專利名稱：曝光裝置、曝光方法以及器件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在投影光學(xué)系統(tǒng)和基板之間形成有液浸區(qū)域的狀態(tài)下在基板上曝光圖案的曝光裝置和器件制造方法。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體器件和液晶顯示器件用把形成在掩模上的圖案轉(zhuǎn)印到感光性的基板上的所謂的光刻法的方法制造。在該光刻法工序中使用的曝光裝置具有支撐掩模的掩模載臺(tái)和支撐基板的基板載臺(tái)，是一邊逐次移動(dòng)掩模載臺(tái)以及基板載臺(tái)一邊經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)把掩模的圖案轉(zhuǎn)印到基板上的裝置。近年，為了與器件圖案的進(jìn)一步的高集成化對(duì)應(yīng)，希望投影光學(xué)系統(tǒng)的進(jìn)一步的高解像度化。所使用的曝光波長(zhǎng)越短，或者投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑越大，投影光學(xué)系統(tǒng)的解像度越高。因此，在曝光裝置中使用的曝光波長(zhǎng)一年年在短波長(zhǎng)化，投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑也在增大。然而，現(xiàn)在主流曝光波長(zhǎng)是KrF準(zhǔn)分子激光的 248nm，而更短波長(zhǎng)的ArF準(zhǔn)分子激光的193nm也已實(shí)用化。此外，在進(jìn)行曝光時(shí)，焦深(DOF) 也和解像度一樣重要。解像度R以及焦深S分別用以下的式子表示。R = Ic1 · λ /NA(1)δ = 士 1 · λ/NA2 (2)在此，λ是曝光波長(zhǎng)，NA是投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑，‘ k2是工藝系數(shù)。從(1) 式、(2)式可知，為了提高解像度R，如果縮短曝光波長(zhǎng)λ，增大數(shù)值孔徑NA，則焦深δ變窄。如果焦深δ過窄，則難以相對(duì)投影光學(xué)系統(tǒng)的像面來匹配基板表面，曝光動(dòng)作時(shí)的裕度有可能不足，因而，作為實(shí)際縮短曝光波長(zhǎng)，并且擴(kuò)大焦深的方法，例如，提出了在國(guó)際公開第99/49504號(hào)公報(bào)中公開的液浸法。該液浸法的方法是，用水和有機(jī)溶劑等的液體充滿投影光學(xué)系統(tǒng)的下面和基板表面之間形成液浸區(qū)域，在利用在液體中的曝光光束的波長(zhǎng)是空氣中的1/η(η是液體的折射率，一般是1. 2 1. 6左右)這一點(diǎn)提高解像度的同時(shí)， 把焦深擴(kuò)大約η倍。可是，在上述以往技術(shù)中存在以下所述的問題。上述以往技術(shù)因?yàn)樵谝贿呄蛞?guī)定方向移動(dòng)基板一邊掃描曝光時(shí)可以在投影光學(xué)系統(tǒng)和基板之間形成液浸區(qū)域所以有效，而其結(jié)構(gòu)是相對(duì)基板的移動(dòng)方向，在投影掩模的圖案的像的投影區(qū)域跟前提供液體，液體從投影區(qū)域的跟前側(cè)沿著基板的移動(dòng)方向在單方向上流動(dòng)。然而也可以是這樣的結(jié)構(gòu)，在從上述規(guī)定方向向相反方向切換基板的移動(dòng)方向時(shí)，也可以切換提供液體的位置(噴嘴)。可是已明確知道的是，因?yàn)樵谠撉袚Q時(shí)對(duì)投影區(qū)域迅速停止來自一方向的液體提供，開始來自另一方向的液體的提供，所以在投影光學(xué)系統(tǒng)和基板之間發(fā)生液體的振動(dòng)(所謂的水錘現(xiàn)象)，或者在液體供給裝置自身(供給管和供給噴嘴等)間發(fā)生振動(dòng)，產(chǎn)生引起圖案像的劣化的問題，此外，因?yàn)槠浣Y(jié)構(gòu)是相對(duì)投影區(qū)域從單一方向流過液體，所以還存在在投影光學(xué)系統(tǒng)和基板之間不能充分形成液浸區(qū)域這樣的問題。此外，在上述以往技術(shù)中，因?yàn)槠浣Y(jié)構(gòu)是回收液體的回收部只在上述基板的移動(dòng)方向上流動(dòng)液體的下游側(cè)回收液體，所以還產(chǎn)生不能充分回收液體的問題。如果不能充分回收液體則在基板上殘存液體，由該殘存的液體的原因引起發(fā)生曝光模糊的可能。此外，如果不能徹底回收液體，則殘存的液體飛濺到周邊的機(jī)械部件上，還產(chǎn)生使其生銹等的異常。 進(jìn)而，如果液體殘存或者飛濺，則隨著放置基板的環(huán)境(濕度等)的變化，由于引起在載臺(tái)位置測(cè)量中使用的光干涉計(jì)的檢測(cè)光的光路上的折射率的變化等原因，還有產(chǎn)生不能得到所希望的圖案轉(zhuǎn)印精度的危險(xiǎn)。此外，在用液體回收噴嘴回收基板上的液體時(shí)，有可能在液體回收裝置自身(回收管和回收噴嘴等)間發(fā)生振動(dòng)。該振動(dòng)如果傳遞到投影光學(xué)系統(tǒng)和基板載臺(tái)，或者用于測(cè)量基板載臺(tái)的位置的干涉計(jì)的光學(xué)部件等上，則有可能不能在基板上高精度地形成電路圖案。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是鑒于上述情況而提出的，其目的在于提供一種在投影光學(xué)系統(tǒng)和基板之間形成有液浸區(qū)域的狀態(tài)下進(jìn)行曝光處理時(shí)，在穩(wěn)定地形成液浸區(qū)域的同時(shí)可以良好地回收該液體，防止液體向周邊的流出或飛濺等可以高精度曝光處理的曝光裝置、曝光方法以及器件制造方法。此外，本發(fā)明的目的在于提供一種在投影光學(xué)系統(tǒng)和基板之間形成有液浸區(qū)域的狀態(tài)下曝光處理時(shí)，不受在液體的供給或者回收時(shí)產(chǎn)生的振動(dòng)的影響，可以高精度曝光處理的曝光裝置以及器件制造方法。為了解決上述問題，本發(fā)明采用與實(shí)施方式所示的圖1 圖21對(duì)應(yīng)的以下的結(jié)構(gòu)。但是，附加在各要素上的帶括號(hào)的符號(hào)只不過是該要素的示例，沒有限定各要素的意圖。如果采用本發(fā)明的第1形態(tài)，則提供一種曝光裝置(EX)，它通過隔著液體(1)把規(guī)定的圖案的像投影到基板(P)上曝光基板，包括在基板上投影上述圖案的像的投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)；為了在包含投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)的投影區(qū)域(ARl)的基板(P)上的一部分上形成液浸區(qū)域(AR2)，從在不同的多個(gè)方向上與投影區(qū)域(ARl)隔開的多個(gè)位置上，向基板(P) 上同時(shí)進(jìn)行液體(1)的供給的液體供給機(jī)構(gòu)(10、11、12、13、13A、14、14A)。