專利名稱：基板上隔墊物制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種基板上隔墊物制造方法。
背景技術(shù)：
在顯示技術(shù)領(lǐng)域，液晶面板以其耗電少、輕薄、便于攜帶等優(yōu)點占據(jù)了顯示面板的市場。液晶面板包括彩膜基板、陣列基板以及位于彩膜基板和陣列基板之間的液晶層，彩膜基板和陣列基板對盒后，為了維持兩者之間的盒厚，目前通常采用在彩膜基板上制造隔墊物來實現(xiàn)。如圖1所示，彩膜基板包括形成在襯底基板上的黑矩陣02，黑矩陣02具有與RGB像素單元對應的開口區(qū)域01，黑矩陣02的非開口區(qū)域上具有用于支撐彩膜基板和陣列基板的隔墊物03。如圖2所示，現(xiàn)有技術(shù)中的隔墊物03，其頂部031和底部032之間的尺寸差異較大，一般底部032的直徑比頂部031的直徑大l(T20um左右。在液晶顯示領(lǐng)域，為提高彩膜基板和陣列基板之間支撐的強度，進而提高液晶面板的強度，設計中需要增大隔墊物03頂部031的直徑，以增大隔墊物03的支撐面積；但是，由于現(xiàn)有技術(shù)中隔墊物03的底部032的直徑與頂部031的直徑之間的尺寸差異較大，為提高隔墊物03頂部031的直徑，必須同時增大隔墊物03底部032的直徑，而隔墊物03在設計時為避免隔墊物對像素開口區(qū)液晶正常排列的影響，隔墊物03底部032的邊緣與開口區(qū)之間的距離需要大于3飛um，增大隔墊物03頂部031直徑的同時在一定程度上限制了液晶面板的開口率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種基板上隔墊物制造方法，該制造方法能夠在增大隔墊物頂部直徑的同時降低對液晶面板開口率的影響。為達到上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:一種基板上隔墊物制造方法，包括:在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層；所述第二隔墊物基材層的感光度大于第一隔墊物基材層的感光度；對所述第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層進行曝光顯影，形成隔墊物。優(yōu)選地，所述形成隔墊物之后還包括:對隔墊物進行后固化。優(yōu)選地，所述在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層之前還包括:清洗襯底基板，并對清洗后的襯底基板進行干燥。優(yōu)選地，所述在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層包括:
在襯底基板上涂覆第一隔墊物基材層；在所述第一隔墊物基材層上涂覆第二隔墊物基材層。優(yōu)選地，在對所述第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層進行曝光顯影之前還包括:
對第一隔墊物基材層以及第二隔墊物基材層進行預固化。優(yōu)選地，所述在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層包括:在襯底基板上形成第一隔墊物基材層；對第一隔墊物基材層預固化；在第一隔墊物基材層上形成第二隔墊物基材層。優(yōu)選地，在對所述第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層進行曝光顯影之前還包括:對所述第二隔墊物基材層進行預固化。優(yōu)選地，所述在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層包括:在襯底基板上涂覆具有兩種不同感光度的隔墊物樹脂合成原料的隔墊物基材層，且感光度較高的隔墊物樹脂合成原料的密度大于感光度較低的隔墊物樹脂合成原料的密度；對隔墊物基材層進行旋轉(zhuǎn)離心分層，隔墊物基材層內(nèi)的不同密度的隔墊物樹脂合成原料沿隔墊物頂部指向底部的方向由大到小垂直分布，感光度較高的隔墊物樹脂合成原料形成所述第二隔墊物基材層，感光度較低的隔墊物樹脂合成原料形成所述第一隔墊物基材層。優(yōu)選地，所述隔墊物樹脂合成原料包括:多聚物、含多功能基團的交聯(lián)劑、光引發(fā)劑以及溶劑體系。優(yōu)選地，所述多聚物為丙烯酸樹脂，所述多聚物的比重為1(Γ25% ;所述交聯(lián)劑為含有多個氨基、異腈酸酯基等功能基團的丙烯酸單體，所述光引發(fā)劑包括苯偶姻、酰基膦氧化物、硫雜蒽酮類中的一種或多種，且所述光引發(fā)劑與交聯(lián)劑的比重為1(Γ25%;所述溶劑體系包含二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯中的至少一種，且所述溶劑體系的比重為50 80%。本發(fā)明提供的基板上隔墊物制造方法，包括:在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層；所述第二隔墊物基材層的感光度大于第一隔墊物基材層的感光度；對所述第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層進行曝光顯影，形成隔墊物。本發(fā)明提供的基板上隔墊物制造方法中，由于襯底基板上的第二隔墊物基材層位于第一隔墊物基材層之上，在對第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層曝光顯影之后，第一隔墊物基材層形成隔墊物的下層，而第二隔墊物基材層形成隔墊物的上層；因為第二隔墊物基材層的感光度大于第一隔墊物基材層的感光度，因此，使用同一張掩膜板曝光時，第二隔墊物基材層的掩模板關(guān)鍵尺寸偏差Mask⑶Bias小于第一隔墊物基材層的Mask⑶Bias，其中
