觸摸面板和帶觸摸面板的顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明能夠得到靈敏度高的觸摸面板的結(jié)構(gòu)。觸摸面板(1)具備：絕緣性的基板(10)；沿第一方向形成的第一遮光部；沿與上述第一方向交叉的第二方向形成的第二遮光部；沿上述第一方向配置的多個(gè)第一島狀電極(110)；沿上述第二方向配置的多個(gè)第二島狀電極(120)；與上述多個(gè)第一島狀電極(110)接觸，沿上述第一方向形成的第一金屬膜(141)；與上述多個(gè)第二島狀電極(120)接觸，沿上述第二方向形成的第二金屬膜(152)；和至少在上述第一金屬膜(151)和上述第二金屬膜(152)在俯視時(shí)交叉的部位形成，將上述第一金屬膜(151)和上述第二金屬膜(152)相互絕緣的絕緣膜(152)。
【專利說明】觸摸面板和帶觸摸面板的顯示裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及觸摸面板和帶觸摸面板的顯示裝置，更詳細(xì)地說，涉及靜電電容方式的觸摸面板和帶觸摸面板的顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]靜電電容方式的觸摸面板能夠進(jìn)行多點(diǎn)檢測(cè)等，實(shí)用性高，近年來逐漸普及。
[0003]作為帶觸摸面板的顯示裝置的結(jié)構(gòu)，已知使構(gòu)成顯示裝置的基板具有觸摸面板的功能的內(nèi)嵌(in cell)型觸摸面板的結(jié)構(gòu)。內(nèi)嵌型觸摸面板，構(gòu)成部件少，有利于薄型化和高透過率化。
[0004]在日本特開2011-75809號(hào)公報(bào)中，記載了一種液晶顯示面板，其為液晶被2塊無色透明的基材夾著，在一個(gè)基材的內(nèi)表面?zhèn)染哂杏糜诓噬@示的彩色濾光片層的結(jié)構(gòu)的液晶顯示面板，其特征在于，在具有該彩色濾光片層的基材與該彩色濾光片層之間，具有靜電電容式觸摸面板。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]靜電電容方式的觸摸面板具備絕緣性的基板和呈格子狀形成的傳感電極。觸摸面板根據(jù)在這些電極與接近觸摸面板的手指等之間形成的靜電電容的變化，檢測(cè)出手指等的位置。
[0006]這些傳感電極與顯示裝置的顯示區(qū)域重疊地形成。因此，通常，這些傳感電極由氧化銦錫(ΙΤ0:Indium Tin Oxide)、氧化銦鋅(ΙΖ0:Indium Zinc Oxide)等的透明導(dǎo)電膜形成。透明導(dǎo)電膜與金屬等比較，導(dǎo)電率低。傳感電極為了使得難以被觀察者看到，需要形成得薄。當(dāng)傳感電極形成得薄時(shí)，傳感電極的電阻變高。
[0007]因此，在使觸摸面板大型化的情況下，靈敏度下降成為問題。
[0008]本發(fā)明的目的是得到靈敏度高的觸摸面板的結(jié)構(gòu)。
[0009]在此公開的觸摸面板具備:絕緣性的基板；沿第一方向形成的第一遮光部；沿與上述第一方向交叉的第二方向形成的第二遮光部；沿上述第一方向配置的多個(gè)第一島狀電極；沿上述第二方向配置的多個(gè)第二島狀電極；與上述多個(gè)第一島狀電極接觸，沿上述第一方向形成的第一金屬膜；與上述多個(gè)第二島狀電極接觸，沿上述第二方向形成的第二金屬膜；和至少在上述第一金屬膜和上述第二金屬膜在俯視時(shí)交叉的部位形成，將上述第一金屬膜和上述第二金屬膜相互絕緣的絕緣膜。上述第一金屬膜與上述第一遮光部在俯視時(shí)重疊，上述第一金屬膜的寬度比上述第一遮光部的寬度窄，上述第二金屬膜與上述第二遮光部在俯視時(shí)重疊，上述第二金屬膜的寬度比上述第二遮光部的寬度窄，上述第一島狀電極和上述第二島狀電極由透明導(dǎo)電膜形成。
[0010]根據(jù)本發(fā)明，能夠得到靈敏度高的觸摸面板的結(jié)構(gòu)。
【專利附圖】

【附圖說明】[0011]圖1是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的帶觸摸面板的顯示裝置的概略結(jié)構(gòu)的截面圖。
[0012]圖2是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的觸摸面板的概略結(jié)構(gòu)的部分截?cái)鄨D。
[0013]圖3是沿圖2的A-A’線、B-B’線、C_C’線、D_D’線和E_E’線的各線的截面圖。
[0014]圖4A是從本發(fā)明的第一實(shí)施方式的觸摸面板的結(jié)構(gòu)中僅抽出基板、黑矩陣和平坦化膜進(jìn)行表示的平面圖。
[0015]圖4B是在圖4A的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上X電極、Y電極和端子進(jìn)行表示的平面圖。
[0016]圖4C是在圖4B的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上配線的一部分進(jìn)行表示的平面圖。
[0017]圖4D是在圖4C的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上絕緣膜進(jìn)行表示的平面圖。
[0018]圖4E是在圖4D的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上配線的一部分進(jìn)行表示的平面圖。
[0019]圖4F是在圖4E的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上保護(hù)膜和彩色濾光片進(jìn)行表示的平面圖。
[0020]圖4G是在圖4F的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上共用電極進(jìn)行表示的平面圖，是本發(fā)明的第一實(shí)施方式的觸摸面板的平面圖。
[0021]圖5A是用于對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的觸摸面板的制造方法進(jìn)行說明的截面圖。
[0022]圖5B是用于對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的觸摸面板的制造方法進(jìn)行說明的截面圖。
[0023]圖5C是用于對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的觸摸面板的制造方法進(jìn)行說明的截面圖。
[0024]圖是用于對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的觸摸面板的制造方法進(jìn)行說明的截面圖。
[0025]圖5E是用于對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的觸摸面板的制造方法進(jìn)行說明的截面圖。
[0026]圖5F是用于對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的觸摸面板的制造方法進(jìn)行說明的截面圖。
[0027]圖5G是用于對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的觸摸面板的制造方法進(jìn)行說明的截面圖。
[0028]圖6是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的觸摸面板的概略結(jié)構(gòu)的部分截?cái)鄨D。
[0029]圖7是沿圖6的A-A’線、B_B’線、C_C’線、D_D’線和E_E’線的各線的截面圖。
[0030]圖8是表示本發(fā)明的第三實(shí)施方式的觸摸面板的概略結(jié)構(gòu)的部分截?cái)鄨D。
