被曝光基板的定位校正方法及曝光裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明進行以下的步驟：為了檢測到在將在輸送方向A上被輸送來的被曝光基板1的定位的偏移，檢測出在被曝光基板（1）上預(yù)先規(guī)定的第1觀測點（14）和第2觀測點（15）的坐標的坐標檢測步驟；基于所述被檢測出的坐標相對于根據(jù)所述第1觀測點（14）和第2觀測點（15）預(yù)先規(guī)定的基準線的偏移算出校正量的校正量算出步驟；以及基于所述被算出校正量對之后被曝光的被曝光基板（1）的定位進行校正的定位校正步驟。由此，能夠使之后被曝光的被曝光基板的定位精確度得以提高。
【專利說明】被曝光基板的定位校正方法及曝光裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及對相對于光掩模被定位后的被曝光基板所產(chǎn)生的定位偏移進行校正的被曝光基板的定位校正方法以及曝光裝置，具體來說，涉及基于根據(jù)之前曝光過的被曝光基板的定位偏移而計算出的校正量，對之后曝光的被曝光基板的定位進行校正，從而使定位的精確度得以提高的被曝光基板的定位校正方法以及曝光裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]以往的被曝光基板的定位校正方法是:通過具有在與被曝光基板的輸送方向正交的方向上成直線狀排列的多個受光元件的攝像單元，對被曝光基板上形成的矩形的多個像素進行攝像，基于其攝像圖像的亮度信息檢測出被曝光基板的左端像素的左側(cè)邊緣的位置，算出該左端像素的左側(cè)邊緣的位置與攝像單元上預(yù)先設(shè)定好的基準位置之間的位置偏移量，為了對該位置偏移量進行校正，將光掩模在與被曝光基板的輸送方向正交的方向上移動，以使光掩模與被曝光基板對齊。(例如參照專利文獻I)。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻
[0004]專利文獻1:特開2008-76709號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]發(fā)明要解決的課題
[0006]但是，在上述以往的被曝光基板的定位校正方法中，由于被曝光基板的定位的校正是對被輸送來的被曝光基板的定位偏移進行檢測，并在該檢測時進行的，所以在由于熱引起的曝光裝置的變形等導(dǎo)致定位記號檢測用的相機的位置發(fā)生偏移、曝光開始前的被曝光基板的定位精確度下降的情況下，會存在定位的校正來不及進行、使曝光不良發(fā)生的可能性。
[0007]于是，作為此類問題對策，本發(fā)明要解決的課題是:提供一種在曝光開始前的被曝光基板的定位精確度下降的情況下，使被曝光基板的定位精確度得以提聞的被曝光基板的定位方法及曝光裝置。
[0008]解決課題的手段
[0009]為解決上述課題，本發(fā)明的被曝光基板的定位校正方法是在將通過輸送單元在輸送方向上被輸送的被曝光基板依次曝光時，基于之前被曝光了的被曝光基板的定位的偏移，對之后被曝光的被曝光基板的定位進行校正的被曝光基板的定位校正方法，其特征在于，具有以下的步驟:為了對在所述輸送單元上被輸送來的被曝光基板的定位偏移進行觀測，檢測出在被曝光基板上預(yù)先規(guī)定的第I觀測點和第2觀測點的坐標的坐標檢測步驟；基于所述被檢測出的坐標相對于根據(jù)所述第I觀測點和第2觀測點預(yù)先規(guī)定的基準線的偏移算出校正量的校正量算出步驟；以及基于所述被算出的校正量對之后被曝光的被曝光基板的定位進行校正的定位校正步驟。