如果采用本發(fā)明，則用于形成液浸區(qū)域的液體供給機(jī)構(gòu)因?yàn)閺脑诓煌亩鄠€(gè)方向上與投影區(qū)域隔開的位置上(即，投影區(qū)域的不同的多側(cè)上，例如如果是矩形的投影區(qū)域則從X側(cè)，-X側(cè)，+Y側(cè)、-Y側(cè)的至少二側(cè)區(qū)域)同時(shí)進(jìn)行液體的供給，可以在投影光學(xué)系統(tǒng)和基板之間形成所希望的液浸區(qū)域。此外，因?yàn)樵诙鄠€(gè)方向上隔開的多個(gè)位置上同時(shí)進(jìn)行液體的供給，所以在一邊移動(dòng)基板一邊曝光處理時(shí)，即使改變基板的移動(dòng)方向也可以始終良好地形成液浸區(qū)域。如果在投影區(qū)域的兩側(cè)同時(shí)提供液體，因?yàn)椴恍枰袚Q液體的供給位置，所以可以防止液體的振動(dòng)(水錘)的發(fā)生，可以把圖案像高精度地投影到基板上。如果采用本發(fā)明的第2方式，則提供通過隔著液體(1)把規(guī)定圖案的像投影到基板(P)上曝光基板的曝光裝置(EX)，包括
在基板上投影上述圖案的像的投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)；為了在包含投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)的投影區(qū)域(ARl)的基板(P)上的一部分上形成液浸區(qū)域(AR2)，向基板(P)上提供液體(1)的液體供給機(jī)構(gòu)(10、11、12、13、13A、14、14A)；從在不同的多個(gè)方向上與投影區(qū)域(ARl)隔開的多個(gè)位置上同時(shí)進(jìn)行基板(P)上的液體(1)的回收的液體回收機(jī)構(gòu)O0、21、22、22A)。如果采用本發(fā)明，則用于回收液體的液體回收機(jī)構(gòu)因?yàn)閺脑诓煌亩鄠€(gè)方向上與投影區(qū)域隔開的多個(gè)位置上(即，投影區(qū)域的不同的多側(cè)，例如，如果是矩形的投影區(qū)域則是從X側(cè)、-X側(cè)、+Y側(cè)、-Y側(cè)的至少二側(cè))同時(shí)進(jìn)行液體的回收，所以可以可靠地進(jìn)行液體的回收。因而，可以防止在基板上殘留液體的狀態(tài)的發(fā)生，可以防止曝光模糊的發(fā)生和放置基板的環(huán)境變化，可以把圖案像高精度地投影到基板上。如果采用本發(fā)明的第3方式，則提供通過隔著液體(1)把規(guī)定圖案的像投影到基板(P)上曝光基板的曝光裝置(EX)，包括在基板上投影上述圖案的像的投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)；為了在包含投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)的投影區(qū)域(ARl)的基板(P)上的一部分上形成液浸區(qū)域(AR2)，向基板(P)上提供液體(1)的液體供給機(jī)構(gòu)(10、11、12、13、13A、14、14A)；在多個(gè)位置上同時(shí)進(jìn)行基板(P)上的液體(1)的回收的液體回收機(jī)構(gòu)00、21、22、 22A、22D、24)，液體回收機(jī)構(gòu)(20、21、22、22A、22D、24)根據(jù)液體回收位置用不同的回收力回收液體。如果采用本發(fā)明，則在基板上的多個(gè)位置同時(shí)進(jìn)行液體的回收的液體回收機(jī)構(gòu)因?yàn)榕c液體回收位置相應(yīng)以不同的回收力回收液體，所以可以平滑地進(jìn)行液體回收動(dòng)作。因而，可以以適宜的量的液體充滿投影光學(xué)系統(tǒng)和基板間，可以在基板上的所希望的區(qū)域內(nèi)形成液浸區(qū)域。例如，通過對(duì)于基板的移動(dòng)(掃描)方向把前方側(cè)(下游側(cè))的液體的回收力設(shè)定為比后方側(cè)(上游側(cè))大，可以平滑地進(jìn)行液體回收動(dòng)作。或者，通過使沿著基板的移動(dòng)(掃描)方向的位置配置的液體回收機(jī)構(gòu)的液體回收力，比沿著和移動(dòng)方向交叉的方向的位置配置的液體回收機(jī)構(gòu)的液體回收力大，也可以平滑地進(jìn)行液體回收動(dòng)作。如果采用本發(fā)明的第4方式，則提供通過隔著液體(1)把規(guī)定圖案的像投影到基板(P)上曝光基板的曝光裝置(EX)，包括在基板上投影上述圖案的像的投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)；為了在包含投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)的投影區(qū)域(ARl)的基板(P)上的一部分上形成液浸區(qū)域(AR2)，向基板(P)上提供液體(1)的液體供給機(jī)構(gòu)(10、11、12、13、13A、14、14A)；在從投影區(qū)域(ARl)隔開的回收位置上進(jìn)行基板(P)上的液體(1)的回收的液體回收機(jī)構(gòu) O0、21、22、22A)，相對(duì)投影區(qū)域(ARl)被配置在液體回收機(jī)構(gòu)Q0，21，22，22A)的液體回收位置的外側(cè)上，形成有捕捉液體(1)的液體收集面(31)的收集部件(30)。如果采用本發(fā)明，則在液體回收機(jī)構(gòu)的液體回收位置的外側(cè)上，通過設(shè)置形成有捕捉液體的規(guī)定長(zhǎng)度的液體收集面的收集部件，即使假設(shè)液體回收機(jī)構(gòu)不能徹底回收液體，通過用該收集部件捕捉液體，也可以防止液體向周圍的流出或飛濺等的異常的發(fā)生。因而，可以防止配置有基板的環(huán)境的變化的發(fā)生，可以以所希望的圖案精度把圖案像投影到基板上。如果采用本發(fā)明的第5方式，則提供通過把規(guī)定的圖案的像隔著液體⑴投影到基板(P)上曝光基板的曝光裝置(EX)包括把上述圖案的像投影到基板上的投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)；為了在包含投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)的投影區(qū)域(ARl)的基板(P)上的一部分上形成液浸區(qū)域(AR2)，向基板(P)上提供液體(1)的液體供給機(jī)構(gòu)(10，11，12，13，13A，14，14A)；在從投影區(qū)域(ARl)隔開的回收位置上進(jìn)行基板(P)上的液體(1)的回收的液體回收機(jī)構(gòu)(20，21，22，22A)，通過液體供給機(jī)構(gòu)(10、11、12、13、13A、14、14A)進(jìn)行的液體(1)的供給在液體回收機(jī)構(gòu)Q0、21、22、22A)的液體回收位置和投影區(qū)域(ARl)之間進(jìn)行。如果采用本發(fā)明，則因?yàn)橐后w提供機(jī)構(gòu)進(jìn)行的液體的提供在液體回收機(jī)構(gòu)的液體回收位置和投影區(qū)域之間進(jìn)行，所以在把液體平滑地提供給投影區(qū)域的同時(shí)，可以把已提供的液體從基板上平滑地回收。