描畫裝置及描畫方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種描畫裝置及描畫方法，能夠簡單地進行用于緩解邊界部分的曝光不均勻的調(diào)整。在描畫裝置（1）中，接受從多個形狀類型候補中選擇射出率函數(shù)的形狀類型的選擇操作，其中，所述射出率函數(shù)規(guī)定光學單元（40）所具有的多個調(diào)制單位（442）在排列方向上的位置與射出率之間的關(guān)系。然后，根據(jù)所接受的形狀類型，調(diào)整多個調(diào)制單位（442）的各自的射出率。然后，一邊從光學單元（40）射出剖面呈帶狀的描畫光，一邊使光學單元（40）相對于基板（W）沿著與描畫光的長度方向垂直的方向移動，由此對基板（W）執(zhí)行描畫處理。
【專利說明】描畫裝置及描畫方法【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種對半導體基板、印刷基板、液晶顯示裝置等所具備的彩色濾光片用基板、液晶顯示裝置或等離子顯示裝置等所具備的平板顯示器用玻璃基板、磁盤用基板、光盤用基板、太陽能電池板等的各種基板等(下面，簡稱為“基板”)照射光，來在基板上描畫圖案的技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，如下的曝光裝置(所謂的描畫裝置)受到關(guān)注:當在涂敷在基板上的感光材料上曝光電路等的圖案時，不用掩膜等，而是利用調(diào)制的光(描畫光)對基板上的感光材料進行掃描，由此直接在該感光材料上曝光圖案，其中，上述調(diào)制的光是基于記錄了圖案的數(shù)據(jù)而調(diào)制的。描畫裝置從例如具有用于以像素為單位對光束進行打開/關(guān)閉(0N/0FF)調(diào)制的空間光調(diào)制器(例如，根據(jù)控制信號，以像素為單位在打開(ON)狀態(tài)和關(guān)閉(OFF)狀態(tài)之間進行切換的反射型的空間調(diào)制器，其中，打開(ON)狀態(tài)是指，將從光源供給的光束反射到基板上的狀態(tài)，關(guān)閉(OFF)狀態(tài)是指，使光束向與打開(ON)狀態(tài)不同的方向反射的狀態(tài))的光學頭，對與光學頭相對地移動的基板照射描畫光，來在基板曝光(描畫)圖案(例如，參照專利文獻I)。
[0003]在描畫裝置中，光學頭例如一邊照射剖面呈帶狀的描畫光，一邊相對于基板沿著與描畫光的長度方向垂直的軸(主掃描軸)移動(主掃描)。通過進行該主掃描，來對基板上的沿著主掃描軸的一條帶狀區(qū)域進行圖案的曝光。當伴隨描畫光的照射的主掃描結(jié)束時，接著，光學頭在相對于基板沿著與主掃描軸垂直的副掃描軸移動之后，再次進行伴隨描畫光的照射的主掃描。由此，對與通過之前的主掃描曝光了圖案的帶狀區(qū)域相鄰的帶狀區(qū)域進行圖案的曝光。像這樣，通過間隔副掃描，反復地進行伴隨描畫光的照射的主掃描，來在基板的整個區(qū)域曝光圖案。
[0004]在通過上述的方式在基板上曝光圖案的情況下，存在在帶狀區(qū)域之間的邊界部分容易產(chǎn)生曝光不均勻的問題。邊界部分的曝光不均勻還會導致邊界部分的圖案的不連續(xù)性(例如，圖案的間斷、太粗、太細)等。這種圖案的不連續(xù)性可能會對成品的電氣特性(通電特性)造成不良的影響。
[0005]因此，在例如專利文獻2中，將副掃描的移動距離設(shè)定為比從光學頭射出的帶狀的光的長度短，使帶狀區(qū)域的邊界部分處于重合的狀態(tài)。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，光學頭的不均等特性帶來的影響互相疊加而變得均衡，所以能夠緩解帶狀區(qū)域之間的邊界部分的曝光不均勻。
[0006][現(xiàn)有技術(shù)文獻]
[0007][專利文獻]
[0008]專利文獻1:日本特開2009-237917號公報
[0009]專利文獻2:日本特開2008-129 248號公報
[0010]若應用專利文獻2等，則在某種程度上能夠緩解帶狀區(qū)域之間的邊界部分的曝光不均勻。然而，帶狀區(qū)域之間的邊界部分的曝光不均勻的出現(xiàn)方式根據(jù)處理條件不同而有很大的變化。
[0011]S卩，由于邊界部分為在不同時間點被照射光的區(qū)域彼此接近的(或重合)區(qū)域，所以，例如，若改變感光材料的種類、光學的漫射特性等，則邊界部分的曝光不均勻的出現(xiàn)方式也會發(fā)生變化。另外，例如，若相對于光學頭的基板的相對移動速度變化，則對邊界部分照射光的時間差發(fā)生變化，因此，該曝光不均勻的出現(xiàn)方式也發(fā)生變化。
[0012]因此，即使在某種處理條件下，在進行適當?shù)恼{(diào)整之后沒有產(chǎn)生邊界部分的曝光不均勻，但當處理條件稍有變化時，產(chǎn)生邊界部分的曝光不均勻的可能性很大。因此，若改變處理條件，則需要立即重新進行調(diào)整，但在以往，不易于進行該調(diào)整。因此，不能夠靈活地應對處理條件的變更，難以充分確保曝光的均勻性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0013]本發(fā)明是鑒于上述問題而提出的，其目的在于，提供一種能夠簡單地進行用于緩解邊界部分的曝光不均勻的調(diào)整的技術(shù)。
[0014]第一方案是一種描畫裝置，其通過對形成有感光材料的基板照射光，來在所述基板上描畫圖案，其具有:光學單元，其一邊射出剖面呈帶狀的描畫光，一邊相對于所述基板沿著與所述描畫光的長度方向垂直的方向移動；調(diào)整部，其調(diào)整沿著所述描畫光的長度方向的光量分布，所述光學單元具有:光源部，其射出剖面呈帶狀的光；空間光調(diào)制部，其具有排列成一列的多個調(diào)制單位，所述空間光調(diào)制部使從所述光源部射出的光入射到多個所述調(diào)制單位，并且使多個所述調(diào)制單位對入射的所述光進行調(diào)制，以形成所述描畫光，其中，從所述光源部射出的光的長度方向與多個所述調(diào)制單位的排列方向一致，所述調(diào)整部具有:接受部，其接受從多個形狀類型候補中選擇射出率函數(shù)的形狀類型的選擇操作，其中，所述射出率函數(shù)是規(guī)定所述調(diào)制單位在排列方向上的位置與射出率之間的關(guān)系的函數(shù)，所述射出率是射出光量與入射到所述調(diào)制單位的入射光量的比；射出率調(diào)整部，其根據(jù)所述接受部接受的形狀類型，對多個所述調(diào)制單位中的各個調(diào)制單位的所述射出率進行調(diào)難
iF.0
[0015]第二方案是第一方案中涉及的描畫裝置，多個所述形狀類型候補包括階梯型，所述階梯型包括所述射出率恒定的中央部分和與所述中央部分相連且所述射出率呈階梯狀地變化的變化部分。
[0016]第三方案是第二方案中涉及的描畫裝置，在選擇了所述階梯型的情況下，所述接受部接受對所述變化部分的寬度進行的指定。
[0017]第四方案是第二或者第三方案中涉及的描畫裝置，在選擇了所述階梯型的情況下，所述接受部接受對所述變化部分的所述射出率進行的指定。
[0018]第五方案是第一?第四中任一個方案中涉及的描畫裝置，多個所述形狀類型候補包括梯形型，所述梯形型包括所述射出率恒定的中央部分和與所述中央部分相連且所述射出率呈傾斜狀地變化的變化部分。
[0019]第六方案是第五方案中涉及的描畫裝置，在選擇了所述梯形型的情況下，所述接受部接受對所述變化部分內(nèi)的一個以上的代表位置的各自的所述射出率進行的指定。
[0020]第七方案是在第一?第六中任一個方案中涉及的描畫裝置，所述接受部在顯示裝置上顯示接受畫面，并且通過所述接受畫面來接受所述選擇操作，其中，在所述接受畫面上一覽顯示了多個所述形狀類型候補。
[0021]第八方案是在第一?第七中任一個方案中涉及的描畫裝置，所述調(diào)整部還具有登記部，所述登記部與在所述基板上描畫圖案的處理的處理條件相對應地登記所述接受部所接受的信息。
[0022]第九方案是一種描畫方法，通過對形成有感光材料的基板照射光，來在所述基板上描畫圖案，其包括:(a)工序，一邊從光學單元射出剖面呈帶狀的描畫光，一邊使所述光學單元相對于所述基板沿著與所述描畫光的長度方向垂直的方向移動；(b)工序，調(diào)整沿著所述描畫光的長度方向的光量分布；所述(a)工序包括:(al)工序，從光源部射出剖面呈帶狀的光；(a2)工序，使從所述光源部射出的光入射到多個所述調(diào)制單位，并且使多個所述調(diào)制單位對入射的所述光進行調(diào)制，以形成所述描畫光，其中，從所述光源部射出的光的長度方向與排列成一列的多個調(diào)制單位的排列方向一致；所述(b)工序包括:(bl)工序，接受從多個形狀類型候補中選擇所述射出率函數(shù)的形狀類型的選擇操作，其中，所述射出率函數(shù)是規(guī)定所述調(diào)制單位在排列方向上的位置與射出率之間的關(guān)系的函數(shù)，所述射出率是射出光量與入射到所述調(diào)制單位的入射光量的比；(b2)工序，按照在所述(bl)工序所接受的形狀類型，對多個所述調(diào)制單位中的各個調(diào)制單位的所述射出率進行調(diào)整。
[0023]第十方案是第九方案涉及的描畫方法，多個所述形狀類型候補包括階梯型，所述階梯型包括所述射出率恒定的中央部分和與所述中央部分相連且所述射出率呈階梯狀地變化的變化部分。
[0024]第十一方案是第十方案中涉及的描畫方法，所述(b)工序還包括如下工序:在所述(bl)工序中選擇了所述階梯型的情況下，接受對所述變化部分的寬度進行的指定。