[0010]另外，所述被曝光基板的定位是，基于通過設(shè)于所述輸送方向的前部側(cè)的第I相機和設(shè)于后部方向的第2相機檢測出在被曝光基板表面上形成的第I定位記號和第2定位記號的信息而進行的，所述校正量算出步驟中，基于所述第I觀測點和第2觀測點的坐標相對于所述基準線的偏移算出平移量和增益量，所述平移量是設(shè)于被曝光基板的輸送方向的前部側(cè)的第I定位記號和設(shè)于后部側(cè)的第2定位記號在與輸送面平行的面內(nèi)朝向與所述輸送方向交叉的方向的校正量，所述增益量是相對于所述被曝光基板的基準線的傾斜的校正量，所述定位校正步驟中，通過所述第I相機和第2相機檢測到所述第I定位記號和第2定位記號并將所述被曝光基板定位后，使所述第I定位記號和第2定位記號相對于該兩者的中心分別點對稱地旋轉(zhuǎn)所述增益量、在與所述輸送方向交叉的方向上移動所述平移量，通過所述第I相機和第2相機進行的檢測從而對所述被曝光基板的定位進行校正。
[0011]而且，所述被曝光基板的定位是，基于通過設(shè)于所述輸送方向的前部側(cè)的第I相機和設(shè)于后部方向的第2相機檢測出在被曝光基板表面上形成的第I定位記號和第2定位記號的信息而進行的，所述校正量算出步驟中，基于所述第I觀測點和第2觀測點的坐標相對于所述基準線的偏移，算出在與輸送面平行的面內(nèi)朝向與所述輸送方向交叉的方向的所述第I相機的校正量即第I相機校正量、以及所述第2相機的校正量即第2相機校正量,所述定位校正步驟中，通過朝向與所述輸送方向交叉的方向使所述第I相機移動所述第I相機校正量、使所述第2相機移動所述第2相機校正量，從而對所述被曝光基板的定位進行校正。
[0012]另外，所述被曝光基板的定位是，基于通過設(shè)于所述輸送方向的前部側(cè)的第I相機和設(shè)于后部方向的第2相機檢測出在被曝光基板的表面上形成的第I定位記號和第2定位記號的信息而進行的，所述校正量算出步驟中，基于所述第I觀測點和第2觀測點的坐標相對于所述基準線的偏移，算出在與輸送面平行的面內(nèi)朝向與所述輸送方向交叉的方向的所述第I軸的校正量即第I軸校正量、以及所述第2軸的校正量即第2軸校正量，所述定位校正步驟中，通過所述第I相機和第2相機檢測到所述第I定位記號和第2定位記號并將所述被曝光基板定位后，朝向與所述輸送方向交叉的方向使所述第I軸移動第I軸校正量、使所述第2軸移動第2軸校正量，從而對所述被曝光基板的定位進行校正。
[0013]然后，所述校正量算出步驟中，將針對每個不同形狀的被曝光基板算出的校正量存儲存儲于存儲存儲單元，所述定位校正步驟中，使用針對每個不同形狀的被曝光基板存儲存儲的所述校正量，對所述被曝光基板的定位進行校正。
[0014]另外，本發(fā)明的曝光裝置是在將通過輸送單元在輸送方向上被輸送的被曝光基板依次曝光時，基于之前被曝光了的被曝光基板的定位的偏移，對之后被曝光的被曝光基板的定位進行校正并進行曝光的曝光裝置，其特征在于，具備:為了對在所述輸送方向上被輸送來的被曝光基板的定位偏移進行觀測，檢測出在被曝光基板上預(yù)先設(shè)定的第I觀測點和第2觀測點的坐標的坐標檢測單元；基于所述被檢測出的坐標相對于根據(jù)所述第I觀測點和第2觀測點預(yù)先設(shè)定的基準線的偏移算出校正量的校正量算出單元；以及基于所述被算出的校正量對之后被曝光的被曝光基板的定位進行校正的定位校正單元。
[0015]發(fā)明的效果
[0016]根據(jù)權(quán)利要求1涉及的發(fā)明，由于是在將被曝光基板依次曝光的情況下，基于之前被曝光了的被曝光基板的偏移算出校正量，對之后被曝光的被曝光基板的定位進行校正，所以能夠在預(yù)先對之后被曝光的被曝光基板的定位的偏移進行校正后狀態(tài)下進行定位。因此，即使在曝光前的定位精確度下降的情況下，也能夠防止來不及對定位進行校正的事態(tài)發(fā)生、使定位精確度得以提聞。