如果采用第6方式，則提供通過隔著液體(1)把規(guī)定圖案的像投影到基板(P)上曝光基板的曝光方法，包括為了在包含投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)的投影區(qū)域(ARl)的基板(P)上的一部分上形成液浸區(qū)域(AR2)，提供和投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)的前端的液體接觸面Oa)的親和性比和基板 (P)表面的親和性還高的液體(1)；經(jīng)由提供給上述液浸區(qū)域(AR2)的液體(1)把規(guī)定圖案的像投影到基板⑵上。如果采用本發(fā)明，則可以使液體與投影光學(xué)系統(tǒng)的前端的液體接觸面密實(shí)接觸， 在可以把投影光學(xué)系統(tǒng)和基板之間的光路設(shè)置成穩(wěn)定的液浸狀態(tài)的同時(shí)，可以平滑地回收基板上的液體。本發(fā)明的器件制造方法其特征在于使用上述形態(tài)的曝光裝置(EX)或者曝光方法。如果采用本發(fā)明則具有以良好的圖案精度形成的圖案，可以提供能夠發(fā)揮所希望的性能的器件。如果采用本發(fā)明的第7方式，則提供隔著液體(1)把規(guī)定圖案的像投影到基板(P) 上曝光基板的曝光裝置(EX)在基板上投影上述圖案的像的投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)；具有向基板(P)上提供液體(1)的供給流路(94A，95A，94B，95B)的液體供給機(jī)構(gòu) (10,11,12,41,42)；具有回收所提供的液體的回收流路(96A，97A，98A，99A，96B, 97B, 98B, 99B, 96T， 97T，98T，99T)的液體回收機(jī)構(gòu)(20，61，62，63，64，71，72，73，74)，上述供給流路以及回收流路的至少一方被形成在疊層了多塊板狀部件(91，92， 93)的疊層部件上。在液浸曝光期間，需要把均勻的液體流提供給液浸區(qū)域并且需要從那里回收，而本發(fā)明的曝光裝置具備的疊層部件通過把分別形成有流路的多塊板狀部件如這些流路連通分別形成供給流路以及回收流路的至少一方那樣疊層形成。因而，即使是復(fù)雜的流路構(gòu)造，也可以極其緊湊、容易、并且低成本地形成。如果采用本發(fā)明的第8方式，則提供通過隔著液體(1)把規(guī)定的圖案像投影到基板(P)上曝光基板的曝光裝置(EX)包括把上述圖案的像投影到基板上的投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)；為了在包含投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)的投影區(qū)域(ARl)的基板(P)上的一部分上形成液浸區(qū)域(AR2)，向基板(P)上提供液體(1)的液體供給機(jī)構(gòu)(10)，液體供給機(jī)構(gòu)(10)和投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)在振動(dòng)性上彼此隔離。如果采用根據(jù)第8方式的曝光裝置，則把投影光學(xué)系統(tǒng)和液體供給機(jī)構(gòu)在振動(dòng)性上彼此隔離。即，即使在液體供給機(jī)構(gòu)中發(fā)生振動(dòng)，該振動(dòng)也不會(huì)傳遞到投影光學(xué)系統(tǒng)。因而，可以防止由于投影光學(xué)系統(tǒng)振動(dòng)導(dǎo)致圖案像劣化的異常的發(fā)生，可以把圖案像高精度地投影到基板上。曝光裝置進(jìn)一步包括支撐光學(xué)系統(tǒng)(PL)的第1支撐部件(100)；和第1支撐部件(100)在振動(dòng)性上彼此隔離，支撐液體供給機(jī)構(gòu)(10)的第2支撐部件(102)。如果采用該結(jié)構(gòu)，則因?yàn)橹瓮队肮鈱W(xué)系統(tǒng)的第1支撐部件，和支撐液體供給機(jī)構(gòu)的第2支撐部件分離振動(dòng)，所以在液體供給機(jī)構(gòu)中發(fā)生的振動(dòng)不會(huì)傳遞到投影光學(xué)系統(tǒng)。此外，例如通過設(shè)置成把用于測(cè)量基板載臺(tái)的位置信息的干涉計(jì)安裝在第1支撐部件上，把參照鏡(固定鏡) 安裝在投影光學(xué)系統(tǒng)的鏡筒上等的結(jié)構(gòu)，因?yàn)椴幌蜻@些干涉計(jì)和參照鏡傳遞振動(dòng)，所以可以高精度地進(jìn)行基板載臺(tái)的位置信息的測(cè)量和基于該測(cè)量結(jié)果的位置控制。如果采用本發(fā)明的第9方案，則提供隔著液體⑴把規(guī)定圖案的像投影到基板⑵ 上曝光基板的曝光裝置(EX)把上述圖案的像投影到基板上的投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)；回收提供給包含投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)的投影區(qū)域(ARl)的基板(P)上的一部分的液體(1)的液體回收機(jī)構(gòu)00)，液體回收機(jī)構(gòu)20和投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)在振動(dòng)性上彼此隔離。如果采用本發(fā)明的第9方式的曝光裝置，則因?yàn)橥队肮鈱W(xué)系統(tǒng)和液體回收機(jī)構(gòu)在振動(dòng)性上彼此隔離，所以即使在液體回收機(jī)構(gòu)中發(fā)生振動(dòng)，該振動(dòng)也不會(huì)傳遞到投影光學(xué)系統(tǒng)。因而，可以防止因投影光學(xué)系統(tǒng)振幅導(dǎo)致圖案像劣化的異常的發(fā)生，可以高精度地把圖案的像投影到基板上。第9方式的曝光裝置(EX)可以進(jìn)一步包括支撐投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)的第1支撐部件(100)；和第1支撐部件(100)在振動(dòng)性上彼此隔離，支撐液體回收機(jī)構(gòu)00)的第2支撐部件(102)。如果采用該結(jié)構(gòu)，因?yàn)橹瓮队肮鈱W(xué)系統(tǒng)的第1支撐部件，和支撐液體回收機(jī)構(gòu)的第2支撐部件被在振動(dòng)性上彼此隔離，所以在液體回收機(jī)構(gòu)上發(fā)生的振動(dòng)不會(huì)傳遞到投影光學(xué)系統(tǒng)。此外，例如通過設(shè)置成把用于測(cè)量基板載臺(tái)的位置信息的干涉計(jì)安裝在第1支撐部件上，把參照鏡筒(固定鏡)安裝在投影光學(xué)系統(tǒng)的鏡筒上等的結(jié)構(gòu)，因?yàn)椴粫?huì)向這些干涉計(jì)和參照鏡傳遞振動(dòng)，所以可以高精度地進(jìn)行基板載臺(tái)的位置信息的測(cè)量和基于該測(cè)量結(jié)果的位置控制。如果采用本發(fā)明的第10方式，則提供把規(guī)定圖案的像隔著液體(1)投影到基板 (P)上，順序曝光該基板上的多個(gè)拍攝區(qū)域的曝光裝置(EX)包括把上述圖案的像投影到上述基板上的投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)；為了在包含該投影光學(xué)系統(tǒng)的投影區(qū)域的基板上的一部分上形成液浸區(qū)域，從配置成和上述基板相對(duì)的供給口(13A，14A)提供液體的液體供給機(jī)構(gòu)(10，11，12，13，14)，
