專利名稱：待曝光基材及底片的對(duì)位方法及影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基材及底片的對(duì)位曝光技術(shù)，具體地說(shuō)，是一種待曝光基材及底片的對(duì)位方法，本發(fā)明還涉及實(shí)現(xiàn)該方法的影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
高端的電子產(chǎn)品如移動(dòng)電話、液晶顯示器、平板電腦、照相裝置、個(gè)人數(shù)位助理等，其顯示熒幕的線路設(shè)計(jì)日趨精細(xì)，許多制造過(guò)程的精度要求也更加嚴(yán)格，例如曝光制造過(guò)程，以目前多以人工目測(cè)的對(duì)位方式，但該對(duì)位方式很難以應(yīng)付未來(lái)更為嚴(yán)苛的要求。此夕卜，目前以十字形、圓形或方形的特殊的對(duì)位標(biāo)靶圖形，無(wú)法應(yīng)用在透明基材上，如觸控面板。

發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述問題，本發(fā)明提供一種在待曝光基材及底片中，無(wú)需特殊的對(duì)位標(biāo)靶，就可精確對(duì)位的方法及檢測(cè)系統(tǒng)。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的提供前一技術(shù)方案是這樣的一種待曝光基材及底片的對(duì)位方法，至少有二組攝影單元、一套調(diào)整機(jī)構(gòu)和一個(gè)控制裝置配合運(yùn)作，所述的控制裝置控制調(diào)整機(jī)構(gòu)以調(diào)整該基材及該底片的相對(duì)位置，該方法包括下述步驟(a)每個(gè)攝影單元分別拍攝一張影像，每張影像的視野范圍包括基材邊緣及底片邊界；(b)控制裝置定位出步驟(a)中影像的基材邊緣及底片邊界；(c)控制裝置根據(jù)步驟(b)中定位的基材邊緣及該底片邊，計(jì)算一偏移量；(d)控制裝置根據(jù)步驟(C)計(jì)算的偏移量驅(qū)動(dòng)調(diào)整機(jī)構(gòu)，并依次調(diào)整基材及該底片的相對(duì)位置，使該基材及該底片彼此對(duì)齊。進(jìn)一步的，上述的待曝光基材及底片的對(duì)位方法，所述的攝影單元的拍攝位置朝向基材邊緣，所述的控制裝置的調(diào)節(jié)步驟如下步驟(b)是先定位出第一張影像中的底片邊界與影像中心線的第一交點(diǎn)，再定位出第二張影像中的底片邊界與影像中心線的第二交點(diǎn)；步驟(C)是先計(jì)算該第一交點(diǎn)及該第二交點(diǎn)之間的距離，再測(cè)量出第一張影像中過(guò)第一交點(diǎn)與相應(yīng)的第一底片邊界垂直的第一間距，以及第二張影像中第二交點(diǎn)與相應(yīng)的第二底片邊界垂直的第二間距，最后將所述的兩交點(diǎn)之間的距離、第一間距和第二間距代入三角函式換算一偏移角度；步驟(d)是根據(jù)步驟(C)的偏移角度驅(qū)動(dòng)該調(diào)整機(jī)構(gòu)，調(diào)整該基材的位置。進(jìn)一步的，上述的待曝光基材及底片的對(duì)位方法，所述的攝影單元的拍攝位置朝向基材的上邊緣和下邊緣，所述的控制裝置的調(diào)節(jié)步驟如下步驟(b)分別定位出兩張影像中的基材邊緣及底片邊界；步驟(C)先計(jì)算出第一張影像的基材邊緣與對(duì)應(yīng)的底片上邊界之間的上間距，再計(jì)算出第二張影像的基材邊緣與對(duì)應(yīng)的底片下邊界之間的下間距；步驟(d)根據(jù)步驟(C)所述的上間距和下間距之差值調(diào)整基材的位置，使上方間距與下間距基本相等。進(jìn)一步的，上述的待曝光基材及底片的對(duì)位方法，所述的攝影單元的拍攝位置朝向基材的左邊緣和右邊緣，所述的控制裝置的調(diào)節(jié)步驟如下步驟(b)分別定位出兩張影像中的基材邊緣及底片邊界；步驟(C)計(jì)算第一張影像的基材邊緣與相應(yīng)的底片邊界之間的左間距，再計(jì)算出第二張影像的基材邊緣與相應(yīng)的底片邊界之間的右間距；步驟(d)根據(jù)步驟(C)所述的左間距及右方距之差值調(diào)整該基材的位置，使左間距和右方距基相等。