液晶取向處理劑及使用該處理劑的液晶顯示元件的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供縮短由直流電壓引起的余像消失所需的時間的效果高、使耐紫外光性提高、磨損特性不減低的液晶取向處理劑、液晶取向膜以及液晶顯示元件。該液晶取向處理劑含有選自聚酰亞胺前體及聚酰亞胺的至少一種聚合物，和下式[1]表示的化合物(式中，R1為氫原子或乙烯基，n表示0～2的整數(shù))。
【專利說明】液晶取向處理劑及使用該處理劑的液晶顯示元件
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及制作液晶取向膜時使用的液晶取向處理劑以及利用該處理劑的液晶顯示元件。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，作為液晶顯示元件的液晶取向膜主要使用所謂的聚酰胺類的液晶取向膜，該膜通過在基板上涂布以聚酰胺酸等的聚酰亞胺前體或可溶性聚酰亞胺的溶液為主要成分的液晶取向處理劑并燒成而獲得。液晶取向膜以控制液晶的取向狀態(tài)為目的來使用。
[0003]隨著液晶顯不兀件的聞精細化，從減少余像現(xiàn)象的觀點考慮，要求所使用的液晶取向膜中采用直流電壓所蓄積的電荷的緩和快的材料。聚酰亞胺類液晶取向膜中，作為因直流電壓而產(chǎn)生的余像消失為止的時間短的液晶取向膜，已知的有使用了除聚酰胺酸或含亞氨基的聚酰胺酸以外還含有特定結(jié)構(gòu)的叔胺的液晶取向劑的液晶取向膜(例如參照專利文獻I)，或者使用了含有原料中采用具有吡啶骨架等的特定二胺的可溶性聚酰亞胺的液晶取向劑的液晶取向膜(例如參照專利文獻2)等。
[0004]另外，液晶取向處理劑中，除蓄積的電荷緩和快的特性外，從減少顯示不均的觀點考慮，要求所使用的材料在摩擦取向處理中不易磨損。這些特性外，進一步的，近年來液晶顯示元件的制造工序中包括通過ODF工程或PSA處理等照射紫外光的工序，因此要求材料具有耐紫外光性。
[0005]現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0006]專利文獻
[0007]專利文獻1:日本專利特開平9-316200號公報
[0008]專利文獻2:日本專利特開平10-104633號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]發(fā)明所要解決的技術(shù)問題
[0010]鑒于上述情況，本發(fā)明的目的是提供縮短由直流電壓引起的余像消失所需的時間的效果高、耐紫外光性提高、磨損特性不減低的添加劑，加入了該添加劑的液晶取向處理齊U，以及使用了該液晶取向處理劑的液晶顯示元件。
[0011 ] 解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案
[0012]本
【發(fā)明者】為了達成上述目的所進行認真研究的結(jié)果是，發(fā)現(xiàn)了除了選自聚酰亞胺前體及聚酰亞胺的至少一種的聚合物外，還含有其一部分在本申請?zhí)岢銮盀樾挛镔|(zhì)的特定物質(zhì)的液晶取向處理劑可以達到上述目的，從而完成了本發(fā)明。本發(fā)明具有以下技術(shù)要點。
[0013]1.液晶取向處理劑，含有選自聚酰亞胺前體及聚酰亞胺的至少一種聚合物，和下式[I]表示的化合物，
[0014][化I]
[0015]
【權(quán)利要求】
1.液晶取向處理劑，其特征在于，含有選自聚酰亞胺前體及聚酰亞胺的至少一種聚合物，和下式[I]表示的化合物， [化I]
2.如權(quán)利要求1所述的液晶取向處理劑，其特征在于，相對于100質(zhì)量份的選自聚酰亞胺前體及聚酰亞胺的至少一種聚合物，含有0.1~10質(zhì)量份的式[I]所表示的化合物。
3.如權(quán)利要求1或2所述的液晶取向劑，其特征在于，式[I]中的R1為乙烯基。
4.如權(quán)利要求1~3中任一項所述的液晶取向劑，其特征在于，式[I]所表示的化合物為下述M1、M2、M3或M4， [化2]
5.如權(quán)利要求1~4中任一項所述的液晶取向劑，其特征在于，含有0.5~10質(zhì)量％的固體成分。
6.液晶取向膜，其特征在于，由權(quán)利要求1~5中任一項所述的液晶取向處理劑獲得。
7.液晶顯示元件，其特征在于，具備權(quán)利要求6所述的液晶取向膜。
8.下式(2)所表示的化合物， [化3]
【文檔編號】G02F1/1337GK103718090SQ201280036612
【公開日】2014年4月9日 申請日期:2012年5月25日 優(yōu)先權(quán)日:2011年5月26日
【發(fā)明者】小田拓郎, 筒井皇晶 申請人:日產(chǎn)化學工業(yè)株式會社