專利名稱：照明光學(xué)裝置、曝光裝置及元件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于用以照射被照射物體的照明光學(xué)裝置、具備該照明光學(xué)裝置的曝光裝置、以及使用該曝光裝置的元件制造方法。
背景技術(shù)：
以往，制造半導(dǎo)體集成電路等微等微元件時(shí)所使用的曝光裝置，有例如特開(kāi)2002 - 353105號(hào)公報(bào)中所揭示的曝光裝置。此曝光裝置，具備用以照射形成有既定圖案的標(biāo)線片等掩模的照明光學(xué)裝置，以及用以將該照明光學(xué)裝置照射掩模而形成的圖案像投影至涂有感光性材料的晶圓、玻璃板等基板的投影光學(xué)裝置。照明光學(xué)裝置，具備用以調(diào)整在掩模的被照射面上的光瞳亮度分布的空間光調(diào)變構(gòu)件。此空間光調(diào)變構(gòu)件具備排列成矩陣狀的多個(gè)反射光學(xué)元件，在各該反射光學(xué)元件的反射面分別涂有反射膜。此外，各反射光學(xué)元件，藉由各自的反射面將來(lái)自光源的曝光用光分別反射向掩模。又，各反射光學(xué)元件，能變更反射面相對(duì)曝光用光分別對(duì)各反射面的入射方向的傾斜角。此外，藉由就各反射光學(xué)元件變更反射面相對(duì)曝光用光光軸的傾斜角，即能適當(dāng)調(diào)整在掩模被照射面上的光瞳亮度分布。

發(fā)明內(nèi)容
近來(lái)，為謀求上述圖案像對(duì)基板的投影效率及精度的提升，而強(qiáng)烈希望達(dá)成曝光用光的高輸出化。然而，由于在構(gòu)成空間光調(diào)變構(gòu)件的各反射光學(xué)元件的反射面涂布(coating)耐久性較高的反射膜是非常困難的，因此多是分別涂布耐久性較低的反射膜。因此，空間光調(diào)變構(gòu)件的壽命，會(huì)因從光源輸出的曝光用光的強(qiáng)度越強(qiáng)而使得反射膜的惡化越快、或因繞至各反射光學(xué)元件驅(qū)動(dòng)部分的光量變多而導(dǎo)致該驅(qū)動(dòng)部分的破損而變短。如上所述，此種曝光用光的強(qiáng)度較強(qiáng)的場(chǎng)合與曝光用光的強(qiáng)度較弱的場(chǎng)合相較，會(huì)有空間光調(diào)變構(gòu)件的更換較快情形。然而，上述構(gòu)成的曝光裝置，有時(shí)必須在暫時(shí)停止曝光裝置的驅(qū)動(dòng)的狀態(tài)下進(jìn)行空間光調(diào)變構(gòu)件的更換。承上所述，由于光源輸出的曝光用光的強(qiáng)度越強(qiáng)、更換空間光調(diào)變構(gòu)件的時(shí)間即越快，因此在曝光用光的光路內(nèi)配置空間光調(diào)變構(gòu)件的曝光裝置，會(huì)因光源的高輸出而使得微元件的制造效率反而有降低下之虞。本發(fā)明有鑒于上述情形，其目的是提供一種即使在從光源輸出的光的光路內(nèi)配置空間光調(diào)變構(gòu)件的場(chǎng)合，亦能對(duì)光源的高輸出化而提升元件制造效率作出貢獻(xiàn)的照明光學(xué)裝置、曝光裝置及元件制造方法。本發(fā)明的照明光學(xué)裝置，將從光源輸出、沿既定光路行進(jìn)的光導(dǎo)向被照射物體，其特征在于:具備多個(gè)空間光調(diào)變構(gòu)件，由具有可動(dòng)反射面的多個(gè)反射光學(xué)元件排列成矩陣狀所構(gòu)成；各該空間光調(diào)變構(gòu)件中的至少I(mǎi)個(gè)配置在該光路內(nèi)。根據(jù)上述構(gòu)成，從光源輸出的光藉由排列成矩陣狀的多個(gè)空間光調(diào)變構(gòu)件而被導(dǎo)向被照射物體。因此，與使用I個(gè)空間光調(diào)變構(gòu)件將光源輸出的光導(dǎo)向被照射物體的公知情形相較，可藉由空間光調(diào)變構(gòu)件使用數(shù)的增加份，延遲使曝光裝置的驅(qū)動(dòng)暫時(shí)停止以更換空間光調(diào)變構(gòu)件的時(shí)序。因此，即使是在光源輸出的光的光路內(nèi)配置空間光調(diào)變構(gòu)件的場(chǎng)合，亦能對(duì)光源高輸出化帶來(lái)的元件制造效率的提升作出貢獻(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明，光源高輸出化帶來(lái)的元件制造效率的提升作出貢獻(xiàn)。


圖1顯示第I實(shí)施形態(tài)的曝光裝置的概略構(gòu)成圖。圖2顯示第I實(shí)施形態(tài)的可動(dòng)多反射鏡的概略立體圖。圖3顯示構(gòu)成可動(dòng)多反射鏡的反射鏡要件的排列態(tài)樣的概略立體圖。圖4顯示驅(qū)動(dòng)反射鏡要件的驅(qū)動(dòng)部構(gòu)成的概略立體圖。圖5顯示第2實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)裝置的一部分的概略構(gòu)成圖。圖6顯示第3實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)裝置的一部分的概略構(gòu)成圖。圖7顯示第4實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)裝置的一部分的概略構(gòu)成圖。圖8顯示第5實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)裝置的一部分的概略構(gòu)成圖。圖9元件的制造例的流程圖。圖10與半導(dǎo)體元件的情形時(shí)的基板處理相關(guān)的詳細(xì)流程圖。