Mask⑶Bias=掩膜板設計尺寸-實際產(chǎn)出尺寸因此，在第一隔墊物基材層形成的隔墊物下層的底部尺寸一定時，第二隔墊物基材層形成的隔墊物上層的頂部尺寸較大。因此，本發(fā)明提供的基板上隔墊物制造方法能夠在增大隔墊物頂部直徑的同時降低對液晶面板開口率的影響。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)中彩膜基板的一種結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為現(xiàn)有技術(shù)中的隔墊物的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明提供的基板上隔墊物制造方法的流程示意圖；圖4為采用本發(fā)明提供的基板上隔墊物制造方法制造的隔墊物的一種結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。在液晶顯示器的制造過程中，隔墊物既可以制造在彩膜基板上，也可以制造在陣列基板上，本實施例以彩膜基板為例，來說明隔墊物的制造過程。實施例一如圖3所示，本實施例提供的基板上隔墊物制造方法，包括:步驟S301:在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層；第二隔墊物基材層的感光度大于第一隔墊物基材層的感光度；步驟S302:對第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層進行曝光顯影，形成隔墊物。本發(fā)明提供的基板上隔墊物制造方法中，由于襯底基板上的第二隔墊物基材層位于第一隔墊物基材層之上，在對第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層曝光顯影之后，形成的隔墊物如圖4所示，第一隔墊物基材層形成隔墊物下層32，而第二隔墊物基材層形成隔墊物上層31 ;因為第二隔墊物基材層的感光度大于第一隔墊物基材層的感光度，因此，使用同一張掩膜板曝光時，第二隔墊物基材層的掩模板關(guān)鍵尺寸偏差Mask CD Bias小于第一隔墊物基材層的Mask⑶Bias，其中Mask⑶Bias=掩膜板設計尺寸-實際產(chǎn)出尺寸因此，在第一隔墊物基材層形成的隔墊物下層32的底部321尺寸一定時，第二隔墊物基材層形成的隔墊物上層31的頂部311尺寸較大。所以，本發(fā)明提供的基板上隔墊物制造方法能夠在增大隔墊物頂部直徑的同時降低對液晶面板開口率的影響。一種優(yōu)選實施方式中，上述步驟S302形成隔墊物之后還包括:對步驟S302中形成的隔墊物進行后固化。對顯影之后得到的隔墊物進行后固化能夠提聞隔塾物的機械強度，提聞隔塾物的支撐能力。一種優(yōu)選實施方式中，上述步驟S301在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層之前還包括:清洗襯底基板，并對清洗后的襯底基板進行干燥。在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層之前對襯底基板進行清洗并干燥，能夠去除襯底基板上存在的污染物，進而能夠提聞形成的隔塾物與襯底基板之間的粘附強度，進而提聞隔塾物的支撐穩(wěn)定性。實施例二在實施例一及其優(yōu)選實施方式的基礎上，本實施例提供的基板上隔墊物的制造方法中，步驟S301在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層具體包括:在襯底基板上涂覆第一隔墊物基材層；在第一隔墊物基材層上涂覆第二隔墊物基材層。S卩，實施例一中步驟S301中在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層采用兩次涂覆的方式實現(xiàn)，能夠提高第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層形成的均勻性。當然，除涂覆外，還可以采用沉積、濺射等其他形成方式實現(xiàn)。一種優(yōu)選實施方式中，在步驟S302對第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層進行曝光顯影之前還包括:對第一隔墊物基材層以及第二隔墊物基材層進行預固化。實施例三在實施例一及其優(yōu)選實施方式的基礎上，本實施例提供的基板上隔墊物制造方法中，步驟S301在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層具體包括:在襯底基板上形成第一隔墊物基材層；對第一隔墊物基材層預固化；在第一隔墊物基材層上形成第二隔墊物基材層。在襯底基板上形成第一隔墊物基材層之后，對第一隔墊物基材層進行預固化，可以降低在第一隔墊物基材層上形成第二隔墊物基材層時，第二隔墊物基材層的材料與第一隔墊物基材層的材料發(fā)生反應的現(xiàn)象，和或者兩者發(fā)生混合的現(xiàn)象的發(fā)生。一種優(yōu)選實施方式中，在步驟S302對第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層進行曝光顯影之前還包括:對第二隔墊物基材層進行預固化。實施例四在實施例一及其優(yōu)選實施方式的基礎上，本實施例提供的基板上隔墊物制造方法中，步驟S301在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層具體包括:在襯底基板上涂覆具有至少兩種不同感光度的隔墊物樹脂合成原料的隔墊物基材層，且感光度較高的隔墊物樹脂合成原料的密度大于感光度較低的隔墊物樹脂合成原料的密度；對隔墊物基材層進行旋轉(zhuǎn)離心分層，隔墊物基材層內(nèi)的不同密度的隔墊物樹脂合成原料沿隔墊物頂部指向底部的方向由大到小垂直分布，感光度較高的隔墊物樹脂合成原料形成所述第二隔墊物基材層，感光度較低的隔墊物樹脂合成原料形成所述第一隔墊物基材層。上述第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層形成的方法，能夠使得兩種不同感光度的隔墊物樹脂合成原料根據(jù)其密度沿隔墊物頂部指向底部的方向由大到小垂直分布，形成自然的梯度過渡，在進行步驟S302后得到的隔墊物的形狀較均勻。