專利名稱：復合相位差板、復合偏振片及它們的制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及エ序上容易制造、操作，且能夠利于顯示器薄型化的復合相位差板、含有該復合相位差板的復合偏振片以及它們的制造方法。
背景技術：
用于體現(xiàn)立體圖像的液晶顯示裝置等顯示器經常含有圖案化相位差膜(patterned retarder)。圖案化相位差膜在彼此不同的方向形成各圖案區(qū)域的光軸,使傳遞到戴有偏光眼鏡的觀眾的左右眼的圖像不同，由此體現(xiàn)立體圖像。、
圖案化相位差膜可以如下構成，即在玻璃基板上形成取向膜，在該取向膜上涂布液晶并使其取向。光反應性液晶物質在取向膜上取向后，在紫外線等光的照射下發(fā)生交聯(lián)化，從而變成高分子液晶膜的形態(tài)。此時，通過與取向膜的表面取向對應的液晶的取向方向，能夠發(fā)揮相位差膜圖案的功能。但是，在如上述那樣使用玻璃基板作為基材時，在卷對卷(Roll to Roll)エ序中，無法將相位差板與偏振片連接。另外，與膜相比，玻璃基板價格高，不僅在エ序上難以操作，還存在為了抑制玻璃的高反射率所導致的視覺降低而必須實施防反射涂布之類的問題。另外，為了改善光的低反射或表面強度等而在圖案化相位差膜的上部層疊表面處理層吋，由于在基材膜上形成上述表面處理層，并利用粘接劑或粘合劑連接該基材膜與所述液晶涂層，所以難以使偏振片的厚度變薄。為了偏振片的薄型化，提出了在形成有所述液晶涂層的基材的另一面形成表面處理層的方法，但在這種情況下，需要依次層疊偏振鏡、液晶涂層、基材及表面處理層，存在無法用水系粘接劑與偏振鏡連接的液晶涂層與偏振鏡鄰接的問題。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提供一種可以通過在膜上形成涂層的方法等簡單制造的復合相位差板及其制造方法。本發(fā)明的目的在于提供一種適合用于薄型顯示器的復合相位差板及其制造方法。本發(fā)明的目的在于提供ー種包括所述復合相位差板的復合偏振片及其制造方法。I. 一種復合相位差板，其含有基材、形成于所述基材上面的液晶涂層和形成于所述液晶涂層上面的表面處理涂層，對所述液晶涂層上面實施了電暈或等離子體放電處理。2.如上述第I項所述的復合相位差板，其中，所述液晶涂層是相位差延遲層。3.如上述第2項所述的復合相位差板，其中，所述相位差延遲層是在取向膜上涂布反應性液晶物質而形成的入/4相位差層。4.如上述第I項所述的復合相位差板，其中，所述表面處理涂層是選自由保護層、防眩層、防反射層、防帶電層及硬涂層組成的組中的ー種以上功能性層。5.如上述第I項所述的復合相位差板，其中，所述液晶涂層上面的水接觸角為30 83°。
6.如上述第I項所述的復合相位差板，其中，所述液晶涂層上面的水接觸角為30 60°。7.如上述第I項所述的復合相位差板，其中，所述液晶涂層的正面相位差值及厚度方向的相位差值，在所述電暈或等離子體放電處理前后分別產生3. 5nm以下的差。8.如上述第I項所述的復合相位差板，其中，所述液晶涂層的正面相位差值及厚度方向的相位差值，在所述電暈或等離子體放電處理前后分別產生2. 5 3. 5nm的差。9.如上述第I項所述的復合相位差板，其中，以200 300J/m2實施所述電暈處理。10.如上述第I項所述的復合相位差板，其中，所述基材是高分子膜或玻璃基板。11. 一種復合偏振片，其中，在偏振鏡的上面連接上述第I 10項中任一項所述的復合相位差板，在所述偏振鏡的下面連接偏振鏡保護膜。12.如上述第11項所述的復合偏振片，其中，在所述偏振鏡保護膜的下面形成粘 合劑層。