專利名稱：樹脂圖案、圖案基板、薄膜晶體管基板、層間絕緣膜及顯示裝置的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種使用微透鏡陣列曝光機(jī)用組成物的樹脂圖案的制造方法。尤其涉及一種用以制造薄膜晶體管(Thin Film Transistor, TFT)基板的樹脂圖案的制造方法。
背景技術(shù)：
近年來，由于智能手機(jī)的普及，正掀起面板高精細(xì)化的浪潮。高精細(xì)化可通過如下方式來應(yīng)對(duì)，即在基板上涂布例如專利文獻(xiàn)I (日本專利特開2004-264623號(hào)公報(bào))或?qū)＠墨I(xiàn)2(日本專利特開平5-165214號(hào)公報(bào))中所記載的層間絕緣膜形成用感光性樹脂組成物、或者專利文獻(xiàn)3(日本專利特開平9-325473號(hào)公報(bào))中所記載的抗蝕阻劑用感光性樹脂組成物，然后使用利用成像透鏡將光罩的像縮小投影后進(jìn)行曝光的步進(jìn)式曝光裝置，但當(dāng)對(duì)例如Im見方以上的大面積的基板進(jìn)行曝光時(shí)，存在所使用的透鏡口徑對(duì)應(yīng)于基板的大小而變大且價(jià)格變高這一問題。針對(duì)該問題，記述有通過使用專利文獻(xiàn)4(日本專利特開2011-118155號(hào)公報(bào))中所記載的微透鏡陣列(Micro IensArray, MLA)曝光裝置,而能夠以高解析度制作大面積的被曝光體中的非周期性的圖案。
但是，本申請(qǐng)案發(fā)明者進(jìn)行研究的結(jié)果，可知當(dāng)利用MLA曝光裝置進(jìn)行曝光時(shí)，存在因用于圖案形成的組成物的種類，而無法制造感度及解析度優(yōu)異的樹脂圖案的情況。發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)案發(fā)明是以解決該MLA曝光特有的問題為目的的發(fā)明，其提供一種感度及解析度優(yōu)異的樹脂圖案的制造方法。
基于所述課題，發(fā)明者進(jìn)行研究的結(jié)果，可知若使用含有特定的組成的組成物，則即便進(jìn)行MLA曝光，也可以形成殘?jiān)粴埩粼诳變?nèi)或曝光線間、且感度及解析度也優(yōu)異的圖案。尤其，當(dāng)利用從先前以來廣泛使用的鏡面投影對(duì)準(zhǔn)(Mirror Projection Aligner,MPA)曝光裝置進(jìn)行曝光時(shí)，即便使用本發(fā)明中所使用的組成物，也存在殘?jiān)@著的情況，但令人吃驚的是若使用MLA曝光裝置，則殘?jiān)@著消失。
具體而言，通過下述手段[I]，優(yōu)選通過[2] [18]來解決所述課題。
[I] 一種樹脂圖案的制造方法，其特征在于包括:⑴將含有㈧堿溶解性通過酸的作用而增大的樹脂、(B)肟磺酸酯系光酸產(chǎn)生劑、及(C)溶劑的組成物涂布在基板上的步驟；(2)從所涂布的所述組成物中去除所述溶劑的步驟；(3)利用微透鏡陣列曝光機(jī)對(duì)所述組成物照射光化射線來進(jìn)行曝光的步驟；以及(4)利用水性顯影液進(jìn)行顯影的步驟。
[2]根據(jù)[I]所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述㈧堿溶解性通過酸的作用而增大的樹脂包含聚合物，該聚合物含有源自具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的單體的結(jié)構(gòu)單元、及/或源自具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的單體的結(jié)構(gòu)單元(al)。
[3]根據(jù)[I]或[2]所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述源自具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的單體的結(jié)構(gòu)單元、及/或源自具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的單體的結(jié)構(gòu)單元(al)為源自具有由縮醛保護(hù)的保護(hù)羧基的單體的結(jié)構(gòu)單元、及/或源自具有由縮醛保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的單體的結(jié)構(gòu)單元。
[4]根據(jù)[I]至[3]中任一項(xiàng)所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述(A)堿溶解性通過酸的作用而增大的樹脂具有由下述通式(al-Ι)所表示的結(jié)構(gòu)單元、及/或由下述通式(V)所表示的結(jié)構(gòu)單元。[001權(quán)利要求
1.一種樹脂圖案的制造方法，其特征在于包括: (1)將含有(A)堿溶解性通過酸的作用而增大的樹脂、(B)肟磺酸酯系光酸產(chǎn)生劑、及(C)溶劑的組成物涂布在基板上的步驟； (2)從所涂布的所述組成物中去除所述溶劑的步驟； (3)利用微透鏡陣列曝光機(jī)對(duì)所述組成物照射光化射線來進(jìn)行曝光的步驟；以及 (4)利用水性顯影液進(jìn)行顯影的步驟。