專利名稱：接近式曝光裝置及接近式曝光方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種接近式曝光裝置及接近式曝光方法，更詳細而言，涉及適于在將掩模的圖案曝光復制在例如液晶顯示器和等離子顯示器等大型平板顯示器等的基板上時所使用的接近式曝光裝置及接近式曝光方法。
背景技術：
接近式曝光是將表面上涂布有感光劑的透光性基板(被曝光件)保持在曝光裝置的工作臺上，并且使該基板接近于保持在掩模載置臺的掩模保持架上的掩模，使兩者的間隔為例如數(shù)十ym 數(shù)百μ m，通過照射裝置，從掩模的與基板相反的一側向掩模照射曝光用光，由此將繪制在掩模上的圖案曝光復制在基板上。另外，盡管接近式曝光中存在將掩模做成與基板相同的大小而一次性曝光的方式，但在該方式下，在將掩模的圖案曝光復制在大型基板上時，掩模趨于大型化，將在掩模的撓曲導致對圖案的精度的影響和成本等方面出現(xiàn)問題。由于這樣的原因，迄今為止，在將掩模的圖案曝光復制在大型基板上的情況下，有時會采用所謂步進式的接近式曝光方式，即，使用比基板小的掩模，使工作臺相對于掩模步進移動，在每一步中，在將掩模配置在接近基板的狀態(tài)下，照射圖案曝光用光，由此，將繪制在掩模上的多個圖案曝光復制在基板上。掩模的撓曲對曝光精度有著很大的影響，特別是在大型掩模方面，掩模的撓曲有增大的趨勢，因此優(yōu)選極力減小撓曲。迄今為止，作為修正掩模撓曲的掩模保持裝置，已知有，通過掩模保持架上形成的掩模吸附路將掩模吸附保持，并且，將掩模、掩模保持架和上蓋所構成的空間與空氣抽吸通路及空氣導入通路相連接，調節(jié)該空間內部的壓力到與掩模的自重相平衡的壓力，從而使掩模向與重力方向相反的方向撓曲，抵消掩模的自重撓曲的裝置(例如，參照專利文獻I)。另外，還公開了如下曝光裝置將掩模、透明板和框架體所圍成的空間與連接于排氣裝置的排氣管及連接于空氣導入裝置的導入管相連接，將該空間內部的空氣排出或將空氣導入，從而修正掩模的撓曲(例如，參考專利文獻2)。另外，還有將透明玻璃板固定配置在真空吸附掩模的真空吸附框架的框架內，通過真空抽吸透明玻璃板和掩模之間的空氣，由真空吸附框架及透明玻璃板將掩模真空吸附，提高掩模的保持力，從而防止掩模的錯動的裝置(例如，參照專利文獻3)。
專利文獻I :日本特開2009-277900號公報專利文獻2 :日本特開平8-82919號公報專利文獻3 日本特開2006-93604號公報

發(fā)明內容
發(fā)明要解決的課題但是，根據(jù)專利文獻1，因為從空氣導入通路供給的空氣經由掩模保持架與掩模的接合面供給到空氣抽吸通路及掩模吸附通路，所以從接合面上只能供給極少的空氣。因此，上蓋和掩模很快向掩模保持架內部ー側撓曲，掩模和上蓋有折損的可能。另外，專利文獻2中，因為將連接于排氣裝置的排氣管及連接于空氣導入裝置的導入管與空間相連接，通過將空氣排出或導入來控制空間內部的壓カ，所以，真空發(fā)生裝置周邊需要很多的控制裝置。另外，由于使用橡膠墊將掩模安裝在框架體上，成本有可能會變高。而依照專利文獻3，由于沒有從外部導入空氣的機構，空間內部變得負壓過剩，有可能損傷掩模及透明玻璃板。本發(fā)明是鑒于上述課題而提出，其目的在于，提供ー種接近式曝光裝置及接近式曝光方法，其能夠以比較簡單的結構對掩模的撓曲進行修正并將掩模保持，從而能夠以高精度進行曝光復制。解決課題的手段通過下述結構來達到本發(fā)明的上述目的。