該液體供給機(jī)構(gòu)在進(jìn)行上述基板上的多個(gè)拍攝區(qū)域的曝光處理期間從上述供給口連續(xù)提供液體。如果采用本發(fā)明的第10方式的曝光裝置，則在進(jìn)行基板上的多個(gè)拍攝區(qū)域的曝光處理期間，因?yàn)椴话凑栈宓囊苿?dòng)方向，而是從被配置在規(guī)定位置上的供給口連續(xù)提供液體，所以可以防止液體供給機(jī)構(gòu)自身的振動(dòng)和液體的振動(dòng)(水錘現(xiàn)象)，可以高精度地把圖案像投影到基板上。如果采用本發(fā)明的第11方式，則提供把規(guī)定圖案的像隔著液體(1)投影到基板 (P)上，順序曝光該基板上的多個(gè)拍攝區(qū)域的曝光裝置(EX)把上述圖案的像投影到上述基板上的投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)；為了在包含該投影光學(xué)系統(tǒng)的投影區(qū)域的基板上的一部分上形成液浸區(qū)域，從配置在規(guī)定位置上的供給口(13A，14A)提供液體的液體供給機(jī)構(gòu)(10，11，12，13，14)，具有被配置成和上述基板相對(duì)的回收口(22A)，回收從上述液體供給機(jī)構(gòu)提供的液體的液體回收機(jī)構(gòu)00，21，22)，該液體供給機(jī)構(gòu)在進(jìn)行上述基板上的多個(gè)拍攝區(qū)域的曝光處理期間從上述供給口連續(xù)回收液體。如果采用本發(fā)明的第11方式的曝光裝置，則在進(jìn)行基板上的多個(gè)拍攝區(qū)域的曝光處理期間，不按照基板的移動(dòng)方向，而是從回收口連續(xù)回收液體。由此，在可以更可靠地回收液體的同時(shí)，可以抑制隨著回收開始和停止的液體回收機(jī)構(gòu)自身的振動(dòng)，可以高精度地把圖案像投影到基板上。本發(fā)明的器件制造方法的特征在于使用上述形態(tài)的曝光裝置(EX)。如果采用本發(fā)明，則可以提供具有以良好的圖案精度形成的圖案，可以發(fā)揮所希望性能的器件。如果采用本發(fā)明，則即使在投影光學(xué)系統(tǒng)和基板之間形成了液浸區(qū)域的狀態(tài)下曝光處理時(shí)也可以高精度地曝光處理。


圖1是展示本發(fā)明的曝光裝置的一種實(shí)施方式的概略構(gòu)成圖。圖2是展示作為本發(fā)明的特征部分的液體供給機(jī)構(gòu)以及液體回收機(jī)構(gòu)的概略構(gòu)成的平面圖。圖3是展示作為本發(fā)明的特征部分的液體供給機(jī)構(gòu)以及液體回收機(jī)構(gòu)的概略構(gòu)成的斜視圖。圖4是展示作為本發(fā)明的特征部分的液體供給機(jī)構(gòu)以及液體回收機(jī)構(gòu)的概略構(gòu)成的側(cè)斷面圖。圖5是展示被設(shè)置在基板上的拍攝區(qū)域的圖。圖6(a)以及(b)是展示液體行跡的模式圖。圖7是展示液體供給機(jī)構(gòu)以及液體回收機(jī)構(gòu)的另一實(shí)施方式的圖。圖8是展示液體供給機(jī)構(gòu)以及液體回收機(jī)構(gòu)的另一實(shí)施方式的圖。圖9是展示液體供給機(jī)構(gòu)以及液體回收機(jī)構(gòu)的另一實(shí)施方式的圖。圖10(a)以及(b)是展示液體供給機(jī)構(gòu)的另一實(shí)施方式的圖。圖11是展示收集部件的另一實(shí)施方式的側(cè)斷面圖。
圖12是展示收集部件的另一實(shí)施方式的側(cè)斷面圖。圖13是展示收集部件的另一實(shí)施方式的斜視圖。圖14是展示本發(fā)明的液體供給機(jī)構(gòu)以及液體回收機(jī)構(gòu)的另一實(shí)施方式的概略斜視圖。圖15是展示圖14中的縫隙管部的另一實(shí)施方式的圖。圖16是展示本發(fā)明的液體供給機(jī)構(gòu)以及液體回收機(jī)構(gòu)的另一實(shí)施方式的概略斜視圖。圖17是展示在流路形成部件中展示第1部件的斜視圖。圖18(a)以及(b)是在流路形成部件中展示第2部件的斜視圖。圖19(a)以及(b)是在流路形成部件中展示第3部件的斜視圖。圖20是展示本發(fā)明的曝光裝置的另一實(shí)施方式的概略構(gòu)成圖。圖21是展示半導(dǎo)體器件的制造工序的一例的流程圖。
具體實(shí)施例方式以下，參照

本發(fā)明的曝光裝置。圖1是展示本發(fā)明的曝光裝置的一實(shí)施方式的概略構(gòu)成圖。在圖1中，曝光裝置EX包括支撐掩模M的掩模載臺(tái)MST ；支撐基板P 的基板載臺(tái)PST ；用曝光光束EL照明被掩模載臺(tái)MST支撐的掩模M的照明光學(xué)系統(tǒng)IL ；把用曝光光束EL照明的掩模M的圖案像投影曝光在被基板載臺(tái)PST支撐的基板P上的投影光學(xué)系統(tǒng)PL ；總控制曝光裝置EX的整體動(dòng)作的控制裝置C0NT。此外，本實(shí)施方式的曝光裝置EX是在實(shí)際上縮短曝光波長(zhǎng)提高解像度的同時(shí)，為了實(shí)際擴(kuò)大焦深而適用液浸法的液浸曝光裝置，包括向基板P上提供液體1的液體供給機(jī)構(gòu)10 ；回收基板P上的液體1的液體回收機(jī)構(gòu)20。曝光裝置EX至少在把掩模M的圖案像轉(zhuǎn)印到基板P上期間，用從液體供給機(jī)構(gòu)10提供的液體1在包含投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影區(qū)域ARl的基板P的一部分上形成液浸區(qū)域AR2。具體地說，曝光裝置EX在投影光學(xué)系統(tǒng) PL的前端部分的光學(xué)元件2和基板P的表面之間充滿液體1，經(jīng)由該投影光學(xué)系統(tǒng)PL和基板P間的液體1以及投影光學(xué)系統(tǒng)PL，把掩模M的圖案像投影到基板P上，曝光基板P。在此，在本實(shí)施方式中，作為曝光裝置EX使用在掃描方向中的相互不同的方向 (反方向)上同步移動(dòng)掩模M和基板P，同時(shí)把被形成在掩模M上的圖案曝光在基板P上的掃描型曝光裝置(所謂掃描步進(jìn)曝光裝置)的情況為例子說明。在以下的說明中，把和投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX —致的方向作為Z軸方向，在與Z軸方向垂直的平面內(nèi)把掩模M 和基板P的同步移動(dòng)方向(掃描方向)設(shè)置為X軸方向，把與Z軸方向以及Y軸方向垂直的方向(非掃描方向)設(shè)置為Y軸方向。此外，把圍繞X軸、Y軸以及Z軸的方向分別設(shè)置為ΘΧ，ΘΥ，θ Z方向。進(jìn)而，這里所說的“基板”包含在半導(dǎo)體晶片上涂布了作為感光性材料的光刻膠的基板，“掩?！卑纬捎锌s小投影到基板上的器件圖案的掩模原版。