[0017]另外，根據(jù)權(quán)利要求2涉及的發(fā)明，通過第I相機和第2相機檢測第I定位記號和第2定位記號使被曝光基板定位后，使第I定位記號和第2定位記號相對于該兩者的中心分別點對稱地旋轉(zhuǎn)所述增益量，在與輸送面平行的面內(nèi)與輸送方向交叉的方向移動平移量，從而能夠?qū)Ρ黄毓饣宓亩ㄎ贿M行校正。因此，能夠不拘泥于第I相機和第2相機的可動范圍、第I軸和第2軸等的被曝光基板的定位單元的構(gòu)成，對被曝光基板的定位進行校正。
[0018]并且，根據(jù)權(quán)利要求3涉及的發(fā)明，通過在與輸送面平行的面內(nèi)，朝向與輸送方向的交叉的方向使第I相機移動第I相機校正量、使第2相機移動第2相機校正量，能夠?qū)Ρ黄毓饣宓亩ㄎ贿M行校正。因此，即使是在曝光前的定位精確度下降的情況下，只要是在第I相機和第2相機的可動范圍內(nèi)的偏移，就能夠?qū)Ρ黄毓饣宓亩ㄎ贿M行校正。
[0019]另外，根據(jù)權(quán)利要求4涉及的發(fā)明，通過第I相機和第2相機檢測出第I定位記號和第2定位記號使被曝光基板定位后,在與輸送面平行的面內(nèi)，朝向與輸送方向交叉的方向使第I軸移動第I軸校正量、使第2軸移動第2軸校正量，從而能夠?qū)Ρ黄毓饣宓亩ㄎ贿M行校正。因此，即使是在第I相機和第2相機為固定、不能移動的情況下也能夠?qū)Ρ黄毓饣宓亩ㄎ贿M行校正。
[0020]然后，根據(jù)權(quán)利要求5涉及的發(fā)明，基于針對每個不同形狀的被曝光基板而被存儲的校正量，能夠?qū)χ蟊黄毓獾耐恍螤畹谋黄毓饣宓亩ㄎ贿M行校正。因此，一次算出校正量后，對于與存儲的形狀為同一形狀的被曝光基板，之后的曝光能夠在根據(jù)第I張進行校正后的狀態(tài)下進行定位。
[0021]另外，根據(jù)權(quán)利要求6涉及的發(fā)明，將被曝光基板依次曝光的情況下，通過坐標檢測單元檢測出之前被曝光的被曝光基板的偏移，基于檢測結(jié)果，校正量算出單元算出校正量，定位校正單元對之后被曝光的被曝光基板的定位進行校正，所以能夠在預(yù)先對之后被曝光的被曝光基板的定位偏移進行校正后的狀態(tài)下進行定位。因此，即使在曝光前的定位精確度下降的情況下，也能夠防止來不及對定位進行校正的事態(tài)發(fā)生、使定位精確度得以提聞。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0022]圖1是通過本發(fā)明的被曝光基板的定位校正方法被曝光的被曝光基板和曝光裝置的示意圖。
[0023]圖2是表示所述被曝光基板的表面結(jié)構(gòu)的俯視圖。
[0024]圖3是表示根據(jù)第2發(fā)明所述被曝光基板在曝光裝置被定位后的狀態(tài)的概略圖。
[0025]圖4是表示本發(fā)明的被曝光基板的定位校正方法的流程圖。
[0026]圖5是表示在本發(fā)明的第I實施方式的座標檢測步驟中，被曝光基板上預(yù)先設(shè)定的第I觀測點的坐標檢測時的被曝光基板的概略圖。
[0027]圖6是表示在所述坐標檢測步驟中，被曝光基板上預(yù)先設(shè)定的第2觀測點的坐標檢測時的被曝光基板的概略圖。
[0028]圖7是在所述第I實施方式的校正量算出步驟中，對校正量算出的過程進行說明的圖表。
[0029]圖8是在所述第I實施方式的定位校正步驟中，對第I相機和第2相機分別檢測第I定位記號和第2定位記號的位置進行說明的概略圖。
[0030]圖9是在本發(fā)明的第2實施方式的校正量算出步驟中，對校正量算出的過程進行說明的圖表。
[0031]圖10是在本發(fā)明的第2實施方式的定位校正步驟中，對第I相機和第2相機的移動進行說明的概略圖。
[0032]圖11是在本發(fā)明的第3實施方式的定位校正步驟中，對第I軸和第2軸的移動進行說明的概略圖。
【具體實施方式】
[0033]以下，基于附圖對本發(fā)明的實施方式進行詳細說明。