具體實(shí)施例方式〈第I實(shí)施形態(tài)〉以下，針對(duì)將本發(fā)明予以具體化的第I實(shí)施形態(tài)，根據(jù)圖1 圖4加以說(shuō)明。如圖1所示，本實(shí)施形態(tài)的曝光裝置11，由供應(yīng)來(lái)自曝光用光源12的曝光用光EL的照明光學(xué)裝置13、用以保持形成有既定圖案的標(biāo)線片R(掩模(即光罩，以下均稱為掩模)亦可)的標(biāo)線片載臺(tái)14、投影光學(xué)裝置15、以及用以保持表面涂有光阻等感光性材料的晶圓W的晶圓載臺(tái)16所構(gòu)成。曝光用光源12，例如由ArF準(zhǔn)分子激光光源構(gòu)成。此外，從曝光用光源12射出的曝光用光EL藉由通過(guò)照明光學(xué)裝置13，而被調(diào)整成均勻的照明標(biāo)線片R上的圖案。標(biāo)線片載臺(tái)14，在后述投影光學(xué)裝置15的物體面?zhèn)?，被配置成其?biāo)線片R的裝載面與投影光學(xué)裝置15的光軸方向大致正交。此投影光學(xué)裝置15具備內(nèi)部填充有氮等非活性氣體的鏡筒17，此鏡筒17內(nèi)沿曝光用光EL的光路設(shè)有未圖示的多個(gè)透鏡。此外，以曝光用光EL照明的標(biāo)線片R上的圖案像，在通過(guò)投影光學(xué)裝置15而縮小為既定縮小倍率的狀態(tài)下，被投影轉(zhuǎn)印至晶圓載臺(tái)16上的晶圓W。此處，所謂光路是指在使用狀態(tài)下，光通過(guò)的路徑。其次，根據(jù)圖1說(shuō)明本實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)裝置131如下。照明光學(xué)裝置13，具備從曝光用光源12輸出的曝光用光EL入射的中繼光學(xué)系
18。此中繼光學(xué)系18，具備典型上從曝光用光源12側(cè)起依序沿光軸AXl配置的第I正透鏡19、負(fù)透鏡20及第2正透鏡21。此外，從曝光用光源12射入中繼光學(xué)系18的曝光用光EL，是在其剖面形狀被放大的狀態(tài)下射出至曝光用光源12的相反側(cè)。照明光學(xué)裝置13中，在中繼光學(xué)系18的曝光用光源12的相反側(cè)，如圖1及圖2所示，以無(wú)法移動(dòng)的狀態(tài)設(shè)有由多(圖2中僅顯示15個(gè))個(gè)可動(dòng)多反射鏡22排列成矩陣狀的反射光學(xué)系23。此反射光學(xué)系23具備平板狀的基臺(tái)24，在該基臺(tái)24上，Y方向形成有5列由并列于X方向的3個(gè)可動(dòng)多反射鏡22組成的反射鏡列。又，在各可動(dòng)多反射鏡22分別形成有能反射曝光用光EL的略矩形的有效區(qū)域25，在所有可動(dòng)多反射鏡22的有效區(qū)域25分別射入曝光用光EL。此外，上述可動(dòng)多反射鏡22的排列(亦即，X方向3個(gè)、Y方向5個(gè))僅為一例，可動(dòng)多反射鏡22的排列及數(shù)量可以是與上述排列不同的排列及數(shù)量。被各可動(dòng)多反射鏡22反射的曝光用光EL，經(jīng)過(guò)沿著與各可動(dòng)多反射鏡22入射側(cè)的光軸AXl成既定角度的光軸AX2配置的聚光光學(xué)系(分布形成光學(xué)系)26射入光學(xué)積分器(本實(shí)施形態(tài)為復(fù)眼透鏡)27。此處，聚光光學(xué)系26的前側(cè)焦點(diǎn)位置，位于各可動(dòng)多反射鏡22的各反射鏡要件所在的排列面Pl的附近，聚光光學(xué)系26的后側(cè)焦點(diǎn)位置則位于光學(xué)積分器27的入射面附近的面P2。此光學(xué)積分器27是由多(圖1中僅顯示5個(gè))個(gè)透鏡元件28 二維排列而構(gòu)成。又，射入至光學(xué)積分器27的曝光用光EL,被各透鏡兀件28分歧為多個(gè)光束。其結(jié)果，在光學(xué)積分器27的圖1中右側(cè)面(亦即，像面)形成多數(shù)個(gè)光源像。從光學(xué)積分器27射出的曝光用光EL、亦即從多數(shù)個(gè)光源像射出的光束,通過(guò)聚光光學(xué)系29而成為分別重疊聚光的狀態(tài)照射掩模遮簾30。之后，通過(guò)掩模遮簾30的開(kāi)口部31的曝光用光EL，經(jīng)聚光光學(xué)系32而照射標(biāo)線片R。又，在標(biāo)線片R中被曝光用光EL照射的照射區(qū)域的光瞳亮度分布，經(jīng)適當(dāng)調(diào)整。本實(shí)施形態(tài)中，以光學(xué)積分器27形成的二次光源作為光源，對(duì)被配置于照明光學(xué)系I L的被照射面的標(biāo)線片R進(jìn)行柯勒(Koehler)照明。因此，形成二次光源的位置P3與投影光學(xué)系PL的孔徑光闌AS的位置P4為光學(xué)共軛，可稱二次光源的形成面P3為照明光學(xué)系IL的照明光瞳面。典型上，相對(duì)照明光瞳面，被照射面(配置掩模M的面、或包含投影光學(xué)系PL就照明光學(xué)系考量時(shí)配置晶圓W的面)為光學(xué)性傅利葉變換面。又，本實(shí)施形態(tài)，在光學(xué)積分器27的射出側(cè)設(shè)有用以反射曝光用光EL的一部分的分歧反射鏡，并設(shè)有用以接收分歧反射鏡的反射光的曝光量感測(cè)器SEl?？山逵杀O(jiān)測(cè)此曝光量感測(cè)器SEl的輸出以進(jìn)行曝光量控制。又，本實(shí)施形態(tài)中，在晶圓載臺(tái)16設(shè)有用以監(jiān)測(cè)到達(dá)晶圓W的曝光用光的光瞳亮度分布的光瞳亮度分布檢測(cè)部SE2。此光瞳強(qiáng)度分布檢測(cè)部的構(gòu)成，已揭示于例如日本特開(kāi)2006 - 59834號(hào)公報(bào)及與此對(duì)應(yīng)的美國(guó)專利公開(kāi)第2008 / 0030707號(hào)公報(bào)。此處，作為參照援用美國(guó)專利公開(kāi)第2008 / 0030707號(hào)公報(bào)。其次，根據(jù)圖2 圖4說(shuō)明可動(dòng)多反射鏡22的構(gòu)成如下。如圖2及圖3所示，可動(dòng)多反射鏡22具備多個(gè)在反射面34涂(coa t ing)有反射膜的俯視正方形的反射鏡要件33，各該反射鏡要件33分別排列成矩陣狀。這些各反射鏡要件33，為謀求降低在反射光學(xué)系23的光量損失而以極力縮小相鄰反射鏡要件33彼此間的間隙的方式配置。