13. 一種復合相位差板的制造方法，包括在基材上形成取向膜后，在所述取向膜上形成液晶涂層的第I階段；在所述液晶涂層的上面實施電暈或等離子體處理的第2階段；和在實施了所述電暈或等離子體處理的液晶涂層上形成表面處理涂層的第3階段。14.如上述第13項所述的復合相位差板的制造方法，其中，所述基材是高分子膜或玻璃基板。15.如上述第13項所述的復合相位差板的制造方法，其中，在200 300J/m2下實施所述電暈處理。16. 一種復合偏振片的制造方法，包括下述エ序，即利用卷對卷連接將上述第I 10項中任一項所述的復合相位差板連接在偏振鏡上面，將偏振鏡保護膜連接在所述偏振鏡的下面。本發(fā)明通過以膜或涂層的形態(tài)僅包括用于發(fā)揮功能所必需的層，能夠提供對顯示器的薄型化有利的復合相位差板(具有相位差功能的表面處理涂膜)及含有該復合相位差板的復合偏振片。本發(fā)明通過使用膜形態(tài)的高分子基材代替玻璃基材，可以提供能夠通過卷對卷與偏振鏡連接的復合相位差板。本發(fā)明的復合相位差板由于可以在液晶涂層上直接形成表面處理涂層來進行制造，所以無需用于附加表面處理層(功能性層)的其他基材及粘接劑層或粘合劑層，并且適合用作薄型立體圖像顯示器用相位差膜。


圖I是連接有本發(fā)明的復合相位差板的偏振片的一例。圖2是表示連接了具有現(xiàn)有結構的相位差板的偏振片的圖。
具體實施例方式本發(fā)明通過對形成于高分子基材膜上的液晶涂層的一面實施電暈或等離子體處理，以提高連接カ，然后在其上直接形成表面處理涂層，不僅能夠在不使用玻璃基材等的情況下以簡單的エ序進行制造，而且無需用于附加功能性層的其他基材和粘接劑層，適合用作用于薄型顯示器的相位差膜。以下，更詳細地說明本發(fā)明。本發(fā)明的復合相位差板包括高分子基材膜、形成于該高分子基材膜上的液晶涂層和形成于該液晶涂層上的表面處理涂層。作為高分子基材膜，只要是通常用作光學用透明膜的高分子基材膜即可，可以沒有特別限定地使用，其中，優(yōu)選使用透明性、機械強度、熱穩(wěn)定性、防水性、相位差均勻性、各向同性等優(yōu)異的膜。作為高分子基材膜的材料，例如，可以使用選自聚烯烴類樹脂、聚酯類樹脂、纖維素類樹脂、聚碳酸酯類樹脂、丙烯酸類樹脂、苯こ烯類樹脂、氯こ烯類樹脂、酰胺類樹脂、酰亞胺類樹脂、聚醚砜類樹脂、砜類樹脂、聚醚砜類樹脂、聚醚醚酮類樹脂、聚苯硫類樹脂、こ烯醇類樹脂、偏氯こ烯類樹脂、聚こ烯醇縮丁醒類樹脂(vinyl butyral resin)、芳基化樹脂(arylate resin)、聚甲醒類樹脂及環(huán)氧類樹脂中的材料。
高分子基材膜的厚度也不限定于特定的范圍，例如通常可以使用厚度為5 100 u m的高分子基材膜，優(yōu)選厚度為15 60 ii m。如果高分子基材膜的厚度小于5 u m,則膜的機械強度差，超過100 i! m吋，不利于薄型化，故而不優(yōu)選。本發(fā)明的液晶涂層形成于高分子基材膜上。液晶涂層發(fā)揮使通過偏振鏡的光的相位差延遲的作用。液晶涂層不限定于僅使光的相位差延遲特定波長的層，也可以為3入/4相位差層、入/2相位差層、入/4相位差層等，但優(yōu)選通常使用的、在取向膜上涂布反應性液晶物質而形成的、/4相位差層。A /4相位差層的制造方法沒有特別限定。例如，可以通過在高分子基材膜上形成取向膜，并在該取向膜上使液晶進行光取向的方法制造。但是，本發(fā)明中，入/4相位差層僅限定于涂布形態(tài)的層，不包括傾斜拉伸得到的、/4相位差膜等。