[0025]第十二方案是第十或者第十一方案中涉及的描畫方法，所述(b)工序還包括如下工序:在所述(bl)工序中選擇了所述階梯型的情況下，接受對所述變化部分的所述射出率進行的指定。
[0026]第十三方案是在第九?第十二中任一個方案中涉及的描畫方法，多個所述形狀類型候補包括梯形型，所述梯形型包括所述射出率恒定的中央部分和與所述中央部分相連且所述射出率呈傾斜狀地變化的變化部分。
[0027]第十四方案是在第十三方案中涉及的描畫方法，所述(b)工序還包括如下工序:在所述(bl)工序中選擇了所述梯形型的情況下，接受對所述變化部分內(nèi)的一個以上的代表位置的各自的所述射出率進行的指定。
[0028]第十五方案是在第九?第十四中任一個方案中涉及的描畫方法，在所述(bl)工序中，在顯示裝置上顯示接受畫面，并且通過所述接受畫面來接受所述選擇操作，其中，在所述接受畫面上一覽顯示了多個所述形狀類型候補。
[0029]第十六方案是在第九?第十五中任一個方案中涉及的描畫方法，還包括(C)工序，在該(C)工序中，與在所述基板上描畫圖案的處理的處理條件相對應地登記在所述(b)工序中接受的信息。
[0030]根據(jù)第一、第九方案，通過從多個形狀類型候補中選擇射出率函數(shù)的形狀類型的簡單的選擇操作，來對各調(diào)制單位的射出率進行調(diào)整，從而對入射到基板的帶狀的描畫光的沿著長度方向的光量分布進行調(diào)整。因此，能夠簡單地進行用于緩解邊界部分的曝光不均勻的調(diào)整。
[0031]根據(jù)第二、第十方案，多個形狀類型候補包括階梯型。通過選擇階梯型來作為射出率函數(shù)的形狀類型，在例如產(chǎn)生在邊界部分的比較微小的范圍內(nèi)曝光量變化較大的曝光不均勻的情況下，有效地緩解該曝光不均勻。
[0032]根據(jù)第五、第十三方案，多個形狀類型候補包括梯形型。通過選擇梯形型來作為射出率函數(shù)的形狀類型，在例如產(chǎn)生在邊界部分的比較大的范圍內(nèi)曝光量變化得比較平緩的曝光不均勻的情況下，有效地緩解該曝光不均勻。
[0033]根據(jù)第七、第十五方案，顯示一覽顯示了多個形狀類型候補的接受畫面，通過該接受畫面，來接受選擇操作。因此，操作者能夠特別簡單地進行選擇多個形狀類型候補中的某一個的選擇操作。
[0034]根據(jù)第八、第十六方案，與描畫處理的處理條件相對應地登記從操作者接受的信息。因此，針對相同的處理條件，即使操作者不重新進行輸入操作，也能夠?qū)⑷肷涞交宓膸畹拿璁嫻獾难刂L度方向的光量分布調(diào)整為能夠緩解邊界部分的曝光不均勻的恰當?shù)男螤睢?br> 【專利附圖】

【附圖說明】
[0035]圖1是描畫裝置的側(cè)視圖。
[0036]圖2是描畫裝置的俯視圖。
[0037]圖3是表示控制部的硬件構(gòu)件的框圖。
[0038]圖4是表示矩形型的射出率函數(shù)的圖。
[0039]圖5是用于說明在將一組調(diào)制單位的射出率的分布調(diào)整為矩形型的情況下的調(diào)制單位的排列位置與帶狀區(qū)域的關(guān)系的圖。
[0040]圖6是表示階梯型的射出率函數(shù)的圖。
[0041]圖7是用于說明在將一組調(diào)制單位的射出率的分布調(diào)整為階梯型的情況下的調(diào)制單位的排列位置與帶狀區(qū)域的關(guān)系的圖。
[0042]圖8是表示梯形型的射出率函數(shù)的圖。
[0043]圖9是表示梯形型的射出率函數(shù)的圖。
[0044]圖10是用于說明在將一組調(diào)制單位的射出率的分布調(diào)整為梯形型的情況下的調(diào)制單位的排列位置與帶狀區(qū)域的關(guān)系的圖。
[0045]圖11是表示與形狀登記部相關(guān)的結(jié)構(gòu)的框圖。
[0046]圖12是示意性地表示接受畫面的結(jié)構(gòu)例的圖。
[0047]圖13是示意性地表示接受畫面的結(jié)構(gòu)例的圖。
[0048]圖14是示意性地表示接受畫面的結(jié)構(gòu)例的圖。
[0049]圖15是表示登記射出率函數(shù)的形狀的一連串的處理的流程的圖。
[0050]圖16是表示在描畫裝置執(zhí)行的處理的流程的圖。
[0051]圖17是用于說明描畫處理的圖。
[0052]圖18是示意性地表示變形例的接受輸入畫面的結(jié)構(gòu)例的圖。
[0053]其中，附圖標記說明如下:
[0054]I描畫裝置[0055]40光學單元
[0056]400射出率調(diào)整部
[0057]401光源部
[0058]402 頭部
[0059]441空間光調(diào)制器
[0060]442調(diào)制單位
[0061]80控制部
[0062]800形狀登記部
[0063]801接受部
[0064]802登記部
[0065]9接受畫面
[0066]91形狀類型選擇區(qū)域
[0067]92階梯型的輸入項目區(qū)域
[0068]93梯形型的輸入項目區(qū)域
[0069]94形狀顯示區(qū)域
[0070]95登記圖標
[0071]100調(diào)整部
[0072]W 基板
【具體實施方式】
[0073]下面，一邊參照附圖，一邊針對本發(fā)明的實施方式進行說明。此外，下面的實施方式為將本發(fā)明具體化的一個例子，而不是限定本發(fā)明的技術(shù)的范圍的事例。另外，在附圖中，為了便于理解，有時夸大或簡化各部分的尺寸、數(shù)量來進行圖示。
[0074]< 1.裝置結(jié)構(gòu)〉
[0075]一邊參照圖1、圖2，一邊針對第一實施方式的描畫裝置I的結(jié)構(gòu)進行說明。圖1是示意性地表示描畫裝置I的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。圖2是示意性地表示描畫裝置I的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
[0076]描畫裝置I是通過向形成有抗蝕劑等感光材料的層的基板W的上表面照射基于CAD數(shù)據(jù)等來調(diào)制之后的光(描畫光)，來曝光(描畫)圖案(例如，電路圖案)的裝置。此外，基板W可以為例如，半導體基板、印刷基板、液晶顯示裝置等所具備的彩色濾光片用基板、液晶顯示裝置或等離子顯示裝置等所具備的平板顯示器用玻璃基板、磁盤用基板、光盤用基板、太陽能電池板等中的一種。在圖示的例子中，例示了圓形的半導體基板，來作為基板I
[0077]描畫裝置I具有在主體內(nèi)部和主體外部配置了各種結(jié)構(gòu)要素的結(jié)構(gòu)，其中，上述主體內(nèi)部是通過在由主體框架101構(gòu)成的框架的頂面及周圍面安裝蓋板(圖中省略)來形成的,上述主體外部是主體框架101的外側(cè)。
[0078]將描畫裝置I的主體內(nèi)部劃分成處理區(qū)域102和交接區(qū)域103。在處理區(qū)域102主要配置有保持基板W的載物臺10、使載物臺10移動的載物臺驅(qū)動機構(gòu)20、計測載物臺10的位置的載物臺位置計測部30、向基板W的上表面照射光的兩個光學單元40及拍攝基板W上的對位標記的拍攝部50。另一方面，在交接區(qū)域103配置有向處理區(qū)域102搬入/搬出基板W的搬運裝置60和預對位部70。另外，描畫裝置I具有控制部80，該控制部80與描畫裝置I所具有的各部分電連接，控制這些各部分的動作。下面，針對描畫裝置I所具備的各部的結(jié)構(gòu)進行說明。
[0079]〈載物臺10 >
[0080]載物臺10具有平板狀的外形，是在其上表面上以水平姿勢載置并保持圓形的基板W的保持部。在載物臺10的上表面形成有多個吸孔(圖中省略)，通過在該吸孔形成負壓(吸引壓力)，能夠?qū)⑤d置在載物臺10上的基板W固定保持在載物臺10的上表面。
[0081]<載物臺驅(qū)動機構(gòu)20 >
[0082]載物臺驅(qū)動機構(gòu)20是使載物臺10相對于基臺105移動的機構(gòu)，其使載物臺10沿著主掃描方向(Y軸方向)、副掃描方向(X軸方向)、及旋轉(zhuǎn)方向(圍繞Z軸的旋轉(zhuǎn)方向(0軸方向))移動。具體來說，載物臺驅(qū)動機構(gòu)20具有使載物臺10旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)21、隔著旋轉(zhuǎn)機構(gòu)21支撐載物臺10的支撐板22、使支撐板22沿著副掃描方向移動的副掃描機構(gòu)23。載物臺驅(qū)動機構(gòu)20還具有隔著副掃描機構(gòu)23支撐支撐板22的底板24、使底板24沿著主掃描方向移動的主掃描機構(gòu)25。
[0083]旋轉(zhuǎn)機構(gòu)21使載物臺10以穿過載物臺10的上表面(基板W的載置面)的中心且與該載置面垂直的旋轉(zhuǎn)軸A為中心旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)機構(gòu)21能夠構(gòu)成為包括:例如，旋轉(zhuǎn)軸部211，其上端固定于載置面的背面一側(cè)，并且沿著鉛垂軸延伸；旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部(例如，旋轉(zhuǎn)馬達)212，其設(shè)置于旋轉(zhuǎn)軸部211的下端，用于使旋轉(zhuǎn)軸部211旋轉(zhuǎn)。在該結(jié)構(gòu)中，通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部212使旋轉(zhuǎn)軸部211旋轉(zhuǎn)，使得載物臺10在水平面內(nèi)以旋轉(zhuǎn)軸A為中心進行旋轉(zhuǎn)。