此外，各反射鏡要件33為變更相對(duì)曝光用光EL的光路的傾斜角而被設(shè)計(jì)成分別可動(dòng)。又，在以下記載中，將「反射鏡要件33相對(duì)于曝光用光EL的光路的傾斜角」、簡(jiǎn)單的稱為「反射鏡要件33的傾斜角」。如圖1所示，可動(dòng)多反射鏡22的各反射鏡要件，是沿著位于XY平面的排列面Pl排列。本實(shí)施形態(tài)的反射光學(xué)系23，是由多種類(lèi)(本實(shí)施形態(tài)中為2種)的可動(dòng)多反射鏡22A，22B構(gòu)成。具體而言，在Y方向、在圖2中最靠近前方的反射鏡列、位于各反射鏡列正中間的反射鏡列、以及位于最內(nèi)側(cè)的反射鏡列由第I可動(dòng)多反射鏡22A分別構(gòu)成，另一方面，其余的反射鏡列則由第2可動(dòng)多反射鏡22B分別構(gòu)成。第I可動(dòng)多反射鏡22A，如圖4所示，具備多個(gè)能以第I軸SI為中心旋動(dòng)的反射鏡要件33。另一方面，第2可動(dòng)多反射鏡22B，具備多個(gè)能以和第I軸SI大致正交的第2軸S2為中心旋動(dòng)的反射鏡要件33。又，第I軸SI相當(dāng)于反射鏡要件33的兩對(duì)角線中、第I對(duì)角線的軸，且第2軸S2為相當(dāng)于與第I對(duì)角線正交的第2對(duì)角線的軸。其次，根據(jù)圖4，說(shuō)明構(gòu)成第I可動(dòng)多反射鏡22A的反射鏡要件33的驅(qū)動(dòng)部。又，構(gòu)成第2可動(dòng)多反射鏡22B的反射鏡要件33的驅(qū)動(dòng)部，除了以第2軸S2為中心使反射鏡要件33旋動(dòng)的點(diǎn)外，與構(gòu)成第I可動(dòng)多反射鏡22A的反射鏡要件33的驅(qū)動(dòng)部構(gòu)成相同，因此省略其說(shuō)明。如圖4所示，構(gòu)成第I可動(dòng)多反射鏡22k的反射鏡要件33的驅(qū)動(dòng)部35，具備與反射鏡要件33的形狀對(duì)應(yīng)對(duì)應(yīng)的正方形板狀的基材36，在該基材36四角中位于第I軸SI上的兩角，分別立設(shè)有支柱構(gòu)件37。此外，在驅(qū)動(dòng)部35設(shè)有延伸于第I軸SI的延設(shè)方向的鉸鏈構(gòu)件38，該鉸鏈構(gòu)件38在能以第I軸SI為中心旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)支撐于支柱構(gòu)件37。此外，在鉸鏈構(gòu)件38的長(zhǎng)邊方向中心部設(shè)有突出于Z方向的突出部39，反射鏡要件33透過(guò)突出部39被固定于鉸鏈構(gòu)件38。在鉸鏈構(gòu)件38的長(zhǎng)邊方向的第I端部側(cè)及第2端部側(cè)，分別形成有從鉸鏈構(gòu)件38延伸于與第I軸SI正交的兩方向的第I電極部40。又，基材36上與4個(gè)第I電極部40對(duì)應(yīng)的位置分別設(shè)有第2電極部41。在彼此處于對(duì)應(yīng)關(guān)系的第I電極部40與第2電極部41之間產(chǎn)生電位差的情形時(shí)，藉由依據(jù)這些各電位差而作用的靜電力，鉸鏈構(gòu)件38以第I軸SI為中心旋轉(zhuǎn)的結(jié)果，反射鏡要件33即以第I軸SI為中心旋動(dòng)。亦即，反射鏡要件33的傾斜角，可藉由調(diào)整彼此處于對(duì)應(yīng)關(guān)系的各電極部40，41間的各電位差來(lái)進(jìn)行控制。此外，入射于各可動(dòng)多反射鏡22A, 22B的曝光用光EL,分別被偏向于與射入的各反射鏡要件33的傾斜角對(duì)應(yīng)的方向。此處，由于可視為是分布形成光學(xué)系的聚光光學(xué)系26具有將入射光的角度資訊轉(zhuǎn)換為位置資訊的功能，亦即，藉各別調(diào)整各反射鏡要件33的傾斜角，將曝光用光EL在光學(xué)積分器27的入射面附近的面P2的剖面形狀變形為所欲的大小及形狀。又，此聚光光學(xué)系26，使經(jīng)由可動(dòng)多反射鏡22A的曝光用光EL的一部分與經(jīng)由可動(dòng)多反射鏡22B的曝光用光的一部分，在面P2至少部分重疊。由于來(lái)自多個(gè)可動(dòng)多反射鏡22A, 22B的曝光用光重疊，因此能提前在重疊區(qū)域的光強(qiáng)度均一性。換言之，藉由各可動(dòng)多反射鏡22A，22B而在空間上角度調(diào)變的光，因聚光光學(xué)系26而成為在空間上調(diào)變的光,在面P2形成所欲光強(qiáng)度分布的光瞳強(qiáng)度分布。又，所謂光瞳強(qiáng)度分布，是指在照明光學(xué)系的照明光瞳面或與該照明光瞳面光學(xué)上共軛面的光強(qiáng)度分布(亮度分布)。在光學(xué)積分器27分割的波面分割數(shù)比較大的情形時(shí)，形成在光學(xué)積分器27的入射面附近的面P2的全面的光強(qiáng)度分布、與二次光源全體的全面的光強(qiáng)度分布(光瞳強(qiáng)度分布)顯示了非常高的相關(guān)性。因此，在光學(xué)積分器27的入射面、及與該入射面光學(xué)上共軛面P3，P4的光強(qiáng)度分布，亦可稱為光瞳強(qiáng)度分布。
