiáng)度分布。
35. 根據(jù)權(quán)利要求28至34中任一項所述的調(diào)整方法，其特征在于， 通過控制空間光調(diào)制器，以所述調(diào)制后的光瞳亮度分布為目標(biāo)而調(diào)整形成在所述照明 光瞳上的光瞳亮度分布，所述空間光調(diào)制器是所述照明光學(xué)系統(tǒng)所具備的空間光調(diào)制器， 用于在所述照明光瞳上形成光瞳亮度分布。
36. 根據(jù)權(quán)利要求27至35中任一項所述的調(diào)整方法，其特征在于， 求出利用光瞳亮度分布得到的圖案的線寬，作為所述指標(biāo)值。
37. -種照明光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，利用權(quán)利要求11至17和權(quán)利要求27至36中的 任一項所述的調(diào)整方法進(jìn)行調(diào)整。
38. -種照明光學(xué)系統(tǒng)，利用來自光源的光對被照射面進(jìn)行照明，其特征在于，包括： 光瞳分布測量裝置，測量形成在所述照明光學(xué)系統(tǒng)的照明光瞳上的光瞳亮度分布； 光瞳調(diào)整裝置，調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分布；以及 控制部，為了以使用權(quán)利要求7至10中的任一項所述的改善方法改善后的光瞳亮度分 布為目標(biāo)而調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分布，控制所述光瞳調(diào)整裝置。
39. -種照明光學(xué)系統(tǒng)，利用來自光源的光對被照射面進(jìn)行照明，其特征在于，包括： 光瞳分布測量裝置，測量形成在所述照明光學(xué)系統(tǒng)的照明光瞳上的光瞳亮度分布； 光瞳調(diào)整裝置，調(diào)整形成在所述照明光瞳上的光瞳亮度分布；以及 控制部，為了使用權(quán)利要求18至26中的任一項所述的評價方法調(diào)整形成在所述照明 光瞳上的光瞳亮度分布而控制所述光瞳調(diào)整裝置。
40. 根據(jù)權(quán)利要求38或39所述的照明光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于， 所述光瞳分布測量裝置基于通過了所述被照射面的光測量與所述照明光瞳光學(xué)上共 軛的面上的光強(qiáng)度分布。
41. 根據(jù)權(quán)利要求38或39所述的照明光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于， 所述光瞳分布測量裝置基于朝向所述被照射面的光測量與所述照明光瞳光學(xué)上共軛 的面上的光強(qiáng)度分布。
42. 根據(jù)權(quán)利要求38至41中任一項所述的照明光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于， 所述光瞳調(diào)整裝置包括空間光調(diào)制器，所述空間光調(diào)制器具有排列在預(yù)定面上并被獨 立地控制的多個光學(xué)部件，并在所述照明光瞳上可變地形成光瞳亮度分布， 所述控制部控制所述空間光調(diào)制器的所述多個光學(xué)部件。
43. 根據(jù)權(quán)利要求42所述的照明光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于， 所述空間光調(diào)制器具有二維地排列在所述預(yù)定面內(nèi)的多個反射鏡部件和獨立地控制 驅(qū)動該多個反射鏡部件的姿勢的驅(qū)動部。
44. 一種曝光裝置，其特征在于，包括用于照明預(yù)定圖案的權(quán)利要求37至43中的任一 項所述的照明光學(xué)系統(tǒng)，并將所述預(yù)定圖案曝光在感光性襯底上。
45. 根據(jù)權(quán)利要求44所述的曝光裝置，其特征在于， 包括將所述預(yù)定圖案的像形成在所述感光性襯底上的投影光學(xué)系統(tǒng)，所述照明光瞳是 與所述投影光學(xué)系統(tǒng)的孔徑光闌光學(xué)上共軛的位置。
46. 根據(jù)權(quán)利要求45所述的曝光裝置，其特征在于， 所述基準(zhǔn)性光瞳亮度分布是設(shè)計上的光瞳亮度分布，所述目標(biāo)指標(biāo)值是通過所述設(shè)計 上的光瞳亮度分布應(yīng)達(dá)成的指標(biāo)值。
47. 根據(jù)權(quán)利要求45所述的曝光裝置，其特征在于， 所述基準(zhǔn)性光瞳亮度分布是在其他曝光裝置中使用的光瞳亮度分布，所述目標(biāo)指標(biāo)值 是在所述其他曝光裝置中通過所述基準(zhǔn)性光瞳亮度分布得到的指標(biāo)值。
48. -種曝光方法，利用根據(jù)權(quán)利要求11至17和權(quán)利要求27至36中的任一項所述的 調(diào)整方法調(diào)整而成的照明光學(xué)系統(tǒng)照明預(yù)定圖案，并經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)將所述預(yù)定圖案曝 光在感光性襯底上，其特征在于， 以使成像特性的指標(biāo)值接近所述目標(biāo)指標(biāo)值的方式，調(diào)整所述投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔 徑、所述感光性襯底相對于所述投影光學(xué)系統(tǒng)的散焦量以及所述投影光學(xué)系統(tǒng)的波前像差 中的至少一個。
49. 一種器件制造方法，其特征在于，包含： 使用權(quán)利要求44至47中的任一項所述的曝光裝置或權(quán)利要求48所述的曝光方法，將 所述預(yù)定圖案曝光在所述感光性襯底上； 將轉(zhuǎn)印有所述預(yù)定圖案的所述感光性襯底顯影，在所述感光性襯底的表面上形成與所 述預(yù)定圖案對應(yīng)的形狀的掩模層；以及 經(jīng)由所述掩模層加工所述感光性襯底的表面。
【文檔編號】G03F7/20GK104395985SQ201380033974
【公開日】2015年3月4日 申請日期:2013年4月30日 優(yōu)先權(quán)日:2012年5月2日
【發(fā)明者】北尚憲 申請人:株式會社尼康