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(I) ー種接近式曝光裝置，其具有基板載置臺，其保持作為被曝光件的基板；掩模載置臺，其保持具有應曝光圖案的掩模；以及照射単元，其借助上述掩模對上述基板照射圖案曝光用光，該接近式曝光裝置在上述掩模與上述基板接近并以規(guī)定的曝光間隙對向配置的狀態(tài)下，將上述掩模的圖案曝光復制在上述基板上，其特征在于，上述掩模載置臺具有掩模保持架，其將上述掩模真空吸附在下表面并保持；玻璃蓋片，其被保持在上述掩模保持架的上表面ー側；抽吸機構，其抽吸至少由上述掩模保持架、上述掩模及上述玻璃蓋片界定的空間內部的空氣，使該空間內部減壓；以及空氣導入通路，其從外部向被減壓的上述空間內部供給空氣，且至少有一條。(2)根據(jù)上述(I)所述的接近式曝光裝置，其特征在干，上述的空氣導入通路是配置于上述玻璃蓋片與上述掩模保持架的接合部的空氣導入槽。(3)根據(jù)上述(I)或(2)所述的接近式曝光裝置，其特征在于，上述掩模載置臺還具有掩?？蚣埽鋵⑸鲜鲅谀１３旨苷婵瘴讲⒈３衷谙卤砻?，且由掩模驅動部來驅動。(4)根據(jù)上述(3)所述的接近式曝光裝置，其特征在干，上述掩模保持架的上表面具有突起部或凹部，上述掩模框架的下表面具有凹部或突起部，上述掩模保持架的上述突起部或凹部與上述掩?？蚣艿纳鲜霭疾炕蛲黄鸩靠ê?，將上述掩模保持架保持在上述掩?？蚣艿南卤砻?。(5)根據(jù)上述(3)或(4)所述的接近式曝光裝置，其特征在于，上述掩?？蚣苓€具有掩模保持架支承機構，其支承上述掩模保持架，防止上述掩模保持架從上述掩模框架脫落。(6)根據(jù)上述(I) (3)中任意一項所述的接近式曝光裝置，其特征在干，上述掩模保持架具有保持機構，其將上述玻璃蓋片保持在上述掩模保持架的規(guī)定的位置。( 7)根據(jù)(6)所述的接近式曝光裝置，其特征在干，
上述掩模保持架選擇其表面密度高于掩模M的表面密度的構件。(8)根據(jù)上述(I)所述的接近式曝光裝置，其特征在干，上述掩模載置臺具有掩模框架，其下表面安裝有上述掩模保持架，并且將上述玻璃蓋片真空吸附并保持在下表面，上述空間由上述掩?？蚣?、上述掩模保持架、上述掩模及上述玻璃蓋片所界定，上述空氣導入通路是配置在上述掩?？蚣芘c掩模保持架的接合部的空氣導入槽。(9)根據(jù)上述(8)所述的接近式曝光裝置，其特征在干，上述空氣導入通路設置在掩模保持架的中央部。
(10)—種接近式曝光方法，其利用上述(I) (9)中任意一項所述的接近式曝光裝置，在上述掩模與上述基板接近并以規(guī)定的曝光間隙對向配置的狀態(tài)下，將上述掩模的圖案曝光復制在上述基板上，其特征在于，其具有將上述掩模真空吸附在上述掩模保持架的下表面，并將掩模保持的エ序；及在由上述抽吸機構抽吸上述空間內部的壓カ的同時，經由上述空氣導入通路向上述空間供給上述外部的空氣，從而將上述空間內部的壓カ調節(jié)為規(guī)定的壓カ的エ序。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明的接近式曝光裝置以及接近式曝光方法，掩模載置臺具有掩模保持架，其將掩模真空吸附在下表面并保持；玻璃蓋片，其被保持在掩模保持架的上表面ー側；抽吸機構，其抽吸至少由掩模保持架、掩模及玻璃蓋片所界定的空間內部的空氣，使該空間內部減壓；以及空氣導入通路，其從外部向被減壓的空間內部供給空氣，且至少有ー個。而且，將掩模真空吸附在掩模保持架的下表面，并將掩模保持，另外，在由抽吸機構抽吸空間內部的壓カ的同時，經由空氣導入通路向空間供給外部的空氣，從而將空間內部的壓カ調節(jié)為規(guī)定的壓力。因此，掩模載置臺能夠以比較簡單的結構對掩模的撓曲進行修正并將掩模保持，因而能夠以高精度將掩模的圖案曝光復制在基板上。