[0031]圖9是沿圖8的A-A’線、B-B’線、C_C’線、D_D’線和E_E’線的各線的截面圖。
[0032]圖10是表示本發(fā)明的第四實(shí)施方式的觸摸面板的概略結(jié)構(gòu)的部分截?cái)鄨D。
[0033]圖11是沿圖10的A-A’線、B_B’線、C_C’線、D_D’線和E_E’線的各線的截面圖。
[0034]圖12A是從本發(fā)明的第四實(shí)施方式的觸摸面板的結(jié)構(gòu)中抽出基板、黑矩陣、平坦化膜和一部分配線進(jìn)行表示的平面圖。
[0035]圖12B是在圖12A的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上絕緣膜進(jìn)行表示的平面圖圖。
[0036]圖12C是在圖12B的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上X電極、Y電極和端子進(jìn)行表示的平面圖。
[0037]圖12D是在圖12C的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上配線的一部分進(jìn)行表示的平面圖。
[0038]圖13是表示本發(fā)明的第五實(shí)施方式的觸摸面板的概略結(jié)構(gòu)的部分截?cái)鄨D。[0039]圖14是沿圖13的A-A’線、B_B’線、C_C’線、D_D’線和E_E’線的各線的截面圖。
[0040]圖15A是從本發(fā)明的第五實(shí)施方式的觸摸面板的結(jié)構(gòu)中抽出基板、黑矩陣、平坦化膜、X電極、Y電極、端子和一部分配線進(jìn)行表示的平面圖。
[0041]圖15B是從本發(fā)明的第五實(shí)施方式的觸摸面板的結(jié)構(gòu)中抽出一部分配線進(jìn)行表示的平面圖。
[0042]圖16是表示本發(fā)明的第六實(shí)施方式的觸摸面板的概略結(jié)構(gòu)的部分截?cái)鄨D。
[0043]圖17是沿圖16的A-A’線、B_B’線、C_C’線、D_D’線和E_E’線的各線的截面圖。
[0044]圖18是表示本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式的帶觸摸面板的顯示裝置的概略結(jié)構(gòu)的截面圖。
[0045]圖19是表示本發(fā)明的第七實(shí)施方式的觸摸面板的概略結(jié)構(gòu)的部分截?cái)鄨D。
[0046]圖20是沿圖19的A-A’線、B_B’線、C_C’線、D_D’線和E_E’線的各線的截面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0047]本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的觸摸面板具備:絕緣性的基板；沿第一方向形成的第一遮光部；沿與上述第一方向交叉的第二方向形成的第二遮光部；沿上述第一方向配置的多個(gè)第一島狀電極；沿上述第二方向配置的多個(gè)第二島狀電極；與上述多個(gè)第一島狀電極接觸，沿上述第一方向形成的第一金屬膜；與上述多個(gè)第二島狀電極接觸，沿上述第二方向形成的第二金屬膜；和至少在上述第一金屬膜和上述第二金屬膜在俯視時(shí)交叉的部位形成，將上述第一金屬膜和上述第二金屬膜相互絕緣的絕緣膜。上述第一金屬膜與上述第一遮光部在俯視時(shí)重疊，上述第一金屬膜的寬度比上述第一遮光部的寬度窄，上述第二金屬膜與上述第二遮光部在俯視時(shí)重疊，上述第二金屬膜的寬度比上述第二遮光部的寬度窄，上述第一島狀電極和上述第二島狀電極由透明導(dǎo)電膜形成(第一結(jié)構(gòu))。
[0048]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，分別與多個(gè)第一島狀電極和第二島狀電極接觸地形成有第一金屬膜和第二金屬膜。由此，能夠使第一島狀電極和第二島狀電極的電阻降低，使靈敏度提高。第一金屬膜和第二金屬膜以分別與第一遮光部和第二遮光部在俯視時(shí)重疊的方式形成。另夕卜，第一金屬膜和第二金屬膜的寬度分別形成得比第一遮光部和第二遮光部的寬度窄。由此，反射率高的金屬膜不會(huì)被觀察者看到。另外，不會(huì)使顯示裝置的開口率下降。
[0049]在上述第一結(jié)構(gòu)中，能夠采用以下結(jié)構(gòu):上述第一遮光部和上述第二遮光部形成在上述基板上，上述觸摸面板還具備覆蓋上述第一遮光部和上述第二遮光部以及上述基板而形成的平坦化膜(第二結(jié)構(gòu))。
[0050]在上述第一或第二結(jié)構(gòu)中，優(yōu)選上述多個(gè)第一島狀電極在上述第一方向相互連接(第三結(jié)構(gòu))。
[0051]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，多個(gè)第一島狀電極除了由第一金屬膜連接以外，第一島狀電極彼此連接。通過采用這樣的冗余結(jié)構(gòu)，能夠提高可靠性，使成品率提高。
[0052]在上述第一至第三結(jié)構(gòu)中的任一結(jié)構(gòu)中，能夠采用以下結(jié)構(gòu):上述第一金屬膜形成在比上述第一島狀電極靠上的層，并且形成在比上述絕緣膜靠下的層，上述第二金屬膜形成在比上述第二島狀電極和上述絕緣膜靠上的層(第四結(jié)構(gòu))。
[0053]在上述第一至第三結(jié)構(gòu)中的任一結(jié)構(gòu)中，能夠采用以下結(jié)構(gòu):上述第一金屬膜形成在比上述第一島狀電極和上述絕緣膜靠下的層，上述第二金屬膜形成在比上述第二島狀電極和上述絕緣膜靠上的層(第五結(jié)構(gòu))。
[0054]在上述第一至第三結(jié)構(gòu)中的任一結(jié)構(gòu)中，能夠采用以下結(jié)構(gòu):上述第一金屬膜形成在比上述第一島狀電極和上述絕緣膜靠上的層，上述第二金屬膜形成在比上述第二島狀電極和上述絕緣膜靠下的層(第六結(jié)構(gòu))。
[0055]在上述第一至第六結(jié)構(gòu)中的任一結(jié)構(gòu)中，優(yōu)選還具備:與上述第一島狀電極和上述第一金屬膜中的至少一方接觸，在與上述第一遮光部在俯視時(shí)重疊的部位，以比上述第一遮光部窄的寬度形成的第三金屬膜(第七結(jié)構(gòu))。
[0056]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，通過采用第一金屬膜和第三金屬膜的冗余結(jié)構(gòu)，能夠提高可靠性，使成品率提聞。
[0057]在上述第一至第七結(jié)構(gòu)中的任一結(jié)構(gòu)中，優(yōu)選還具備:與上述第二島狀電極和上述第二金屬膜中的至少一方接觸，在與上述第二遮光部在俯視時(shí)重疊的部位，以比上述第二遮光部窄的寬度形成的第四金屬膜(第八結(jié)構(gòu))。
[0058]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，通過采用第二金屬膜和第四金屬膜的冗余結(jié)構(gòu)，能夠提高可靠性，使成品率提聞。
[0059]在上述第一至第八結(jié)構(gòu)中的任一結(jié)構(gòu)中，能夠采用以下結(jié)構(gòu):上述絕緣膜覆蓋上述第一島狀電極和上述第二島狀電極而形成，并具有開口部，該開口部用于將上述第一島狀電極與上述第一金屬膜連接并且/或者將上述第二島狀電極與上述第二金屬膜連接(第九結(jié)構(gòu))。
[0060]在上述第一至第九結(jié)構(gòu)中的任一結(jié)構(gòu)中，優(yōu)選還具備與上述第一金屬膜和上述第二金屬膜中的至少一方由相同材料形成的配線(第十結(jié)構(gòu))。
[0061]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，能夠由同一工序制造上述第一金屬膜和上述第二金屬膜中的一方與配線。因此，能夠使制造工序簡(jiǎn)化。