[0084]副掃描機構(gòu)23具有由安裝在支撐板22的下表面的動子和鋪設(shè)在底板24的上表面的定子構(gòu)成的線性馬達231。另外，在底板24鋪設(shè)有沿著副掃描方向延伸的一對引導構(gòu)件232，在各引導構(gòu)件232與支撐板22之間，設(shè)置有球軸承，其能夠一邊相對于引導構(gòu)件232滑動，一邊沿著該引導構(gòu)件232移動。即，支撐板22隔著該球軸承來支撐在一對弓I導構(gòu)件232上。在該結(jié)構(gòu)中，若使線性馬達231動作，則支撐板22在被引導構(gòu)件232引導的狀態(tài)下沿著副掃描方向滑動。
[0085]主掃描機構(gòu)25具有由安裝在底板24的下表面的動子和鋪設(shè)在描畫裝置I的基臺105上的定子構(gòu)成的線性馬達251。另外，在基臺105鋪設(shè)有沿著主掃描方向延伸的一對引導構(gòu)件252，在各引導構(gòu)件252與底板24之間，設(shè)置有例如空氣軸承。從實用(utility)設(shè)備始終向空氣軸承供給空氣，利用空氣軸承將底板24以不與引導構(gòu)件252接觸的方式漂浮支撐在引導構(gòu)件252上。在該結(jié)構(gòu)中，若使線性馬達251動作，則底板24在被引導構(gòu)件252弓I導的狀態(tài)下沿著主掃描方向無摩擦地滑動。
[0086]<載物臺位置計測部30 >
[0087]載物臺位置計測部30是計測載物臺10的位置的機構(gòu)。具體來說，載物臺位置計測部30由干涉式的激光測長儀構(gòu)成，該干涉式的激光測長儀例如從載物臺10外朝向安裝于載物臺10的-Y側(cè)的側(cè)面的平面鏡31射出激光并且接受該激光的反射光，根據(jù)該反射光與射出光的干涉來計測載物臺10的位置(具體來說，沿著主掃描方向的Y位置及沿著旋轉(zhuǎn)方向的0位置)。
[0088]<光學單元40 >[0089]光學單元40是用于向保持在載物臺10上的基板W的上表面照射描畫光，從而在基板W上描畫圖案的機構(gòu)。如上所述,描畫裝置I具有兩個光學單兀40、40。例如,一個光學單元40負責進行基板W的+ X半側(cè)的曝光，另一個光學單元40負責進行基板W的-X半側(cè)的曝光。這兩個光學單元40、40以跨越載物臺10及載物臺驅(qū)動機構(gòu)20的方式，沿著副掃描方向(X軸方向)間距間隔地固定設(shè)置于架設(shè)在基臺105上的支撐框架107。此外，兩個光學單元40、40的間隔并不一定需要固定為恒定的間隔，可以設(shè)置能夠改變光學單元40、40中的一個或兩個的位置的機構(gòu)來能夠調(diào)整兩者之間的間隔。另外，光學單元40的搭載個數(shù)并不一定需要必須為兩個，可以為一個，也可以為三個。
[0090]兩個光學單元40、40具有相同的結(jié)構(gòu)。即，各光學單元40具有配置于形成頂板的箱體的內(nèi)部的光源部401、容置于安裝在支撐框架107的+ Y側(cè)的附設(shè)箱體的內(nèi)部的頭部402。光源部401主要具有激光驅(qū)動部41、激光振蕩器42、照明光學系統(tǒng)43。頭部402主要具有空間光調(diào)制單元44、投影光學系統(tǒng)45。
[0091]激光振蕩器42由激光驅(qū)動部41驅(qū)動，從輸出鏡(圖中省略)射出激光。照明光學系統(tǒng)43將從激光振蕩器42射出的光(點光束(spot beam))轉(zhuǎn)換成強度分布均勻的線狀的光(即，光束剖面呈帶狀的光即線光束(line beam))。從激光振蕩器42射出并通過照明光學系統(tǒng)43轉(zhuǎn)換成線光束的光入射到頭部402。此外，還可以構(gòu)成為在從激光振蕩器42射出的光入射到頭部402之前的階段，縮小該光的光圈，調(diào)整入射到頭部402的光的光量。
[0092]在此，在對入射到頭部402的光實施了基于圖案數(shù)據(jù)的空間調(diào)制之后，將該光照射到基板W上。其中，對光進行空間調(diào)制意味著使光的空間分布(振幅、相位及偏振光等)發(fā)生變化。另外，“圖案數(shù)據(jù)ro”是指，以像素為單位記錄了應該照射光的基板w上的位置信息的數(shù)據(jù)，例如，通過對利用CAD (Computer Aided Design:計算機輔助設(shè)計)生成的圖案的設(shè)計數(shù)據(jù)進行光柵化處理(rasterize)來生成圖案數(shù)據(jù)H)。通過從例如經(jīng)由網(wǎng)絡等連接的外部終端裝置接收圖案數(shù)據(jù)PD，或，從記錄介質(zhì)讀取圖案數(shù)據(jù)ro來獲取，并保存在控制部80的存儲裝置84內(nèi)(參照圖3)。
[0093]更具體來說，入射到頭部402的光經(jīng)由反射鏡46以規(guī)定的角度入射到空間光調(diào)制單元44?？臻g光調(diào)制單元44具有空間光調(diào)制器441，該空間光調(diào)制器441通過電氣控制對入射光進行空間調(diào)制，使得用于描畫圖案的必要光和不用于描畫圖案的不必要光向彼此不同的方向反射?？臻g光調(diào)制器441利用例如將作為調(diào)制元件的固定帶(ribbon)和可動帶配設(shè)成一維的衍射光柵型的空間調(diào)制器(例如，GLV (Grating Light Valve:光柵光閥)(“GLV”是注冊商標))等來構(gòu)成。衍射光柵型的空間調(diào)制器為能夠改變光柵的深度的衍射光柵，例如，采用半導體裝置制造技術(shù)來進行制造。
[0094]針對空間光調(diào)制器441的結(jié)構(gòu)例，進行更具體的說明。空間光調(diào)制器441構(gòu)成為將多個調(diào)制單位442排列成一維(參照圖5等)。各調(diào)制單位442的動作根據(jù)例如有無施加電壓來得以控制，空間光調(diào)制器441具有能夠單獨地對多個調(diào)制單位442的每個調(diào)制單位施加電壓的驅(qū)動電路單元(圖中省略)。由此，能夠單獨地切換各調(diào)制單位442的電壓。
[0095]若使調(diào)制單位442處于第一電壓狀態(tài)(例如，沒有施加電壓的狀態(tài))，則調(diào)制單位442的表面為例如平面。若向表面為平面的調(diào)制單位442入射光，則該入射光不發(fā)生衍射而發(fā)生正反射。由此，產(chǎn)生正反射光(零次衍射光)。作為應該用于描畫圖案的必要光，該正反射光經(jīng)由后述的投影光學系統(tǒng)45引向基板W的表面。另一方面，若使調(diào)制單位442處于第二電壓狀態(tài)(例如，施加電壓的狀態(tài))，則在調(diào)制單位442的表面周期性地排列形成一條以上的具有規(guī)定的深度(最大深度)的平行的槽。在該狀態(tài)下，若光入射到調(diào)制單位442，則正反射光(零次衍射光)互相抵消而消失，產(chǎn)生其它次數(shù)的衍射光(± I次衍射光、±2次衍射光及更高次的衍射光)。在后述的投影光學系統(tǒng)45中，遮斷作為不應該用于描畫圖案的不必要光的上述零次以外的次數(shù)的衍射光，使其不到達基板W。下面，還將處于第一電壓狀態(tài)的調(diào)制單位442稱為“打開(ON)狀態(tài)”，將處于第二電壓狀態(tài)的調(diào)制單位442稱為“關(guān)閉(OFF)狀態(tài)”。
[0096]空間光調(diào)制器441還具有能夠分別調(diào)整其所具有的一組調(diào)制單位442的打開(ON)狀態(tài)的射出率的機構(gòu)(射出率調(diào)整部)400 (參照圖11)。在此所說的調(diào)制單位442的“射出率”是指，調(diào)制單位442的射出光量與入射光量的比(射出光量/入射光量)。其中，在此所說的“射出光量”為必要光(即，向到達基板W的方向射出的光)的光量，在此，為正反射光(零次衍射光)的光量。若調(diào)制單位442的表面為平面，則調(diào)制單位442的射出率為100%。若在調(diào)制單位442的表面形成有槽，則射出率下降，該槽的深度越深，則射出率變得越小。射出率調(diào)整部400針對各調(diào)制單位442，在0以上并且在上述的最大槽深度(即，為形成于關(guān)閉(OFF)狀態(tài)的調(diào)制單位442的表面的槽的深度，賦有0%的射出率)以下的范圍內(nèi)調(diào)整在該調(diào)制單位442處于打開(ON)狀態(tài)時形成于表面的槽的深度，由此，將打開(ON)狀態(tài)的調(diào)制單位442的射出率調(diào)整為0%到100%之間的任意的值。
[0097]投影光學系統(tǒng)45遮斷從空間光調(diào)制器441入射的光中的不必要光并且將必要光導向基板W的表面，使必要光在基板W的表面成像。即，從空間光調(diào)制器441射出的必要光沿著Z軸朝向-Z方向前進，從空間光調(diào)制器441射出的不必要光沿著從Z軸稍微傾向±X方向的軸朝向-Z方向前進，投影光學系統(tǒng)45具有例如為了僅使必要光透過而在正中央形成有貫穿孔的遮斷板，在該遮斷板遮斷不必要光。除了該遮斷板以外，投影光學系統(tǒng)45能夠還包括多個透鏡、物鏡等，其中，多個透鏡構(gòu)成擴大(或縮小)必要光的寬度的變焦部；物鏡使必要光以規(guī)定的倍率在基板W上成像。