圖I為用于說明本發(fā)明第一實施方式的接近式曝光裝置的局部剖視主視圖。圖2為圖I所示的掩模載置臺的簡要結構的剖視示意圖。圖3為掩?？蚣芤远炭缍葘⒀谀１３旨鼙３值难谀］d置臺的剖視圖。圖4為圖2所示的掩模載置臺的分解剖視示意圖。圖5為第I實施方式的接近式曝光裝置的第I變形例，為掩?？蚣艿陌疾颗c掩模保持部的突起部卡合狀態(tài)的掩模載置臺的主要部分的剖視示意圖。圖6為第I實施方式的接近式曝光裝置的第2變形例，為掩模保持架支承機構的機理說明示意圖。圖7 Ca)為第I實施方式的第3變形例的掩模載置臺的主要部分的放大剖視圖，(b)為第4變形例的掩模載置臺的主要部分放大剖視圖。圖8 Ca)為本發(fā)明第2實施方式的掩模載置臺的簡要結構的剖視示意圖，(b)為形成于掩?？蚣芘c掩模保持架的結合部的空氣導入槽的剖視示意圖。圖9為表示第2實施方式的變形例的掩模載置臺的簡要結構的與圖8 (a)相當?shù)钠室晥D。符號說明M :掩模PE :接近式曝光裝置W :基板I :掩模載置臺2:工作臺(基板載置臺)3 :照射單元·25 :掩?？蚣?5a:凹部26 :掩模保持架26a :關起部32 :玻璃蓋片33 :空間35 :空氣導入槽(空氣導入通路)40 :抽吸機構60 :掩模保持架支承機構70 :保持機構73 :玻璃壓件(保持機構)74:填料(保持機構)
具體實施例方式以下，基于附圖對本發(fā)明的接近式曝光裝置的各實施方式進行詳細說明。(第I實施方式)圖I是本發(fā)明第一實施方式的接近式曝光裝置的局部剖視主視圖。如圖I所示，接近式曝光裝置PE采用比作為被曝光件的基板W小的掩模M，掩模M由掩模載置臺I保持，并且基板W由工作臺2保持，使掩模M與基板W接近并以規(guī)定的間隙對向配置，在該狀態(tài)下，從照射單元3向掩模M照射圖案曝光用光，由此將掩模M的圖案曝光復制在基板W上。另夕卜，使工作臺2相對于掩模M向X軸方向和Y軸方向這兩個方向步進移動，每一次步進中進行曝光復制。裝置基座4上設有使作為第I載置臺的X軸進給臺5a沿X軸方向步進移動的X軸載置臺進給機構5，以使工作臺2沿X軸方向步進移動。X軸載置臺進給機構5的X軸進給臺5a之上，設有使作為第2載置臺的Y軸進給臺6a沿Y軸方向步進移動的Y軸載置臺進給機構6，以使工作臺2沿Y軸方向步進移動。在Y軸載置臺進給機構6之上，設有工作臺2?；錡以由工件卡盤等真空抽吸的狀態(tài)被保持在工作臺2的上表面。另外，工作臺2的側部配置有用于測定掩模M的下表面高度的基板側位移傳感器15。因此基板側位移傳感器15能夠與工作臺2 —起沿X、Y軸方向移動。在裝置基座4上，沿X軸方向配置有多條(圖示的實施方式中為4條)X軸直線導軌的導軌51，固定在X軸進給臺5a的下表面的滑塊51跨架在各導軌51上。由此，X軸進給臺5a能夠由X軸載置臺進給機構5的第I直線電動機20驅動而沿著導軌51在X軸方向往復移動。另外，在X軸進給臺5a上，沿Y軸方向配置有多條Y軸直線導引的導軌53，固定在Y軸進給臺6a的下表面的滑塊54跨架在各導軌53上。由此，Y軸進給臺6a能夠由Y軸載置臺進給機構6的第2直線電動機21驅動而沿著導軌53在Y軸方向往復移動。Y軸載置臺進給機構6與エ件臺2之間設有用于使工作臺2沿上下方向移動的定位分解度較粗、且移動行程及移動速度較大的上下粗調裝置7，和能夠以比上下粗調裝置7更高的分解度進行定位、并使工作臺2上下微動、從而將掩模M與基板W的相對面的間隙微調為規(guī)定量的上下微調裝置8。上下粗調裝置7通過后述的設置在微動載置臺6b上的適當?shù)尿寗訖C構，使工作臺2相對于微動載置臺6b上下移動。固定于工作臺2的底面的4個部位的載置臺粗調軸14與固定于微動載置臺6b的直動軸承14a結合，并相對于微動載置臺6b沿上下方向進行引導。