[0034]圖1是表示通過本發(fā)明的被曝光基板的定位校正方法(以下，簡單稱之為“定位校正方法”。)被曝光的被曝光基板I和本發(fā)明的曝光裝置的示意圖。所述被曝光基板I是在液晶顯示器上使用的彩色濾光板等基板，通過后述的曝光裝置的輸送單元22在一定的輸送方向A上被輸送,并通過曝光單兀27而被曝光的被曝光基板。如圖2所不,被曝光基板的表面上設(shè)置有:形成為格子狀的多個紅(R)、綠(G)、藍(B)的各種顏色的像素11、在所述輸送方向A的前部側(cè)形成的第I定位記號12，以及在后部側(cè)上形成的第2定位記號13。
[0035]如圖2所示，所述像素11各自形成為在與輸送方向A垂直的方向上(以下簡稱為“垂直方向”。)較長的大致長方形，其周圍被黑色矩陣(BM)覆蓋。并且，將與該圖正對的輸送方向A的前部側(cè)的像素11的右下角部預(yù)先設(shè)定為用于觀測被曝光基板I的定位偏移的第I觀測點14，將與所述像素11在相同行上形成的輸送方向A的后部側(cè)的像素11的左下角部預(yù)先設(shè)定為第2個觀測點15。在此，設(shè)定所述第I定位記號12和第2定位記號13，使得連接所述第I觀測點14和第2觀測點15的直線B與連接所述第I定位記號12和第2定位記號13的直線C平行。另外，所述第I觀測點14和第2觀測點15能夠設(shè)定在排列成格子狀的像素11的任意行上。
[0036]如圖1所示，將所述被曝光基板I曝光的曝光裝置包含以下單元而構(gòu)成:載置有被曝光基板I的載物臺21 ;將被曝光基板I在一定的輸送方向A上輸送的輸送單兀22 ;設(shè)在輸送方向A的前部側(cè)的第I相機23和第I軸24 ;設(shè)在后部側(cè)的第2相機25和第2軸26 ;將被曝光基板I曝光的曝光單元27 ;設(shè)在曝光單元27的輸送方向A的后部側(cè)的線性圖像傳感器28 ;校正量算出單元29 ;以及定位校正單元30。所述第I相機23和第2相機25是分別檢測所述第I定位記號12和第2定位記號13將被曝光基板I進行定位用的相機，安裝于載物臺21的上方，并且在與載物臺21的表面平行的面內(nèi)能夠在與輸送方向A垂直的方向上移動。另外，所述第I軸24和第2軸26為了對被曝光基板I進行定位，從下方對載物臺21上載置的被曝光基板I進行支撐并使被曝光基板I在與載物臺21的表面平行的面內(nèi)移動，所述第I軸24和第2軸26能夠在輸送方向A的垂直方向上移動。并且，所述線性圖像傳感器28是為了對輸送方向A上輸送來的被曝光基板I的定位偏移進行觀測、對所述第I觀測點14和第2觀測點15的坐標進行檢測的坐標檢測單元，使用CCD (電荷耦合元件)和CMOS (互補金屬氧化物半導(dǎo)體)等的固體攝像元件。然后，校正量算出單元29基于通過所述線性圖像傳感器28檢測出的第I觀測點14和第2觀測點15的坐標，相對于根據(jù)該第I觀測點14和第2觀測點15預(yù)先規(guī)定的與輸送方向A平行的基準線的偏移，算出被曝光基板I的定位的校正量。另外，定位校正單元30是通過第I相機23和第2相機25的組合，或者第I軸24和第2軸26的組合而構(gòu)成。
[0037]接著，針對這樣的構(gòu)成的曝光裝置的被曝光基板I的定位校正方法的第I實施方式，參照圖2?圖8進行說明。
[0038]首先，如圖3所示，最初被曝光的被曝光基板I的所述第I定位記號12和第2定位記號13通過所述第I相機23和第2相機25被分別檢測到，為使第I定位記號12和第2定位記號13分別位于第I相機23和第2相機25的中央，通過第I軸24和第2軸26使被曝光基板I移動，將被曝光基板I進行定位。這種情況下，例如由熱引起的曝光裝置發(fā)生變形等原因，在如該圖所不的第I相機23和第2相機25的位置相對于輸送方向A發(fā)生偏移時，通過使用所述第I相機23和第2相機25而被定位的被曝光基板I的位置會根據(jù)相機的偏移而位于偏移的位置。