[0062]在上述第十結(jié)構(gòu)中，優(yōu)選還具備與上述配線接觸，在與上述配線在俯視時(shí)重疊的部位形成的透明導(dǎo)電膜(第十一結(jié)構(gòu))。
[0063]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，通過采用配線和透明導(dǎo)電膜的冗余結(jié)構(gòu)，能夠提高可靠性，使成品率提高。
[0064]在上述第十或第十一結(jié)構(gòu)中，優(yōu)選還具備與上述配線電連接，在與上述配線不同的層形成的第五金屬膜(第十二結(jié)構(gòu))。
[0065]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，通過采用配線和第五金屬膜的冗余結(jié)構(gòu)，能夠提高可靠性，使成品率提高。
[0066]在上述第一至第十二結(jié)構(gòu)中的任一結(jié)構(gòu)中，能夠采用以下結(jié)構(gòu):還具備彩色濾光片層(第十三結(jié)構(gòu))。
[0067]在上述第十三結(jié)構(gòu)中，優(yōu)選:上述絕緣膜的上述第一方向的寬度小于上述第二遮光部的寬度，或者，上述絕緣膜的上述第二方向的寬度小于上述第一遮光部的寬度(第十四結(jié)構(gòu))。
[0068]當(dāng)在形成有第一金屬膜和第二金屬膜以及絕緣膜的部位形成彩色濾光片層時(shí)，彩色濾光片層的厚度變化，色調(diào)變化。但是，根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，它們?nèi)啃纬稍谂c第一遮光部或第二遮光部重疊的部位，因此，彩色濾光片層的色調(diào)的變化不會(huì)被觀察者看到。因此，不需要另外形成用于平坦化的膜，能夠使制造工序簡(jiǎn)化。[0069]本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的帶觸摸面板的顯示裝置具備:上述第一至第十四結(jié)構(gòu)中的任一結(jié)構(gòu)的觸摸面板；在上述觸摸面板上形成的共用電極；與上述觸摸面板相對(duì)配置的薄膜晶體管基板；和被上述觸摸面板和上述薄膜晶體管基板夾持的液晶(帶觸摸面板的顯示裝置的第一結(jié)構(gòu))。
[0070]在上述帶觸摸面板的顯示裝置的第一結(jié)構(gòu)中，優(yōu)選上述薄膜晶體管基板具有包含氧化銦鎵鋅的氧化物半導(dǎo)體層(帶觸摸面板的顯示裝置的第二結(jié)構(gòu))。
[0071]氧化銦鎵鋅的電子遷移率大，特性偏差小。通過使用氧化銦鎵鋅，能夠使帶觸摸面板的顯示裝置大型化、高精細(xì)化。
[0072][實(shí)施方式]
[0073]以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。對(duì)圖中相同或?qū)?yīng)的部分，標(biāo)注相同的符號(hào)，不重復(fù)進(jìn)行其說明。此外，為了使得說明容易理解，在以下參照的附圖中，結(jié)構(gòu)被簡(jiǎn)化或示意化地表示，一部分的構(gòu)成部件被省略。另外，各圖中所示的構(gòu)成部件間的尺寸比不一定表示實(shí)際的尺寸比。
[0074][整體結(jié)構(gòu)]
[0075]圖1是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的帶觸摸面板的顯示裝置8的概略結(jié)構(gòu)的截面圖。帶觸摸面板的顯示裝置8具備觸摸面板1、薄膜晶體管(TFT:Thin Film Transistor)基板81、偏光板82和83、密封件84、和液晶85。
[0076]觸摸面板I和TFT基板81相互相對(duì)配置。在觸摸面板I和TFT基板81的周緣部形成有密封件84，在內(nèi)側(cè)封入有液晶85。在觸摸面板I和TFT基板81的外側(cè)的表面上分別配置有偏光板82和83。
[0077]觸摸面板1，詳細(xì)結(jié)構(gòu)將在后面說明，是靜電電容方式的觸摸面板，具備絕緣性的基板10和傳感電極組(X電極11、Y電極12等)。X電極11和Y電極12形成為格子狀。X電極11和Y電極12在它們與夾著基板10接近的手指等之間形成靜電電容。觸摸面板I根據(jù)該靜電電容的變化，檢測(cè)出手指等的位置。
[0078]觸摸面板I還具備黑矩陣101、彩色濾光片17和共用電極18等。
[0079]TFT基板81具備絕緣性的基板811、像素電極812和未圖示的TFT。像素電極812和TFT在基板811上呈矩陣狀配置。作為TFT，能夠使用具有非晶硅層或氧化物半導(dǎo)體層等的TFT，但是優(yōu)選使用氧化物半導(dǎo)體層，特別是包含氧化銦鎵鋅(IGZ0或IZG0)的氧化物半導(dǎo)體層。IGZO電子遷移率大，特性的偏差小。因此，有利于帶觸摸面板的顯示裝置8的大型化和高精細(xì)化。
[0080]帶觸摸面板的顯示裝置8驅(qū)動(dòng)TFT基板81的TFT，在任意的像素電極812與共用電極18之間生成電場(chǎng)。通過該電場(chǎng)，液晶85的取向變化。從偏光板83側(cè)入射的光,通過偏光板83,在特定的方向偏振。入射至液晶85的光的偏振方向根據(jù)液晶85的取向而變化。僅在特定的方向偏振的光透過偏光板82。
[0081]這樣，帶觸摸面板的顯示裝置8能夠在任意的像素電極812中控制光的透過和不透過。透過像素電極812的光由彩色濾光片17著色。通過規(guī)則地預(yù)先配置多種顏色例如紅色、綠色、藍(lán)色的彩色濾光片17，能夠通過加法混色顯示各種顏色。黑矩陣101對(duì)來自形成有像素電極812的部位以外的部位的光進(jìn)行遮光，使對(duì)比度提高。
[0082]如以上所述，本實(shí)施方式的帶觸摸面板的顯示裝置8是在液晶顯示裝置的所謂彩色濾光片基板嵌入觸摸面板的傳感電極組的帶內(nèi)嵌型觸摸面板的顯示裝置。
[0083][觸摸面板的結(jié)構(gòu)]
[0084][第一實(shí)施方式]
[0085]以下，對(duì)觸摸面板I的結(jié)構(gòu)進(jìn)行詳細(xì)說明。圖2是示意性地表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的觸摸面板I的概略結(jié)構(gòu)的部分截?cái)鄨D。圖3是沿圖2中的A-A’線、B-B’線、C-C’線、D-D’線和E-E’線的各線的截面圖。觸摸面板I具備基板10、黑矩陣101、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130?132、配線140?144、絕緣膜151和152、保護(hù)膜16、彩色濾光片17和共用電極18。
[0086]觸摸面板1，如圖2所示，具有顯示區(qū)域V和其以外的邊框區(qū)域。作為傳感電極的X電極11和Y電極12形成在顯示區(qū)域V。
[0087]X電極11和Y電極12經(jīng)由配線141?144等與在基板10的端部附近形成的端子
131、132電連接。此外，端子130和配線140，與X電極11和Y電極12中的任一個(gè)均不連接。它們作為屏蔽電磁噪聲的屏蔽線起作用。端子130?132經(jīng)由未圖示的FPC(FlexiblePrinted Circuit:撓性印刷電路)等與驅(qū)動(dòng)電路連接。
[0088]圖4A是從觸摸面板I的結(jié)構(gòu)中僅抽出基板10、黑矩陣101和平坦化膜102進(jìn)行表示的平面圖。如圖4A所示，黑矩陣101和平坦化膜102形成在基板10之上。此外，以下將圖4A的左右方向稱為X方向，將圖4A的上下方向稱為Y方向進(jìn)行參照。
[0089]黑矩陣101包括第一遮光部101a、第二遮光部IOlb和第三遮光部101c。
[0090]在顯示區(qū)域V中，沿X方向形成的多個(gè)第一遮光部IOla和沿Y方向形成的多個(gè)第二遮光部IOlb形成為格子狀。第一遮光部IOla和第二遮光部IOlb以被它們包圍的各個(gè)矩形區(qū)域相當(dāng)于顯示裝置8的單位像素的方式形成。