取向膜只要是在該技術領域中通常使用的取向膜即可，沒有特別限定，例如優(yōu)選使用有機取向膜?？梢允褂煤斜┧狨ヮ悺⒕埘啺奉惢蚓埘０匪岬娜∠蚰そM合物來形成有機取向膜。聚酰胺酸是使ニ胺(di-amine)與ニ酸酐(dianhydride)反應得到的聚合物,聚酰亞胺是將聚酰胺酸酰亞胺化得到的，對它們的結構沒有特別限定。對于取向膜組合物，重要的是具有適當?shù)恼扯?。粘度過高時，即使施加壓力，也不容易流動，并且難以形成具有均勻厚度的取向膜，粘度過低時，雖然擴散性良好，但難以調節(jié)取向膜的厚度。例如粘度優(yōu)選為8 13cP。另外，優(yōu)選考慮表面張力、固態(tài)成分的含量及溶劑的揮發(fā)性等。特別是，由于固態(tài)成分的含量影響粘度及表面張力，所以優(yōu)選同時考慮取向膜的厚度及固化特性等來進行調節(jié)。固態(tài)成分的含量過高時，粘度高導致取向膜的厚度増加，含量過低時，溶劑的比例高，存在溶液干燥后產生污點的問題。例如，優(yōu)選固態(tài)成分的含量為0. I 10重量％。取向膜組合物優(yōu)選為丙烯酸酯類、聚酰亞胺類或聚酰胺酸等固態(tài)成分溶解于溶劑得到的溶液狀。對于溶劑，并不特別限定于能夠使固態(tài)成分溶解，具體而言，可以使用丁基溶纖劑、Y-丁內酷、N-甲基-2-吡咯烷酮、ニ丙甘醇單甲基醚等。適當混合使用上述溶剤，以形成同時考慮了溶解度、粘度、表面張カ等的均勻的取向膜。
此外，為了形成有效的取向膜，還可以在取向膜組合物中添加交聯(lián)劑及偶聯(lián)劑等，進行混合。取向膜是通過在高分子基材膜的一面涂布取向膜組合物而制造的。對于涂布，只要是通常用于本技術領域的方法即可，沒有特別限定。例如，可以使用以下涂布方法，并通過適當?shù)恼归_方式直接涂布取向膜組合物，所述涂布方法為流動鑄造法及氣刀法(air knife)、凹版印刷法(gravure)、逆轉棍涂布法(reverse roll)、棍甜涂布法(kiss roll)、噴霧法(spray)或刮刀涂布法(blade)等涂布方法。為了提高取向膜組合物的涂布效率，可以增加實施干燥エ序。對于干燥沒有特別限定，通常，可以使用熱風干燥機及遠紅外線加熱器來進行干燥，干燥溫度通常為30 100°C，優(yōu)選為50 80°C，干燥時間通常為30 600秒，優(yōu)選為、120 600 秒。然后，對形成的取向膜賦予取向性。取向性的賦予方法包括摩擦方式、光取向方式等，但并不特別限定于此。例如，也可以對所形成的整個取向膜賦予取向性，并且可以在涂布了一部分涂布取向膜或者全部涂布取向膜后，通過利用光掩模的曝光エ序制造被圖案化的取向膜，并使其具有彼此不同的取向方向。另外，對于所形成的取向膜，定位具有透光部及遮光部的第一光掩模，實施第一次曝光エ序，然后，定位使第一光掩模的透光部及遮光部的位置逆轉的第ニ光掩模，實施第二次曝光エ序，由此可以制造被圖案化的取向膜，并使其具有彼此不同的光軸。用于曝光的光沒有特別限定，例如可以照射偏振后的紫外線、以規(guī)定的角度照射離子束或等離子體束及照射放射線等。例如，優(yōu)選照射經偏振的紫外線。在被取向的取向膜上形成液晶涂層。液晶涂層是通過將液晶涂布用組合物涂布在被圖案化的取向膜上而形成的?？梢允褂玫囊壕坎加媒M合物具有光學各向異性，并含有具有光交聯(lián)性的液晶化合物。例如優(yōu)選使用反應性液晶単體(RM)。所謂反應性液晶単體，是指含有能與可以呈現(xiàn)液晶性的液晶原(mesogen)聚合的末端基團、并具有液晶狀態(tài)的單體分子。將反應性液晶單體聚合吋，能夠得到ー邊保持液晶的排列狀態(tài)，一邊進行交聯(lián)的高分子網絡。