如以上所述，在亦為光學(xué)積分器27的后側(cè)焦點(diǎn)面的面P3，會(huì)形成與剖面形狀經(jīng)變形為所欲的大小及形狀的曝光用光EL具有大致相同光強(qiáng)度分布的二次光源。進(jìn)一步的，在與光學(xué)積分器27的后側(cè)焦點(diǎn)面光學(xué)上共軛的其他照明光瞳位置、亦即在聚光光學(xué)系32的光瞳位置及投影光學(xué)系PL的光瞳位置,會(huì)形成與形成在面P3的光瞳強(qiáng)度分布對(duì)應(yīng)的光強(qiáng)度分布。又，作為光瞳強(qiáng)度分布，舉一例而言，可使用環(huán)帶狀、多個(gè)極狀(2極狀、4極狀等)的光強(qiáng)度分布。此處，在形成有環(huán)帶狀的光瞳強(qiáng)度分布的情形可進(jìn)行環(huán)帶照明，而在形成有多個(gè)極狀的光瞳強(qiáng)度分布的情形則可進(jìn)行多極照明。承上所述，本實(shí)施形態(tài)可獲得如下的效果。(I)從曝光用光源12輸出的曝光用光EL,是藉由構(gòu)成反射光學(xué)系23的所有可動(dòng)多反射鏡22A, 22B被反射向聚光光學(xué)系26側(cè)而導(dǎo)向標(biāo)線片R。因此,即使來(lái)自曝光用光源12的曝光用光EL經(jīng)高輸出化，入射至各可動(dòng)多反射鏡22A，22B的曝光用光EL的強(qiáng)度，與從曝光用光源12輸出的所有所有曝光用光EL入射至I個(gè)可動(dòng)多反射鏡22的公知情形相較是較弱的。其結(jié)果，曝光用光EL所入射的各反射鏡要件33的反射面所涂(coating)的反射膜惡化，與公知情形相較會(huì)變得較慢，可動(dòng)多反射鏡22A，22B的壽命獲得延長(zhǎng)。亦即，能延遲更換可動(dòng)多反射鏡22A，22B的時(shí)序。因此，即使是在從曝光用光源12輸出的曝光用光EL的光路內(nèi)配置可動(dòng)多反射鏡22A，22B的場(chǎng)合，亦能對(duì)曝光用光源12的高輸出化帶來(lái)的半導(dǎo)體元件制造效率的提升作出貢獻(xiàn)。(2)構(gòu)成第I可動(dòng)多反射鏡22k的反射鏡要件33的旋動(dòng)方向與構(gòu)成第2可動(dòng)多反射鏡22B的反射鏡要件33的旋動(dòng)方向，彼此互異。因此，與反射光學(xué)系23僅由一種可動(dòng)多反射鏡22 (例如第I可動(dòng)多反射鏡22A)構(gòu)成的情形相較，可提高使照射標(biāo)線片R的曝光用光EL的大小及形狀變形時(shí)的自由度。(3)由于排列面Pl與入射側(cè)光軸AXl所夾角度α、以及排列面Pl與射出側(cè)光軸ΑΧ2所夾角度β，是設(shè)定為在沿排列面Pl的面、可動(dòng)多反射鏡22Α，22Β的多個(gè)反射鏡要件33以外部分(典型上，反射鏡要件33間的間隙)及在可動(dòng)多反射鏡22Α，22Β的有效區(qū)域25以外的領(lǐng)域,O次反射光N會(huì)朝向聚光光學(xué)系26的入射光瞳外，因此可防止O次反射光對(duì)光瞳亮度分布造成的影響，典型上，可防止在光軸ΑΧ2附近的位置形成光點(diǎn)?！吹?實(shí)施形態(tài)〉其次，依據(jù)圖5說(shuō)明本發(fā)明的第2實(shí)施形態(tài)。第2實(shí)施形態(tài)中，曝光用光源12與反射光學(xué)系23之間配置的光學(xué)元件與第I實(shí)施形態(tài)不同。因此，與以下的說(shuō)明中，主要說(shuō)明與第I實(shí)施形態(tài)不同的部分，與第I實(shí)施形態(tài)相同或相當(dāng)?shù)臉?gòu)件構(gòu)成賦予相同符號(hào)省略重復(fù)的說(shuō)明。如圖5所不,在曝光用光源12與反射光學(xué)系23之間，設(shè)有沿光軸AXl配置的一對(duì)角錐臺(tái)旋轉(zhuǎn)三棱鏡對(duì)50，該角錐臺(tái)旋轉(zhuǎn)三棱鏡對(duì)50由配置在曝光用光源12側(cè)的第I棱鏡構(gòu)件51與配置在反射光學(xué)系23側(cè)的第2棱鏡構(gòu)件52構(gòu)成。第I棱鏡構(gòu)件51中，在曝光用光源12側(cè)形成有與曝光用光EL的光軸正交的平面、且在反射光學(xué)系23側(cè)形成有凹狀的折射面51a。此折射面51a，是由與曝光用光EL的光軸正交的平面狀的中央部、以及與以光軸為中心的四角錐體的側(cè)面對(duì)應(yīng)的周邊角錐部構(gòu)成。又，第2棱鏡構(gòu)件52中，在反射光學(xué)系23側(cè)形成有與曝光用光EL的光軸正交的平面，且在第I棱鏡構(gòu)件51側(cè)形成有該第I棱鏡構(gòu)件51的折射面51a的形狀對(duì)應(yīng)的凸?fàn)钫凵涿?2a。此折射面52a，由與曝光用光EL的光軸正交的平面狀的中央部、以及與以光軸為中心的四角錐體的側(cè)面對(duì)應(yīng)的周邊角錐部構(gòu)成。此外，在曝光用光EL的光路內(nèi)，將各棱鏡構(gòu)件51，52相距既定間隔h的狀態(tài)分別配置的情形時(shí)，從曝光用光源12入射至角錐臺(tái)旋轉(zhuǎn)三棱鏡對(duì)50的曝光用光EL，被分歧為多條光束。又，既定間隔h，調(diào)整為可動(dòng)多反射鏡22的有效區(qū)域25分別位于各光束的行進(jìn)方向。因此，被角錐臺(tái)旋轉(zhuǎn)三棱鏡對(duì)50分歧為多條的光束，在排列成矩陣狀的可動(dòng)多反射鏡22的有效區(qū)域25分別反射向聚光光學(xué)系26偵U。因此，本實(shí)施形態(tài)中，除上述第I實(shí)施形態(tài)的⑴⑵的效果外，亦獲得以下所示的效果。(3)可動(dòng)多反射鏡22的有效區(qū)域25，分別位于被角錐臺(tái)旋轉(zhuǎn)三棱鏡對(duì)50分歧為多條的各光束的行進(jìn)方向。因此，反射光學(xué)系23中可動(dòng)多反射鏡22的非配置位置及可動(dòng)多反射鏡22中的有效區(qū)域25以外的部分，幾乎沒(méi)有曝光用光EL的入射。因此，能降低在反射光學(xué)系23的光量損失。此外，亦能限制反射光學(xué)系23中可動(dòng)多反射鏡22的非配置位置及可動(dòng)多反射鏡22中的有效區(qū)域25以外的部分，因曝光用光EL的照射使溫度上升而隨之而來(lái)的可動(dòng)多反射鏡22的惡化。(4)由于在可視為光束分歧部的角錐臺(tái)旋轉(zhuǎn)三棱鏡對(duì)50與各可動(dòng)多反射鏡22a, 22b, 22c間的光路中沒(méi)有配置具有功率(焦距的逆數(shù))的構(gòu)件，因此在各可動(dòng)多反射鏡的反射鏡要件會(huì)入射可視為平行光束的光束，故能提升在面P2的光瞳亮度分布的控制性。