[0091]在顯示區(qū)域V以外的邊框區(qū)域中，形成有均勻的遮光部101c。
[0092]以覆蓋黑矩陣101的整體和基板10的一部分的方式形成有平坦化膜102。
[0093]圖4B是在圖4A的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上X電極11、Y電極12和端子130?132進(jìn)行表示的平面圖。如圖4Β所示，X電極11和Y電極12形成在平坦化膜102之上。端子130?132跨越平坦化膜102和基板10形成。
[0094]X電極11包括沿X方向配置的多個(gè)島狀電極110。同樣地，Y電極12包括沿Y方向配置的多個(gè)島狀電極120。多個(gè)島狀電極110在X方向相互連接。另一方面，島狀電極120分別離散地配置。
[0095]端子131和132從基板10的端部附近細(xì)長(zhǎng)地形成至X電極11和Y電極12的附近。端子131與X電極11連接，但端子132與Y電極12不連接。以下，將端子131和132中在俯視時(shí)與第三遮光部IOlc重疊的部分分別稱為延伸部131a和132a進(jìn)行參照。
[0096]圖4C是在圖4B的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上配線140?142進(jìn)行表示的平面圖。如圖4C所示，配線141形成在X電極11和端子131的延伸部131a之上。配線142形成在端子132的延伸部132a之上。配線140形成在端子130和平坦化膜102之上。
[0097]配線141與延伸部131a重疊地形成。配線141進(jìn)一步在顯示區(qū)域V中沿X方向與X電極11的多個(gè)島狀電極110接觸地形成。配線141在顯示區(qū)域V中以在俯視時(shí)與第一遮光部IOla重疊的方式形成,并且形成為比第一遮光部IOla窄的寬度。
[0098]配線142與延伸部132a重疊地形成。與配線141不同，配線142不與Y電極12等連接。
[0099]圖4D是在圖4C的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上絕緣膜151和152進(jìn)行表示的平面圖。如圖4D所示，絕緣膜151形成在平坦化膜102、端子130?132和配線140?142之上。絕緣膜152形成在平坦化膜102、X電極11和配線141之上。
[0100]絕緣膜151形成于在俯視時(shí)與第三遮光部IOlc重疊的部分。絕緣膜151將配線140和142完全覆蓋，另外，也覆蓋端子130?132和配線141的一部分。絕緣膜151為了保護(hù)配線140?142不受制造工序等中使用的藥品等的影響而形成。
[0101]在絕緣膜151中形成有用于與配線141連接的接觸孔151a和用于與配線142連接的接觸孔151b。
[0102]絕緣膜152形成在配線141與后述的配線143 (圖4D中沒有圖示)交叉的部分。絕緣膜152覆蓋配線141的一部分和X電極11的一部分而形成。
[0103]圖4E是在圖4D的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上配線143和144進(jìn)行表示的平面圖。如圖4E所示，配線143形成在絕緣膜151和配線141之上。配線144形成在絕緣膜151、152和Y電極12之上。
[0104]配線143經(jīng)由在絕緣膜151中形成的接觸孔151a，與配線141接觸(參照?qǐng)D3的沿E-E’線的截面圖)。另外，在顯示區(qū)域V中，與配線141部分重疊地形成。配線143在顯示區(qū)域V中以在俯視時(shí)與第一遮光部IOla重疊的方式形成，并且，形成為比第一遮光部IOla窄的寬度。
[0105]配線144經(jīng)由在絕緣膜151中形成的接觸孔151b，與配線142接觸(參照?qǐng)D3的沿D-D’線的截面圖)。配線144進(jìn)一步在顯示區(qū)域V中，以經(jīng)由絕緣膜152之上與Y電極12的多個(gè)的島狀電極120接觸的方式形成。配線144在顯示區(qū)域V中以在俯視時(shí)與第二遮光部IOlb重疊的方式形成，并且，形成為比第二遮光部IOlb窄的寬度。
[0106]圖4F是在圖4E的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上保護(hù)膜16和彩色濾光片17進(jìn)行表示的圖。如圖4F所示，保護(hù)膜16形成在平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130?132和配線140?144之上。X電極11、Y電極12和配線140?144被保護(hù)膜16完全覆蓋。端子130?132的一部分被保護(hù)膜16覆蓋，一部分沒有被保護(hù)膜16覆蓋而露出。
[0107]彩色濾光片17在利用保護(hù)膜16平坦化后的面上以一定的厚度形成。彩色濾光片17形成在顯示區(qū)域V中。彩色濾光片17包括規(guī)則地配置的多個(gè)紅色著色材171、綠色著色材172和藍(lán)色著色材173。紅色著色材171與綠色著色材172的邊界、綠色著色材172與藍(lán)色著色材173的邊界、以及藍(lán)色著色材173與紅色著色材171的邊界，以在俯視時(shí)與黑矩陣101的第二遮光部IOlb重疊的方式形成。
[0108]此外，彩色濾光片17的結(jié)構(gòu)是任意的，可以具備其它的顏色的組合或4種顏色以上的著色材。另外，在本實(shí)施方式中，例示了紅色著色材171、綠色著色材172和藍(lán)色著色材173呈條紋狀排列的結(jié)構(gòu)，但是配置方法也是任意的。
[0109]圖4G是在圖4F的結(jié)構(gòu)中進(jìn)一步加上共用電極18進(jìn)行表示的平面圖，是觸摸面板I的平面圖。如圖4G所示，共用電極18在保護(hù)膜16和彩色濾光片17之上在大致整個(gè)面上形成。
[0110][觸摸面板I的制造方法]
[0111]以下，參照?qǐng)D4A?圖4G和圖5A?圖5G，對(duì)觸摸面板I的制造方法進(jìn)行說明。其中，圖5A~圖5G是沿圖2的A-A’線、B-B’線、C-C’線、D-D’線和E-E’線的各線的截面圖。
[0112]首先，如圖4A和圖5A所示，在基板10上形成黑矩陣101和平坦化膜102。基板10例如是玻璃基板。
[0113]作為黑矩陣101，能夠使用鉻等低反射金屬或黑色樹脂。在此，優(yōu)選使用黑色樹脂。如后所述，在黑矩陣101的上層形成傳感電極組(X電極11、Y電極12等)。如果作為黑矩陣101使用黑色樹脂，那么不會(huì)對(duì)在傳感電極組形成的靜電電容造成影響。
[0114]黑色樹脂例如是在包含丙烯酸樹脂、酚醛樹脂等的光致抗蝕劑中分散有黑色顏料的樹脂。光致抗蝕劑可以是當(dāng)感光時(shí)對(duì)顯影液的溶解性減少的正型、或者當(dāng)感光時(shí)對(duì)顯影液的溶解性增大的負(fù)型。
[0115]在基板10的整個(gè)面上，利用旋轉(zhuǎn)涂敷機(jī)或狹縫涂敷機(jī)均勻地涂敷黑色樹脂。涂敷的黑色樹脂的厚度沒有特別限定，例如為0.1~2.0 μ m。涂敷黑色樹脂之后，利用光刻法進(jìn)行圖案化，形成黑矩陣101。
[0116]接著，以覆蓋黑矩陣101的整體和基板10的一部分的方式形成平坦化膜102。平坦化膜102例如是丙烯酸樹脂。平坦化膜102能夠利用旋轉(zhuǎn)涂敷機(jī)或狹縫涂敷機(jī)形成。此時(shí)，使用金屬掩模等，使得在基板10的端部不形成平坦化膜102。平坦化膜102的厚度只要為黑矩陣101的厚度以上即可。
[0117]接著，如圖4B和圖5B所示，在基板10和平坦化膜102上形成X電極11、Y電極12和端子130~132。首先，在基板10和平坦化膜102上利用濺射或CVD (Chemical VaporDeposition:化學(xué)氣相沉積)法形成均勻的透明導(dǎo)電膜。透明導(dǎo)電膜例如是ITO或ΙΖ0。透明導(dǎo)電膜的厚度沒有特別限定，例如為10~50nm。