當從清亮點(clearing point)冷卻時，與使用相同結構的液晶高分子的情況相比，反應性液晶単體分子能夠在液晶狀態(tài)下，以相對較低的粘度得到具有更好取向的構造的大面積區(qū)域。如上所述形成的大面積的液晶狀交聯(lián)網絡膜，由于保持液晶本來所具有的光學各向異性及介電常數(shù)等特性，同時具有固體狀的薄膜形態(tài)，所以在機械及熱方面穩(wěn)定。為了確保涂布エ序的效率及涂層的均勻性，用溶劑稀釋液晶涂布用組合物后進行使用，優(yōu)選溶解在可以使液晶化合物溶解的溶劑中，并具有均勻性。例如，反應性液晶單體使用能使其溶解的溶劑，制備液晶涂布用組合物，具體而言，所述溶劑使用選自丙ニ醇單甲基醚こ酸酯(PGMEA)、甲基こ基酮(MEK)、ニ甲苯(xylene)及氯仿中的一種溶劑或ニ種以上的混合溶劑。此時，調整反應性液晶單體在液晶涂布用組合物中的含量，使其為15 30重量％,當濃度小于15重量％時,不能體現(xiàn)相位差，當濃度超過30重量％時,反應性液晶單體析出，存在難以形成均勻的液晶涂層的問題。 涂布方法沒有特別限定，例如，可以舉出旋涂(spin coating)、棍涂、滴涂(dispensing coating)或凹版印刷涂布等。優(yōu)選根據(jù)涂布方法適當選擇溶劑的種類及使用量。涂布液晶涂層，使其干燥后的厚度達到0. 01 10iim。在該厚度范圍，可以容易地形成均勻的相位差膜圖案。通過干燥エ序使溶劑蒸發(fā)。對干燥沒有特別限定，通?？梢允褂脽犸L干燥機及遠紅外線加熱機進行干燥，干燥溫度通常為30 100°C，優(yōu)選為50 80°C，干燥時間通常為30 600秒，優(yōu)選為120 600秒。另外，可以在同一溫度條件下進行干燥，或者可以階段地升高溫度來進行干燥。使形成于取向膜上的液晶涂層進行光交聯(lián)來形成圖案化相位差膜。此處，對光沒有特別限定，例如可以使用紫外線等。本發(fā)明的表面處理涂層形成于液晶涂層上。表面處理涂層包括可以對顯示器賦予各種功能的多個功能性層。例如，可以是選自保護層、防眩層、防反射層、防帶電層及硬涂層中的功能性層。具體而言，保護層是用于防止偏振片及圖案化的相位差層的表面裂紋或損傷的層。防眩層是利用噴砂加工、壓花加工等進行粗糙化，或涂布混有透明微粒的涂敷液，從而在表面形成微細凹凸的層。防反射層是用于防止外光在偏振片的表面反射，導致阻礙透過光識別的層，是由利用蒸鍍法或濺射法形成的金屬氧化物薄膜構成的層。防帶電層是用于防止因靜電附著灰塵等的層，是由含有防帶電劑的紫外線固化型樹脂形成的層。另外，硬涂層是用于防止在偏振片的表面發(fā)生裂縫或損傷的層，是使用丙烯酸類樹脂或有機硅類樹脂等紫外線硬化型樹脂形成的，并發(fā)揮硬度及滑動性優(yōu)異的固化薄膜的作用。上述表面處理涂層形成在經電暈或等離子體處理的液晶涂層上。如果不對液晶涂層的表面實施電暈或等離子體處理，則涂布性差。電暈放電處理包括下述エ序，即在與高壓發(fā)生器連接的電極與作為電介質的輥之間施加高電壓，將液晶涂層配置在輥與電極之間產生的電暈放電中，或者暴露于該放電中。通常,將施加于輥與電極之間的高電壓的頻率稱為放電頻率,放電頻率通常在50Hz 5000kHz的范圍，優(yōu)選在5 數(shù)百kHz的范圍。放電頻率過低時，放電變得不穩(wěn)定，有可能在液晶涂層的表面產生大量針孔，放電頻率過高時，還需要阻抗匹配用裝置，導致處理成本增カロ。電暈放電處理在大氣下容易實施，但也能在填充有空氣以外的氣體或者填充有空氣-污染氣體的密封或半密封處理裝置中實施。