照明光學(xué)系統(tǒng)IL是用曝光光束EL照明被掩模載臺(tái)MST支撐的掩模M的系統(tǒng)，包括曝光用光源、均勻化從曝光用光源射出的光束的照度的光學(xué)積分儀、聚光來自光學(xué)積分儀的曝光光束EL的聚光透鏡、中繼透鏡、把采用曝光光束EL的掩模M上的照明區(qū)域設(shè)定為縫隙狀的可變視野光圈等。掩模M上的規(guī)定的照明區(qū)域用照明光學(xué)系統(tǒng)IL以均勻的照度分布的曝光光束EL照明。作為從照明光學(xué)系統(tǒng)IL射出的曝光光束EL，例如使用從水銀燈射出的紫外區(qū)域的亮線(g線，h線，i線)以及KrF準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)M8nm)等的遠(yuǎn)紫外光(DUV光)，和ArF準(zhǔn)分子激光光束(波長(zhǎng)193nm)以及F2激光(波長(zhǎng)157nm)等的真空紫外光(VUV光)等。在本實(shí)施方式中使用ArF準(zhǔn)分子激光光束。掩模載臺(tái)MST是支撐掩模M的載臺(tái)，可以在與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX垂直的平面內(nèi)，即在XY平面內(nèi)可以2維移動(dòng)以及可以在ΘΖ方向上微小轉(zhuǎn)動(dòng)。掩模載臺(tái)MST由線性電機(jī)等的掩模載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置MSTD驅(qū)動(dòng)。掩模載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置MSTD由控制裝置CONT控制。 在掩模載臺(tái)MST上設(shè)置移動(dòng)鏡50。此外，在與移動(dòng)鏡50相對(duì)的位置上設(shè)置激光干涉計(jì)51。 掩模載臺(tái)MST上的掩模M的2維方向的位置以及旋轉(zhuǎn)角用激光干涉計(jì)51實(shí)時(shí)測(cè)量，測(cè)量結(jié)果被輸出到控制裝置C0NT?？刂蒲b置CONT通過根據(jù)激光干涉計(jì)51的測(cè)量結(jié)果驅(qū)動(dòng)掩模載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置MSTD，確定被支撐在掩模載臺(tái)MST上的掩模M的位置。投影光學(xué)系統(tǒng)PL是以規(guī)定的投影倍率β在基板P上投影曝光掩模M的圖案的系統(tǒng)，用包含被設(shè)置在基板P側(cè)的前端部分上的光學(xué)元件(透鏡)2的多個(gè)光學(xué)元件構(gòu)成，這些光學(xué)元件用鏡筒Hi支撐。在本實(shí)施方式中，投影光學(xué)系統(tǒng)PL是投影頻率β例如是1/4 或者1/5的縮小系統(tǒng)。進(jìn)而，投影光學(xué)系統(tǒng)PL也可以是等倍系統(tǒng)以及放大系統(tǒng)之一。此外，本實(shí)施方式的投影光學(xué)系統(tǒng)PL的前端部分的光學(xué)元件2被設(shè)置成相對(duì)鏡筒Hi可以裝拆(更換)，液浸區(qū)域AR2的液體1與光學(xué)元件2接觸。光學(xué)元件2用螢石形成。螢石因?yàn)楹退挠H和性高，所以可以使液體1與光學(xué)元件2的液體接觸面加的大致整個(gè)面密實(shí)接觸，即，在本實(shí)施方式中因?yàn)樘峁┖凸鈱W(xué)元件2 的液體接觸面加的親和性高的液體(水)1，所以光學(xué)元件2的液體接觸面加和液體1的密實(shí)性高，可以用液體1可靠充滿光學(xué)元件2和基板P之間的光路。進(jìn)而，光學(xué)元件2也可以是和水的親和性高的石英。此外也可以對(duì)光學(xué)元件2的液體接觸面加實(shí)施親水化(親液化)處理，進(jìn)一步提高和液體1的親和性?；遢d臺(tái)PST是支撐基板P的載臺(tái)，包括經(jīng)由基板架保持基板P的Z載臺(tái)52 ；支撐Z載臺(tái)52的XY載臺(tái)53 ；支撐XY載臺(tái)53的基座Μ?；遢d臺(tái)PST由線性電機(jī)等的基板載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置PSTD驅(qū)動(dòng)。基板載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置PSTD被控制裝置CONT控制。通過驅(qū)動(dòng)Z載臺(tái)52，控制被Z載臺(tái)52保持的基板P的在Z軸方向上的位置(聚焦位置)以及在ΘΧ，ΘΥ 方向上的位置。此外，通過驅(qū)動(dòng)XY載臺(tái)53，控制在基板P的XY方向上的位置(與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面實(shí)際平行方向的位置)。S卩，Z載臺(tái)52控制基板P的聚焦位置以及傾斜角， 以自聚焦方式以及自動(dòng)找水平方式(auto-leveling)使基板P的表面與投影光學(xué)系統(tǒng)PL 的像面匹配，XY載臺(tái)53進(jìn)行在基板P的X軸方向以及Y軸方向上的定位。進(jìn)而，當(dāng)然也可以一體地設(shè)置Z載臺(tái)和XY載臺(tái)。在基板載臺(tái)PST (Z載臺(tái)5 上，和基板載臺(tái)PST —同設(shè)置相對(duì)投影光學(xué)系統(tǒng)PL移動(dòng)的移動(dòng)鏡55。此外，在與移動(dòng)鏡55相對(duì)的位置上設(shè)置激光干涉計(jì)56?；遢d臺(tái)PST上的基板P的2維方向的位置以及旋轉(zhuǎn)角用激光干涉計(jì)65實(shí)時(shí)測(cè)量，測(cè)量結(jié)果被輸出到控制裝置C0NT?？刂蒲b置CONT通過根據(jù)激光干涉計(jì)56的測(cè)量結(jié)果驅(qū)動(dòng)基板載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置PSTD 進(jìn)行被支撐在基板載臺(tái)PST上的基板P的定位。此外，在基板載臺(tái)PST (Z載臺(tái)5 上，如包圍基板P那樣設(shè)置輔助板57。輔助板 57具有和被保持在基板架上的基板P的表面大致同樣高度的平面。在此，在基板P的邊緣和輔助板57之間有0. 1 2mm左右的間隙，而因液體1的表面張力的作用幾乎不會(huì)發(fā)生液體1流入該縫隙的情況，即使在曝光基板P的邊緣附近的情況下，也可以用輔助板57在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的下面保持液體1。液體供給機(jī)構(gòu)10是在基板P上提供規(guī)定的液體1的機(jī)構(gòu)，包括可以供給液體1 的第1液體供給部11以及第2液體供給部12 ；具有經(jīng)由具有流路的供給管IlA與第1液體供給部11連接，把從該第1液體供給部11送出的液體1提供給基板P的供給口 13A的第1供給部件13 ；具有經(jīng)由具有流路的供給管12A與第2液體供給部12連接，把從該第2 液體供給部12送出的液體1提供給基板P的供給口 14A的第2供給部件14。