[0118]利用光刻法對(duì)在基板10和平坦化膜102上形成的透明導(dǎo)電膜進(jìn)行圖案化。具體地說，在形成X電極11、Y電極12和端子130~132的部位形成光致抗蝕劑的掩模。然后，通過蝕刻將其余部分除去。蝕刻方法是任意的，例如能夠使用草酸或磷酸/醋酸/硝酸的混合酸等。
[0119]圖案化結(jié)束后，在200~250°C的溫度范圍進(jìn)行退火。通過該退火，非晶的透明導(dǎo)電膜(X電極11、Y電極12和端子130~132)多晶化。
[0120] 接著，如圖4C和圖5C所示，形成配線140~142。首先，通過濺射或蒸鍍，覆蓋基板10、平坦化膜102、X電極11、Y電極12和端子130~132，在整個(gè)面上形成金屬膜。金屬膜例如是Al等低電阻金屬的膜。金屬膜為了提高與上層或下層的密合性和耐腐蝕性，優(yōu)選為將多種金屬疊層而成的結(jié)構(gòu)。例如，能夠使用將MoNb、Al和MoNb依次疊層而成的膜。金屬膜的厚度沒有特別限定，例如為0.3~1.0 μ m。
[0121]利用光刻法對(duì)在基板10的整個(gè)面上形成的金屬膜進(jìn)行圖案化。具體地說，在形成配線140~142的部位形成光致抗蝕劑的掩模。然后，通過蝕刻將其余部分除去。蝕刻方法是任意的，例如能夠使用磷酸/醋酸/硝酸的混合酸等。
[0122]接著，如圖4D和圖所示，形成絕緣膜151和152。作為絕緣膜151和152，可以使用有機(jī)類絕緣體或無機(jī)類絕緣體。
[0123]對(duì)作為絕緣膜151和152使用有機(jī)類絕緣體的情況進(jìn)行說明。有機(jī)類絕緣體例如是包含丙烯酸樹脂、酚醛樹脂等的光致抗蝕劑。在基板10的整個(gè)面上，利用旋轉(zhuǎn)涂敷機(jī)或狹縫涂敷機(jī)均勻地涂敷光致抗蝕劑。絕緣膜151如上所述是用于保護(hù)配線140?142等的，優(yōu)選較厚。光致抗蝕劑的厚度沒有特別限定，例如為1.5?3.0 μ m。
[0124]利用光刻法對(duì)在基板10的整個(gè)面上形成的光致抗蝕劑進(jìn)行圖案化，形成絕緣膜151和152。此時(shí)，也形成接觸孔151a和151b。
[0125]對(duì)作為絕緣膜151和152使用無機(jī)類絕緣體的情況進(jìn)行說明。無機(jī)類絕緣體例如是SiN、Si02、Si0N等。在基板10的整個(gè)面上，通過CVD形成由這些物質(zhì)構(gòu)成的均勻的無機(jī)膜。在該情況下，無機(jī)膜的厚度也優(yōu)選較厚，優(yōu)選為配線140?142的厚度的2倍以上。
[0126]利用光刻法對(duì)在基板10的整個(gè)面上形成的無機(jī)膜進(jìn)行圖案化。具體地說，在形成絕緣膜151和152的部位形成光致抗蝕劑的掩模。然后，通過蝕刻將其余部分除去。此時(shí)，也形成接觸孔151a和151b。蝕刻方法是任意的，例如能夠使用利用氟類氣體的干式蝕刻。
[0127]接著，如圖4E和圖5E所示，形成配線143和144。首先，通過濺射或蒸鍍，覆蓋基板10、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130?132、配線141和絕緣膜151和152在整個(gè)面上形成金屬膜。金屬膜可以使用與形成配線140?142時(shí)使用的材料相同的材料，也可以使用不同的材料。作為金屬膜，例如能夠使用將MoNb、Al和MoNb依次疊層而成的膜。金屬膜的厚度沒有特別限定，例如為0.3?1.0 μ m。
[0128]利用光刻法對(duì)在基板10的整個(gè)面上形成的金屬膜進(jìn)行圖案化。具體地說，在形成配線143和144的部位形成光致抗蝕劑的掩模。然后，通過蝕刻將其余部分除去。蝕刻方法是任意的，例如能夠使用磷酸/醋酸/硝酸的混合酸等。此外，此時(shí)，調(diào)整蝕刻時(shí)間，使得不會(huì)蝕刻配線141。
[0129]接著，如圖4F和圖5F所示，形成保護(hù)膜16和彩色濾光片17。
[0130]保護(hù)膜16以覆蓋基板10的大致整個(gè)面的方式形成。保護(hù)膜16例如是丙烯酸樹月旨。作為保護(hù)膜16，也可以使用形成SiN、SiO2, SiON等無機(jī)物的膜，在其上進(jìn)一步形成丙烯酸樹脂等的膜而得到的膜。無機(jī)物的膜例如能夠通過CVD形成。丙烯酸樹脂等的膜例如能夠利用旋轉(zhuǎn)涂敷機(jī)或狹縫涂敷機(jī)形成。此時(shí)，使用金屬掩模等，使得在基板10的端部不形成保護(hù)膜16，使端子130?132的一部分露出。保護(hù)膜16的厚度沒有特別限定，例如為
1.5 ?3.0 μ m0
[0131]接著，在保護(hù)膜16上形成彩色濾光片17。作為彩色濾光片17，能夠使用使顏料或染料分散或溶解在樹脂等中而得到的著色材。彩色濾光片17的形成，例如通過利用光刻法反復(fù)進(jìn)行圖案化而形成。具體地說，首先，利用狹縫涂敷機(jī)或旋轉(zhuǎn)涂敷機(jī)等在保護(hù)膜16上均勻地涂敷紅色的著色材。然后，進(jìn)行圖案化，形成紅色著色材171。以下，反復(fù)進(jìn)行該工序形成綠色著色材172和藍(lán)色著色材173。
[0132]彩色濾光片17也能夠通過噴墨法形成。具體地說，首先，將紅色的著色材和溶劑等的混合組合物通過噴墨涂敷在保護(hù)膜16上的規(guī)定的部位。然后，進(jìn)行溶劑的干燥、固化、燒制等，形成紅色著色材171。以下，反復(fù)進(jìn)行該工序形成綠色著色材172和藍(lán)色著色材173。
[0133]最后，如圖4G和圖5G所示，形成共用電極18。共用電極18例如是ITO或IZO等的透明導(dǎo)電膜。覆蓋保護(hù)膜16和彩色濾光片17，在基板10的大致整個(gè)面上通過濺射或CVD形成均勻的共用電極18。此時(shí)，使用金屬掩模等，使得在基板10的端部不形成共用電極18，以使得與端子130?132等不接觸。共用電極18的厚度沒有特別限定，例如為10?50nm。[0134]以上，對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的觸摸面板I的結(jié)構(gòu)和制造方法進(jìn)行了說明。
[0135]根據(jù)本實(shí)施方式的觸摸面板I的結(jié)構(gòu)，配線141與X電極11的多個(gè)島狀電極110接觸地形成。另外，配線144與Y電極12的多個(gè)島狀電極120接觸地形成。由此，能夠提高X電極11和Y電極12的導(dǎo)電性，使靈敏度提高。
[0136]另外，配線141在顯示區(qū)域V中與黑矩陣101的第一遮光部IOla在俯視時(shí)重疊，形成得比第一遮光部IOla的寬度窄。配線144在顯示區(qū)域V中與黑矩陣101的第二遮光部IOlb在俯視時(shí)重疊，形成得比第二遮光部IOlb的寬度窄。由此，配線141和144不會(huì)被觀察者看到。另外，不會(huì)使顯示裝置8的開口率降低。
[0137]在本實(shí)施方式中，如圖4B所示，構(gòu)成X電極11的多個(gè)島狀電極110和端子131連續(xù)地形成為一體。即，X電極11和端子131通過它們自身電連接。除此之外，多個(gè)島狀電極110和端子131還通過配線141電連接。另外，配線143與配線141部分重疊地形成。通過采用這樣的冗余結(jié)構(gòu)，能夠低電阻化，并且能夠提高配線的可靠性，使成品率提高。
[0138]在本實(shí)施方式中，如圖4C所示，在顯示區(qū)域V以外的邊框區(qū)域中，配線141和142與端子131和132的延伸部131a和132a重疊地形成。通過采用這樣的冗余結(jié)構(gòu)，能夠低電阻化，并且能夠提高配線的可靠性，使成品率提高。
[0139]在本實(shí)施方式中，由相同材料在同一工序中形成X電極11、Y電極12和端子130?