作為氣體的例子，包括氮氣、氬氣及氧氣。本發(fā)明中，利用在取向膜上形成液晶涂布的方法得到\ /4相位差層的情況下，為了正常地改善其表面的潤濕性和涂布性，例如可以以50 500J/m2的量、優(yōu)選200 300J/m2的量實施電暈放電處理。如果電暈放電處理的量未包含在所述范圍，則不能充分提高涂、布性，或者給液晶涂層的正面相位差值Re或厚度方向相位差值Rth帶來影響，難以期待所希望的相位差延遲的效果。輥與電極的間隔優(yōu)選為0. 5 2. 5mm，較優(yōu)選為I. 0 2. 0mm。本發(fā)明中使用的等離子體處理包括真空輝光放電、大氣壓輝光放電等。例如，可以使用特開平6-123062號公報、特開平 11-293011號公報、特開平11-5857號公報等記載的方法。在利用輝光放電的等離子體發(fā)生裝置中，在相対的電極間配置用于賦予它們親水性的膜，并向該裝置中導入等離子體激發(fā)性氣體，然后在電極間施加高頻電壓，由此使所述氣體激發(fā)等離子體，使電極間進行輝光放電，由此可以實施表面處理。所謂等離子體激發(fā)性氣體，是指能夠在上述條件下進行等離子體激發(fā)的氣體，可以舉出氬、氦、氖、氪、氙、氮、ニ氧化碳等。例如，可以使用下述氣體作為激發(fā)性氣體，即在氬、氖等惰性氣體中添加可以將羧基及羥基、羰基等極性官能團賦予塑料膜表面的反應性氣體而得到的氣體。作為反應性氣體，除可以使用氫、氧、氮之外，可以使用水蒸氣及氨等氣體，還可以根據(jù)需要使用低級烴、酮等低沸點有機化合物等，但考慮到操作方面，優(yōu)選氫、氧、ニ氧化碳、氮、水蒸氣等的氣體。使用水蒸氣時，可以使用將其他氣體與水混合后進行起泡而得到的氣體?；蛘咭部梢曰旌纤魵狻Ｗ鳛槭┘拥母哳l電壓的頻率，優(yōu)選IkHz以上IOOkHz以下，較優(yōu)選IkHz以上IOkHz以下。利用上述輝光放電進行的等離子體處理中，有在真空下進行的方法和在大氣壓下進行的方法。在利用輝光放電進行的真空等離子體放電處理中，為了有效地引起放電，必須導入反應性氣體，使得該氛圍氣體維持在0. 005 20torr，優(yōu)選維持在0. 02 2torr。為了提高處理速度，優(yōu)選盡可能采用高壓側的高輸出條件，但電場強度過高時，會給基材帶來損傷。壓カ過低時，無法提供表面處理所帯來的效果。另ー方面，壓カ過高吋，過量電流流過，導致產生火花，或者會破壞涂層。為了引起放電，電壓施加在真空罐內的一對(或一對以上)的金屬板或棒之間。電壓取決于氣體及該壓力，但為了在所述壓カ范圍內引起穩(wěn)定的正常輝光放電，通常為500 5000V。為了改善粘接，優(yōu)選為2000 4000V。液晶涂層、特別是\ /4相位差層，優(yōu)選以0. 01 5kV A 分鐘/m2、較優(yōu)選以0. 15 IkV A 分鐘/m2的量進行輝光放電處理，可以得到所希望的粘接強度。通過電暈或等離子體處理，液晶涂層的正面及厚度方向的相位差值與電暈或等離子體處理前的正面及厚度方向的相位差值相比，分別變化3. 5nm以下，這在呈現(xiàn)所期望的光學特性方面是優(yōu)選的。并且，如果考慮表面處理涂層的粘接性，則優(yōu)選電暈或等離子體處理后的正面及厚度方向的相位差值與電暈或等離子體處理前的正面及厚度方向的相位差值相比，分別具有2. 5 3. 5nm的差。在電暈或等離子體處理后，與表面處理涂層接觸的面的水接觸角為30 83 ° (優(yōu)選為30 60° )的液晶涂層，涂布性優(yōu)異，并且有利于呈現(xiàn)液晶涂層的光學各向異性。在液晶涂層上形成本發(fā)明的表面處理涂層的方法不限定于特定的方法。