[0098]在使光學單元40執(zhí)行描畫動作的情況下，控制部80驅(qū)動激光驅(qū)動部41，使激光振蕩器42射出光。射出的光在照明光學系統(tǒng)43轉(zhuǎn)換為線性光束，經(jīng)由反射鏡46入射到空間光調(diào)制單元44的空間光調(diào)制器441。其中，空間光調(diào)制器441配置成多個調(diào)制單位442的反射面的法線相對于經(jīng)由反射鏡46入射的入射光的光軸傾斜的姿勢。
[0099]如上所述，在空間光調(diào)制器441中，多個調(diào)制單位442配置成沿著副掃描方向(X軸方向)排列，使入射光的線狀的光束剖面的長度方向沿著調(diào)制單位442的排列方向，并使入射光入射到排列成一列的多個調(diào)制單位442。控制部80基于圖案數(shù)據(jù)PD，向驅(qū)動電路單元發(fā)出指示，驅(qū)動電路單元向所指示的調(diào)制單位442施加電壓。由此,形成包括在各調(diào)制單位442分別進行了空間調(diào)制的光且剖面呈帶狀的描畫光，并朝向基板W射出該描畫光。在一個調(diào)制單位442進行了空間調(diào)制的光為相當于一個像素的描畫光，從空間光調(diào)制器441射出的描畫光為相當于沿著副掃描方向的多個像素的描畫光。從空間光調(diào)制器441射出的描畫光入射到投影光學系統(tǒng)45。在投影光學系統(tǒng)45中，遮斷入射光中的不必要光，并且僅將必要光導向基板W的表面，必要光以規(guī)定的倍率在基板W的表面成像。
[0100]各光學單兀40 —邊沿著主掃描方向(Y軸方向)相對于基板W進行移動,一邊斷續(xù)地持續(xù)照射相當于沿著副掃描方向的多個像素的描畫光(即，反復地向基板W的表面持續(xù)地投射脈沖光)。因此，若光學單兀40沿著主掃描方向橫越基板W,則在基板W的表面上的一條帶狀區(qū)域描畫圖案組，其中，上述帶狀區(qū)域沿著主掃描方向延伸，并且沿著副掃描方向具有相當于多個像素的寬度(下面，還稱為“描畫寬度M”)。在進行了伴隨描畫光的照射的主掃描之后，光學單兀40在沿著與主掃描方向垂直的副掃描方向(X軸方向)相對于基板W移動規(guī)定距離之后(副掃描)，再次進行伴隨描畫光的照射的主掃描。由此，在通過之前的主掃描來描畫的帶狀區(qū)域的旁邊描畫圖案組。以這種方式，間隔副掃描，反復地進行伴隨描畫光的照射的主掃描，由此對整個描畫對象區(qū)域描畫圖案組。
[0101]<拍攝部 50>
[0102]拍攝部50固定設(shè)置于支撐框架107，對在由載物臺10保持的基板W的上表面上形成的對位標記進行拍攝。拍攝部50具有例如鏡筒、物鏡、例如由區(qū)域圖像傳感器(areaimage sensor) (二維圖像傳感器)構(gòu)成的(XD (電荷稱合器件)圖像傳感器。另外，拍攝部50經(jīng)由光纖等與供給拍攝所使用的照明光的照明單元501連接。其中，采用不使基板W上的抗蝕劑等感光的波長的光源，來作為該照明光。將從照明單元501射出的光經(jīng)由光纖導向鏡筒，并經(jīng)由鏡筒導向基板W的上表面。然后，經(jīng)由物鏡在CCD圖像傳感器接受該射出光的反射光。由此，獲取基板W的上表面的拍攝數(shù)據(jù)。CCD圖像傳感器根據(jù)來自控制部80的指示獲取拍攝數(shù)據(jù)，并且將獲取的拍攝數(shù)據(jù)發(fā)送至控制部80。此外，拍攝部50還可以具有能夠自動對焦的自動對焦單元。
[0103]<搬運裝置60>
[0104]搬運裝置60為搬運基板W的裝置，具體來說，例如，具有用于支撐基板W的兩根搬運手61、61、使搬運手61、61獨立地移動(進退移動及升降移動)的搬運手驅(qū)動機構(gòu)62。在描畫裝置I的主體外部，在與交接區(qū)域103相鄰的位置配置有用于載置盒體C的盒體載置部104，搬運裝置60取出容置在載置于盒體載置部104的盒體C內(nèi)的未處理的基板W，將其搬入處理區(qū)域102，并且，從處理區(qū)域102搬出處理完的基板W，并容置到盒體C內(nèi)。此外，利用外部搬運裝置(圖中省略)來進行對盒體載置部104的盒體C的交接。
[0105]<預對位部70>
[0106]預對位部70為粗略地修正基板W的旋轉(zhuǎn)位置的裝置。預對位部70能夠由例如以能夠旋轉(zhuǎn)的方式構(gòu)成的載置臺、檢測在載置于載置臺的基板W的外周邊的一部分所形成的切口部(例如，缺口、定向平面(orientation flat)等)的位置的傳感器、使載置臺旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)構(gòu)成。在該情況下，首先，利用傳感器檢測載置在載置臺上的基板W的切口部的位置，接著，旋轉(zhuǎn)機構(gòu)使載置臺旋轉(zhuǎn)，使得該切口部的位置旋轉(zhuǎn)至規(guī)定的位置，由此來進行預對位部70的預對位處理。
[0107]<控制部 80>
[0108]控制部80與描畫裝置I所具有的各部分電連接，一邊執(zhí)行各種的運算處理，一邊控制描畫裝置I的各部分的動作。
[0109]如圖3所示，控制部80構(gòu)成為包括例如CPU (中央處理器)81、ROM (只讀存儲器)82、RAM(隨機存儲器)83、存儲裝置84等彼此經(jīng)由總線線路85連接的通常的計算機。R0M82保存基礎(chǔ)程序等，RAM83供來作為在CPU81進行規(guī)定的處理時的作業(yè)區(qū)域。存儲裝置84由閃存器或硬盤裝置等非易失性的存儲裝置構(gòu)成。在存儲裝置84保存有程序P，作為主控制部的CPU81按照該程序P所記述的順序進行運算處理，由此實現(xiàn)各種功能。通常，程序P事先保存在存儲裝置84等存儲器內(nèi)來進行使用，但是還可以以記錄在⑶-ROM或DVD-ROM、外部的閃存器等記錄介質(zhì)的形式(程序項目)來提供該程序P (或，通過經(jīng)由網(wǎng)絡從外部服務器下載等來提供)，并以追加或交換的方式保存在存儲裝置84等存儲器內(nèi)。此外，還可以通過專用的邏輯電路等來在硬件上實現(xiàn)控制部80所實現(xiàn)的一部分或全部的功能。
[0110]另外，在控制部80中，輸入部86、顯示部87、通信部88也與總線線路85連接。輸入部86為由例如鍵盤及鼠標構(gòu)成的輸入設(shè)備，接受來自操作者的各種操作(輸入命令或各種數(shù)據(jù)的操作)。此外，輸入部86可以由各種開關(guān)、觸摸屏等構(gòu)成。顯示部87為由液晶顯示裝置、燈等構(gòu)成的顯示裝置，在CPU81的控制下顯示各種信息。通信部88具有經(jīng)由網(wǎng)絡與外部裝置之間進行收發(fā)命令、數(shù)據(jù)等的數(shù)據(jù)通信功能。
[0111]<2.射出率函數(shù)的登記>
[0112]< 2-1?射出率函數(shù)的形狀類型>
[0113]如上所述，在描畫裝置I中，空間光調(diào)制器441具有排列成一列的一組調(diào)制單位442，還具有射出率調(diào)整部400，該射出率調(diào)整部400分別調(diào)整該一組調(diào)制單位442各自的射出率。當前，若將規(guī)定調(diào)制單位442在排列方向上的位置與射出率的關(guān)系的函數(shù)稱為“射出率函數(shù)”，則在描畫裝置I中通過設(shè)置射出率調(diào)整部400，能夠?qū)⒃撋涑雎屎瘮?shù)的形狀調(diào)整為任意的形狀。其中，在此，將橫軸作為調(diào)制單位442在排列方向上的位置，將縱軸作為射出率，來表示射出率函數(shù)(例如，參照圖4)。
[0114]射出率函數(shù)的形狀規(guī)定從空間光調(diào)制器441射出的描畫光在整個長度方向上的光量分布的輪廓(profile)。本發(fā)明的發(fā)明人員發(fā)現(xiàn)，通過適當?shù)卣{(diào)整射出率函數(shù)的形狀，能夠緩解在帶狀區(qū)域之間的邊界部分產(chǎn)生的曝光不均勻，還發(fā)現(xiàn)，針對曝光不均勻的不同類型，具有能夠有效地緩解該曝光不均勻的射出率函數(shù)的不同形狀類型。下面，針對射出率函數(shù)的形狀類型進行說明。
[0115]<矩形型>`[0116]圖4是表示作為第一形狀類型的“矩形型”的射出率函數(shù)的圖。另外，圖5是用于說明矩形型的射出率函數(shù)與帶狀區(qū)域之間的關(guān)系的圖。
[0117]矩形型的射出率函數(shù)為所謂的“矩形函數(shù)”，其中，射出率恒定的中央部分Al的兩端的下降沿為垂直的邊沿。具體來說，矩形型的射出率函數(shù)由以下的部分構(gòu)成:射出率以比0大的規(guī)定的值(例如，為100%，以下也稱為“最大射出率”)Rf恒定地推移的中央部分Al ；與中央部分Al兩邊的端部相連，并且射出率以0恒定地推移的端部部分A0。中央部分Al的中心位置與沿著調(diào)制單位442的排列方向的中心位置Q —致。
[0118]在射出率函數(shù)中，射出率為0的端部部分AO意味著，將配置在該部分的調(diào)制單位442的打開(ON)狀態(tài)的射出率設(shè)為0，這種調(diào)制單位442不用于形成描畫光。換言之，在實質(zhì)上，僅利用射出率比0大的調(diào)制單位442，來形成描畫光。因此，在射出率函數(shù)中，射出率比0大的區(qū)域的寬度(下面，稱為“有效寬度d”)相當于上述的描畫寬度M。在矩形型的射出率函數(shù)中，中央部分Al的寬度dl為有效寬度d。