另一方面，在入射于反射鏡要件的光束具有角度分布的情形時(shí)，由于經(jīng)由聚光光學(xué)系26來(lái)自反射鏡要件的光而在面P2形成的光點(diǎn)會(huì)擴(kuò)散，因此光瞳亮度分布的控制性變得困難。又，本實(shí)施形態(tài)中，多個(gè)可動(dòng)多反射鏡22中的可動(dòng)多反射鏡22a所配置的第I位置、另一可動(dòng)多反射鏡22c所配置的第2位置，可視為隔著(夾著)從光源12輸出的光的光路軸的入射側(cè)光軸AXl的構(gòu)成。此外，亦可視為角錐臺(tái)旋轉(zhuǎn)三棱鏡對(duì)50 (光束分歧部)以包含光軸AXl的面(圖中的XY平面)將光束予以分歧的構(gòu)成?！吹?實(shí)施形態(tài)〉其次，依據(jù)圖6說(shuō)明本發(fā)明的第3實(shí)施形態(tài)。又，第3實(shí)施形態(tài)，用以將曝光用光EL分歧為多條光路的光學(xué)元件與第2實(shí)施形態(tài)不同。因此，在以下的說(shuō)明中，主要說(shuō)明與上述各實(shí)施形態(tài)相異的部分，與上述各實(shí)施形態(tài)相同或相當(dāng)?shù)臉?gòu)件構(gòu)成賦予相同符號(hào)省略重復(fù)的說(shuō)明。如圖6所不,在曝光用光源12與反射光學(xué)系23之間，設(shè)有多極照明用(例如4極照明用)的繞射光學(xué)元件55。此繞射光學(xué)元件55是透射型繞射光學(xué)元件，藉由在透明基板、在每一曝光用光EL的波長(zhǎng)程度間距形成段差而構(gòu)成。此繞射光學(xué)元件55，在射入平行的曝光用光EL的情形時(shí)，將該曝光用光EL分歧為多條(例如4條)光束。其結(jié)果，在反射光學(xué)系23形成多極(例如4極)的照射區(qū)域。此外，繞射光學(xué)元件55的配置態(tài)樣，調(diào)整為可動(dòng)多反射鏡22的有效區(qū)域25分別位于藉將入射的曝光用光EL予以分歧所形成的各光束內(nèi)。又，繞射光學(xué)元件55為了在相距既定距離的多個(gè)區(qū)域的各個(gè)形成大致均一的照射區(qū)域，因此在繞射光學(xué)元件55的面內(nèi)具有多個(gè)波面分割區(qū)域。此處，屬于多個(gè)波面分割區(qū)域中的第I組的波面分割區(qū)域，是朝向射入多個(gè)照射區(qū)域中的第I照射區(qū)域的曝光用光EL0據(jù)此，第I照射區(qū)域即被經(jīng)由屬于第I組的多個(gè)波面分割區(qū)域的多條光束加以重疊照射，而成為均一的照度分布。同樣的，多個(gè)波面分割區(qū)域中屬于與第I組不同的第2組的波面分割區(qū)域，是朝向射入多個(gè)照射區(qū)域中與第I照射區(qū)域不同的第2照射區(qū)域的曝光用光EL。據(jù)此，第2照射區(qū)域即經(jīng)由屬于第2組的多個(gè)波面分割區(qū)域的多條光束重疊照射，而成為均一的照度分布。例如，作為本實(shí)施形態(tài)的繞射光學(xué)元件55，可使用美國(guó)專利第5，850，300號(hào)公報(bào)所揭示者。此處，援用美國(guó)專利第5，850, 300號(hào)公報(bào)作為參照。承上所述，本實(shí)施形態(tài)，除具有與上述第2實(shí)施形態(tài)的⑴ ⑷相同的作用效果夕卜，亦能獲得以下所示效果。(5)由于繞射光學(xué)兀件55將光強(qiáng)度分布加以均一化，因此即使從光源12輸出的光EL的剖面內(nèi)強(qiáng)度分布不均一，多個(gè)可動(dòng)多反射鏡22亦能被均一強(qiáng)度分布的光照射。因此，能提升形成于面P2的光瞳亮度分布的控制性。另一方面，由于在多個(gè)可動(dòng)多反射鏡22被不均一強(qiáng)度分布的光照射時(shí)，此強(qiáng)度分布的不均一性會(huì)對(duì)光瞳亮度分布造成影響，因此可考慮此不均一性控制可動(dòng)多反射鏡22的各反射鏡要件。如此，其控制將變得復(fù)雜?！吹?實(shí)施形態(tài)〉其次，依據(jù)圖7說(shuō)明本發(fā)明的第4實(shí)施形態(tài)。又，第4實(shí)施形態(tài)中，用以將曝光用光EL分歧為多條光路的光學(xué)元件與第2及第3實(shí)施形態(tài)不同。因此，與以下的說(shuō)明中，主要說(shuō)明與上述各實(shí)施形態(tài)的不同部分，與上述各實(shí)施形態(tài)相同或相當(dāng)?shù)臉?gòu)件構(gòu)成則賦予相同符號(hào)省略重復(fù)的說(shuō)明。如圖7所示，在曝光用光源12與反射光學(xué)系23之間設(shè)有復(fù)眼透鏡60，該復(fù)眼透鏡60是將多個(gè)(圖7中僅顯示4個(gè))透鏡元件61加以二維排列所構(gòu)成。此外，在復(fù)眼透鏡60與反射光學(xué)系23之間配設(shè)有中繼光學(xué)系18A,該中繼光學(xué)系18A可使被復(fù)眼透鏡60分歧的多條光束分別再成像于各可動(dòng)多反射鏡22的有效區(qū)域25。又，本實(shí)施形態(tài)的反射光學(xué)系23中，各可動(dòng)多反射鏡22分別排列成在位置上與復(fù)眼透鏡60的各透鏡元件61對(duì)應(yīng)。例如，使用排列于X方向的4個(gè)復(fù)眼透鏡60的情形，反射光學(xué)系23即是4個(gè)可動(dòng)多反射鏡22沿X方向排列的構(gòu)成。藉由作成此種構(gòu)成，即能獲得與上述第2及第3實(shí)施形態(tài)相同的作用效果。又，入射至各可動(dòng)多反射鏡22的曝光用光EL，有可能產(chǎn)生其大部分被反射至聚光光學(xué)系26側(cè)，而殘余的部分(以下，稱「反射光」。)則被反射至復(fù)眼透鏡60側(cè)的情形。此種反射光，會(huì)因配置在反射光學(xué)系23與復(fù)眼透鏡60間的中繼光學(xué)系18A而限制其往復(fù)眼透鏡60的入射。因此，能抑制形成于復(fù)眼透鏡60的像面的多數(shù)光源像因反射光而產(chǎn)生紊舌L。如此，中繼光學(xué)系可視為限制來(lái)自各可動(dòng)多反射鏡22的反射光入射至光束分歧部的限制構(gòu)件?！