[0039]被曝光基板I的定位完畢后，該被曝光基板I通過輸送單兀22向輸送方向A輸送。為了觀測該被輸送來的被曝光基板I的定位偏移，檢測出被曝光基板I上預(yù)先規(guī)定的第I觀測點14和第2觀測點15的坐標(圖4的步驟SI)。這時，首先如圖5所示，被曝光基板I被輸送，當(dāng)被曝光基板I的表面上形成的所述第I觀測點14通過線性圖像傳感器28的下方時，通過線性圖像傳感器28，檢測出在第I觀測點14的與載物臺21的表面平行的面內(nèi)的輸送方向A的垂直方向的坐標，被檢測出的第I觀測點14的坐標的信息被輸入至校正量算出單元29。接著，如圖6所示，然后被曝光基板I被輸送，當(dāng)被曝光基板I的表面上形成的第2觀測點15通過線性圖像傳感器28的下方時，通過線性圖像傳感器28檢測出在第2觀測點15的與載物臺21的表面平行的面內(nèi)的輸送方向A的垂直方向的坐標，檢測出的第2觀測點15的坐標的信息被輸入至校正量算出單元29。
[0040]由于被曝光基板I以一定的速度被輸送，基于從觀測到第I觀測點14到觀測到第2觀測點15為止的時間，能夠確定第I觀測點14和第2觀測點15的輸送方向A的坐標。此外，由于第I觀測點14和第2觀測點15，以及第I定位記號12和第2定位記號13的位置關(guān)系預(yù)先被規(guī)定，因此，從檢測出的第I觀測點14和第2觀測點15的坐標，能夠算出第I定位記號12和第2定位記號13的坐標。另外，該第I定位記號12和第2定位記號13的坐標，也可以由線性圖像傳感器28被檢測出。
[0041]在校正量算出單元29中輸入第I觀測點14和第2觀測點15的坐標信息后，校正量算出單元29，將根據(jù)所述第I觀測點14和第2觀測點15的設(shè)置位置預(yù)先設(shè)定的、校正量算出單元29上存儲的與輸送方向A平行的基準線D的坐標的信息，與所述第I觀測點14和第2觀測點15的坐標的信息進行比較，基于所述第I觀測點14和第2觀測點15相對于基準線D的偏移算出被曝光基板I的定位的校正量(步驟S2)?；鶞示€D在被曝光基板I被準確定位的狀態(tài)下被輸送來的情況下，在圖1、4和5中，為連接線性圖像傳感器檢測28檢測出的第I觀測點14和第2觀測點15的坐標的、與輸送方向A平行的直線，并根據(jù)第I觀測點14和第2觀測點15的設(shè)置位置而預(yù)先設(shè)定。
[0042]在與以該基準線D的作為X軸、以經(jīng)過第I定位記號12和第2定位記號13之間的中心并與輸送方向A垂直的方向的直線作為Y軸的、與載物臺21的表面平行的XY面上(參照圖7)，將第I觀測點14、第2觀測點15、第I定位記號12和第2定位記號13的坐標標示于圖表上，則如圖7所示。在此,將第I觀測點14的坐標表示為(Xp Y1);將第2觀測點15的坐標表示為(x2、y2);將第I定位記號12的X的坐標表示為C1 ;將第2定位記號13的X的坐標表示為C2 ( = -Cl)0另外，以下校正量的值包含符號在內(nèi)。關(guān)于角度，將X軸的逆時針方向設(shè)定為正方向。
[0043]在圖7中，為了使連接第I觀測點14和第2觀測點15的直線B移動至與X軸(基準線D)重疊，作為第I定位記號12和第2定位記號13的坐標進行校正的校正量，算出作為Y軸方向的校正量的偏移量Y1、以及相對于X軸的旋轉(zhuǎn)角度的增益量Θ。偏移量Y1和增益量Θ能夠通過下式求得:
[0044]Y1= (Cy1-Y2) / (X1—χ2) Xx1) — Y1
[0045]Θ =-tan_1 Cy1-Y2) / (X1—X2)