此外，上下粗調裝置7盡管分解度較低，但也優(yōu)選反復定位精度較高的裝置。 上下微調裝置8具有固定于Y軸進給臺6a的固定臺9 ;以及以內端側向斜下方傾斜的狀態(tài)安裝于固定臺9的直線導軌的導向軌道10，經由跨架在該導向軌道10上的滑塊11沿著導向軌道10往返移動的滑動體12上，聯(lián)結有滾珠絲杠的螺母(未圖示)，并且滑動體12的上端面與固定于微動載置臺6b的法蘭盤12a相接觸，井能相對于其在水平方向自由滑動。而且，當利用安裝于固定臺9的電動機17驅動滾珠絲杠的絲杠軸旋轉時，螺母、滑塊11及滑動體12成為一體，沿著導向軌道10斜向移動，由此，法蘭盤12a沿上下微動。需要說明的是，上下微調裝置8中，也可以由直線電動機驅動滑動體12，代替由電動機17與滾珠絲杠對滑動體12的驅動。該上下微調裝置8在Z軸進給臺6a的Y軸方向的一端(圖I的左端)設有I臺、在另一端設有2臺，共計設有3臺，分別被獨立驅動控制。因此，上下微動裝置8基于利用構成后述掩模側位移傳感器27的間隙傳感器所得到的多個部位的掩模M與基板W的間隙量的測量結果，對3個部位的法蘭盤12a的高度獨立進行微調，從而實現(xiàn)對工作臺2的高度及傾斜度進行微調。此外，當利用上下微調裝置8能夠對工作臺2的高度進行充分調節(jié)的情況下，也可以省略上下粗調裝置7。另外，在Y軸進給臺6a上，設有與用于檢測工作臺2的Y方向的位置的Y軸激光干涉儀18對置的條狀鏡組(bar mirror)19和與用于檢測工作臺2的X方向的位置的X軸激光干涉儀對置的條狀鏡組(未圖示)。與Y軸激光干涉儀18對置的條狀鏡組19沿X軸方向配置在Y軸進給臺6a的ー側，與X軸激光干涉儀對置的條狀鏡組沿Y軸方向配置在Y軸進給臺6a的一端。Y軸激光干涉儀18及X軸激光干涉儀支承于裝置底座4，配置成分別與總是與之對應的條狀鏡組對置。需要說明的是，Y軸激光干涉儀18沿X軸方向分開設置2臺。通過2臺Y軸激光干涉儀18，借助條狀鏡組19檢測出Y軸進給臺6a乃至工作臺2的Y軸方向的位置及偏擺誤差。另外，通過X軸激光干涉儀，借助對置的條狀鏡組，檢測出X軸進給臺5a乃至工作臺2的X軸方向的位置。參照圖2，掩模載置臺I具有大致呈長方形的框體形成的掩模基架24 ;以及經由間隙插入并支承于該掩?；?4的中央部開口，并能夠沿Χ、Υ、Θ方向(Χ、Υ平面內)移動的掩?？蚣?5。掩?；?4由從裝置底座4突出設置的支柱4a保持在工作臺2的上方的規(guī)定位置。掩模框架25的中央部開口的下表面,設有框架形狀的掩模保持架26。S卩,在掩模框架25的下表面，設有連接于未圖示的真空式抽吸裝置的多個掩模保持架吸附槽30，通過多個掩模保持架吸附槽30，將掩模保持架26吸附保持在掩?？蚣?5上。掩模保持架26的下表面開設有用于吸附掩模M的未繪制掩模圖案的周緣部的多個掩模吸附槽31，借助掩模吸附槽31，通過未圖示的真空式抽吸裝置，將掩模M把持在掩模保持架26的下表面，并能夠自由裝卸。另外，掩模保持架26的上表面載置有用于覆蓋掩模保持架26的開口的玻璃蓋片32。因此，由掩模保持架26、掩模M及玻璃蓋片32界定出空間33。 掩模保持架26上形成有與空間33連通的抽吸通路34，該抽吸通路34與抽吸機構相連接。并且，在掩模保持架26的上面，與其所載置的玻璃蓋片32相接觸的接合部的一部分，形成有將空間33與外部連通的至少一條(本實施方式中為多條)空氣導入槽(空氣導入通路)35。因而，空間33除了空氣導入槽35的部分以外，呈由外部封閉的狀態(tài)。需要說明的是，圖2中，掩模吸附槽31、抽吸通路34、空氣導入槽35表示在同一剖面上，但不限于此，抽吸通路34、空氣導入槽35能夠形成在俯視時所期望的位置上。