吹?實(shí)施形態(tài)〉其次，依據(jù)圖8說(shuō)明本發(fā)明的第5實(shí)施形態(tài)。又，第5實(shí)施形態(tài)與第I實(shí)施形態(tài)不同處在于，使曝光用光EL僅照射于構(gòu)成反射光學(xué)系23的各可動(dòng)多反射鏡22中的部分可動(dòng)多反射鏡22。因此，與以下的說(shuō)明中，主要說(shuō)明與第I實(shí)施形態(tài)不同的部分，與第I實(shí)施形態(tài)相同或相當(dāng)?shù)臉?gòu)件構(gòu)成賦予相同符號(hào)省略重復(fù)的說(shuō)明。如圖8所示，在本實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)裝置13，設(shè)有使反射光學(xué)系23沿X方向移動(dòng)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)65。又，反射光學(xué)系23，其多個(gè)(圖8中僅顯示5個(gè))可動(dòng)多反射鏡22沿X方向配置。在這些各可動(dòng)多反射鏡22中的部分可動(dòng)多反射鏡22(例如2個(gè)可動(dòng)多反射鏡22),會(huì)入射從曝光用光源12輸出的曝光用光EL,另一方面,在其余可動(dòng)多反射鏡22則不會(huì)入射曝光用光EL。隨著曝光用光EL所入射的可動(dòng)多反射鏡22的特性的經(jīng)時(shí)變化(例如反射膜的惡化及反射鏡要件33的驅(qū)動(dòng)部35的惡化)，用以將圖案像照射于晶圓W的曝光用光EL的強(qiáng)度開(kāi)始降低、或在晶圓W上的光瞳亮度分布開(kāi)始紊亂時(shí)，即驅(qū)動(dòng)移動(dòng)機(jī)構(gòu)65，使曝光用光EL入射至尚未有曝光用光EL入射的可動(dòng)多反射鏡22。例如，在監(jiān)測(cè)中的曝光量感測(cè)器SEl的輸出降低的情形時(shí)、以及以光瞳亮度分布檢測(cè)部SE2所測(cè)量的光瞳亮度分布偏離目標(biāo)值在可容許范圍外的情形等時(shí)，控制部66即對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)65送出更換可動(dòng)多反射鏡22的控制訊號(hào)。亦即，如以上所述，本實(shí)施形態(tài)的曝光裝置11，可在不使曝光裝置11的驅(qū)動(dòng)暫時(shí)停止的狀態(tài)下，變更從曝光用光源12輸出的曝光用光EL所入射的可動(dòng)多反射鏡22。因此，即使是在從曝光用光源12輸出的曝光用光EL的光路內(nèi)配置可動(dòng)多反射鏡22的情形時(shí),亦能對(duì)曝光用光源12的高輸出化帶來(lái)的半導(dǎo)體元件制造效率的提升作出貢獻(xiàn)。又，上述各實(shí)施形態(tài)亦可變更為以下的其他實(shí)施形態(tài)。各實(shí)施形態(tài)中，反射光學(xué)系23可由3種類(lèi)以上的多個(gè)種類(lèi)的可動(dòng)多反射鏡22，22A, 22B構(gòu)成。例如，反射光學(xué)系23除第I可動(dòng)多反射鏡22A及第2可動(dòng)多反射鏡22B夕卜，亦可具備以和第I軸SI及第2軸S2交叉的第3軸(例如延X(jué)方向延伸的軸)為中心旋動(dòng)的反射鏡要件33所構(gòu)成的第3可動(dòng)多反射鏡。各實(shí)施形態(tài)中，第I可動(dòng)多反射鏡22A，亦可具備能以和第I軸SI平行的軸為中心旋動(dòng)的反射鏡要件33。同樣的，第2可動(dòng)多反射鏡22B，亦可具備能以和第2軸S2平行的軸為中心旋動(dòng)的反射鏡要件33。各實(shí)施形態(tài)中，第I軸SI可以不是沿反射鏡要件33的對(duì)角線延伸、而是例如沿X方向延伸的軸。此場(chǎng)合，第2軸S2可以是沿Y方向延伸的軸。各實(shí)施形態(tài)中，反射光學(xué)系23可以是由一種可動(dòng)多反射鏡22 (例如第I可動(dòng)多反射鏡22A)所構(gòu)成者。第5實(shí)施形態(tài)中，亦可將曝光用光EL入射的可動(dòng)多反射鏡22，使其以每一預(yù)先設(shè)定的既定時(shí)間進(jìn)行變更。第5實(shí)施形態(tài)中，曝光用光EL所入射的可動(dòng)多反射鏡22的數(shù)目，可以是2個(gè)以外的任意數(shù)(例如I個(gè)或3個(gè))。第5實(shí)施形態(tài)中，在變更曝光用光EL所入射的可動(dòng)多反射鏡22時(shí)，可僅變更曝光用光EL所入射的各可動(dòng)多反射鏡22中的至少I(mǎi)個(gè)。又，各實(shí)施形態(tài)中，可動(dòng)多反射鏡22具備彼此以正交的軸為中心旋動(dòng)(傾斜的自由度為2自由度)的反射鏡要件33。作為此種空間光調(diào)變構(gòu)件，可使用例如特表平10 -503300號(hào)公報(bào)及與此對(duì)應(yīng)的歐洲專利公開(kāi)第779530號(hào)公報(bào)、特開(kāi)2004 — 78136號(hào)公報(bào)及與此對(duì)應(yīng)的美國(guó)專利第6，900, 915號(hào)公報(bào)、特表2006 — 524349號(hào)公報(bào)及與此對(duì)應(yīng)的美國(guó)專利第7，095，546號(hào)公報(bào)、以及特開(kāi)2006 — 113437號(hào)公報(bào)所揭示的空間光調(diào)變構(gòu)件。此處，作為參照援用歐洲專利公開(kāi)第779530號(hào)公報(bào)、美國(guó)專利第6，900, 915號(hào)公報(bào)及美國(guó)專利第7, 095, 546號(hào)公報(bào)。又，各實(shí)施形態(tài)中，可動(dòng)多反射鏡22雖可將二維排列的多個(gè)反射鏡要件的面向(傾斜)加以個(gè)別控制者，但亦可使用可將例如二維排列的多個(gè)反射面的高度(位置)加以個(gè)別控制的空間光調(diào)變構(gòu)件。