[0046]根據(jù)這樣被算出的校正量，對第2張以后被曝光的被曝光基板I的定位進行校正(步驟S3)。被算出的校正量從校正量算出單元29被輸入定位校正單元30。第I實施方式中，作為定位校正單元30使用第I相機23和第2相機25。如圖8所示，在對第2張以后被曝光的被曝光基板I進行定位時，首先，與第I張被曝光基板I 一樣，在對被曝光基板I進行定位以使第I定位記號12和第2定位記號13位于第I相機23和第2相機25的中央位置之后，以所述第I定位記號12和第2定位記號13相對于該兩者的中心分別點對稱的方式，使被曝光基板I旋轉(zhuǎn)所述增益量Θ，再在Y軸方向移動偏移量I。由此，在最初的被曝光基板I的定位中產(chǎn)生的偏移被校正，適當(dāng)進行了被曝光基板I的定位。因此，即使是在最初的被曝光基板I的定位時的定位精確度下降的情況下，也能夠防止來不及對定位的進行校正的事態(tài)發(fā)生，能夠使定位的精確度得以提高。另外，由于是通過第I相機23和第2相機25所檢測到的第I定位記號12和第2定位記號13的位置移動而進行定位的校正，所以能夠不拘泥于第I相機23和第2相機25的可動范圍，以及第I軸24和第2軸26等被曝光基板I的定位單元的構(gòu)成對被曝光基板I的定位進行校正。
[0047]另外，在輸送直線B相對于軸X傾斜的情況下，對該傾斜進行校正后，第I觀測點
14、第2觀測點15、第I定位記號12和第2定位記號13的X坐標，會存在基于通過線性圖像傳感器28被檢測出的坐標而發(fā)生變化的可能，但是由于原本的定位偏移是微小的，所以所述變化量與被算出的校正量相比是能夠忽視的程度的微小量。因此，對于所述算出式，所述改變量是無視的。以下，在第2實施方式和第3實施方式中也一樣。
[0048]并且，對于如上述構(gòu)成的被曝光基板I和曝光裝置的定位校正方法的第2實施方式，參照圖9和圖10進行說明。
[0049]在第2實施方式中，對第I觀測點14和第2觀測點15的坐標進行的檢測(步驟SI)與第I實施方式一樣。第2實施方式中，作為定位校正單兀30使用第I相機23和第2相機25。實行步驟SI后，如圖9所示，基于第I觀測點14和第2觀測點15的坐標相對于基準線D (X軸)的偏移，校正量算出單元29算出朝向Y軸方向的第I相機23的校正量的第I相機校正量\、以及第2相機25的校正量的第2相機校正量Y3 (步驟S2)。第I相機校正量Y2和第2相機校正量Y3能夠通過下式求得:
[0050]Y2=〔(y「y2)/ (X1—x2) } X Cx1-C1) -Y1
[0051]Y3=〔(y「y2)/ (X1—χ2)} X Cx1-C2) -Y1[0052]通過這樣被算出的校正量，對第2張以后被曝光的被曝光基板I的定位進行校正(步驟S3)。如圖10所示，對第2張以后被曝光的被曝光基板I定位時，基于被校正量算出單元29輸入的校正量，使第I相機23朝向Y軸方向移動第I相機校正量Y2、第2相機25移動第2相機校正量Y3后，使其分別對第I定位記號12和第2定位記號13進行檢測。由此，如圖10中的虛線所示，在最初的被曝光基板I的定位中產(chǎn)生的偏移被校正，適當(dāng)進行了如實線所示的被曝光基板I的定位。由于是第I相機23和第2相機25的本身發(fā)生移動對定位進行校正，所以即使是在最初的被曝光基板I的定位時的定位精確度明顯低下的情況下，只要是在第I相機23和第2相機25的可動范圍內(nèi)的偏移，就能夠?qū)Ρ黄毓饣錓的定位進行校正。
[0053]另外，對于上述構(gòu)成的被曝光基板I和曝光裝置的定位校正方法的第3實施方式，參照圖11進行說明。第3實施方式中，對第I觀測點14和第2觀測點15坐標進行的檢測(步驟SI)與第I實施方式和第2實施方式一樣。在第3實施方式中，作為定位校正單元30使用第I軸24和第2軸26。校正量算出單元29基于第I觀測點14和第2觀測點15的坐標相對于基準線D的偏移，算出朝向Y軸方向的第I軸24的校正量的第I軸校正量Y4、第2軸26的校正量的第2軸校正量Y5 (步驟S2)。當(dāng)?shù)贗軸24和第2軸26的X坐標分別與第I相機23和第2相機25的X坐標一致時,該校正量的算出式與第2實施方式中的第I相機校正量和第2相機校正量的算出式一樣。也就是說，第I軸校正量Y4和第2軸校正量Y5能夠通過下式求得:
[0054]Y4=〔(y「y2)/ (X1—x2) } X Cx1-C1) -Y1
[0055]Y5= IXyry2)/ (χι—x2) I x Cx1-C2) -Y1