例如，當空間33呈與掩模保持架26的外部相連通的結構時，抽吸通路34可以形成在任意的位置。另外，空氣導入槽35的尺寸，S卩，由空氣導入槽35與玻璃蓋片32所形成的剖面尺寸，設定為利用抽吸機構40足以能夠調節(jié)壓力的大小。抽吸機構40具有通過連接管41與空間33相連接并抽吸空間33內部的空氣的風機42及負壓輔助罐43。在連接管41的途中，設有流量計44、流量調節(jié)機構45及壓力調節(jié)機構46，利用這些機構將空間33的壓力調節(jié)至規(guī)定的壓力。具體而言，調節(jié)流量調節(jié)結構和壓力調節(jié)機構，由風機42和負壓輔助罐43抽吸空間33內部的空氣，使該空間33內部的壓力減壓，從而將由于自重而向下方撓曲的掩模M的撓曲修正。另外，因為隨著空間33內部的減壓，外部的空氣經由空氣導入槽35流入到空間33內部，所以空間33內部的壓力由風機42和負壓輔助罐43所致的從空間33抽吸的空氣抽吸量與從空氣導入槽流入的外部空氣的流入量的平衡而決定。另外，為使掩模保持架26不致因掩模M的自重而撓曲，可將掩模保持架26的厚度t選擇為使其表面密度高于掩模M的表面密度。因而，用未圖示的壓力計檢測空間33內部的壓力與大氣壓的壓力差、或空間33內部的壓力與掩模吸附槽31的壓力差，并同時調節(jié)流量計44、流量調節(jié)機構45或壓力調節(jié)機構46，由此就能夠將空間33內部的壓力調節(jié)到規(guī)定的壓力。另外，除了利用空氣導入槽35與抽吸機構40來實現(xiàn)上述平衡的初期的調試時之外，在運轉時，由于只是利用抽吸機構40連續(xù)從空間33抽吸空氣，所以利用簡單的機構就能夠實現(xiàn)空間33內部的穩(wěn)定的壓力，由此能夠修正掩模M的撓曲。并且，當空間33內部的壓力下降時，因為外部的空氣經由空氣導入槽35流入到空間33內部，因此，即使風機42和負壓輔助罐43連續(xù)抽吸空間33內部的空氣，空間33內部的壓力也不會過度下降，不會由于過度的壓力差而損傷掩模M及玻璃蓋片32。
需要說明的是，抽吸機構40可以是至少具有ー個流量計44的結構，另外，也可以是具有流量調節(jié)機構45和壓カ調節(jié)機構46中的任意ー個的結構。另外，如圖3所示，掩模框架25也可以是分割形成多個且能夠相互接近及分離的結構。由此，能夠與掩模M (掩模保持架26)的大小相應地，由掩?？蚣?5以短跨度將掩模保持架26保持，進而能夠修正掩模保持架26的撓曲。其結果是，能夠抑制掩模保持架26的接曲所導致的影響，進一步提聞隱光精度。另外，如圖4所示，因為構成掩模載置臺I的各部件通過真空吸附被吸附保持，所以能夠輕易拆解。因而，例如，在由未圖示的機器人等將掩模M吸附保持于掩模保持架26時，在因掩模M和掩模保持架26的相互干擾而使掩模保持架26的掩模保持面(下表面)受到損傷等情況下，很容易將其拆解，對該掩模保持面進行研磨修復。需要說明的是，回到圖1，在掩模保持架26的上方，分別配置有能夠移動的掩模側位移傳感器27和校準攝相機28，上述掩模側位移傳感器27構成用于測定基板W的上面的高度并測定掩模M與基板W的對向面間的間隙的間隙傳感器，上述校準攝相機28作為拍攝掩模M的對準標記(未圖示)和設于基板W側的對準標記(未圖示)，或者設于工作臺2或掩?；?4的基準對準標記(未圖示)的機構。另外，限制孔徑機構29具有根據(jù)需要遮住保持于掩?？蚣?5的掩模M上的任意范圍的曝光用光的遮光板(未圖不)，由此限制曝光范圍。