此種空間光調(diào)變構(gòu)件，可使用例如特開(kāi)平6 — 281869號(hào)公報(bào)及與此對(duì)應(yīng)的美國(guó)專利第5，312，513號(hào)公報(bào)、以及特表2004 — 520618號(hào)公報(bào)及與此對(duì)應(yīng)的美國(guó)專利第6，885，493號(hào)公報(bào)的圖1d所揭示的空間光調(diào)變構(gòu)件。這些空間光調(diào)變構(gòu)件，可藉由形成二維高度分布而將與繞射面相同的作用賦予入射光。此處，作為參照援用美國(guó)專利第5，312，513號(hào)公報(bào)及美國(guó)專利第6，885，493號(hào)公報(bào)。又，實(shí)施形態(tài)中，可依據(jù)例如特表2006 - 513442號(hào)公報(bào)及與此對(duì)應(yīng)的美國(guó)專利第6，891，655號(hào)公報(bào)、特表2005 — 524112號(hào)公報(bào)及與此對(duì)應(yīng)的美國(guó)專利公開(kāi)第2005 /0095749號(hào)公報(bào)的揭示，將可動(dòng)多反射鏡22加以變形。此處，作為參照援用美國(guó)專利第6，891，655號(hào)公報(bào)及美國(guó)專利公開(kāi)第2005 / 0095749號(hào)公報(bào)。又，各實(shí)施形態(tài)中，亦可應(yīng)用揭示于美國(guó)專利公開(kāi)第2006 / 0203214號(hào)公報(bào)、美國(guó)專利公開(kāi)第2006 / 0170901號(hào)公報(bào)及美國(guó)專利公開(kāi)第2007 / 0146676號(hào)公報(bào)的極化照明方法。此處，作為參照援用美國(guó)專利公開(kāi)第2006 / 0203214號(hào)公報(bào)、美國(guó)專利公開(kāi)第2006 / 0170901號(hào)公報(bào)及美國(guó)專利公開(kāi)第2007 / 0146676號(hào)公報(bào)。又，各實(shí)施形態(tài)中，曝光裝置11不僅是制造半導(dǎo)體元件等微元件，亦可以是用以制造光曝光裝置、EUV曝光裝置、X線曝光裝置、及電子線曝光裝置等所使用的標(biāo)線片或掩模，而從母標(biāo)線片將電路圖案轉(zhuǎn)印至玻璃基板或硅晶圓等的曝光裝置。此外，曝光裝置11亦可以是用以制造包含液晶顯示元件(LCD)等的顯示器的制造而將元件圖案轉(zhuǎn)印至玻璃板上的曝光裝置、用以制造薄膜磁頭等而將元件圖案轉(zhuǎn)印至陶瓷晶圓等的曝光裝置、以及CXD等攝影元件的制造所使用的曝光裝置等。又，上述各實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)裝置13，可搭載于在被照射物體與基板相對(duì)移動(dòng)的狀態(tài)下將被照射物體的圖案轉(zhuǎn)印至基板、并使基板依序步進(jìn)移動(dòng)的掃描步進(jìn)機(jī)，以及在被照射物體與基板靜止的狀態(tài)下將被照射物體的圖案轉(zhuǎn)印至基板、并使基板依序步進(jìn)移動(dòng)的步進(jìn)重復(fù)方式的步進(jìn)機(jī)。各實(shí)施形態(tài)中，曝光用光源12可以是能供應(yīng)例如g線(436nm)、i線(365nm)、KrF準(zhǔn)分子激光(248nm)、F2激光(157nm)、Kr2激光(146nm)、Ar2激光(126nm)等的曝光用光源。又，曝光用光源12，亦可以是使用將自DFB半導(dǎo)體激光或光纖激光振蕩的紅外區(qū)域或可視區(qū)域的單一波長(zhǎng)激光，以例如摻雜鉺(或鉺與釔兩者)的光纖放大器加以放大，使用非線性光學(xué)結(jié)晶波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換為紫外光的高次諧波的曝光用光源。接著，說(shuō)明使用本發(fā)明實(shí)施形態(tài)的曝光裝置11制造元件的制造方法，在微影制造工藝(即制程，以下均稱為制造工藝)中使用的微元件制造方法的實(shí)施形態(tài)。圖9顯示微元件(IC及LSI等的半導(dǎo)體晶片、液晶面板、CCD、薄膜磁頭、微機(jī)器等)的制造例的流程圖。如圖6所示，首先，在步驟SlOl (設(shè)計(jì)步驟)中，進(jìn)行微元件的功能、性能設(shè)計(jì)(例如半導(dǎo)體元件的電路設(shè)計(jì)等)，并進(jìn)行用以實(shí)現(xiàn)該功能的圖案設(shè)計(jì)。接著，在步驟S102(掩模制造步驟)中，制作形成有所設(shè)計(jì)的電路圖案的掩模。另一方面，在步驟S103(晶圓制造步驟)，使用硅、玻璃、陶瓷等材料制造基板(使用硅材料時(shí)即為晶圓W)。其次，在步驟S104(基板處理步驟)中，使用以步驟SlOl 步驟S104所準(zhǔn)備的掩模與基板，如后所述的，藉由微影技術(shù)等在基板上形成實(shí)際的電路等。接著，在步驟S105 (元件組裝步驟)中，使用以步驟S104處理后的基板進(jìn)行元件組裝。在此步驟S105中，視需要包含切割步驟、結(jié)合步驟以及封裝步驟(晶片植入)等步驟。最后，在步驟S106(檢查步驟)中，進(jìn)行步驟S105中所制作的微元件的動(dòng)作確認(rèn)測(cè)試、耐久性測(cè)試等的檢查。在經(jīng)過(guò)此等步驟后完微元件的制作，即可出貨。圖10顯示在半導(dǎo)體元件的場(chǎng)合時(shí)的步驟S104的一詳細(xì)制造工藝?yán)膱D。在步驟Slll (氧化步驟)使晶圓表面氧化。在步驟SI 12 (CVD步驟)中于晶圓表面形成絕緣膜。在步驟S113(電極形成步驟)中藉由蒸鍍于晶圓上形成電極。在步驟S114(離子植入步驟)中將離子植入晶圓。以上的各步驟Slll 步驟S114，構(gòu)成晶圓處理的各階段的前處理制造工藝，在各階段中視所需的處理來(lái)選擇實(shí)施。