為實(shí)現(xiàn)上述方法，本發(fā)明的一種待曝光基材及底片的影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)，包括一套調(diào)整機(jī)構(gòu)，至少二組攝影單元和一套控制裝置，控制裝置電性連接調(diào)整機(jī)構(gòu)及各該攝影單元；所述的控制裝置包括一個(gè)用于定位出兩影像中的基材邊緣及底片邊界的影像處理單元，一個(gè)根據(jù)基材邊緣及該底片邊界計(jì)算偏移量的判斷單元，以及一個(gè)根據(jù)偏移量驅(qū)動(dòng)該調(diào)整機(jī)構(gòu)，以此來(lái)調(diào)整基材及該底片的相對(duì)位置使基材及該底片相對(duì)齊的控制單元；所述的攝影單元每組獨(dú)立拍攝一張影像，每個(gè)影像視野范圍包括一基材邊緣及一底片邊界。進(jìn)一步的，上述的待曝光基材及底片的影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)，所述的各組攝影單元的拍攝位置分別朝向該基材的同一邊緣；所述的影像處理單元先定位出第一張影像中的底片邊界與相應(yīng)的影像中心線的第一交點(diǎn)，再定位出第二張影像中的底片邊界與相應(yīng)的影像中心線的第二交點(diǎn)；所述的判斷單元計(jì)算第一交點(diǎn)及該第二交點(diǎn)之間的距離，再測(cè)量出第一張影像中過(guò)第一交點(diǎn)與相應(yīng)的第一底片邊界垂直的第一間距，以及第二張影像中第二交點(diǎn)與相應(yīng)的第二底片邊界垂直的第二間距，最后將所述的兩交點(diǎn)之間的距離、第一間距和第二間距代入三角函式換算一偏移角度；所述的控制單元依據(jù)偏移角度驅(qū)動(dòng)該調(diào)整機(jī)構(gòu)以調(diào)整該基材的位置。進(jìn)一步的，上述的待曝光基材及底片的影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)，所述的攝影單元的拍攝位置朝向基材的上邊緣和下邊緣；所述的影像處理單元分別定位出兩張影像中的基材邊緣及底片邊界；所述的判斷單元計(jì)算第一張影像的基材邊緣與對(duì)應(yīng)的底片上邊界之間的上間距，再計(jì)算出第二張影像的基材邊緣與對(duì)應(yīng)的底片下邊界之間的下間距； 所述的控制單元根據(jù)上間距和下間距之差值調(diào)整基材的位置，使上方間距與下間距基本相等。進(jìn)一步的，上述的待曝光基材及底片的影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)，所述的攝影單元的拍攝位置朝向基材的左邊緣和右邊緣；所述的影像處理單元分別定位出兩張影像中的基材邊緣及底片邊界；所述的判斷單元計(jì)算出第一張影像的基材邊緣與相應(yīng)的底片邊界之間的左間距，再計(jì)算出第二張影像的基材邊緣與相應(yīng)的底片邊界之間的右間距；
所述的控制單元根據(jù)左間距及右方距之差值調(diào)整該基材的位置，使左間距和右方距基相等。進(jìn)一步的，上述的曝光基材及底片的影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)，所述的待曝光基材是透明玻璃，底片對(duì)透明玻璃的光阻進(jìn)行曝光顯影。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的技術(shù)方案無(wú)需特殊的對(duì)位標(biāo)靶設(shè)計(jì)就可以對(duì)基材及底片進(jìn)行精確對(duì)位，并且對(duì)對(duì)位結(jié)果進(jìn)行檢測(cè)，確保對(duì)位的精確度，尤其在透明材質(zhì)的基材中有很好的應(yīng)用，確保了產(chǎn)品的質(zhì)量。