如上所述，根據(jù)本實施方式的接近式曝光裝置PE，掩模載置臺I具有將掩模M真空吸附并保持于其下表面的掩模保持架26 ;保持于掩模保持架26的上表面?zhèn)鹊牟Ａw片32 ;抽吸由掩模保持架26、掩模M及玻璃蓋片32界定的空間33內部的空氣，使該空間33內部減壓的抽吸機構40 ;以及從外部向被減壓的空間33內部供給空氣的至少ー個空氣導入槽35。而且，將掩模M真空吸附在掩模保持架26的下表面以將掩模M保持，并且，由抽吸機構40抽吸空間33內部的壓力，并經由空氣導入槽35向空間33供給外部的空氣，由此將空間33內部的壓カ調節(jié)為規(guī)定的壓力。由此，掩模載置臺I就能夠以簡單的結構對掩模M的撓曲進行修正并將掩模M保持，從而以高精度將掩模M的圖案曝光復制在基板W上。另外，由于空氣導入槽35配置在玻璃蓋片32與掩模保持架26的接合部，因此，通過只對掩模保持架26進行很少的加工，就能夠低成本且簡單地設置空氣導入槽35。由于掩模載置臺I還具有將掩模保持架26真空吸附并保持于其下表面，由掩模驅動部驅動的掩?？蚣?5，因此，能夠輕易地將掩?？蚣?5與掩模保持架26拆解，從而能夠簡單地進行掩模保持架26損傷時的修復作業(yè)。圖5是第I實施方式的第I變形例，掩?？蚣?5在其與掩模保持架26的接合面上形成有凹部25a。另外，在掩模保持架26上，形成有與凹部25a對置的突起部26a。而且，在將掩模保持架26真空吸附于掩?？蚣?5時，通過將突起部26a與凹部25a卡合并吸附，能夠將掩?？蚣?5以高位置精度保持于掩模保持架26。另外，盡管一旦掩模保持架26產生撓曲，掩模保持架26與掩模M之間就會發(fā)生打滑，掩模M的撓曲狀態(tài)有可能發(fā)生變化,但由于掩模框架25的凹部25a與掩模保持架26的突起部卡合，抑制了掩模保持架26的撓曲，降低了對掩模M的影響。而且，凹部25a與突起部26a的卡合還起著作為掩模保持架26的防脫落裝置的功能。需要說明的是，在掩?？蚣?5上形成凹部25a，在掩模保持架26上形成了突起部26a，但也可以相反，在掩?？蚣?5上設置突起部，在掩模保持架上設置凹部，使兩者卡合。圖6表示第I實施方式的第2變形例，是掩模保持架支承機構的機理說明示意圖。掩模保持架支承機構60包括掩模保持架支承體61和驅動機構62。在掩模保持架支承體61的頂端，形成有掩模保持架承受部61a，其為能夠與設置在掩模保持架26的下部外周緣部的傾斜面26b結合的傾斜面。掩模保持架支承體61由設于掩模框架25下表面的導向部件63導向，能夠在接近或遠離掩模保持架26的方向移動。驅動機構62由氣缸機構組成,掩模保持架支承體61固定于氣缸64的活塞桿65 。而且，通過使氣缸64動作而使活塞桿65伸長，由此使掩模保持架支承體61的掩模保持架承受部61a與掩模保持架26的傾斜面26b結合，從下方支承掩模保持架26，即使在不期然間掩模保持架吸附槽30的壓力發(fā)生了變動的情況下，也能夠可靠地防止掩模保持架26從掩?？蚣?5脫落。需要說明的是，掩模保持架26也可以具有與掩模保持架支承機構60相同的機理，配置不從掩模M的下表面向下方突出的掩模支承機構，來支承掩模M的下表面，從而防止掩模M的脫落和撓曲。圖7 Ca)是第I實施方式的第3變形例的掩模載置臺的主要部位放大剖視圖，該掩模載置臺具有保持機構70，以將載置于掩模保持架26的上表面的玻璃蓋片32保持在規(guī)定的位置。保持機構70具有固定于掩模保持架26的上表面的基部71 ;和以設于基部71的栓銷為中心自由旋轉，且沿著掩模保持架26全周配置的玻璃壓件73。玻璃壓件73如圖中虛線所示，在其垂直豎立的狀態(tài)下，將玻璃蓋片32置于掩模保持架26的上表面之后，將該壓件大約轉動90°，而變成水平狀態(tài)，從而壓在玻璃蓋片32的上表面，由此將玻璃蓋片32固定在掩模保持架26的規(guī)定的位置。