在晶圓制造工藝的各階段中，當(dāng)結(jié)束上述前處理制造工藝，即以下述方式實(shí)施后處理制造工藝。該后處理制造工藝，首先，在步驟S115(光阻形成步驟)將感光劑涂布于晶圓。接著，在步驟S116(曝光步驟)中藉由以上說(shuō)明的微影系統(tǒng)(曝光裝置11)將掩模的電路圖案轉(zhuǎn)印于晶圓上。其次，在步驟S117(顯像步驟)中，將經(jīng)步驟S116曝光后的基板予以顯影，在基板表面形成由電路圖案構(gòu)成的掩模層。接著，在步驟S118(蝕刻步驟)中，藉由蝕刻來(lái)除去殘留有光阻部分的以外部分的露出構(gòu)件。接著，在步驟S119(光阻除去步驟)中，去除蝕刻完成后不需的光阻。亦即，在步驟S118及步驟S119中，透過(guò)掩模層進(jìn)行基板表面的加工。藉由重復(fù)這些前處理制造工藝與后處理制造工藝，在基板上形成多重的電路圖案。以上說(shuō)明的實(shí)施形態(tài)，僅為易于理解本發(fā)明所作的記載，并非用于限定本發(fā)明。因此，上述實(shí)施形態(tài)所揭示的各要素，包含屬于本發(fā)明技術(shù)范圍的所有設(shè)計(jì)變更及均等物。此夕卜，上述實(shí)施形態(tài)的各構(gòu)成要素等，可任意的加以組合等。
權(quán)利要求
1.一種照明光學(xué)裝置，借由從光源供應(yīng)的照明光照射被照射面，且與將配置于該被照射面的光罩的圖案轉(zhuǎn)印至涂有感光性材料的基板上的曝光裝置組合使用，其特征在于，具備: 空間光調(diào)變構(gòu)件，由具有可動(dòng)反射面的多個(gè)反射光學(xué)元件排列成矩陣狀所構(gòu)成； 復(fù)眼透鏡，具有配置于該光路、二維排列的透鏡組件；以及 中繼光學(xué)系，配置于該復(fù)眼透鏡與該空間光調(diào)變構(gòu)件之間； 來(lái)自該光源的光經(jīng)過(guò)該復(fù)眼透鏡、該中繼光學(xué)系及該空間光調(diào)變構(gòu)件到達(dá)照明對(duì)象物體。
2.如權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)裝置，其特征在于，其中，該復(fù)眼透鏡使來(lái)自該復(fù)眼透鏡的光束再成像于該空間光調(diào)變構(gòu)件。
3.如權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)裝置，其特征在于，其中，該復(fù)眼透鏡為再成像光學(xué)系 統(tǒng)。
4.如權(quán)利要求1至3中任一權(quán)利要求所述的照明光學(xué)裝置，其特征在于，其中，經(jīng)過(guò)該復(fù)眼透鏡的來(lái)自該光源的光射入該中繼光學(xué)系； 經(jīng)過(guò)該中繼光學(xué)系的來(lái)自該復(fù)眼透鏡的光射入該空間光調(diào)變構(gòu)件。
5.如權(quán)利要求2或3所述的照明光學(xué)裝置，其特征在于，其中，該空間光調(diào)變構(gòu)件具備配置在第I位置的第I空間光調(diào)變構(gòu)件、與配置在與該第I位置不同的第2位置的第2空間光調(diào)變構(gòu)件； 該第I及第2位置，隔著從該光源輸出的光的該光路的軸。
6.如權(quán)利要求5所述的照明光學(xué)裝置，其特征在于，其進(jìn)一步具備分布形成光學(xué)系，將經(jīng)過(guò)該空間光調(diào)變構(gòu)件的光加以聚光，以在該照明光學(xué)裝置的照明光瞳形成既定光強(qiáng)度分布。
7.如權(quán)利要求6所述的照明光學(xué)裝置，其特征在于，其中，該分布形成光學(xué)系，可將經(jīng)過(guò)該第I空間光調(diào)變構(gòu)件的光束的至少一部分、與經(jīng)過(guò)該第2空間光調(diào)變構(gòu)件的光束的至少一部分，在該照明光瞳加以重疊。
8.如權(quán)利要求1至3中任一權(quán)利要求所述的照明光學(xué)裝置，其特征在于，其中，各該反射光學(xué)元件，為使該反射角相對(duì)入射于各反射面的光的軸的傾斜角變化而可動(dòng)。
9.如權(quán)利要求1至3中任一權(quán)利要求所述的照明光學(xué)裝置，其特征在于，其中，該照明光學(xué)裝置與將光罩的圖案轉(zhuǎn)印至涂有感光性材料的基板上的曝光裝置組合使用，可在該被照射面配置該圖案。
10.一種曝光裝置，其特征在于其具備: 權(quán)利要求1至9中任一權(quán)利要求所述的照明光學(xué)裝置； 保持機(jī)構(gòu)，用以保持形成有既定圖案所構(gòu)成的被照射物體；以及投影光學(xué)裝置，用以將從該光源輸出的光透過(guò)該照明光學(xué)裝置照射該被照射物體而形成的圖案像，投影至涂有感光性材料的基板上。
11.一種元件的制造方法，其特征在于其包含: 曝光步驟，使用權(quán)利要求10所述的曝光裝置，將該既定圖案曝光至該基板； 顯影步驟，在該曝光步驟后將該基板加以顯影，以在該基板表面形成對(duì)應(yīng)該既定圖案的形狀的掩模層；以及加工步驟，是在該顯影步驟后透過(guò)該掩模層加工該基板表面?！?br> 全文摘要
照明光學(xué)裝置(13)將輸出自曝光用光源(12)的曝光用光(EL)導(dǎo)向被照射物體(R)。照明光學(xué)裝置(13)具備排列成矩陣狀的多個(gè)空間光調(diào)變構(gòu)件(22)，各空間光調(diào)變構(gòu)件(22)將具有可動(dòng)反射面的多個(gè)反射光學(xué)元件排列成矩陣狀而分別構(gòu)成。又，各空間光調(diào)變構(gòu)件中的至少1個(gè)配置在從光源輸出的光的光路內(nèi)。
文檔編號(hào)G03F7/20GK103149806SQ201310052720
公開(kāi)日2013年6月12日 申請(qǐng)日期2008年10月10日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月12日
發(fā)明者廣田弘之 申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康