圖1是本發(fā)明的待曝光基材及底片的影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)的實(shí)施例1的示意圖；圖2是本發(fā)明的實(shí)施例1中的攝影設(shè)備的拍攝位置；圖3是本發(fā)明的待曝光基材及底片的對(duì)位方法的角度調(diào)整程序流程圖；圖4是實(shí)施例1計(jì)算偏移角度所需的相關(guān)參數(shù)的不意圖；圖5是本發(fā)明的待曝光基材及底片的對(duì)位方法中對(duì)齊X方向及Y方向的預(yù)定位置程序的流程圖；圖6是本發(fā)明實(shí)施例1中計(jì)算Y方向位移所需的相關(guān)參數(shù)示意圖；圖7是本發(fā)明實(shí)施例1計(jì)算X方向位移所需的相關(guān)參數(shù)示意圖。其中影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)100 ;攝影設(shè)備I ;第一攝影單元11 ;第二攝影單元12 ；第三攝影單元13 ;第四攝影單元14 ;第五攝影單元15 ;機(jī)臺(tái)2 ;影像處理單元21 ;記憶單元22 ;判斷單元23 ;控制單元24 ;調(diào)整調(diào)整機(jī)構(gòu)3 ；301-306影像；驅(qū)動(dòng)設(shè)備4 ;旋轉(zhuǎn)模組40 ；影像中心線401,402 ;驅(qū)動(dòng)模組411、412、413、414 ;基材5 ;基材邊緣51_54、51，-54，;底片6 ;底片邊界 61-64、61，-64，;邊緣 611-612 ;驟 S60 ;步驟 S61 ;步驟 S611-S614 ;步驟 S62 ；步驟 S621-S624 ;步驟 S63 ;步驟 S631-S634 ；
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合具體實(shí)施方式
，對(duì)本發(fā)明的權(quán)利權(quán)利要求作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明，但不夠成對(duì)本發(fā)明的任何限制，任何人在本發(fā)明權(quán)利要求范圍內(nèi)所做的有限次的修改，仍在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍之內(nèi)。實(shí)施例1參閱圖1，一種待曝光基材5的影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)100包括至少二攝影單元1、一臺(tái)機(jī)臺(tái)2、一臺(tái)調(diào)整機(jī)構(gòu)3和一臺(tái)驅(qū)動(dòng)設(shè)備4 ;其中，機(jī)臺(tái)2包括一個(gè)影像處理單元21、一個(gè)記憶單元22、一個(gè)判斷單元23及一個(gè)控制單元24 ;驅(qū)動(dòng)設(shè)備4包括控制調(diào)整機(jī)構(gòu)3，驅(qū)動(dòng)設(shè)備4在X方向移動(dòng)的二驅(qū)動(dòng)模組411、413，控制調(diào)整機(jī)構(gòu)3在Y方向移動(dòng)的二驅(qū)動(dòng)模組412、414及控制調(diào)整機(jī)構(gòu)3微調(diào)在X-Y平面的轉(zhuǎn)動(dòng)角度的旋轉(zhuǎn)模組40。調(diào)整機(jī)構(gòu)3包括一個(gè)驅(qū)動(dòng)設(shè)備，并配置一塊透明材質(zhì)(如玻璃)的待曝光基材5,以及一片用于對(duì)待曝光基材5的光阻進(jìn)行曝光的底片6，其中，底片6被固定使其位置不發(fā)生變動(dòng)，基材5被底片6夾持，根據(jù)底片6的位置調(diào)整基材5的位置進(jìn)行定位；攝影設(shè)備I可分別朝向同側(cè)或不同側(cè)的相異位置拍攝，本實(shí)施例中，攝影設(shè)備I含第一攝影單元11、第二攝影單元12、第三攝影單元13、一第四攝影單元14及第五攝影單元15，且第一攝影單元11、第二攝影單元12、第三攝影單元13、第四攝影單元14以及第五攝影單元15的拍攝視野與基材5的邊緣及底片6的邊界方向相同(X方向或Y方向)。