技術(shù)編號：2816744
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種使用微透鏡陣列曝光機用組成物的樹脂圖案的制造方法。尤其涉及一種用以制造薄膜晶體管(Thin Film Transistor, TFT)基板的樹脂圖案的制造方法。背景技術(shù)近年來，由于智能手機的普及，正掀起面板高精細化的浪潮。高精細化可通過如下方式來應(yīng)對，即在基板上涂布例如專利文獻I (日本專利特開2004-264623號公報)或?qū)＠墨I2(日本專利特開平5-165214號公報)中所記載的層間絕緣膜形成用感光性樹脂組成物、或者專利文獻3(日本專利...
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