[0119]將與副掃描方向上的移動距離一致的描畫寬度M作為矩形型的射出率函數(shù)的有效寬度d。因此，在將一組調(diào)制單位442的射出率的分布調(diào)整為矩形型的情況下(更具體來說，在對各調(diào)制單位442的射出率進行調(diào)整，以使得一組調(diào)制單位442在排列方向上的位置與射出率之間的關(guān)系和矩形型的射出率函數(shù)一致的情況下)，如圖5所示，通過各主掃描來描畫的帶狀區(qū)域的端部(在副掃描方向上的端部)與通過之前的主掃描來描畫的帶狀區(qū)域彼此緊密相鄰。在描畫裝置I中，在默認狀態(tài)下，一組調(diào)制單位442的射出率的分布被調(diào)整為矩形型。
[0120]下面，還將相當于矩形型的射出率函數(shù)的有效寬度d (即，賦予與副掃描方向上的移動距離一致的描畫寬度M的有效寬度d)的調(diào)制單位442的排列寬度稱為“基準寬度T”。在射出率函數(shù)的有效寬度d比基準寬度T大的情況下，通過各主掃描進行描畫的帶狀區(qū)域，在其端部與通過之前的主掃描進行描畫的帶狀區(qū)域重合。
[0121]<階梯型>
[0122]圖6是表示作為第二形狀類型的“階梯型”的射出率函數(shù)的圖。另外，圖7是用于說明階梯型的射出率函數(shù)與帶狀區(qū)域之間的關(guān)系的圖。
[0123]階梯型的射出率函數(shù)為所謂的“階梯函數(shù)”，其中，射出率恒定的中央部分BI的一側(cè)的端的下降沿為階梯狀的邊沿。具體來說，階梯型的射出率函數(shù)由以下的部分構(gòu)成:射出率以最大射出率Rf恒定地推移的中央部分BI ;與中央部分BI的一側(cè)的端部相連，并且射出率以0恒定地推移的端部部分BO ;與中央部分BI的另一側(cè)的端部相連，并且射出率呈階梯狀變化的變化部分B2 ;與變化部分B2的另一側(cè)的端部相連，并且射出率以0恒定地推移的端部部分B0。其中，在此也同樣地，中央部分BI的中心位置與沿著調(diào)制單位442的排列方向的中心位置Q—致。
[0124]在此，變化部分B2在中央部分BI的一側(cè)的端的下降沿形成一個臺階，臺階的寬度與變化部分B2的寬度d2 —致。另外，臺階的高度與變化部分B2的射出率Rs —致。
[0125]階梯型的射出率函數(shù)相當于在矩形型的射出率函數(shù)追加了變化部分B2的函數(shù)。即，在階梯型的射出率函數(shù)中，中央部分BI的寬度dl與基準寬度T 一致，階梯型的射出率函數(shù)的有效寬度d僅比基準寬度T大變化部分B2的寬度d2。因此，階梯型的射出率函數(shù)的有效寬度d為比副掃描方向上的移動距離大相當于變化部分B2的寬度d2的描畫寬度M。
[0126]因此，在將一組調(diào)制單位442的射出率的分布調(diào)整為階梯型的情況下，如圖7所示，通過各主掃描來描畫的帶狀區(qū)域，在其端部與通過之前的主掃描來描畫的帶狀區(qū)域重合。并且，該重合部分的寬度相當于變化部分B2的寬度d2，配置在變化部分B2的調(diào)制單位442負責對該重合部分中的上層部分進行曝光。即，該上層部分的曝光量由配置在變化部分B2的調(diào)制單位442的射出率Rs規(guī)定。
[0127]例如，在默認狀態(tài)(S卩，將一組調(diào)制單位442的射出率的分布調(diào)整為矩形型的狀態(tài))下對基板W進行描畫處理的情況下(參照圖5)，假設(shè)在基板W上形成的圖案中，橫跨帶狀區(qū)域的邊界的圖案在該邊界部分處間斷微小寬度(例如，I?2個像素大小的寬度)，或者在該邊界部分處縮頸成在微小寬度的范圍內(nèi)極端變窄(細)。推測出，在該情況下，在邊界部分的比較微小的范圍內(nèi)，曝光量下降得比較大。在產(chǎn)生這種曝光不均勻的情況下，若將一組調(diào)制單位442的射出率的分布調(diào)整為階梯型(更具體來說，對各調(diào)制單位442的射出率進行調(diào)整，以使得一組調(diào)制單位442在排列方向上的位置與射出率的關(guān)系與階梯型的射出率函數(shù)一致)，則從配置在變化部分B2的調(diào)制單位442照射的描畫光追加照射至邊界部分，由此，能夠使邊界部分的曝光量增加。其結(jié)果為，消除邊界部分的圖案的間斷等。像這樣，當產(chǎn)生在邊界部分的比較微小的范圍內(nèi)曝光量變化較大的曝光不均勻時，通過將射出率函數(shù)的形狀從矩形型改變成階梯型，能夠有效地緩解該曝光不均勻。[0128]<梯形型>
[0129]圖8、圖9是表示作為第三形狀類型的“梯形型”的射出率函數(shù)的圖。另外，圖10是用于說明梯形型的射出率函數(shù)與帶狀區(qū)域之間的關(guān)系的圖。
[0130]梯形型的射出率函數(shù)為所謂的“梯形函數(shù)”，其中，射出率恒定的中央部分Cl的兩端的下降沿為傾斜狀的邊沿。具體來說，梯形型的射出率函數(shù)由以下的部分構(gòu)成：射出率以最大射出率Rf恒定地推移的中中央部分Cl ;分別與中央部分Cl的兩端部相連，并且射出率呈傾斜狀變化的變化部分C2 ;與變化部分C2的另一端部相連，并且射出率以0恒定地推移的端部部分CO。其中，在此也同樣地，中央部分Cl的中心位置與沿著調(diào)制單位442的排列方向的中心位置Q —致。
[0131]在梯形型的射出率函數(shù)中，沿著一側(cè)變化部分C2的寬度方向的中心位置P2與沿著另一側(cè)變化部分C2的寬度方向的中心位置P2之間的距離d3，與基準寬度T 一致。S卩，梯形型的射出率函數(shù)的有效寬度d僅比基準寬度T大變化部分C2的寬度d2的大小。因此，梯形型的射出率函數(shù)的有效寬度d為比副掃描方向上的移動距離大相當于變化部分C2的寬度d2的大小的描畫寬度M。
[0132]因此，在將一組調(diào)制單位442的射出率的分布調(diào)整為梯形型的情況下，如圖10所示，通過各主掃描來描畫的帶狀區(qū)域，在其端部與通過之前的主掃描來描畫的帶狀區(qū)域重合。并且，該重合部分的寬度相當于變化部分C2的寬度d2，隔著中央部分Cl而配置在一側(cè)的變化部分C2的調(diào)制單位442負責對該重合部分中的下層部分進行曝光，配置在另一側(cè)的變化部分C2的調(diào)制單位442負責對上層部分進行曝光。
[0133]例如，在默認狀態(tài)下對基板W進行描畫處理的情況下(參照圖5)，假設(shè)在基板W上形成的圖案中，橫跨帶狀區(qū)域的邊界的圖案在該帶狀區(qū)域的邊界部分處在比較大的寬度(例如，20個像素左右的寬度）范圍內(nèi)變得比較細(或粗)。推測出，在該情況下，在邊界部分的比較大的范圍內(nèi)，曝光量下降得比較平緩(或，增加得比較平緩)。在產(chǎn)生這種曝光不均勻的情況下，若將一組調(diào)制單位442的射出率的分布調(diào)節(jié)為梯形型(更具體來說，對各調(diào)制單位442的射出率進行調(diào)整，以使得一組調(diào)制單位442在排列方向上的位置與射出率的關(guān)系和梯形型的射出率函數(shù)一致)，則通過使從配置于變化部分C2的調(diào)制單位442照射的描畫光重合，來對邊界部分進行描畫，由此，能夠?qū)吔绮糠值钠毓饬窟M行微調(diào)。其結(jié)果為，消除邊界部分的圖案的線寬的變化等。像這樣，當產(chǎn)生在邊界部分的比較大的范圍內(nèi)曝光量變化平緩的曝光不均勻時，通過將射出率函數(shù)的形狀從矩形型改變成梯形型，能夠有效地緩解該曝光不均勻。
[0134]< 2-2.形狀登記部800 >
[0135]描畫裝置I具有功能部(形狀登記部)800，該功能部800從操作者接受對射出率函數(shù)的形狀進行的登記。針對形狀登記部800，一邊參照圖11，一邊進行說明。圖11是表示與該功能部相關(guān)的結(jié)構(gòu)的框圖。
[0136]形狀登記部800具有接受部801、登記部802。在控制部80中，CPU81按照程序P所記述的順序進行運算處理，由此實現(xiàn)上述各部分。
[0137]接受部801將后述的接受畫面9顯示在顯示部87上，并且，經(jīng)由該接受畫面9接受來自操作者的對射出率函數(shù)的形狀的登記。
[0138]登記部802將操作者經(jīng)由接受畫面9登記的射出率函數(shù)的形狀與描畫處理的處理條件相對應地保存在存儲于存儲裝置84內(nèi)的數(shù)據(jù)庫D內(nèi)。具體來說，描畫處理的處理條件是指，例如，感光材料的種類、在進行描畫處理時光學單元40相對于基板W移動的速度(在此，為載物臺10的移動速度)、基板W的尺寸、基板W的種類等。但是，與處理條件對應地存儲所登記的射出率函數(shù)的形狀的方式不限于此。例如，登記部802可以與用于確定處理條件的信息(具體來說，例如，描述了處理條件的方法（recipe)的識別信息(例如，方法編號)）對應地將該射出率函數(shù)的形狀存儲在存儲裝置84內(nèi)，還可以直接將該射出率函數(shù)的形狀寫入該方法。在后者的情況下，射出率函數(shù)的形狀作為方法信息之一來被保存。
[0139]< 2-3.接受畫面 9 >
[0140]一邊參照圖12?圖14，一邊針對接受畫面9的結(jié)構(gòu)進行說明。圖12?圖14分別示意性地表示接受畫面9的結(jié)構(gòu)例。特別是，在圖12中，例示了在選擇階梯型來作為射出率函數(shù)的形狀類型的情況下的接受畫面9。另外，在圖13、圖14中，例示了在選擇梯形型來作為射出率函數(shù)的形狀類型的情況下的接受畫面9。
[0141]接受畫面9構(gòu)成為包括形狀類型選擇區(qū)域91、階梯型的輸入項目區(qū)域92、梯形型的輸入項目區(qū)域93、形狀顯示區(qū)域94、登記圖標95。