實(shí)施例2本實(shí)施例用兩組攝影單元第一攝影單元11、第二攝影單元12，具體的采用第一攝影單元11及第二攝影單元12在位置I及II的角度進(jìn)行調(diào)整定位后，接著，固定第一攝影單元11的位置I不動(dòng)，用精密定位儀器對(duì)第二攝影單元12進(jìn)行X軸方向調(diào)整定位至位置III，然后，再以精密定位儀器對(duì)第一攝影單元11及第二攝影單元12在Y軸方向置中的調(diào)整定位至位置IV及位置V，因此，不以五組攝影單元11-15為限制。參閱圖1及圖2，第一攝影單元11、第二攝影單元12設(shè)置在朝向基材5的上方的同一邊緣51的位置1、11，第三攝影單元13、第四攝影單元14及第五攝影單元15是分別設(shè)置在相對(duì)于基材5的邊緣52的下方位置II1、相對(duì)于基材5的邊緣53的左方位置IV、相對(duì)于基材5的邊緣54的右方位置V。參閱圖3，配合圖1及圖2，為本發(fā)明待曝光基材及底片的對(duì)位方法之較佳實(shí)施例說(shuō)明如下。步驟S60 :設(shè)置攝影裝置I與基材5的拍攝位置。接著，調(diào)整程序角度61使基材5的邊緣平行的對(duì)齊于底片6的邊緣，具體做法如下。步驟S611 :攝影設(shè)備I相對(duì)于基材5的同一邊緣上的兩相異位置拍攝至少二張影像。參閱圖4，如圖1的第`一攝影單元11、第二攝影單元12是朝向如圖2的同一邊緣上的兩相異位置1、II拍攝，第一攝影單元11的拍攝到一影像301的畫面范圍至少包括一個(gè)基材邊緣511及一個(gè)底片邊界611，第二攝影單元12拍攝到的另一影像302的畫面范圍至少包括與基材邊緣511屬于同一邊線上的另一基材邊緣512，以及與底片邊界611屬于同一邊線上的的另一底片邊界612。步驟S612 :定位其中一影像301的基材邊緣511、底片邊界611及另一影像302的基材邊緣512、底片邊界612，然后，由機(jī)臺(tái)2的記憶單元22加以儲(chǔ)存。影像處理單元21對(duì)既定的影像辨識(shí)技術(shù)進(jìn)行定位，既定的影像辨識(shí)技術(shù)是二值化、邊緣偵測(cè)或線條偵測(cè)等，關(guān)于二值化、邊緣偵測(cè)或線條偵測(cè)的技術(shù)均為現(xiàn)有技術(shù)，在此不加以贅述。步驟S613 :影像處理單元21定位出影像301中的底片邊界611與影像中心線401的第一交點(diǎn)P1，再定位出另一影像302中的底片邊界612與影像中心線402的第二交點(diǎn)P2。步驟S614 :判斷單元23計(jì)算第一交點(diǎn)Pl及第二交點(diǎn)P2之間的距離S、基材邊緣511與經(jīng)過(guò)第一交點(diǎn)Pl并垂直底片邊界611的第一間距dl，以及基材邊緣512與經(jīng)過(guò)第二交點(diǎn)P2并垂直底片邊界612的第二間距d2。步驟S615 :判斷單元23將步驟S614的距離S、第一間距dl及第二間距d2代入三角函式換算一偏移角度Θ，即偏移角度0=tan-l((d2-dl) / S)。步驟S616 :控制單元24依據(jù)偏移角度Θ調(diào)整基材5的位置，驅(qū)使驅(qū)動(dòng)設(shè)備4使基材5的邊緣與底片6的邊緣對(duì)齊，本實(shí)施例中，第一間距dl大致等于第二間距d2。接下來(lái)，是將基材5對(duì)齊于底片6的中央位置，本實(shí)施例中，以此計(jì)算基材5及底片6兩者外圍的邊緣間距并平均分配，就可達(dá)到精確定位的效果。