[0056]根據(jù)這樣被算出的校正量，對第2張以后曝光的被曝光基板I的定位進行校正(步驟S3)。通過第I相機23和第2相機25檢測第I定位記號12和第2定位記號13來對被曝光基板I進行定位后，如圖11所示，基于通過校正量算出單元29被輸入的校正量，通過使第I軸24朝向Y軸方向移動第I軸校正量Y4、第2軸26移動第2軸校正量Y5,對被曝光基板比I的定位進行校正。由此，如圖11中虛線所示最初的被曝光基板I的定位中產(chǎn)生的偏移被校正，適當(dāng)進行了如實線所示的被曝光基板I的定位。這樣，由于第2張之后的基板是在被第I相機23和第2相機25所定位后，通過第I軸24和第2軸26對定位進行校正的，所以即使是在第I相機23和第2相機25為固定、不能移動的情況下，也能夠?qū)Ρ黄毓饣錓的定位進行校正。
[0057]另外，在本發(fā)明的定位校正方法中，校正量算出步驟(步驟S2)對于每個形狀不同的被曝光基板1，將被算出的校正量存儲在曝光裝置的存儲單元中，定位校正步驟(步驟S3)也可以使用根據(jù)每個形狀不同的被曝光基板I存儲的所述校正量，對被曝光基板I的定位進行校正。根據(jù)這樣的構(gòu)成，由于能夠基于每個形狀不同的被曝光基板I的被存儲的校正量，對之后的被曝光的同一形狀的被曝光基板I的定位進行校正，所以能夠一次算出校正量，對于與被存儲的形狀相同形狀的被曝光基板1，在根據(jù)第I張被曝光的被曝光基板I進行了定位校正后的狀態(tài)下進行曝光。
[0058]另外，在所述第I?第3實施方式中，由于最初被曝光的被曝光基板I在相對于輸送方向A發(fā)生傾斜的狀態(tài)下被輸送。因此，最初的被曝光基板I的曝光可以是，根據(jù)線性圖像傳感器28檢測出沿著直線B的像素11的邊緣位置，為使該位置與線性圖像傳感器28中預(yù)先設(shè)定的基準位置之間的位置偏移量成為規(guī)定值，使曝光單元27在與載物臺21的表面平行的面內(nèi)的輸送方向A的垂直方向上移動，從而使曝光單元27追隨被曝光基板I進行曝光?；蛘咦畛醯谋黄毓饣錓也可以使用假定的基板。
[0059]符號說明
[0060]I…被曝光基板
[0061]11…像素
[0062]12…第I定位記號
[0063]13…第2定位記號
[0064]14...第I觀測點
[0065]15...2 觀測點
[0066]21…載物臺
[0067]22…輸送單元
[0068]23…第I相機
[0069]24…第I軸
[0070]25…第2相機
[0071]26…第2軸
[0072]27…曝光單元
[0073]28…線性圖像傳感器
[0074]29…校正量算出單元
[0075]30…定位校正單元
[0076]A…輸送方向
[0077]B…連接第I觀測點和第2觀測點的直線
[0078]0..連接第I定位記號和第2定位記號的直線
[0079]D…基準線
[0080]Θ…增益量
[0081]Yf偏移量
[0082]Y2…第I相機校正量
[0083]Y3…第2相機校正量
[0084]Y4…第I軸校正量
[0085]Y5…第2軸校正量。
【權(quán)利要求】
1.一種被曝光基板的定位校正方法,其是在將通過輸送單兀在輸送方向上被輸送的被曝光基板依次曝光時，基于之前被曝光了的被曝光基板的定位的偏移，對之后被曝光的被曝光基板的定位進行校正的被曝光基板的定位校正方法，其特征在于，具有以下的步驟: 為了對在所述輸送單元上被輸送來的被曝光基板的定位偏移進行觀測，檢測出在被曝光基板上預(yù)先規(guī)定的第I觀測點和第2觀測點的坐標的坐標檢測步驟； 基于所述被檢測出的坐標相對于根據(jù)所述第I觀測點和第2觀測點預(yù)先規(guī)定的基準線的偏移算出校正量的校正量算出步驟；以及 基于所述被算出的校正量對之后被曝光的被曝光基板的定位進行校正的定位校正步驟。