第1、第2供給部件13、14被接近配置在基板P的表面上，在基板P的面方向上設(shè)置在相互不同的位置上。具體地說，液體供給機(jī)構(gòu)10的第1供給部件13相對(duì)投影區(qū)域ARl設(shè)置在掃描方向一側(cè)(-X側(cè))上，第2供給部件14被設(shè)置在另一側(cè)(+X側(cè))上。第1、第2液體供給部件11、12的各自具備收容液體1的罐以及加壓泵等，經(jīng)由供給管11A、12A以及供給部件13、14的各自向基板P上提供液體1。此外，第1、第2液體供給部11、12的液體供給動(dòng)作由控制裝置CONT控制，控制裝置CONT可以分別獨(dú)立控制由第 1、第2液體供給部11、12對(duì)基板P上的每單位時(shí)間的液體供給量。在本實(shí)施方式中，液體1使用純水。純水并不只是可以透過ArF準(zhǔn)分子激光，例如也可以使從水銀燈射出的紫外區(qū)域的亮線(g線，h線，i線)以及KrF準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng) 248nm)等的紫外光(DUV光)透過。液體回收機(jī)構(gòu)20是回收基板P上的液體1的機(jī)構(gòu)，包括具有與基板P的表面接近配置的回收口 22k的回收部件22 ；經(jīng)由具有流路的回收管2IA與該回收部件22連接的液體回收部21。液體回收部21例如具備真空泵等的吸引裝置以及收容回收的液體1的罐等，基板P上的液體1經(jīng)由回收部件22以及回收管21A回收。液體回收部21的液體回收動(dòng)作用控制裝置CONT控制，控制裝置CONT可以控制由液體回收部21進(jìn)行的每單位時(shí)間的液體回收量。此外，在液體回收機(jī)構(gòu)20的回收部件22的外側(cè)上，配置形成有捕捉液體1的規(guī)定長(zhǎng)度的液體收集面31的收集部件30。圖2是展示液體供給機(jī)構(gòu)10以及液體回收機(jī)構(gòu)20的概略構(gòu)成的平面圖，圖3是局部剖開展示的斜視圖。如圖2所示，投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影區(qū)域ARl被設(shè)定成把Y軸方向(非掃描方向)作成為長(zhǎng)度方向的矩形形狀，充滿液體1的液浸區(qū)域AR2如包含投影區(qū)域ARl那樣被形成在基板P上的一部分上。而后，用于形成投影區(qū)域ARl的液浸區(qū)域AR2 的液體供給機(jī)構(gòu)10的第1供給部件13被相對(duì)投影區(qū)域ARl設(shè)置在掃描方向一側(cè)(-X側(cè)) 上，第2供給部件14被設(shè)置在另一側(cè)(+X側(cè))上。如圖2以及圖3所示，第1、第2供給部件13、14分別包括使從第1、第2液體供給部件11、12送出的液體1流通的內(nèi)部空間(內(nèi)部流路)13H、14H ；把流通在內(nèi)部空間13H、14H 的液體1提供給基板P上的供給口 13A、14A。進(jìn)而，雖然在圖3中第2液體供給部12未圖示，但構(gòu)造和第1液體供給部11 一樣。第1、第2供給部件13、14的供給口 13A、14A被分別形成為平面看大致圓弧形狀，該供給口 13A、14A的Y方向上的尺寸被設(shè)定成至少比投影區(qū)域ARl的Y軸方向上的尺寸大。而后，被形成在平面看大致圓弧狀的供給口 13A、14A被配置成相對(duì)掃描方向(X方向)夾著投影區(qū)域ARl。液體供給機(jī)構(gòu)10由供給口 13A、14A，從相對(duì)投影區(qū)域ARl在不同的多個(gè)方向上隔開的多個(gè)位置上，S卩，從矩形的投影區(qū)域ARl的不同側(cè)(在該例子中，是投影區(qū)域ARl的兩側(cè)(+X方向側(cè)，-X方向側(cè)))同時(shí)提供液體1。液體回收機(jī)構(gòu)20的回收部件22是雙重環(huán)狀部件，包括如向著基板P的表面那樣被形成為環(huán)狀連續(xù)的回收口 22k ；使從回收口 22A回收的液體1流通的環(huán)狀的內(nèi)部空間(內(nèi)部流路)22H。液體回收機(jī)構(gòu)20的回收部件22被配置成包圍液體供給機(jī)構(gòu)10的供給部件 13,14以及投影區(qū)域AR1。而后，在回收部件22的內(nèi)部以規(guī)定間隔設(shè)置把其內(nèi)部空間22H 在圓周方向上分割為許多空間(分割空間) 的隔板部件23。即，設(shè)置成如包圍投影區(qū)域 ARl那樣在連續(xù)形成的回收口 22A的內(nèi)部設(shè)置隔斷部件23的結(jié)構(gòu)。用隔斷部件23分割的分割空間M的各自在上下方向上貫通。而后，回收部件22中具有回收口 22k的下端部分與基板P的表面接近，另一方面，上端部分是空間上聚合多個(gè)分割空間M的作為聚合空間部的岐管部25。而后，在該岐管部25上連接回收管21A的一端部分，另一端與液體回收部 21連接。液體回收機(jī)構(gòu)20通過驅(qū)動(dòng)液體回收部21，經(jīng)由回收口 22A(回收部件22)以及回收管21A回收基板P上的液體1。即，回收口 22A的設(shè)置位置是進(jìn)行基板P上的液體1的回收的回收位置，液體回收機(jī)構(gòu)20在從投影區(qū)域ARl隔開的回收位置上進(jìn)行基板P上的液體 1的回收。在此，液體回收機(jī)構(gòu)20的回收口 22A是平面看大致圓環(huán)狀包圍投影區(qū)域ARl的結(jié)構(gòu)。即，回收口 22A存在于矩形的投影區(qū)域ARl的4側(cè)(+X方向側(cè)，-X方向側(cè)，+Y方向側(cè)，-Y方向側(cè))，換句話說，在相對(duì)投影區(qū)域ARl正交的4個(gè)方向上隔開的4個(gè)位置上。因而，液體回收機(jī)構(gòu)20用被設(shè)置成包圍投影區(qū)域ARl的回收口 22A，可以在相對(duì)投影區(qū)域ARl 不同的許多方向上隔開的位置上同時(shí)進(jìn)行基板P上的液體1的回收。而后，液體供給機(jī)構(gòu)10的第1、第2供給部件13、14各自的供給口 13A、14A的設(shè)置位置，即相對(duì)基板P上的液體1的供給位置的結(jié)構(gòu)是被設(shè)置在液體回收位置(回收口 22A 的位置)和投影區(qū)域ARl之間。S卩，由液體供給機(jī)構(gòu)10進(jìn)行的液體1的供給在液體回收機(jī)構(gòu)20的液體回收位置和投影區(qū)域ARl之間進(jìn)行。圖4是展示與基板P接近配置的第1、第2供給部件13、14以及回收部件22的主要部分放大側(cè)斷面圖。如圖4所示，液體供給機(jī)構(gòu)10的第1、第2供給部件13、14各自的內(nèi)部流路13H、14H被設(shè)置成相對(duì)基板P的表面大致垂直。同樣，液體回收機(jī)構(gòu)20的回收部件 22的內(nèi)部流路22H(分割空間24)也被設(shè)置成相對(duì)基板P的表面大致垂直。而后，由第1、 第2供給部件13、14進(jìn)行的對(duì)基板P的液體1的供給位置(供給口 13A、14A的設(shè)定位置) 被設(shè)定在液體回收機(jī)構(gòu)20的液體回收位置(回收口 22A的設(shè)置位置)和投影區(qū)域ARl之間。