132。另外，配線141在顯示區(qū)域V和顯示區(qū)域V以外的邊框區(qū)域中，與配線140和142 —起由相同材料在同一工序中形成。這樣，根據(jù)本實(shí)施方式，能夠使圖案化的次數(shù)減少，使制
造工序簡(jiǎn)化。
[0140][第二實(shí)施方式]
[0141]帶觸摸面板的顯示裝置8可以具備以下說明的觸摸面板2?6中的任一個(gè)來代替觸摸面板I。
[0142]圖6是示意性地表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的觸摸面板2的概略結(jié)構(gòu)的部分截?cái)鄨D。圖7是沿圖6的Α-Α’線、Β-Β’線、C-C’線、D-D’線和Ε-Ε’線的各線的截面圖。觸摸面板2具備基板10、黑矩陣101、平坦化膜102、X電極21、Y電極22、端子230?232、配線143、144、240?242、絕緣膜151、152、保護(hù)膜16、彩色濾光片17和共用電極18。
[0143]觸摸面板2與觸摸面板I比較，X電極、Y電極、端子和配線的結(jié)構(gòu)不同。在觸摸面板2中，配線240?242形成在比X電極21、Y電極22和端子230?232靠下的層。
[0144]S卩，在觸摸面板I中，首先，在平坦化膜102之上形成X電極11、Y電極12和端子130?132 (參照?qǐng)D4Β)。然后，在其上形成配線140?142 (參照?qǐng)D4C)。而在觸摸面板2中，首先形成配線240?242，然后形成X電極21、Y電極22和端子230?232。
[0145]根據(jù)本實(shí)施方式，能夠得到觸摸面板的結(jié)構(gòu)的變化。
[0146][第三實(shí)施方式]
[0147]圖8是示意性地表示本發(fā)明的第三實(shí)施方式的觸摸面板3的概略結(jié)構(gòu)的部分截?cái)鄨D。圖9是沿圖8的Α-Α’線、Β-Β’線、C-C’線、D-D’線和Ε-Ε’線的各線的截面圖。觸摸面板3具備基板10、黑矩陣101、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130?132、配線140?144、絕緣膜151、352、彩色濾光片37和共用電極38。
[0148]觸摸面板3與觸摸面板I比較，絕緣膜、彩色濾光片和共用電極的結(jié)構(gòu)不同。另外，觸摸面板3不具備與觸摸面板I具備的保護(hù)膜16對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)。[0149]在觸摸面板3中，代替觸摸面板I具備的保護(hù)膜16，在基板10的大致整個(gè)面上形成有彩色濾光片37。在彩色濾光片37之上形成有共用電極38。即，在觸摸面板3中，彩色濾光片37兼具保護(hù)膜的作用。
[0150]由于在彩色濾光片37的正下方形成的絕緣膜352和配線141和144等的厚度，彩色濾光片37的厚度變得不均勻。具體地說，在正下方的層厚的部分，彩色濾光片37的厚度變薄。彩色濾光片37的厚度薄的部分，彩度變低。即，當(dāng)彩色濾光片37的厚度不均勻時(shí)，顯示的色調(diào)變得不均勻。
[0151]在觸摸面板3中，絕緣膜352與黑矩陣101的第二遮光部IOlb在俯視時(shí)重疊，并且，形成得比第二遮光部IOlb的寬度窄。另外，與觸摸面板I同樣，配線141在顯示區(qū)域V中與黑矩陣101的第一遮光部IOla在俯視時(shí)重疊，且形成得比第一遮光部IOla的寬度窄。配線144在顯示區(qū)域V中與黑矩陣101的第二遮光部IOlb在俯視時(shí)重疊，且形成得比第二遮光部IOlb的寬度窄。
[0152]因此，彩色濾光片37的厚度由于配線141、144和絕緣膜352而變薄的部分，被黑矩陣101遮蔽，不會(huì)被觀察者看到。
[0153]根據(jù)本實(shí)施方式，能夠省略觸摸面板I中的保護(hù)膜16的形成。由此，能夠削減制造工序數(shù)，能夠使成品率提聞。
[0154]此外，在本實(shí)施方式中，示出了絕緣膜352被黑矩陣101的第二遮光部IOlb遮蔽的結(jié)構(gòu)。也可以為絕緣膜352被第一遮光部IOla遮蔽的結(jié)構(gòu)。具體地說，只要將絕緣膜352形成為與第一遮光部IOla在俯視時(shí)重疊，并且比第一遮光部IOla的寬度窄即可。
[0155][第四實(shí)施方式]
[0156]圖10是示意性地表示本發(fā)明的第四實(shí)施方式的觸摸面板4的概略結(jié)構(gòu)的部分截?cái)鄨D。圖11是沿圖10的A-A’線、B-B’線、C-C線、D-D’線和E-E’線的各線的截面圖。觸摸面板4具備基板10、黑矩陣101、平坦化膜102、X電極41、Y電極42、端子430?432、配線440?444、絕緣152、451、保護(hù)膜16、彩色濾光片17和共用電極18。
[0157]觸摸面板4與觸摸面板I比較，X電極、Y電極、端子、配線和絕緣膜的結(jié)構(gòu)不同。
[0158]在觸摸面板I中，在平坦化膜102之上形成X電極11、Y電極12和端子130?132 (參照?qǐng)D4B)，在其上形成配線140?142 (參照?qǐng)D4C)。然后，在其上形成絕緣膜151、152 (參照?qǐng)D4D)，進(jìn)一步在其上形成配線143、144 (參照?qǐng)D4E)。而在觸摸面板4中，在形成絕緣膜之后形成X電極、Y電極和端子。
[0159]首先，如圖12A所示，在平坦化膜102之上形成配線440?442。配線440與觸摸面板I的配線140同樣，是電磁噪聲屏蔽用的屏蔽線。配線441與觸摸面板I的配線141不同，在顯示區(qū)域V中不形成。另一方面，配線442在顯示區(qū)域V中與黑矩陣101的第二遮光部IOlb重疊，形成得比第二遮光部IOlb的寬度窄。在顯示區(qū)域V中形成的配線442 (稱為配線442a進(jìn)行參照)與在顯示區(qū)域V以外的邊框區(qū)域中形成的配線442 (稱為配線442b進(jìn)行參照)不連接。
[0160]接著，如圖12B所示，覆蓋平坦化膜102和配線440?442形成絕緣膜451。在絕緣膜451中形成有接觸孔451a?451c。另外，覆蓋配線442a的一部分形成絕緣膜152。
[0161]接著，如圖12C所示，形成X電極41、Y電極42和端子430?432。
[0162]X電極41與觸摸面板I的X電極11同樣，包括沿X方向配置的多個(gè)島狀電極410。Y電極12包括沿Y方向配置的多個(gè)島狀電極420。多個(gè)島狀電極410在X方向相互連接。另一方面，島狀電極420分別離散地配置。
[0163]Y方向的島狀電極420利用配線442a相互電連接。X電極41和配線442a由絕緣膜152絕緣。
[0164]與觸摸面板I同樣，X電極41和端子431連續(xù)地形成為一體。另一方面，Y電極42與端子432不連接。
[0165]端子431和配線441通過接觸孔451a和451c電連接。同樣地,端子432和配線442b通過接觸孔451b和451c電連接。端子430和配線440通過接觸孔451c電連接。
[0166]接著，如圖12D所示，形成配線443和444。
[0167]配線443與端子431部分重疊地形成。配線443以與X電極41的多個(gè)島狀電極410接觸的方式形成。配線443在顯示區(qū)域V中與黑矩陣101的第一遮光部IOla在俯視時(shí)重疊，且形成得比第一遮光部IOla的寬度窄。
[0168]配線444與端子432以及X電極42部分重疊地形成，將端子432和Y電極42電連接。
[0169]根據(jù)本實(shí)施方式的觸摸面板4的結(jié)構(gòu)，配線442a與Y電極42的多個(gè)島狀電極420接觸地形成。另外，配線443與X電極41的多個(gè)島狀電極410接觸地形成。由此，能夠提高X電極41和Y電極42的導(dǎo)電性，使靈敏度提高。