2.如權(quán)利要求1所述的被曝光基板的定位校正方法，其特征在于， 所述被曝光基板的定位是，基于通過設(shè)于所述輸送方向的前部側(cè)的第I相機和設(shè)于后部方向的第2相機檢測出在被曝光基板表面上形成的第I定位記號和第2定位記號的信息而進行的， 所述校正量算出 步驟中，基于所述第I觀測點和第2觀測點的坐標相對于所述基準線的偏移算出平移量和增益量，所述平移量是設(shè)于被曝光基板的輸送方向的前部側(cè)的第I定位記號和設(shè)于后部側(cè)的第2定位記號在與輸送面平行的面內(nèi)朝向與所述輸送方向交叉的方向的校正量，所述增益量是相對于所述被曝光基板的基準線的傾斜的校正量， 所述定位校正步驟中，通過所述第I相機和第2相機檢測到所述第I定位記號和第2定位記號并將所述被曝光基板定位后，使所述第I定位記號和第2定位記號相對于該兩者的中心分別點對稱地旋轉(zhuǎn)所述增益量、在與所述輸送方向交叉的方向上移動所述平移量，從而對所述被曝光基板的定位進行校正。
3.如權(quán)利要求1所述的被曝光基板的定位校正方法，其特征在于， 所述被曝光基板的定位是，基于通過設(shè)于所述輸送方向的前部側(cè)的第I相機和設(shè)于后部方向的第2相機檢測出在被曝光基板表面上形成的第I定位記號和第2定位記號的信息而進行的， 所述校正量算出步驟中，基于所述第I觀測點和第2觀測點的坐標相對于所述基準線的偏移，算出在與輸送面平行的面內(nèi)朝向與所述輸送方向交叉的方向的所述第I相機的校正量即第I相機校正量、以及所述第2相機的校正量即第2相機校正量， 所述定位校正步驟中，通過朝向與所述輸送方向交叉的方向使所述第I相機移動所述第I相機校正量、使所述第2相機移動所述第2相機校正量，從而對所述被曝光基板的定位進行校正。
4.如權(quán)利要求1所述的被曝光基板的定位校正方法，其特征在于， 所述被曝光基板的定位是，基于通過設(shè)于所述輸送方向的前部側(cè)的第I相機和設(shè)于后部方向的第2相機檢測出在被曝光基板的表面上形成的第I定位記號和第2定位記號的信息而進行的， 所述校正量算出步驟中，基于所述第I觀測點和第2觀測點的坐標相對于所述基準線的偏移，算出在與輸送面平行的面內(nèi)朝向與所述輸送方向交叉的方向的所述第I軸的校正量即第I軸校正量、以及所述第2軸的校正量即第2軸校正量， 所述定位校正步驟中，通過所述第I相機和第2相機檢測到所述第I定位記號和第2定位記號并將所述被曝光基板定位后，朝向與所述輸送方向交叉的方向使所述第I軸移動第I軸校正量、使所述第2軸移動第2軸校正量，從而對所述被曝光基板的定位進行校正。
5.如權(quán)利要求1~4中的任一項所述的被曝光基板的定位校正方法,其特征在于， 所述校正量算出步驟中，將針對每個不同形狀的被曝光基板算出的校正量存儲存儲于存儲存儲單元， 所述定位校正步驟中，使用針對每個不同形狀的被曝光基板存儲存儲的所述校正量，對所述被曝光基板的定位進行校正。
6.—種曝光裝置,其是在將通過輸送單兀在輸送方向上被輸送的被曝光基板依次曝光時，基于之前被曝光了的被曝光基板的定位的偏移，對之后被曝光的被曝光基板的定位進行校正并進行曝光的曝光裝置，其特征在于，具備: 為了對在所述輸送方向上被輸送來的被曝光基板的定位偏移進行觀測，檢測出在被曝光基板上預(yù)先設(shè)定的第I觀測點和第2觀測點的坐標的坐標檢測單元； 基于所述被檢測出的坐標相對于根據(jù)所述第I觀測點和第2觀測點預(yù)先設(shè)定的基準線的偏移算出校正量的校正量算出單元；以及 基于所述被算出的校正量對之后被曝光的被曝光基板的定位進行校正的定位校正單元。
【文檔編號】G03F9/00GK103733138SQ201280037975
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2012年7月30日 優(yōu)先權(quán)日:2011年8月3日
【發(fā)明者】野村義昭, 新井敏成 申請人:株式會社V技術(shù)