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述(A)堿溶解性通過酸的作用而增大的樹脂包含聚合物，該聚合物含有源自具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的單體的結(jié)構(gòu)單元、及/或源自具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的單體的結(jié)構(gòu)單元(al)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述源自具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的單體的結(jié)構(gòu)單元、及/或源自具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的單體的結(jié)構(gòu)單元(al)為源自具有由縮醛保護(hù)的保護(hù)羧基的單體的結(jié)構(gòu)單元、及/或源自具有由縮醛保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的單體的結(jié)構(gòu)單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述(A)堿溶解性通過酸的作用而增大的樹脂具有由下述通式(al-Ι)所表示的結(jié)構(gòu)單元、及/或由下述通式(V)所表示的結(jié)構(gòu)單元，
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述(A)堿溶解性通過酸的作用而增大的樹脂具有由下述通式(al-Ι)所表示的結(jié)構(gòu)單元、及/或由下述通式(V)所表示的結(jié)構(gòu)單元，
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述(A)堿溶解性通過酸的作用而增大的樹脂含有源自具有交聯(lián)基的單體的結(jié)構(gòu)單元(a2)。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述(A)堿溶解性通過酸的作用而增大的樹脂含有源自具有交聯(lián)基的單體的結(jié)構(gòu)單元(a2)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述(A)堿溶解性通過酸的作用而增大的樹脂包含聚合物，該聚合物含有由下述通式(al-Ι)所表示的結(jié)構(gòu)單元、及源自具有交聯(lián)基的單體的結(jié)構(gòu)單元(a2)，
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:還包括(D)堿性化合物。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述(D)堿性化合物為由下述通式(a)所表示的化合物， 通式(a)
11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述⑶肟磺酸酯系光酸產(chǎn)生劑為由下述通式(B2)或通式(B3)所表示的肟磺酸酯系光酸產(chǎn)生劑， 通式(B2)
12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述組成物為層間絕緣膜用組成物。
13.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述組成物為抗蝕阻劑用組成物。
14.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:所述組成物還包括增感劑、環(huán)氧樹脂、密接改良劑、堿性化合物及界面活性劑的至少I種。
15.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的樹脂圖案的制造方法，其特征在于:在所述⑷利用水性顯影液進(jìn)行顯影的步驟之后，還包括進(jìn)行后烘烤的步驟。
16.一種圖案基板的制造方法，其特征在于:包括根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的樹脂圖案的制造方法，且在所述(4)利用水性顯影液進(jìn)行顯影的步驟之后，包括: (5)將所形成的樹脂圖案作為遮罩來對(duì)所述基板進(jìn)行蝕刻的步驟、以及 (6)將所述樹脂圖案剝離的步驟。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的圖案基板的制造方法，其特征在于:所述(A)堿溶解性通過酸的作用而增大的樹脂具有由所述通式(V)所表示的結(jié)構(gòu)單元作為重復(fù)單元。
18.一種層間絕緣膜的制造方法，其特征在于:包括根據(jù)權(quán)利要求1至15中任一項(xiàng)所述的樹脂圖案的制造方法。
19.一種薄膜晶體管基板的制造方法，其特征在于:包括根據(jù)權(quán)利要求1至15中任一項(xiàng)所述的樹脂圖案的制造方法、根據(jù)權(quán)利要求16或17所述的圖案基板的制造方法、或者根據(jù)權(quán)利要求18所述的層間絕緣膜的制造方法。
20.一種顯示裝置的制造方法，其特征在于:包括根據(jù)權(quán)利要求1至15中任一項(xiàng)所述的樹脂圖案的制造方法、根據(jù)權(quán)利要求16或17所述的圖案基板的制造方法、或者根據(jù)權(quán)利要求18所述的 層間絕緣膜的制造方法。
全文摘要
本發(fā)明提供一種使用感度及解析度優(yōu)異的微透鏡陣列曝光機(jī)用組成物的樹脂圖案的制造方法。一種樹脂圖案的制造方法，其包括(1)將含有(A)堿溶解性通過酸的作用而增大的樹脂、(B)肟磺酸酯系光酸產(chǎn)生劑、及(C)溶劑的組成物涂布在基板上的步驟；(2)從所涂布的所述組成物中去除所述溶劑的步驟；(3)利用微透鏡陣列曝光機(jī)對(duì)所述組成物照射光化射線來進(jìn)行曝光的步驟；以及(4)利用水性顯影液進(jìn)行顯影的步驟。
文檔編號(hào)G03F7/004GK103149795SQ20121051766
公開日2013年6月12日 申請(qǐng)日期2012年12月5日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月6日
發(fā)明者藤本進(jìn)二, 中村秀之, 安藤豪 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社