此外，在投影光學(xué)系統(tǒng)PL和第1、第2供給部件13、14各自在被配置成隔開規(guī)定距離的同時(shí)，回收部件22和第1、第2供給部件13、14的各自都被設(shè)置成只隔開規(guī)定距離。此外， 在本實(shí)施方式中，基板P的表面和供給口 13A、14A的距離、基板P的表面和回收口 22A的距離，基板P的表面和投影光學(xué)系統(tǒng)PL的下端面的距離被設(shè)置成大致相同。換句話說，供給口 13A、14A、回收口 22A以及投影光學(xué)系統(tǒng)PL的下端面各自的Z軸方向上的位置(高度) 被設(shè)置成大致相同。而后，在相對(duì)基板面大致垂直的方向上從第1、第2供給部件13、14的供給口 13A、 14A向基板P提供的液體1被提供成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的前端部分(光學(xué)元件2、的下端面和基板P之間漬濕擴(kuò)散。此外，相對(duì)投影區(qū)域ARl流出到供給部件13、14的外側(cè)的液體 1，用相對(duì)投影區(qū)域ARl被配置在該供給部件13、14外側(cè)的回收部件2的回收口 22A，從基板面在大致垂直方向上被回收(吸收)。
在此，構(gòu)成液體供給機(jī)構(gòu)10以及液體回收機(jī)構(gòu)20的各部件中至少液體1流通的部件例如用聚四氟乙烯等的合成樹脂形成。由此，可以抑制在液體1中包含雜質(zhì)。在液體回收機(jī)構(gòu)20的回收部件22中相對(duì)投影區(qū)域ARl的外側(cè)上，設(shè)置形成有捕捉用液體回收機(jī)構(gòu)20的回收部件22不能徹底回收的液體1的長(zhǎng)度的液體收集面31的收集部件30。收集部件30被設(shè)置在回收部件22的外側(cè)面上?；厥彰?1在回收部件30中是向基板P側(cè)的面(即下面)，如圖4所示，相對(duì)水平面傾斜。具體地說，收集面31隨著相對(duì)投影區(qū)域ARl (液浸區(qū)域AR2)朝向外側(cè)，如相對(duì)基板P的表面隔開(向上)那樣傾斜。收集部件30例如用不銹鋼等的金屬形成。如圖2所示，收集部件30是平面看環(huán)狀部件，如與回收部件22嵌合那樣與回收部件22的外側(cè)面連接。而后，收集部件30的收集面31被配置成包圍投影區(qū)域ARl (液浸區(qū)域AR2)，本實(shí)施方式中的液浸部件30以及其下面的收集面31為平面看大致橢圓形狀。艮口， 收集部件30的收集面31以投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX為基準(zhǔn)，設(shè)置成放射方向的長(zhǎng)度與其位置相應(yīng)而不同。在本實(shí)施方式中，在掃描方向(X軸方向)中的收集面31的長(zhǎng)度相對(duì)非掃描方向(Y軸方向)長(zhǎng)。更具體地說，在與投影區(qū)域ARl的Y軸方向中央部分對(duì)應(yīng)的位置上的收集面31的長(zhǎng)度最長(zhǎng)。在收集面31上實(shí)施提高和液體1的親和性的親液化處理(親水化處理)。在本實(shí)施方式中，因?yàn)橐后w1是水，所以對(duì)收集面31實(shí)施適合于和水的親和性的表面處理。進(jìn)而， 在基板P的表面上涂布防水性(接觸角70 80°左右)的ArF準(zhǔn)分子激光用的感光材料 (例如，東京應(yīng)化工業(yè)株式會(huì)社產(chǎn)TARF-P6100)，收集面31相對(duì)液體1的液體親和性比基板 P的表面相對(duì)液體1的液體親和性還高。對(duì)收集面31的表面處理與液體1的極性相應(yīng)地進(jìn)行。因?yàn)楸緦?shí)施方式中的液體1 是極性大的水，所以作為對(duì)收集面31的親水化處理，例如通過用醇等極性大的分子構(gòu)造的物質(zhì)形成薄膜，對(duì)該收集面31賦予親水性。或者，對(duì)于收集面31，例如也可以通過使用氧氣 (O2)作為處理氣體實(shí)施等離子處理的O2等離子處理賦予親水性。這樣，當(dāng)作為液體1使用水的情況下，希望在收集面31上配置具有OH基等極性大的分子構(gòu)造的表面的處理。在此， 用于表面處理的薄膜相對(duì)液體1用非溶解性的材料形成。此外，親液化處理根據(jù)所使用的液體1的材料特性可以適宜變更其處理?xiàng)l件。以下，說明使用上述的曝光裝置EX在基板P上曝光掩模M的圖案像的方法。在此，在本實(shí)施方式中的曝光裝置EX是一邊使掩模M和基板P在X軸方向(掃描方向)上移動(dòng)一邊把掩模M的圖案像投影曝光在基板P上的裝置，在掃描曝光時(shí)，在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的前端部分之下的矩形狀的投影區(qū)域ARl上投影掩模M的一部分的圖案像，對(duì)于投影光學(xué)系統(tǒng)PL，與掩模M在-X方向(或者+X方向)上以速度V移動(dòng)同步，經(jīng)由XY載臺(tái) 53基板P在+X方向(或者-X方向)上以速度β ·ν(β是投影倍率)移動(dòng)。而后，如圖5 的平面圖所示，在基板P上設(shè)定多個(gè)拍攝區(qū)域Sl S12，在對(duì)1個(gè)拍攝區(qū)域的曝光結(jié)束后， 通過基板P的步進(jìn)移動(dòng)，下一拍攝區(qū)域移動(dòng)到掃描開始位置，以下，一邊用步進(jìn)式掃描方式使基板P移動(dòng)一邊順序進(jìn)行對(duì)各拍攝區(qū)域的掃描曝光處理。進(jìn)而，在本實(shí)施方式中，控制裝置CONT假設(shè)如投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX沿著圖5的虛線箭頭58前進(jìn)那樣監(jiān)視激光干涉計(jì)56的輸出同時(shí)移動(dòng)XY載臺(tái)53。首先，在掩模M被放置在掩模載臺(tái)MST上的同時(shí)，基板P被放置在基板載臺(tái)PST上(參照?qǐng)D1)，以下，在進(jìn)行掃描曝光處理時(shí)，控制裝置CONT驅(qū)動(dòng)液體供給機(jī)構(gòu)10，開始對(duì)基板P上進(jìn)行液體的供給動(dòng)作。為了形成液浸區(qū)域AR2，從液體供給機(jī)構(gòu)10的第1、第2液體供給部11、12各自提供的液體1在通過供給管11A、12A后，經(jīng)由第1、第2供給部件13、14 提供給基板P上，在投影光學(xué)系統(tǒng)PL和基板P之間形成液浸區(qū)域AR2。在此，如圖4所示， 流過供給管11A、12A的液體1在供給部件13、14的內(nèi)部流路13H、14H的寬度方向上擴(kuò)散， 由供給口 13A、14A向基板P上的寬的范圍提供。此時(shí)，供給口 13A、14A被配置在投影區(qū)域 ARl的X軸方向(掃描方向)兩側(cè)，控制裝置CONT由液體供給機(jī)構(gòu)10的供給口 13A、14A從投影區(qū)域ARl的兩側(cè)向基板P上同時(shí)進(jìn)行液體1的供給。