[0142]<形狀類型選擇區(qū)域91 >
[0143]在形狀類型選擇區(qū)域91中，接受從多個形狀類型候補中選擇射出率函數(shù)的形狀類型的選擇操作。
[0144]具體來說，在形狀類型選擇區(qū)域91 一覽顯示多個形狀類型候補。另外，一覽顯示的形狀類型的名稱部分為選擇該形狀類型的圖標。在此，上述的“階梯型”（參照圖6)和“梯形型”（參照圖8、圖9)作為形狀類型候補，在形狀類型選擇區(qū)域91顯示了接受對階梯型的選擇的第一圖標911和接受對梯形型的選擇的第二圖標912。
[0145]操作者通過操作第一圖標911，能夠選擇階梯型來作為射出率函數(shù)的形狀類型。另夕卜，通過操作第二圖標912，能夠選擇梯形型來作為射出率函數(shù)的形狀類型。
[0146]<階梯型的輸入項目區(qū)域92 >
[0147]在階梯型的輸入項目區(qū)域92顯示與階梯型的射出率函數(shù)相關(guān)的一個以上的輸入項目，接受針對各輸入項目的輸入操作。在此，變化部分B2的寬度d2和變化部分B2的射出率Rs為與階梯型的射出率函數(shù)相關(guān)的輸入項目（參照圖6)。
[0148]具體來說，在階梯型的輸入項目區(qū)域92顯示多個圖標921、922，接受對在描畫處理中使帶狀區(qū)域重合的線數(shù)(其中，一條線意味著寬度為一個像素大小的線）的選擇。操作者通過對顯示了期望的線數(shù)的圖標進行操作，能夠指定使帶狀區(qū)域重合的線數(shù)。如上所述，帶狀區(qū)域彼此重合的寬度，相當于階梯型的射出率函數(shù)中的變化部分B2的寬度d2。S卩，通過指定重合的線數(shù)，來指定階梯型的射出率函數(shù)的變化部分B2的寬度d2。
[0149]在此，利用操作者能夠直觀地理解的“重合的線數(shù)”的名稱來接受對變化部分B2的寬度d2的指定，由此提高操作的易讀性。另外，在階梯型的射出率函數(shù)中，若重合的線數(shù)變得過大，則難以確保帶狀區(qū)域的邊界部分的曝光量的均勻性，因此，在此，不由操作者輸入重合的線數(shù)，而是構(gòu)成為只能夠在規(guī)定線數(shù)以下(優(yōu)選地，在兩條以下）的范圍內(nèi)進行選擇，由此避免上述情況。
[0150]另外，在階梯型的輸入項目區(qū)域92顯示用于接受所輸入的變化部分B2的射出率Rs的輸入框923。但是，只能夠向輸入框923輸入在最大射出率Rf以下并且大于0的范圍的值。操作者通過向輸入框923輸入在容許的范圍內(nèi)的任意的值，能夠指定階梯型的射出率函數(shù)的變化部分B2的射出率Rs。
[0151]<梯形型的輸入項目區(qū)域93 >
[0152]在梯形型的輸入項目區(qū)域93顯示與梯形型的射出率函數(shù)相關(guān)的一個以上的輸入項目，以接受針對各輸入項目的輸入操作。在此，在變化部分C2內(nèi)的一個以上的代表位置各自的射出率為與梯形型的射出率函數(shù)相關(guān)的輸入項目。但是，優(yōu)選地，代表位置為等間距地劃分變化部分C2的位置。另外，優(yōu)選地，代表位置的個數(shù)在三個以下。在圖示的例子中，將變化部分C2四等分的三個位置P1、P2、P3作為代表位置。
[0153]具體來說，在梯形型的輸入項目區(qū)域93顯示用于接受所輸入的代表位置PU P2、P3各自的射出率的輸入框931、932、933。但是，只能夠向各輸入框931、932、933內(nèi)輸入在最大射出率Rf以下并且在0以上的范圍內(nèi)的值。另外，向輸入正中間的代表位置(第二代表位置)P2的射出率的第二輸入框932只能夠輸入特定的值，該特定的值是指，向輸入端部部分CO —側(cè)的代表位置(第一代表位置)Pl的射出率的第一輸入框931輸入的輸入值以上的值。另外，向輸入中央部分Cl 一側(cè)的代表位置(第三代表位置）P3的射出率的第三輸入框933只能輸入向第二輸入框932輸入的輸入值以上的值。操作者通過向各輸入框931、932,933輸入在容許的范圍內(nèi)的任意的值，能夠指定梯形型的射出率函數(shù)的變化部分C2的變化的形式（即，變化率)。其中，在梯形型的射出率函數(shù)中，兩個變化部分C2為彼此對稱的形狀。因此，若規(guī)定一邊的變化部分C2的變化形式，則也唯一地規(guī)定了另一邊的變化部分C2的變化形式。
[0154]例如，如圖13所示，操作者通過指定第一代表位置Pl的射出率為25%，指定第二代表位置P2的射出率為50%，指定第三代表位置P3的射出率為75%，能夠指定變化部分C3的變化量恒定的射出率函數(shù)(參照圖8)。另外，例如，如圖14所示，操作者通過指定第一代表位置Pl的射出率為10%，指定第二代表位置P2的射出率為50%，指定第三代表位置P3的射出率為80%，能夠指定變化部分C3的變化量在中途發(fā)生變化而呈S字狀的射出率函數(shù)(參照圖9)。如上所述，在描畫處理中，通過使從配置于變化部分C2的調(diào)制單位442照射的描畫光重合，來對帶狀區(qū)域的邊界部分進行描畫。因此，通過改變變化部分C3的變化形式，能夠?qū)吔绮糠值钠毓饬窟M行微調(diào)。特別是，若將變化部分C3設(shè)為S字狀，則射出率在整個射出率函數(shù)中相對較平滑地變化，因此，邊界部分的曝光量的變化也變得平滑，在大多情況下，特別有效地緩解曝光不均勻。若將使變化部分C2四等分的三個位置P1、P2、P3作為代表位置，則能夠簡單并且適當?shù)匾?guī)定這種S字狀的變化部分C3。
[0155]在此，就變化部分C2的寬度d2而言，不是由操作者來指定，而是將其固定為事先規(guī)定的值。在梯形型的射出率函數(shù)中也同樣地，若重合的線數(shù)過大，則難以確保帶狀區(qū)域的邊界部分的曝光量的均勻性，因此，在此，不由操作者輸入重合的線數(shù)，而是將其固定為規(guī)定線數(shù)(優(yōu)選地，例如，20條線左右)，由此避免這種情況。
[0156]<形狀顯示區(qū)域94 >
[0157]在形狀顯示區(qū)域94示意性地顯示根據(jù)從形狀類型選擇區(qū)域91及各輸入項目區(qū)域92、93輸入的信息來規(guī)定的射出率函數(shù)的一部分或整體。特別是，由于輸入項目與變化部分B2、C2相關(guān)聯(lián)，所以優(yōu)選地，如圖所示，在形狀顯示區(qū)域94中放大顯示射出率函數(shù)的變化部分 B2、C2。[0158]操作者觀察形狀顯示區(qū)域94所顯示的射出率函數(shù)，確認該射出率函數(shù)是否為期望的形狀，根據(jù)需要，能夠改變輸入值等，以使射出率函數(shù)變?yōu)槠谕男螤睢?br> [0159]<登記圖標95>
[0160]登記圖標95為接受從形狀類型選擇區(qū)域91及各輸入項目區(qū)域92、93輸入的信息的登記的圖標。操作者通過操作登記圖標95，能夠登記從形狀類型選擇區(qū)域91及各輸入項目區(qū)域92、93輸入的信息。
[0161]< 2-4?處理的流程>
[0162]在描畫裝置I中，操作者能夠與描畫處理的處理條件對應地登記任意的形狀的射出率函數(shù)。如上所述，在描畫裝置I中，在默認狀態(tài)下，一組調(diào)制單位442的射出率的分布被調(diào)整為矩形型。即，從空間光調(diào)制器441射出的描畫光的沿著長度方向的光量分布被調(diào)整為均勻的狀態(tài)。例如，操作者確認在默認狀態(tài)下進行描畫處理而獲得的曝光結(jié)果，在帶狀區(qū)域的邊界部分產(chǎn)生曝光不均勻的情況下，操作者能夠與處理條件對應地登記能夠緩解曝光不均勻的射出率函數(shù)的形狀。一邊參照圖15，一邊針對與射出率函數(shù)的形狀的登記相關(guān)的一連串的處理的流程進行說明。圖15是表示該處理的流程的圖。
[0163]當接受來自操作者的開始登記射出率函數(shù)的形狀的意思的指示時，接受部801使顯示部87顯示接受畫面9 (步驟S101)。
[0164]若顯示接受畫面9，則操作者從在形狀類型選擇區(qū)域91 一覽顯示的多個形狀類型候補中，選擇射出率函數(shù)的形狀類型。例如，在成為對象的處理條件下，在默認狀態(tài)下進行了描畫處理的情況下的曝光結(jié)果中，若產(chǎn)生在邊界部分的比較微小的范圍內(nèi)曝光量變化較大的曝光不均勻，則操作者選擇階梯型即可。另外，在該曝光結(jié)果中，若產(chǎn)生在邊界部分的比較大的范圍內(nèi)曝光量變動平緩的曝光不均勻，則選擇梯形型即可。若接受部801從操作者接受形狀類型的選擇(在步驟S102中判斷為“是”)，則接著，就所選擇的形狀類型接受對各輸入項目進行的輸入操作。
[0165]在選擇了階梯型的情況下，操作者輸入階梯型的輸入項目區(qū)域92所顯示的各輸入項目。另外，在選擇了梯形型的情況下，操作者輸入梯形型的輸入項目區(qū)域93所顯示的各輸入項目。若接受部801從操作者接受所輸入的各輸入項目（在步驟S103中判斷為“是”)，則在形狀顯示區(qū)域94上顯示根據(jù)該所輸入的信息而規(guī)定的射出率函數(shù)(步驟S104)。
[0166]例如，在成為對象的處理條件下，操作者根據(jù)在默認狀態(tài)下進行了描畫處理的情況下的曝光結(jié)果中在邊界部分產(chǎn)生的曝光不均勻的狀態(tài)等，推斷能夠緩解曝光不均勻的形狀的射出率函數(shù)的形狀，并將該形狀作為目標形狀，觀察形狀顯示區(qū)域94所顯示的射出率函數(shù)，確認該射出率函數(shù)是否為目標形狀。然后，根據(jù)需要，對各輸入項目的輸入值進行修正等。然后，若能夠確認獲得了目標形狀，則操作登記圖標95。若接受部801接受操作者對登記圖標95進行的操作(在步驟S105中判斷為“是”)，則將該輸入的信息通知給登記部802。