參閱圖5，本發(fā)明方法中，Y方向的間距調(diào)整程序S62包含的具體步驟S621-624如下；步驟S621 :相對(duì)于基材邊緣51拍攝一上邊緣影像303及相對(duì)于基材邊緣52拍攝一下邊緣影像304。參閱圖1、圖2及圖6，第二攝影單元12及第三攝影單元13朝向基材5的相對(duì)上下兩側(cè)邊的位置11、111，相對(duì)于基材邊緣51拍攝上邊緣影像303及相對(duì)于基材邊緣52拍攝一下邊緣影像304。需說(shuō)明的是，也可以使用第一攝影單元11配合第三攝影單元13，不限于第二攝影單元12及第三攝影單元13之組合方式。另外，第二攝影單元12及第三攝影單元13在如圖4的位置I1、III亦可同時(shí)拍攝到相對(duì)于基材5之光阻進(jìn)行曝光顯影的底片邊界61’及底片邊界62’。因此，如圖6的上邊緣影像303包括基材邊緣51’及底片邊界61’，下邊緣影像304包括基材邊緣52’及底片邊界62’。步驟S622 :影像處理單元21通過(guò)既定的影像辨識(shí)技術(shù)定位上邊緣影像303中的基材邊緣51’、底片邊界61’及下邊緣影像304中的基材邊緣52’、底片邊界62’，然后，由機(jī)臺(tái)2的記憶單元22加以儲(chǔ)存。步驟S623 :判斷單元23計(jì)算基材邊緣51’距離底片邊界61’的上方間距dyl，以及計(jì)算基材邊緣52’距離底片邊界62’的下方間距dy2，并以此計(jì)算上方間距dyl及下方間距dy2的差值。步驟S624 :控制單元24依據(jù)上方間距dyl及下方間距dy2的差值調(diào)整基材5及底片6的相對(duì)位置，使上方間距dyl與下方間距dy2大致等于；例如，機(jī)臺(tái)2可控制Y方向之驅(qū)動(dòng)模組412、414，使基材5的邊緣對(duì)齊預(yù)定位置。參閱圖3，并配合圖1及圖7，本發(fā)明方法中，X方向的間距調(diào)整程序S63包含的步驟S61-S63具體如下步驟S631 :相對(duì)于基材的左邊緣拍攝左邊緣影像及相對(duì)于基材的右邊緣拍攝右邊緣影像；第四攝影單元14及第五攝影單元15分別朝向在基材5的左右兩相對(duì)側(cè)邊的位置IV、V，相對(duì)于基材邊緣53拍攝左邊緣影像305及相對(duì)于基材邊緣54拍攝右邊緣影像306(如圖7)。另外，第四攝影單元14及第五攝影單元15在位置IV、V亦可同時(shí)拍攝到相對(duì)于基材5的光阻進(jìn)行曝光顯影的底片邊界63及右邊界64，因此，如圖7的左邊緣影像305包括基材邊緣53及底片邊界63 ;如圖7的右邊緣影像306包括基材邊緣54及底片邊界64。步驟S632 :影像處理單元21通過(guò)既定的影像辨識(shí)技術(shù)定位左邊緣影像305的拍攝畫面中的基材邊緣53’及右邊緣影像306的拍攝畫面中的基材邊緣54’，然后，由機(jī)臺(tái)2的記憶單元22加以儲(chǔ)存。步驟S633 :判斷單元23計(jì)算左方的基材邊緣53’距離左方的底片邊界63’的左方間距dxl，以及計(jì)算右方的基材邊緣54’距離右方的底片邊界64’的右方間距dx2，并以此計(jì)算左方間距dxl及右方間距dx2的差值。步驟S634 :控制單元24依據(jù)左方間距dxl及右方間距dx2的差值調(diào)整基材5及底片6的相對(duì)位置，使左方間距dxl大致等于右方間距dx2 ;例如，機(jī)臺(tái)2可控制X方向之驅(qū)動(dòng)模組411、413，使基材5的邊緣對(duì)齊預(yù)定位置。步驟S64 :完成前述步驟后，就可進(jìn)行曝光程序。
綜上所述，本發(fā)明的待曝光基材5及底片6的對(duì)位方法及系統(tǒng)100之效果在于通過(guò)拍攝基材5及底片6的兩相異位置的影像，配合兩影像中的基材邊緣及底片邊界計(jì)算偏移量，然后利用例如角度或間距的偏移量來(lái)驅(qū)動(dòng)調(diào)整機(jī)構(gòu)3以調(diào)整基材5旋轉(zhuǎn)或位移，因此無(wú)需特殊的對(duì)位標(biāo)靶設(shè)計(jì)而可精確對(duì)位，且這用于透明材質(zhì)的基材5，可解抉現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，故確實(shí)能達(dá)成本發(fā)明之目的。
權(quán)利要求