例如，可以使用旋涂、輥涂、滴涂或凹版印刷涂布等，優(yōu)選根據(jù)涂布方法適當選擇溶劑的種類及使用量。如上所述所構成并制造的復合相位差板與偏振鏡的任意一面相連接?？梢允褂迷陲@示器領域中通常用于膜的連接的粘接劑或粘合劑進行連接。對于偏振鏡，只要是本技術領域中通常使用的偏振鏡且能實行偏振功能即可，沒有特別限定。例如可以使用使聚こ烯醇膜進行碘及異色性染料染色，并將其沿一定方向拉伸所制造的偏振鏡。在偏振鏡的未連接復合相位差板的另一面，連接偏振鏡保護膜。偏振鏡保護膜通常使用三こ?；w維素類膜、環(huán)烯烴類膜等。另ー方面，在包括偏振片及被圖案化的相位差層的顯示器裝置中，可以具備本發(fā)、明的復合相位差板及復合偏振片。對于顯示器裝置沒有特別限定，具體地可以使用立體畫像體現(xiàn)用液晶顯示器裝置或半透過型液晶顯示器裝置、等離子體顯示器裝置、有機EL顯示器裝置等。此時，可以在層疊現(xiàn)有的偏振片及被圖案化的相位差層的位置使用本發(fā)明的復合偏振片?？梢酝ㄟ^下述實施例更詳細地理解本發(fā)明，但下述實施例僅是本發(fā)明的例子，而不是限定由添附的權利要求書確定的權利范圍。實施例1-6及比較例1-3[實施例I]針對在作為基材膜的三こ?；w維素(TAC)膜上層疊由液晶得到的\ /4相位差層而得到的層疊體(日本富士公司制)的入/4相位差層，以電力1.4KW、3.8m/分鐘的膜速度連續(xù)實施2次(74. 27J/m2)電暈處理。然后,在實施了上述電暈處理的面上,使用邁耶棒(meyer bar)均勻地涂布硬涂用涂布液后，在80°C的烘箱中熱風干燥90秒，用紫外線固化器使其進行光固化，制作依次層疊三こ?；w維素(TAC)膜、入/4相位差層及硬涂層得到的復合相位差板。[實施例2]除了將電暈處理條件變?yōu)橐噪姤獻. 4KW、3. 8m/分鐘的膜速度實施4次(148. 54J/m2)之外，利用與實施例I相同的方法制作復合相位差板。[實施例3]除了將電暈處理條件變?yōu)橐噪姤獻. 4KW、3. 8m/分鐘的膜速度實施8次(297. 09J/m2)之外，利用與實施例I相同的方法制作復合相位差板。[實施例4]對入/4相位差層以電力I. 3kW、6m/分鐘的膜速度實施等離子體處理來代替實施電暈處理，除此之外，利用與實施例I相同的方法制作復合相位差板。[實施例5]除了將等離子體處理條件變?yōu)殡娏?. 3kW、膜速度6m/分鐘之外，利用與實施例4相同的方法制作復合相位差板。[實施例6]除了將等離子體處理條件變?yōu)殡娏?. 3kW、膜速度6m/分鐘之外，利用與實施例4相同的方法制作復合相位差板。[比較例I]不對實施例I的層疊體(日本富士公司制)的入/4相位差層實施特別處理，除此之外，利用與實施例I相同的方法制作復合相位差板。[比較例2]將實施例I的層疊體在45°C的4. 5N KOH水溶液中浸潰80秒，用蒸餾水洗滌，且在80°C的烘箱中熱風干燥2分鐘，對所述\ /4相位差層的表面實施堿化處理，除此以外，利用與實施例I相同的方法制作復合相位差板。[比較例3]除了將堿化處理條件設定為在45°C的4. 5N KOH水溶液浸潰200秒之外，利用與比較例2相同的方法制作復合相位差板。試驗例利用下述方法測定實施例I 6及比較例I 3的復合相位差板的物性。結果示于表I。(I)接觸角利用分析儀器(DSA100、KRUSS公司制、德國)，在實施例I 6及比較例2 3的情況下，測定實施電暈處理、堿化處理或等離子體處理后的入/4相位差層的接觸角，在比較例I的情況下，測定未實施特別處理的狀態(tài)下的入/4相位差層的接觸角。使用水作為試驗液。(2)光學各向異性的測定使用EX0SCAN儀(EXOSCAN meter)測定590nm下的入/4相位差層的正面相位差值Re及厚度方向相位差值Rth。(3)涂布性觀察形成于液晶層上的硬涂層的表面的外觀、不均等，評價表面的均勻程度。將其均勻程度以優(yōu)秀◎、良好〇及不良X的3個等級進行評價。表I