由此防止了玻璃蓋片32的錯動，消除了玻璃蓋片32的錯動而導致的對曝光精度的影響。圖7 (b)是第I實施方式的第4變形例的掩模載置臺的主要部分放大剖視圖，作為保持機構，在玻璃蓋片32的周圍與掩模保持架26的階梯部之間，配置有由橡膠等彈性體形成的填料74。由此將玻璃蓋片32固定在掩模保持架26的規(guī)定的位置，從而能夠防止玻璃蓋片32的錯動。需要說明的是，在第3及第4變形例中，可以配置保持機構70和填料74以確保具有空氣導入槽35，或者也可以繞過沿玻璃蓋片32 —周形成的保持機構70或填料74，形成空氣導入槽35。(第2實施方式)圖8 (a)為本發(fā)明第2實施方式的掩模載置臺的簡要結構的剖視示意圖，(b)為空氣導入槽的剖視示意圖。需要說明的是，在本實施方式中，在掩模載置臺的結構方面與第I實施方式不同，其它部分與第I實施方式相同。與第I實施方式相同或等同的部分標注相同符號或相應符號，簡化或省略其說明。掩?？蚣?5的下表面開設有用于吸附玻璃蓋片32的周緣部的多個玻璃蓋片吸附槽36，由未圖示的真空式吸附裝置借助玻璃蓋片吸附槽36將玻璃蓋片32真空吸附并保持于掩?？蚣?5。另外,在掩模框架25的下表面，由螺栓等緊固部件將掩模保持架26與掩?？蚣?5固定為實質上呈一體。由此，由掩?？蚣?5、掩模保持架26、掩模M及玻璃蓋片32界定成空間33。
另外，如圖8 (b)所示，在未開設玻璃蓋片吸附槽36的掩模框架25的邊緣，在其與掩模保持架26接合的接合部的一部分，形成有將空間33和外部連通的至少ー個空氣導入槽(空氣導入通路)35。優(yōu)選將空氣導入槽(空氣導入通路)35設于掩模保持架26的中央部，以避免在掩模保持架26的內部產生壓力差。因而，除了空氣導入槽35的部分，空間33呈由外部封閉的狀態(tài)。需要說明的是，盡管在本實施方式中，空氣導入槽35形成于掩模框架25側，但也可形成于掩模保持架26側，另外，空氣導入槽35的數(shù)量可為任意值。如上所述，根據(jù)本實施方式的接近式曝光裝置PE，掩模載置臺I具有掩?？蚣?5，其下表面安裝有掩模保持架26，并將玻璃蓋片32真空吸附保持 于其下表面，由掩?？蚣?5、掩模保持架26、掩模M及玻璃蓋片32界定的空間33通過設于掩模框架25與掩模保持架26的接合部的空氣導入槽35而與外部連通，因此能夠實現(xiàn)與圖2所示第I實施方式的接近式曝光裝置PE同樣的效果。圖9表示第2實施方式的變形例的掩模載置臺的簡要結構，相當于圖8 Ca)的剖視圖。該變形例的掩模載置臺I在被真空吸附保持的玻璃蓋片32與掩?？蚣?5的接合部，配設有位于玻璃蓋片吸附槽36的外側的0形環(huán)等密封部件37，以防止漏氣。需要說明的是，與圖8 (b)同樣,在未開設玻璃蓋片吸附槽36的掩?？蚣?5的邊緣,在掩模框架25與掩模保持架26的接合部的一部分，形成有未圖示的空氣導入槽。此外，本發(fā)明并不限于上述實施方式及變形例，可適當進行變形和改良等。需要說明的是，在上述實施方式中，本發(fā)明的空氣導入通路由空氣導入槽35構成，但并不限于此，例如，也可于掩模保持架26或玻璃蓋片32，形成將空間33與外部連通的貫通孔。
權利要求
1.一種接近式曝光裝置，其特征在于，具有 基板載置臺，其保持作為被曝光件的基板； 掩模載置臺，其保持具有需曝光圖案的掩模；以及 照射單元，其借助所述掩模對所述基板照射圖案曝光用光， 所述接近式曝光裝置在所述掩模與所述基板接近，并以規(guī)定的曝光間隙對向配置的狀態(tài)下，將所述掩模的圖案曝光復制在所述基板上， 所述掩模載置臺具有 掩模保持架，其將所述掩模真空吸附保持于其下表面； 玻璃蓋片，其被保持在所述掩模保持架的上表面?zhèn)龋? 抽吸機構，其抽吸至少由所述掩模保持架、所述掩模及所述玻璃蓋片所界定的空間內部的空氣，使所述空間內部減壓；以及 空氣導入通路，其從外部向被減壓的空間內部供給空氣，且所述空氣導入通路至少有一條。