具體地，上述隔墊物樹脂合成原料包括:多聚物、含多功能基團的交聯(lián)劑、光引發(fā)劑以及溶劑體系。更具體地，上述多聚物為丙烯酸樹脂，所述多聚物的比重為1(Γ25%;所述交聯(lián)劑為含有多個氨基、異腈酸酯基等功能基團的丙烯酸單體，所述光引發(fā)劑包括苯偶姻、?；⒀趸?、硫雜蒽酮類中的一種或多種，且所述光引發(fā)劑與交聯(lián)劑的比重為1(Γ25%;所述溶劑體系包含二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯中的至少一種，且所述溶劑體系的比重為5(Γ80%。優(yōu)選的，所述溶劑體系包含二乙二醇二甲醚和丙二醇甲醚醋酸酯，且所述溶劑體系的比重為50 80%。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明實施例進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這`些改動和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種基板上隔墊物制造方法，其特征在于，包括: 在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層；所述第二隔墊物基材層的感光度大于第一隔墊物基材層的感光度； 對所述第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層進行曝光顯影，形成隔墊物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述形成隔墊物之后還包括: 對隔墊物進行后固化。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層之前還包括: 清洗襯底基板，并對清洗后的襯底基板進行干燥。
4.根據(jù)權(quán)利要求f3任一項所述的制造方法，其特征在于，所述在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層包括: 在襯底基板上涂覆第一隔墊物基材層； 在所述第一隔墊物基材層上涂覆第二隔墊物基材層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制造方法，其特征在于，在對所述第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層進行曝光顯影之前還包括: 對第一隔墊物基材 層以及第二隔墊物基材層進行預固化。
6.根據(jù)權(quán)利要求廣3任一項所述的制造方法，其特征在于，所述在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層包括: 在襯底基板上形成第一隔墊物基材層； 對第一隔墊物基材層預固化； 在第一隔墊物基材層上形成第二隔墊物基材層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造方法，其特征在于，在對所述第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層進行曝光顯影之前還包括: 對所述第二隔墊物基材層進行預固化。
8.根據(jù)權(quán)利要求f3任一項所述的制造方法，其特征在于，所述在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層包括: 在襯底基板上涂覆具有兩種不同感光度的隔墊物樹脂合成原料的隔墊物基材層，且感光度較高的隔墊物樹脂合成原料的密度大于感光度較低的隔墊物樹脂合成原料的密度； 對隔墊物基材層進行旋轉(zhuǎn)離心分層，隔墊物基材層內(nèi)的不同密度的隔墊物樹脂合成原料沿隔墊物頂部指向底部的方向由大到小垂直分布，感光度較高的隔墊物樹脂合成原料形成所述第二隔墊物基材層，感光度較低的隔墊物樹脂合成原料形成所述第一隔墊物基材層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述樹脂合成原料包括:多聚物、含多功能基團的交聯(lián)劑、光引發(fā)劑以及溶劑體系。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述多聚物為丙烯酸樹脂，且所述多聚物的比重為1(Γ25% ;所述交聯(lián)劑為含有多個氨基、異腈酸酯基等功能基團的丙烯酸單體，所述光引發(fā)劑包括苯偶姻、?；⒀趸?、硫雜蒽酮類中的一種或多種，且所述光引發(fā)劑與交聯(lián)劑的比重為1(Γ25%;所述溶劑體系包含二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯中的至少一種，且所述溶劑體系的比重為5(Γ80%。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種基板上隔墊物制造方法，包括在襯底基板上形成第一隔墊物基材層和位于第一隔墊物基材層之上的第二隔墊物基材層；第二隔墊物基材層的感光度大于第一隔墊物基材層的感光度；對第一隔墊物基材層和第二隔墊物基材層進行曝光顯影，形成隔墊物。第二隔墊物基材層的感光度大于第一隔墊物基材層的感光度，使用同一張掩膜板曝光時，第二隔墊物基材層的掩模板關(guān)鍵尺寸偏差小于第一隔墊物基材層的掩模板關(guān)鍵尺寸偏差，因此，在第一隔墊物基材層形成的隔墊物下層的底部尺寸一定時，第二隔墊物基材層形成的隔墊物上層的頂部尺寸較大。所以，本發(fā)明提供的基板上隔墊物制造方法能夠在增大隔墊物頂部直徑的同時降低對液晶面板開口率的影響。
文檔編號G03F7/004GK103149745SQ201310054769
公開日2013年6月12日 申請日期2013年2月20日 優(yōu)先權(quán)日2013年2月20日
發(fā)明者李娟 申請人:北京京東方光電科技有限公司