[0170]與觸摸面板I同樣，配線442和443被黑矩陣101遮蔽，不會(huì)被觀察者看到，不會(huì)使顯示裝置8的開口率降低。
[0171]另外，多個(gè)島狀電極410和端子431連續(xù)地形成為一體。進(jìn)一步，由配線141和143電連接。通過采用這樣的冗余結(jié)構(gòu)，能夠低電阻化，并且能夠提高配線的可靠性，使成品
率提高。
[0172]在顯示區(qū)域V以外的邊框區(qū)域中，端子431和配線441也為冗余結(jié)構(gòu)。同樣地，端子432和配線442b也為冗余結(jié)構(gòu)。由此，能夠低電阻化，并且能夠提高配線的可靠性，使成品率提聞。
[0173]在本實(shí)施方式中，與觸摸面板I同樣，配線430、431、432a和432b能夠由相同材料在同一工序中形成。由此，能夠使圖案化次數(shù)減少，使制造工序簡(jiǎn)化。
[0174][第五實(shí)施方式]
[0175]圖13是示意性地表示本發(fā)明的第五實(shí)施方式的觸摸面板5的概略結(jié)構(gòu)的部分截?cái)鄨D。圖14是沿圖13的A-A’線、B-B’線、C-C線、D-D’線和E-E’線的各線的截面圖。觸摸面板5具備基板10、黑矩陣101、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130?132、配線140、141、540、542?544、絕緣膜152、551、保護(hù)膜16、彩色濾光片17和共用電極18。
[0176]觸摸面板5與觸摸面板I比較，配線和絕緣膜的結(jié)構(gòu)不同。
[0177]圖15A是從觸摸面板5的結(jié)構(gòu)中抽出基板10、黑矩陣101、平坦化膜102、X電極
11、Y電極12、端子130?132和配線140、141、542進(jìn)行表示的圖。與觸摸面板I的結(jié)構(gòu)(參照?qǐng)D4C)比較，觸摸面板5具備配線542，代替觸摸面板I具備的配線142。
[0178]配線542與配線142同樣地，與端子132部分重疊地形成。配線542進(jìn)一步在顯示區(qū)域V中與黑矩陣101的第二遮光部IOlb重疊，形成得比第二遮光部IOlb的寬度窄。在顯示區(qū)域V中形成的配線542 (稱為配線542a進(jìn)行參照)以與配線141不接觸的方式離散地形成。另外，配線542a與在顯示區(qū)域V以外的邊框區(qū)域中形成的配線542 (稱為配線542b進(jìn)行參照)不連接。
[0179]配線140、141和542能夠與觸摸面板I中的配線140?142的情況同樣，由相同材料在同一工序中形成。與觸摸面板I同樣，在形成配線140、141和542之后，形成絕緣膜152和551。然后，形成配線540、543和544。
[0180]圖15B是從觸摸面板5的結(jié)構(gòu)中抽出配線540、543和544進(jìn)行表示的圖。此外，在圖15B中，將基板10和絕緣膜551的位置用虛線表示。
[0181]如圖15B所示，配線543包括在顯示區(qū)域V中形成的配線543a和在顯示區(qū)域V以外的邊框區(qū)域中形成的配線543b。配線543a和543b連續(xù)地形成為一體。
[0182]配線543a與黑矩陣101的第一遮光部IOla在俯視時(shí)重疊，形成得比第一遮光部IOla的寬度窄。配線543a以與配線544不接觸的方式離散地形成。
[0183]配線543b以與配線141在俯視時(shí)重疊的方式形成。配線543b和141經(jīng)由在絕緣膜551中形成的接觸孔551a和551c電連接。
[0184]配線544包括在顯示區(qū)域V中形成的配線544a和在顯示區(qū)域V以外的邊框區(qū)域中形成的配線544b。配線544a和544b連續(xù)地形成為一體。
[0185]配線544a與黑矩陣101的第二遮光部IOlb在俯視時(shí)重疊，形成得比第二遮光部IOlb的寬度窄。在圖15B中雖然沒有圖示，但是配線544a以經(jīng)由絕緣膜152之上與Y電極12上的配線542a接觸的方式形成。
[0186]配線544b以與配線542b在俯視時(shí)重疊的方式形成。配線544b和542b經(jīng)由在絕緣膜551中形成的接觸孔551b和551c電連接。
[0187]配線540以與配線140在俯視時(shí)重疊的方式形成。配線540以與配線544不接觸的方式離散地形成。配線540和配線140經(jīng)由在絕緣膜551中形成的接觸孔551c電連接。
[0188]此外,配線540、543和544能夠與觸摸面板I中的配線143和144同樣，由相同材料在冋一工序中形成。
[0189]根據(jù)本實(shí)施方式的觸摸面板5的結(jié)構(gòu)，配線141與X電極11的多個(gè)島狀電極110接觸地形成。另外，配線544與Y電極12的多個(gè)島狀電極120接觸地形成。由此，能夠提高X電極11和Y電極12的導(dǎo)電性，使靈敏度提高。
[0190]在本實(shí)施方式中，進(jìn)一步與配線141在俯視時(shí)部分重疊地形成有配線543a。由此，形成X電極11、配線141和543a的三重冗余結(jié)構(gòu)。同樣地，與配線544b在俯視時(shí)部分重疊地形成有配線542b。由此，形成Y電極12、配線542b和544b的三重冗余結(jié)構(gòu)。
[0191]在顯示區(qū)域V以外的邊框區(qū)域中，相互電連接的端子131、配線141和配線543b在俯視時(shí)重疊地形成，也形成三重冗余結(jié)構(gòu)。同樣地，相互電連接的端子132、配線542和544b在俯視時(shí)重疊地形成，也形成三重冗余結(jié)構(gòu)。另外,相互連接的配線140和540在俯視時(shí)重疊地形成，形成冗余結(jié)構(gòu)。
[0192]通過采用這樣的冗余結(jié)構(gòu)，與觸摸面板I比較，能夠進(jìn)一步低電阻化，能夠進(jìn)一步提聞配線可罪性，使成品率提聞。
[0193]與觸摸面板I同樣，配線141、542a、543a和544a被黑矩陣101遮蔽，不會(huì)被觀察者看到，不會(huì)使顯示裝置8的開口率降低。
[0194]在本實(shí)施方式中，能夠由相同材料在同一工序中形成配線140、141和542。另外，能夠由相同材料在同一工序中形成配線540、543和544。由此，能夠使圖案化次數(shù)減少，使制造工序簡(jiǎn)化。
[0195][第六實(shí)施方式]
[0196]圖16是示意性地表示本發(fā)明的第六實(shí)施方式的觸摸面板6的概略結(jié)構(gòu)的部分截?cái)鄨D。圖17是沿圖16的A-A’線、B-B’線、C-C線、D-D’線和E-E’線的各線的截面圖。觸摸面板6具備基板10、黑矩陣101、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130?132、配線140?142、643、644、絕緣膜650、保護(hù)膜16、彩色濾光片17和共用電極18。
[0197]觸摸面板6與觸摸面板I比較，配線和絕緣膜的結(jié)構(gòu)不同。
[0198]在觸摸面板6中，如圖16所示，絕緣膜650覆蓋平坦化膜102、X電極11、Y電極
12、端子130?132和配線140?142的大致整體而形成。在絕緣膜650中形成有接觸孔650a ?650e。
[0199]在絕緣膜650之上形成有配線643和644。配線643經(jīng)由接觸孔650a和650c與配線141電連接。配線644經(jīng)由接觸孔650b和接觸孔650d，與配線142和Y電極12接觸。由此，Y電極12、配線142和644相互電連接。