權利要求
1.一種復合相位差板，包括基材；形成于所述基材上面的液晶涂層；形成于所述液晶涂層上面的表面處理涂層，其特征在干，對所述液晶涂層上面實施電暈或等離子體放電處理。
2.如權利要求I所述的復合相位差板，其特征在于，所述液晶涂層是相位差延遲層。
3.如權利要求2所述的復合相位差板，其特征在于，所述相位差延遲層是在取向膜上涂布反應性液晶物質而形成的λ/4相位差層。
4.如權利要求I所述的復合相位差板，其特征在于，所述表面處理涂層是選自由保護層、防眩層、防反射層、防帶電層及硬涂層組成的組中的ー種以上功能性層。
5.如權利要求I所述的復合相位差板，其特征在于，所述液晶涂層上面的水接觸角為30 83°。
6.如權利要求I所述的復合相位差板，其特征在于，所述液晶涂層上面的水接觸角為30 60°。
7.如權利要求I所述的復合相位差板，其特征在于，所述液晶涂層的正面相位差值及厚度方向的相位差值，在所述電暈或等離子體放電處理前后分別產生3. 5nm以下的差。
8.如權利要求I所述的復合相位差板，其特征在于，所述液晶涂層的正面相位差值及厚度方向的相位差值，在所述電暈或等離子體放電處理前后分別產生2. 5 3. 5nm的差。
9.如權利要求I所述的復合相位差板，其特征在干，以200 300J/m2實施所述電暈處理。
10.如權利要求I所述的復合相位差板，其特征在于，所述基材是高分子膜或玻璃基板。
11.一種復合偏振片，其特征在于，在偏振鏡上面連接權利要求I 10中任一項所述的復合相位差板，在所述偏振鏡下面連接有偏振鏡保護膜。
12.如權利要求11所述的復合偏振片，其特征在于，在所述偏振鏡保護膜的下面形成有粘合劑層。
13.一種復合相位差板的制造方法，其特征在于，包括 在基材上形成取向膜后，在所述取向膜上形成液晶涂層的第I階段； 對所述液晶涂層上面實施電暈或等離子體處理的第2階段；以及 在所述電暈或等離子體處理后的液晶涂層上形成表面處理涂層的第3階段。
14.如權利要求13所述的復合相位差板的制造方法，其特征在于，所述基材是高分子膜或玻璃基板。
15.如權利要求13所述的復合相位差板的制造方法，其特征在于，在200 300J/m2下實施所述電暈處理。
16.一種復合偏振片的制造方法，其包括下述エ序，利用卷對卷連接將權利要求I 10中任一項所述的復合相位差板連接在偏振鏡上面，并將偏振鏡保護膜連接在所述偏振鏡的下面。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于提供一種復合相位差板、復合偏振片及它們的制造方法，所述復合相位差板可以通過在膜上形成涂層的方法等簡單制造。本發(fā)明通過對形成于高分子基材膜上的液晶涂層的一面實施電暈或等離子體處理，提高連接力，然后，在液晶涂層上直接形成表面處理涂層，由此可以在不使用玻璃基材等的情況下利用簡單的工序制造所述復合相位差板，而且，無需用于附加功能性層的其他基材及粘接劑層，適合用作薄型顯示器用相位差膜。
文檔編號G02B1/11GK102736159SQ20121008633
公開日2012年10月17日 申請日期2012年3月26日 優(yōu)先權日2011年4月11日
發(fā)明者宋濟勛, 李字映, 趙敏成 申請人:東友精細化工有限公司