1.一種待曝光基材及底片的對(duì)位方法，其特征在于，至少有二組攝影單元、一套調(diào)整機(jī)構(gòu)和一個(gè)控制裝置配合運(yùn)作，所述的控制裝置控制調(diào)整機(jī)構(gòu)以調(diào)整該基材及該底片的相對(duì)位置，該方法包括下述步驟 (a)每個(gè)攝影單元分別拍攝一張影像，每張影像的視野范圍包括基材邊緣及底片邊界； (b)控制裝置定位出步驟(a)中影像的基材邊緣及底片邊界； (c)控制裝置根據(jù)步驟(b)中定位的基材邊緣及該底片邊，計(jì)算一偏移量； (d)控制裝置根據(jù)步驟(C)計(jì)算的偏移量驅(qū)動(dòng)調(diào)整機(jī)構(gòu)，并依次調(diào)整基材及該底片的相對(duì)位置，使該基材及該底片彼此對(duì)齊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的待曝光基材及底片的對(duì)位方法，其特征在于，所述的攝影單元的拍攝位置朝向基材邊緣，所述的控制裝置的調(diào)節(jié)步驟如下 步驟(b)是先定位出第一張影像中的底片邊界與影像中心線的第一交點(diǎn)，再定位出第二張影像中的底片邊界與影像中心線的第二交點(diǎn)； 步驟(C)是先計(jì)算該第一交點(diǎn)及該第二交點(diǎn)之間的距離，再計(jì)算出第一張影像中過(guò)第一交點(diǎn)與相應(yīng)的第一底片邊界垂直的第一間距，以及第二張影像中第二交點(diǎn)與相應(yīng)的第二底片邊界垂直的第二間距，最后將所述的兩交點(diǎn)之間的距離、第一間距和第二間距代入三角函式換算一偏移角度； 步驟(d)是根據(jù)步驟(c)的偏移角度驅(qū)動(dòng)該調(diào)整機(jī)構(gòu)，調(diào)整該基材的位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的待曝光基材及底片的對(duì)位方法，其特征在于，所述的攝影單元的拍攝位置朝向基材的上邊緣和下邊緣，所述的控制裝置的調(diào)節(jié)步驟如下 步驟(b)分別定位出兩張影像中的基材邊緣及底片邊界； 步驟(C)先計(jì)算出第一張影像的基材邊緣與對(duì)應(yīng)的底片上邊界之間的上間距，再計(jì)算出第二張影像的基材邊緣與對(duì)應(yīng)的底片下邊界之間的下間距； 步驟(d)根據(jù)步驟(c)所述的上間距和下間距之差值調(diào)整基材的位置，使上方間距與下間距基本相等。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的待曝光基材及底片的對(duì)位方法，其特征在于，所述的攝影單元的拍攝位置朝向基材的左邊緣和右邊緣，所述的控制裝置的調(diào)節(jié)步驟如下 步驟(b)分別定位出兩張影像中的基材邊緣及底片邊界； 步驟(C)計(jì)算第一張影像的基材邊緣與相應(yīng)的底片邊界之間的左間距，再計(jì)算出第二張影像的基材邊緣與相應(yīng)的底片邊界之間的右間距； 步驟(d)根據(jù)步驟(c)所述的左間距及右方距之差值調(diào)整該基材的位置，使左間距和右方距基相等。
5.一種待曝光基材及底片的影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，包括一套調(diào)整機(jī)構(gòu)，至少二組攝影單元和一套控制裝置，控制裝置電性連接調(diào)整機(jī)構(gòu)及各該攝影單元； 所述的控制裝置包括一個(gè)用于定位出兩影像中的基材邊緣及底片邊界的影像處理單元，一個(gè)根據(jù)基材邊緣及該底片邊界計(jì)算偏移量的判斷單元，以及一個(gè)根據(jù)偏移量驅(qū)動(dòng)該調(diào)整機(jī)構(gòu)，以此來(lái)調(diào)整基材及該底片的相對(duì)位置使基材及該底片相對(duì)齊的控制單元； 所述的攝影單元每組獨(dú)立拍攝一張影像，每個(gè)影像視野范圍包括一基材邊緣及一底片邊界。