[0200]配線644進(jìn)一步經(jīng)由接觸孔650e與Y電極12的多個(gè)島狀電極120接觸。由此，多個(gè)島狀電極120與配線644相互電連接。配線664在顯示區(qū)域V中與黑矩陣101的第二遮光部IOlb重疊，形成得比第二遮光部IOlb的寬度窄。
[0201]根據(jù)本實(shí)施方式，能夠得到觸摸面板的結(jié)構(gòu)的變化。
[0202][第七實(shí)施方式]
[0203]圖18是表示本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式的帶觸摸面板的顯示裝置9的概略結(jié)構(gòu)的截面圖。帶觸摸面板的顯示裝置9具備觸摸面板7、TFT基板91、偏光板82和83、密封件84和液晶85。
[0204]圖19是示意性地表示本發(fā)明的第七實(shí)施方式的觸摸面板7的概略結(jié)構(gòu)的部分截?cái)鄨D。圖20是沿圖19的A-A’線、B-B’線、C-C線、D-D’線和E-E’線的各線的截面圖。觸摸面板7具備基板10、黑矩陣101、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130?132、配線140?144、絕緣膜151、152、保護(hù)膜16和共用電極78。
[0205]觸摸面板7與觸摸面板I比較，在不具備與彩色濾光片17對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)這一點(diǎn)上不同。在觸摸面板7中，共用電極78形成在保護(hù)膜16之上。
[0206]再次參照?qǐng)D18，TFT基板91具備基板811、像素電極812和彩色濾光片913。
[0207]S卩，帶觸摸面板的顯示裝置9是將彩色濾光片形成在TFT基板側(cè)的結(jié)構(gòu)。
[0208]根據(jù)本實(shí)施方式，能夠使觸摸面板側(cè)的制造工序簡(jiǎn)化。由此,能夠使觸摸面板7的成品率提聞。
[0209][其它實(shí)施方式]
[0210]以上，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但是本發(fā)明并不僅限定于上述的各實(shí)施方式，在發(fā)明的范圍內(nèi)能夠進(jìn)行各種變更。另外，各實(shí)施方式能夠適當(dāng)組合而實(shí)施。
[0211]產(chǎn)業(yè)上的可利用性
[0212]本發(fā)明作為靜電電容方式的觸摸面板和帶觸摸面板的顯示裝置在產(chǎn)業(yè)上能夠利用。
【權(quán)利要求】
1.一種觸摸面板，其特征在于，具備: 絕緣性的基板； 沿第一方向形成的第一遮光部； 沿與所述第一方向交叉的第二方向形成的第二遮光部； 沿所述第一方向配置的多個(gè)第一島狀電極； 沿所述第二方向配置的多個(gè)第二島狀電極； 與所述多個(gè)第一島狀電極接觸，沿所述第一方向形成的第一金屬膜； 與所述多個(gè)第二島狀電極接觸，沿所述第二方向形成的第二金屬膜；和至少在所述第一金屬膜和所述第二金屬膜在俯視時(shí)交叉的部位形成，將所述第一金屬膜和所述第二金屬膜相互絕緣的絕緣膜， 所述第一金屬膜與所述第一遮光部在俯視時(shí)重疊，所述第一金屬膜的寬度比所述第一遮光部的寬度窄， 所述第二金屬膜與所述第二遮光部在俯視時(shí)重疊，所述第二金屬膜的寬度比所述第二遮光部的寬度窄， 所述第一島狀電極和所述第二島狀電極由透明導(dǎo)電膜形成。
2.如權(quán)利要求1所述的觸摸面板，其特征在于: 所述第一遮光部和所述第二遮光部形成在所述基板上， 所述觸摸面板還具備覆蓋所述第一遮光部和所述第二遮光部以及所述基板而形成的平坦化膜。
3.如權(quán)利要求1或2所述的觸摸面板，其特征在于: 所述多個(gè)第一島狀電極在所述第一方向相互連接。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的觸摸面板，其特征在于: 所述第一金屬膜形成在比所述第一島狀電極靠上的層，并且形成在比所述絕緣膜靠下的層， 所述第二金屬膜形成在比所述第二島狀電極和所述絕緣膜靠上的層。
5.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的觸摸面板，其特征在于: 所述第一金屬膜形成在比所述第一島狀電極和所述絕緣膜靠下的層， 所述第二金屬膜形成在比所述第二島狀電極和所述絕緣膜靠上的層。
6.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的觸摸面板，其特征在于: 所述第一金屬膜形成在比所述第一島狀電極和所述絕緣膜靠上的層， 所述第二金屬膜形成在比所述第二島狀電極和所述絕緣膜靠下的層。
7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的觸摸面板，其特征在于，還具備: 與所述第一島狀電極和所述第一金屬膜中的至少一方接觸，在與所述第一遮光部在俯視時(shí)重疊的部位，以比所述第一遮光部窄的寬度形成的第三金屬膜。
8.如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的觸摸面板，其特征在于，還具備: 與所述第二島狀電極和所述第二金屬膜中的至少一方接觸，在與所述第二遮光部在俯視時(shí)重疊的部位，以比所述第二遮光部窄的寬度形成的第四金屬膜。
9.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的觸摸面板，其特征在于: 所述絕緣膜覆蓋所述第一島狀電極和所述第二島狀電極而形成，并具有開口部，該開口部用于將所述第一島狀電極與所述第一金屬膜連接并且/或者將所述第二島狀電極與所述第二金屬膜連接。
10.如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的觸摸面板，其特征在于: 還具備與所述第一金屬膜和所述第二金屬膜中的至少一方由相同材料形成的配線。
11.如權(quán)利要求10所述的觸摸面板，其特征在于: 還具備與所述配線接觸，在與所述配線在俯視時(shí)重疊的部位形成的透明導(dǎo)電膜。
12.如權(quán)利要求10或11所述的觸摸面板，其特征在于: 還具備與所述配線電連接，在與所述配線不同的層形成的第五金屬膜。
13.如權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的觸摸面板，其特征在于: 還具備彩色濾光片層。
14.如權(quán)利要求13所述的觸摸面板，其特征在于: 所述絕緣膜的所述第一方向的寬度小于所述第二遮光部的寬度，或者，所述絕緣膜的所述第二方向的寬度小于所述第一遮光部的寬度。
15.一種帶觸摸面板的顯示裝置，其特征在于，具備: 權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的觸摸面板； 在所述觸摸面板上形成的共用電極； 與所述觸摸面板相對(duì)配置的薄膜晶體管基板；和 被所述觸摸面板和所述薄膜晶體管基板夾持的液晶。
16.如權(quán)利要求15所述的帶觸摸面板的顯示裝置，其特征在于: 所述薄膜晶體管基板具有包含氧化銦鎵鋅的氧化物半導(dǎo)體層。
【文檔編號(hào)】G02F1/133GK104011632SQ201280063649
【公開日】2014年8月27日 申請(qǐng)日期:2012年12月17日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月21日
【發(fā)明者】美崎克紀(jì) 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社