[0167]若登記部802從接受部801接受信息，則將該信息登記到數(shù)據(jù)庫D (步驟S106)。具體來說，與事先由操作者指定的成為對象的處理條件或用于確定成為對象的處理條件的信息(例如，方法編號）對應地，將操作者所選擇的形狀及針對各輸入項目的輸入信息登記到數(shù)據(jù)庫D。由此，與描畫處理的處理條件對應地登記規(guī)定一個射出率函數(shù)的形狀的信息。但是，并不一定需要以數(shù)據(jù)庫D的形式登記該信息，例如，還可以通過向成為對象的處理條件的方法寫入，來登記該信息。
[0168]< 3.描畫裝置I的動作>
[0169]一邊參照圖16，一邊針對在描畫裝置I中對基板W執(zhí)行的一連串的處理的整體流程進行說明。圖16是表示該處理的流程的圖。在下面說明的一連串的動作在控制部80的控制下進行。
[0170]但是，在進行在下面說明的一連串的動作之前，控制部80從存儲裝置84等讀取描述處理條件的方法，根據(jù)方法所指定的處理條件，來調(diào)整各部分的參數(shù)等。
[0171]此時，控制部80從存儲在存儲裝置84內(nèi)的數(shù)據(jù)庫D等中，讀取與由該方法指定的處理條件(或，該方法的方法編號)等對應的信息（即，規(guī)定射出率函數(shù)的形狀的信息)。在該信息記錄在方法內(nèi)的情況下，從方法讀取該信息。然后，射出率調(diào)整部400根據(jù)由該信息規(guī)定的射出率函數(shù)，對兩個光學單元40分別具有的空間光調(diào)制器441的一組調(diào)制單位442的各自的射出率進行調(diào)整。具體來說，射出率調(diào)整部400對該一組調(diào)制單位442的各自的射出率進行調(diào)整，以使得各空間光調(diào)制器441的一組調(diào)制單位442在排列方向上的位置與射出率之間的關(guān)系和根據(jù)該信息來規(guī)定的射出率函數(shù)一致。在所登記的射出率函數(shù)的形狀類型為階梯型或梯形型的情況下，從空間光調(diào)制器441射出的描畫光的沿著長度方向的光量的分布被調(diào)整為不均勻的狀態(tài)(即，使得能夠在端部形成比中央部的光量小的部分)。
[0172]由此，將從空間光調(diào)制器441射出的描畫光的沿著長度方向的光量的分布調(diào)整為，在該處理條件下能夠適當?shù)鼐徑馄毓獠痪鶆虻墓饬糠植肌＜?，形狀登記?00及射出率調(diào)整部400起到調(diào)整描畫光的沿著長度方向的光量分布的調(diào)整部100 (參照圖11)的作用。當該調(diào)整結(jié)束時，開始對基板W進行處理。
[0173]首先，搬運裝置60從載置于盒體載置部104的盒體C中取出未處理基板W，并搬入描畫裝置I (步驟SI)。
[0174]接著，搬運裝置60將搬入的基板W搬入到預對位部70，在預對位部70，對該基板W進行預對位處理(步驟S2)。例如，利用傳感器檢測載置于載置臺的基板W的切口部的位置，并且以使該切口部的位置旋轉(zhuǎn)到規(guī)定的位置的方式使載置臺旋轉(zhuǎn)，由此進行預對位處理。由此，在大致對準規(guī)定的旋轉(zhuǎn)位置的狀態(tài)下放置載置于載置臺的基板W。
[0175]接著，搬運裝置60從預對位部70搬出預對位處理完的基板W，將該基板W載置于載物臺10 (步驟S3)。當將基板W載置于載物臺10的上表面時，載物臺10吸附保持基板I
[0176]當處于載物臺10吸附保持基板W的狀態(tài)時，接著，精確地進行對位的處理(精密對位）（步驟S4)，以使該基板W位于恰當?shù)奈恢?。具體來說，首先，載物臺驅(qū)動機構(gòu)20使載物臺10移動至拍攝部50的下方位置。若載物臺10配置于拍攝部50的下方，則接著，拍攝部50對基板W上的對位標記進行拍攝，獲取該拍攝數(shù)據(jù)。接著，控制部80對由拍攝部50獲取的拍攝數(shù)據(jù)進行圖像分析，以檢測對位標記的位置，并基于該檢測位置，計算基板W相對于恰當位置的偏離量。若計算偏離量，則載物臺驅(qū)動機構(gòu)20使載物臺10僅移動該計算的偏離量。由此，來進行使基板W位于恰當位置的對位。
[0177]當基板W放置到恰當位置之后，接著，進行圖案的描畫處理(步驟S5)。一邊參照圖17，一邊針對描畫處理進行說明。圖17是用于說明描畫處理的圖。[0178]在控制部80的控制下，載物臺驅(qū)動機構(gòu)20使載置于載物臺10的基板W相對于光學單元40、40移動，并且從每個光學單元40、40向基板W的上表面照射進行了空間調(diào)制的光，由此進行描畫處理。
[0179]具體來說，首先，載物臺驅(qū)動機構(gòu)20通過使配置在拍攝部50的下方位置的載物臺10沿著主掃描方向（Y軸方向）向+ Y方向移動，來使基板W相對于光學單元40、40沿著主掃描方向相對地移動(主掃描)。從基板W的角度來看,各光學單兀40沿著主掃描方向朝向-Y方向橫越基板W (箭頭AR11)。在進行主掃描的期間內(nèi)，各光學單元40朝向基板W斷續(xù)地照射基于圖案數(shù)據(jù)ro形成了空間調(diào)制的描畫光（即，反復地向基板w的表面持續(xù)地投射脈沖光)。即，各光學單兀40 —邊斷續(xù)地照射描畫光,一邊沿著主掃描方向橫越基板W,其中，描畫光包括與沿著副掃描方向的多個像素相對應的進行過空間調(diào)制的光。因此，若光學單元40沿著主掃描方向橫越一次基板W，則在一條帶狀區(qū)域(沿著主掃描方向延伸并且沿著副掃描方向的寬度相當于描畫寬度M的區(qū)域）描畫圖案組。在此，由于兩個光學單元40同時橫越基板W，所以通過一次主掃描，能夠在兩條帶狀區(qū)域上分別描畫圖案組。
[0180]當一次主掃描結(jié)束時，載物臺驅(qū)動機構(gòu)20通過使載物臺10沿著副掃描方向（X軸方向）朝向-X方向僅移動規(guī)定的距離,來使基板W相對于光學單兀40、40沿著副查方向移動(副掃描)。從基板W的角度來看，各光學單元40沿著副掃描方向朝向+X方向僅移動規(guī)定的距離(箭頭AR12)。
[0181]當副掃描結(jié)束時，再次進行主掃描。即，載物臺驅(qū)動機構(gòu)20通過使載物臺10沿著主掃描方向朝向-Y方向移動，來使基板W相對于光學單兀40、40沿著主掃描方向移動。從基板W的角度來看，各光學單元40沿著主掃描方向朝向+ Y方向移動，橫越基板W上的通過之前的主掃描進行描畫的帶狀區(qū)域的旁邊(箭頭AR13)。在此也同樣地，各光學單元40 —邊斷續(xù)地照射基于圖案數(shù)據(jù)ro形成了空間調(diào)制的描畫光，一邊沿著主掃描方向橫越基板W。由此，在通過之前的主掃描進行描畫的帶狀區(qū)域的旁邊的帶狀區(qū)域內(nèi)，描畫圖案組。其中，如上所述，在射出率函數(shù)的有效寬度d與基準寬度T 一致的情況下，各帶狀區(qū)域的端部與通過之前的主掃描進行描畫的帶狀區(qū)域彼此緊密相鄰(參照圖5)。另外，在射出率函數(shù)的有效寬度d大于基準寬度T的情況下，各帶狀區(qū)域的端部與通過之前的主掃描進行描畫的帶狀區(qū)域重合(參照圖7、圖10)。
[0182]此后，同樣地，反復地進行主掃描和副掃描，在描畫對象區(qū)域的整個區(qū)域描畫圖案之后，描畫處理結(jié)束。
[0183]再次參照圖16。若描畫處理結(jié)束，則搬運裝置60搬出處理完的基板W(步驟S6)。由此，對該基板W進行的一連串的處理結(jié)束。
[0184]<4.效果〉
[0185]根據(jù)上述的實施方式，通過從多個形狀類型候補中選擇射出率函數(shù)的形狀類型的簡單的選擇操作，來對各調(diào)制單位442的射出率進行調(diào)整，以使得一組調(diào)制單位442的射出率的分布與該選擇的形狀類型的射出率函數(shù)一致。由此，調(diào)整描畫光的沿著長度方向的光量分布。因此，操作者能夠簡單地進行用于緩解邊界部分的曝光不均勻的調(diào)整作業(yè)。
[0186]特別是，在上述的實施方式中，多個形狀類型候補包括階梯型。通過選擇階梯型來作為射出率函數(shù)的形狀類型，能夠在例如產(chǎn)生在邊界部分的比較微小的范圍內(nèi)曝光量變化較大的曝光不均勻的情況下，有效地緩解該曝光不均勻。因此，在產(chǎn)生例如這種曝光不均勻的情況下，操作者能夠通過選擇階梯型來作為射出率函數(shù)的形狀類型，有效地緩解該曝光不均勻。
[0187]特別是，在上述的實施方式中，多個形狀類型候補包括梯形型。通過選擇梯形型來作為射出率函數(shù)的形狀類型，能夠在例如產(chǎn)生在邊界部分的比較大的范圍內(nèi)曝光量變化得比較平緩的曝光不均勻的情況下，有效地緩解該曝光不均勻。因此，在產(chǎn)生例如這種曝光不均勻的情況下，操作者能夠通過選擇梯形型來作為射出率函數(shù)的形狀類型，有效地緩解該曝光不均勻。