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的待曝光基材及底片的影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述的各組攝影單元的拍攝位置分別朝向該基材的同一邊緣； 所述的影像處理單元先定位出第一張影像中的底片邊界與相應(yīng)的影像中心線的第一交點(diǎn)，再定位出第二張影像中的底片邊界與相應(yīng)的影像中心線的第二交點(diǎn)； 所述的判斷單元計(jì)算第一交點(diǎn)及該第二交點(diǎn)之間的距離，再測(cè)量出第一張影像中過(guò)第一交點(diǎn)與相應(yīng)的第一底片邊界垂直的第一間距，以及第二張影像中第二交點(diǎn)與相應(yīng)的第二底片邊界垂直的第二間距，最后將所述的兩交點(diǎn)之間的距離、第一間距和第二間距代入三角函式換算一偏移角度； 所述的控制單元依據(jù)偏移角度驅(qū)動(dòng)該調(diào)整機(jī)構(gòu)以調(diào)整該基材的位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的待曝光基材及底片的影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述的攝影單元的拍攝位置朝向基材的上邊緣和下邊緣； 所述的影像處理單元分別定位出兩張影像中的基材邊緣及底片邊界； 所述的判斷單元計(jì)算第一張影像的基材邊緣與對(duì)應(yīng)的底片上邊界之間的上間距，再計(jì)算出第二張影像的基材邊緣與對(duì)應(yīng)的底片下邊界之間的下間距； 所述的控制單元根據(jù)上間距和下間距之差值調(diào)整基材的位置，使上方間距與下間距基本相等。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的待曝光基材及底片的影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述的攝影單元的拍攝位置朝向基材的左邊緣和右邊緣； 所述的影像處理單元分別定位出兩張影像中的基材邊緣及底片邊界； 所述的判斷單元計(jì)算出第一張影像的基材邊緣與相應(yīng)的底片邊界之間的左間距，再計(jì)算出第二張影像的基材邊緣與相應(yīng)的底片邊界之間的右間距； 所述的控制單元根據(jù)左間距及右方距之差值調(diào)整該基材的位置，使左間距和右方距基相等。
9.根據(jù)權(quán)利要求5至8任一所述的曝光基材及底片的影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述的待曝光基材是透明玻璃，底片對(duì)透明玻璃的光阻進(jìn)行曝光顯影。
全文摘要
本發(fā)明公開一種待曝光基材及底片的對(duì)位方法及其影像檢測(cè)對(duì)位系統(tǒng)，旨在提供一種在待曝光基材及底片中，無(wú)需特殊的對(duì)位標(biāo)靶，就可精確對(duì)位的方法及檢測(cè)系統(tǒng)；其技術(shù)要點(diǎn)至少有二組攝影單元、一套調(diào)整機(jī)構(gòu)和一個(gè)控制裝置配合運(yùn)作，該方法包括下述步驟(a)每個(gè)攝影單元分別拍攝一張影像，每張影像的視野范圍包括基材邊緣及底片邊界；(b)控制裝置定位出步驟(a)中影像的基材邊緣及底片邊界；(c)控制裝置根據(jù)步驟(b)中定位的基材邊緣及該底片邊，計(jì)算一偏移量；(d)控制裝置根據(jù)步驟(c)計(jì)算的偏移量驅(qū)動(dòng)調(diào)整機(jī)構(gòu)，并依次調(diào)整基材及該底片的相對(duì)位置，使該基材及該底片彼此對(duì)齊；屬于影像技術(shù)領(lǐng)域。
文檔編號(hào)G03F9/00GK103034072SQ201210559900
公開日2013年4月10日 申請(qǐng)日期2012年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月20日
發(fā)明者徐嘉偉, 王啟毓, 張茂和 申請(qǐng)人:志圣科技(廣州)有限公司