2.根據(jù)權利要求I所述的接近式曝光裝置，其特征在于， 所述空氣導入通路是配置于所述玻璃蓋片與所述掩模保持架的接合部的空氣導入槽。
3.根據(jù)權利要求I或2所述的接近式曝光裝置，其特征在于， 所述掩模載置臺還具有掩?？蚣埽鲅谀？蚣軐⑺鲅谀１３旨苷婵瘴讲⒈３钟谒鲅谀？蚣艿南卤砻?，所述掩模載置臺由掩模驅動部來驅動。
4.根據(jù)權利要求3所述的接近式曝光裝置，其特征在于， 所述掩模保持架的上表面具有突起部或凹部， 所述掩?？蚣艿南卤砻婢哂邪疾炕蛲黄鸩?， 所述掩模保持架的所述突起部或所述凹部與所述掩?？蚣艿乃霭疾炕蛩鐾黄鸩靠ê希瑢⑺鲅谀１３旨鼙３衷谒鲅谀？蚣艿南卤砻妗?br> 5.根據(jù)權利要求3或4所述的接近式曝光裝置，其特征在于， 所述掩?？蚣苓€具有掩模保持架支承機構，所述掩模保持架支承機構支承所述掩模保持架，防止所述掩模保持架從所述掩?？蚣苊撀?。
6.根據(jù)權利要求I 3中任意一項所述的接近式曝光裝置，其特征在于， 所述掩模保持架具有保持機構，所述保持機構將所述玻璃蓋片保持在所述掩模保持架的規(guī)定的位置。
7.根據(jù)權利要求6所述的接近式曝光裝置，其特征在于， 所述掩模保持架選擇其表面密度高于掩模M的表面密度的構件。
8.根據(jù)權利要求I所述的接近式曝光裝置，其特征在于， 所述掩模載置臺具有掩?？蚣?，所述掩模框架的下表面安裝有所述掩模保持架，并且將所述玻璃蓋片真空吸附并保持于所述掩模保持架的下表面， 所述空間由所述掩?？蚣堋⑺鲅谀１３旨?、所述掩模及所述玻璃蓋片所界定， 所述空氣導入通路是配置在所述掩?？蚣芘c掩模保持架的接合部的空氣導入槽。
9.根據(jù)權利要求8所述的接近式曝光裝置，其特征在于， 所述空氣導入通路設置在掩模保持架的中央部。
10.一種接近式曝光方法，其利用權利要求I 9中任意一項所述的接近式曝光裝置，在所述掩模與所述基板接近并以規(guī)定的曝光間隙對向配置的狀態(tài)下，將所述掩模的圖案曝光復制在所述基板上， 其特征在于，其具有 將所述掩模真空吸附在所述掩模保持架的下表面，并保持所述掩模的工序；和在由所述抽吸機構抽吸所述空間內部的壓力的同時，經由所述空氣導入通路向所述空間供給所述外部的空氣，從而將所述空間內部的壓力調節(jié)為規(guī)定的壓力的工序。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種接近式曝光裝置及曝光方法，其能以簡單結構對掩模撓曲進行修正并保持掩模，以高精度進行曝光復制。該掩模載置臺(1)具有將掩模(M)真空吸附并保持于其下表面的掩模保持架(26)；保持于掩模保持架(26)上表面?zhèn)鹊牟Ａw片(32)；對由掩模保持架(26)、掩模(M)及玻璃蓋片(32)界定的空間(33)內的空氣進行抽吸，使空間(33)內部減壓的抽吸機構(40)；和從外部向減壓空間(33)內供給空氣的至少一條空氣導入槽(35)。在將掩模(M)真空吸附并保持于掩模保持架(26)的下表面，并由抽吸機構(40)抽吸空間(33)內壓力的狀態(tài)下，經空氣導入槽(35)向空間(33)供給外部空氣，將空間(33)內壓力調節(jié)為規(guī)定壓力。
文檔編號G03F1/64GK102955373SQ20121028524
公開日2013年3月6日 申請日期2012年8月10日 優(yōu)先權日2011年8月10日
發(fā)明者湯口悟, 佐藤雅之 申請人:恩斯克科技有限公司