[0188]另外，根據(jù)上述的實施方式，操作者能夠針對射出率函數(shù)的各形狀類型，進行輸入項目的指定。由此，對射出率函數(shù)的形狀進行微調(diào)，以能夠適當?shù)鼐徑馄毓獠痪鶆?。具體來說，在選擇階梯型來作為射出率函數(shù)的形狀類型的情況下，操作者能夠進一步指定變化部分的寬度。由此，例如，能夠?qū)χ睾喜糠值膶挾冗M行微調(diào)，從而能夠適當?shù)鼐徑馄毓獠痪鶆?。另外，在選擇階梯型來作為射出率函數(shù)的形狀類型的情況下，操作者能夠進一步指定變化部分的射出率。由此，例如，能夠?qū)χ睾喜糠值拿璁嫻獾墓饬窟M行微調(diào)，從而能夠適當?shù)鼐徑馄毓獠痪鶆?。另外，在選擇梯形型來作為射出率函數(shù)的形狀類型的情況下，操作者能夠進一步指定代表位置的射出率。由此，例如，能夠?qū)χ睾喜糠值拿璁嫻獾墓饬窟M行微調(diào)，從而能夠適當?shù)鼐徑馄毓獠痪鶆颉?br> [0189]另外，根據(jù)上述的實施方式，顯示一覽顯示了多個形狀類型候補的接受畫面9，通過該接受畫面9，接受選擇操作。因此，操作者能夠特別簡單地進行選擇多個形狀類型候補中的某一個的選擇操作。
[0190]另外，根據(jù)上述的實施方式，與描畫處理的處理條件相對應地登記接受部801從操作者接受的信息。因此，針對相同的處理條件，即使操作者不重新進行選擇射出率函數(shù)的形狀類型的選擇操作，也能夠?qū)⒚璁嫻獾难刂L度方向的光量分布調(diào)整為能夠緩解邊界部分的曝光不均勻的適當?shù)男螤睢?br> [0191]<5.變形例>
[0192]在上述的實施方式中，在射出率函數(shù)的形狀類型為梯形型的情況下，如上所述，隔著中央部分Cl而配置在一側(cè)的變化部分C2的調(diào)制單位442負責對帶狀區(qū)域重合的部分中的下層部分進行曝光，配置在另一側(cè)的變化部分C2的調(diào)制單位442負責對上層部分進行曝光。因此，如圖18所示，當在接受畫面9中選擇梯形型來作為射出率函數(shù)的形狀類型時，可以在形狀顯示區(qū)域94重合顯示一邊的變化部分C2 (實線)和另一邊的變化部分C2 (虛線)。另外，還可以顯示對該一邊的變化部分C2和另一邊的變化部分C2進行加法運算而得到的函數(shù)。根據(jù)這些結(jié)構(gòu)，能夠直觀地掌握提供給帶狀區(qū)域重合的部分的光量，所以操作者能夠恰當?shù)貨Q定各代表位置的射出率的恰當值(即，變化部分C2變化的形式)。
[0193]另外，與上述的實施方式的階梯型的射出率函數(shù)相關(guān)的輸入項目或與梯形型的射出率函數(shù)相關(guān)的輸入項目不限于上述的輸入項目。例如，除了代表位置的射出率以外(或取代代表位置的射出率)，還可以追加變化部分C2的寬度d2來作為與梯形型的射出率函數(shù)相關(guān)的輸入項目。另外，并不一定需要將代表位置固定在等間距地劃分變化部分C2的位置，還可以追加指定代表位置的項目，來作為輸入項目。另外，還可以構(gòu)成為操作者能夠隨意地指定代表位置的個數(shù)。
[0194]另外，并不一定需要設(shè)置輸入項目，可以構(gòu)成為僅接受形狀類型的選擇操作。[0195]另外，在上述的實施方式中，作為形狀類型候補，例示了階梯型和矩形型，但是除了這些以外(或取代這些)，還可以包括其它的形狀類型(例如，正態(tài)分布型的形狀類型等)。
[0196]另外，優(yōu)選地，射出率調(diào)整部400在規(guī)定的時間點對各空間光調(diào)制器441所具有的一組調(diào)制單位442進行校準，以確保在各調(diào)制單位442實現(xiàn)期望的射出率。優(yōu)選例如處理條件被變更的時間點、或進行上一次校準之后對規(guī)定個數(shù)的基板W進行了處理的時間點、或從上一次校準經(jīng)過了規(guī)定的時間的時間點，來作為進行校準的時間點。
[0197]另外，在上述的實施方式中，采用衍射光柵型的空間光調(diào)制器來作為空間光調(diào)制器441，但是，例如，可以利用如反射鏡那樣調(diào)制單位被排列成一維的空間光調(diào)制器等。
【權(quán)利要求】
1.一種描畫裝置，其通過對形成有感光材料的基板照射光，來在所述基板上描畫圖案，其特征在于， 具有: 光學單元，其一邊射出剖面呈帶狀的描畫光，一邊相對于所述基板沿著與所述描畫光的長度方向垂直的方向移動， 調(diào)整部，其調(diào)整沿著所述描畫光的長度方向的光量分布； 所述光學單元具有: 光源部，其射出剖面呈帶狀的光， 空間光調(diào)制部，其具有排列成一列的多個調(diào)制單位，所述空間光調(diào)制部使從所述光源部射出的光入射到多個所述調(diào)制單位，并且使多個所述調(diào)制單位對入射的所述光進行調(diào)制，以形成所述描畫光，其中，從所述光源部射出的光的長度方向與多個所述調(diào)制單位的排列方向一致； 所述調(diào)整部具有: 接受部，其接受從多個形狀類型候補中選擇射出率函數(shù)的形狀類型的選擇操作，其中，所述射出率函數(shù)是規(guī)定所述調(diào)制單位在排列方向上的位置與射出率之間的關(guān)系的函數(shù)，所述射出率是射出光量與入射到所述調(diào)制單位的入射光量的比， 射出率調(diào)整部，其根據(jù)所述接受部接受的形狀類型，對多個所述調(diào)制單位中的各個調(diào)制單位的所述射出率進行調(diào)整。
2.如權(quán)利要求1所述的描畫裝置，其特征在于， 多個所述形狀類型候補包括階梯型， 所述階梯型包括所述射出率恒定的中央部分和與所述中央部分相連且所述射出率呈階梯狀地變化的變化部分。
3.如權(quán)利要求2所述的描畫裝置，其特征在于， 在選擇了所述階梯型的情況下，所述接受部接受對所述變化部分的寬度進行的指定。
4.如權(quán)利要求2或3所述的描畫裝置，其特征在于， 在選擇了所述階梯型的情況下，所述接受部接受對所述變化部分的所述射出率進行的指定。
5.如權(quán)利要求1~3中任一項所述的描畫裝置，其特征在于， 多個所述形狀類型候補包括梯形型， 所述梯形型包括所述射出率恒定的中央部分和與所述中央部分相連且所述射出率呈傾斜狀地變化的變化部分。
6.如權(quán)利要求5所述的描畫裝置，其特征在于， 在選擇了所述梯形型的情況下，所述接受部接受對所述變化部分內(nèi)的一個以上代表位置的各自的所述射出率進行的指定。
7.如權(quán)利要求1~3中任一項所述的描畫裝置，其特征在于， 所述接受部在顯示裝置上顯示接受畫面，并且通過所述接受畫面來接受所述選擇操作，其中，在所述接受畫面上一覽顯示了多個所述形狀類型候補。
8.如權(quán)利要求1~3中任一項所述的描畫裝置，其特征在于， 所述調(diào)整部還具有登記部，所述登記部與在所述基板上描畫圖案的處理的處理條件相對應地登記所述接受部所接受的信息。
9.一種描畫方法，通過對形成有感光材料的基板照射光，來在所述基板上描畫圖案，其特征在于， 包括: (a)工序，一邊從光學單元射出剖面呈帶狀的描畫光，一邊使所述光學單元相對于所述基板沿著與所述描趣光的長度方向垂直的方向移動， (b)工序，調(diào)整沿著所述描畫光的長度方向的光量分布； 所述(a)工序包括: (al)工序，從光源部射出剖面呈帶狀的光， (a2)工序，使從所述光源部射出的光入射到多個所述調(diào)制單位，并且使多個所述調(diào)制單位對入射的所述光進行調(diào)制，以形成所述描畫光，其中，從所述光源部射出的光的長度方向與排列成一列的多個調(diào)制單位的排列方向一致； 所述(b)工序包括: (bl)工序，接受從多個形狀類型候補中選擇射出率函數(shù)的形狀類型的選擇操作，其中，所述射出率函數(shù)是規(guī)定所述調(diào)制單位在排列方向上的位置與射出率之間的關(guān)系的函數(shù)，所述射出率是射出光量與入射到所述調(diào)制單位的入射光量的比， (b2)工序，按照在所述(bl)工序所接受的形狀類型，對多個所述調(diào)制單位中的各個調(diào)制單位的所述射出率進行調(diào)整。
10.如權(quán)利要求9所述的描畫方法，其特征在于， 多個所述形狀類型候補包括階梯型， 所述階梯型包括所述射出率恒定的中央部分和與所述中央部分相連且所述射出率呈階梯狀地變化的變化部分。
11.如權(quán)利要求10所述的描畫方法，其特征在于， 所述(b)工序還包括如下工序:在所述(bl)工序中選擇了所述階梯型的情況下，接受對所述變化部分的寬度進行的指定。
12.如權(quán)利要求10或11所述的描畫方法，其特征在于， 所述(b)工序還包括如下工序:在所述(bl)工序中選擇了所述階梯型的情況下，接受對所述變化部分的所述射出率進行的指定。
13.如權(quán)利要求9~11中任一項所述的描畫方法，其特征在于， 多個所述形狀類型候補包括梯形型， 所述梯形型包括所述射出率恒定的中央部分和與所述中央部分相連且所述射出率呈傾斜狀地變化的變化部分。
14.如權(quán)利要求13所述的描畫方法，其特征在于， 所述(b)工序還包括如下工序:在所述(bl)工序中選擇了所述梯形型的情況下，接受對所述變化部分內(nèi)的一個以上的代表位置的各自的所述射出率進行的指定。
15.如權(quán)利要求9~11中任一項所述的描畫方法,其特征在于， 在所述(bl)工序中，在顯示裝置上顯示接受畫面，并且通過所述接受輸入畫面來接受所述選擇操作，其中，在所述接受畫面上一覽顯示了多個所述形狀類型候補。
16.如權(quán)利要求9~11中任一項所述的描畫方法,其特征在于，還包括(C)工序，在該(C)工序 中，與在所述基板上描畫圖案的處理的處理條件相對應地登記在所述(b)工序中接受的信息。
【文檔編號】G03F7/20GK103698980SQ201310174088
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2013年5月13日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月27日
【發(fā)明者】本莊由宜, 上里誠 申請人:大日本網(wǎng)屏制造株式會社