液體供給機(jī)構(gòu)10由被設(shè)置在投影區(qū)域ARl的兩側(cè)上的供給口 13A、14A，即從在相對(duì)投影區(qū)域ARl不同的多個(gè)方向(+X方向，-X方向)上隔開的多個(gè)位置同時(shí)提供液體。由此，從供給口 13A、14A提供給基板P上的液體1以至少比投影區(qū)域ARl寬的范圍形成液浸區(qū)域AR2。在本實(shí)施方式中，在從投影區(qū)域ARl的掃描方向兩側(cè)對(duì)基板P提供液體1時(shí)，控制裝置CONT控制液體供給機(jī)構(gòu)10的第1、第2液體供給部11、12的液體供給動(dòng)作，相對(duì)于掃描方向，把從投影區(qū)域ARl的跟前提供的每單位時(shí)間的液體供給量設(shè)定成比在其相反側(cè)提供的液體供給量還多。例如，當(dāng)一邊使基板P在+X方向上掃描一邊曝光處理的情況下，控制裝置CONT相對(duì)投影區(qū)域ARl使來自-X側(cè)(即供給口 13A)的液體量比來自+X側(cè)(即供給口 14A)的液體量還多，另一方面，當(dāng)一邊使基板P在-X方向移動(dòng)一邊曝光處理的情況下， 對(duì)投影區(qū)域ARl使來自+X側(cè)的液體量比來自-X側(cè)的液體量多。此外，控制裝置CONT驅(qū)動(dòng)液體回收機(jī)構(gòu)20，并行進(jìn)行液體供給機(jī)構(gòu)10的液體1的供給動(dòng)作，進(jìn)行基板P上的液體回收動(dòng)作。由此，如圖4所示，從供給口 13A、14A對(duì)投影區(qū)域 ARl流到外側(cè)的基板P上的液體1用回收口 22A回收。從回收口 22A回收的液體1在由隔斷部件23隔開的分割空間M的各自中流通后，聚集在岐管部25中。聚集在岐管部25中的液體1通過回收管21A被液體回收部21回收。這樣在本實(shí)施方式中，具備相對(duì)1個(gè)液體回收部21連接多個(gè)分割空間M的構(gòu)造。而后，液體回收機(jī)構(gòu)20由被設(shè)置成包圍投影區(qū)域 ARl的回收口 22A，從相對(duì)投影區(qū)域ARl在不同的多個(gè)方向上隔開的多個(gè)位置上，S卩，從矩形的投影區(qū)域ARl的4側(cè)(+X方向側(cè)，-X方向側(cè)，+Y方向側(cè)，-Y方向側(cè))同時(shí)進(jìn)行基板P上的液體的回收?？刂蒲b置CONT由液體供給機(jī)構(gòu)10以及液體回收機(jī)構(gòu)20并行進(jìn)行對(duì)基板P的表面的液體1的供給和基板P上的液體1的回收，同時(shí)一邊使支撐基板P的基板載臺(tái)PST在 X軸方向(掃描方向)移動(dòng)，一邊經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL和基板P之間的液體1以及投影光學(xué)系統(tǒng)PL把掩模M的圖案像投影曝光在基板P上。此時(shí)，因?yàn)橐后w供給機(jī)構(gòu)10相對(duì)于掃描方向從投影區(qū)域ARl的兩側(cè)通過供給口 13A、14A同時(shí)進(jìn)行液體1的供給，所以可以均勻并且良好地形成液浸區(qū)域AR2。此外，液體回收機(jī)構(gòu)20因?yàn)榻?jīng)由包圍投影區(qū)域ARl的回收部件22的回收口 22A在包含投影區(qū)域ARl的掃描方向兩側(cè)的投影區(qū)域ARl周圍的多個(gè)位置上同時(shí)進(jìn)行液體1的回收，所以防止了液體1對(duì)基板P的周圍的流出或飛濺。進(jìn)而，在本實(shí)施方式中，因?yàn)榘押突錚表面的感光材料的親和性低的純水作為液體1供給，所以可以平滑地由液體回收機(jī)構(gòu)20進(jìn)行回收。圖6 (a)是展示一邊在+X方向上移動(dòng)基板P—邊曝光處理被設(shè)定在基板P上的第1拍攝區(qū)域(例如圖5的S1，S3等)時(shí)的液體1的行跡的模式圖。在圖6(a)中，對(duì)于投影光學(xué)系統(tǒng)PL和基板P之間的空間從供給口 13A、14A同時(shí)提供液體1，由此如包含投影區(qū)域 ARl那樣形成液浸區(qū)域AR12。在此，從相對(duì)投影區(qū)域ARl被設(shè)置在-X側(cè)上的供給口 13A提供的液體1的每單位時(shí)間的液體量因?yàn)楸辉O(shè)定成比從被設(shè)置在+X側(cè)的供給口 14A提供的液體1的每單位時(shí)間的液體量多，所以從供給口 13A提供的液體1牽引到向+X方向移動(dòng)的基板P，平滑地配置在投影光學(xué)系統(tǒng)PL和基板P之間的空間。此外，要從供給口 13A、14A流向外側(cè)的液體1用回收口 22A回收，抑制流向基板P周圍的異常的發(fā)生。在此，由于基板P向+X方向移動(dòng)，因而相對(duì)投影區(qū)域ARl向+X側(cè)移動(dòng)的液體量增加，存在在+X側(cè)上設(shè)置了液體回收位置的回收口 22A不能完全回收液體1的情況?？墒?， 如圖6(a)所示，在+X側(cè)的回收口 22A上不能徹底回收的液體1因?yàn)閺脑撘后w回收位置用被設(shè)置在+X側(cè)上的收集部件30的收集面31捕捉，所以不會(huì)流出或者分散到基板P的周圍等上。在此，收集面31相對(duì)液體1被進(jìn)行親液處理，而且因?yàn)榫哂斜然錚的表面高的液體親和性，所以從回收口 22k的液體回收位置要流到外側(cè)的液體1未被基板P—側(cè)牽引，而被收集面31 —側(cè)牽引。由此，抑制在基板P上殘存液體1等的異常的發(fā)生。在此，因?yàn)槭占?1把包含投影區(qū)域ARl的液浸區(qū)域AR2作為基準(zhǔn)隨著向外側(cè)方向而向上方向傾斜，所以可以進(jìn)一步有效地防止液體1向外部流出。即，通過向上方向傾斜，對(duì)于基板P和投影光學(xué)系統(tǒng)PL之間的第1體積(與基板P的單位面積對(duì)應(yīng)的體積)，因?yàn)榛錚和收集面31間的第2體積一方大，所以要流出的液體1被平滑地保持在第2體積部分。此外，由于向上方傾斜，因而由于要流出到外側(cè)的流體能量沿著收集面31向上方向移動(dòng)被變換為勢(shì)能，因而可以有效地防止液體1向外側(cè)的流出。此外，從被設(shè)置在+X側(cè)上的供給口 14A提供的液體量被設(shè)定成相對(duì)從被設(shè)置在-X 側(cè)上的供給口 13A提供的液體量少。即，因?yàn)楸辉O(shè)定成相對(duì)+X側(cè)的回收口 22A在來自比供給口 13A近的位置上的供給口 14A的液體供給量少，所以即使液體1被牽引到向+X側(cè)移動(dòng)的基板P，也可以抑制要從基板P的+X側(cè)流出到外部的液體量。如果第1拍攝區(qū)域的曝光處理結(jié)束，則控制裝置CONT為了把投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影區(qū)域ARl配置在和上述第1拍攝區(qū)域不同的第2拍攝區(qū)域上，步進(jìn)移動(dòng)基板P。具體地說，例如在相對(duì)拍攝區(qū)域Sl的掃描曝光處理結(jié)束后，為了對(duì)拍攝區(qū)域S2進(jìn)行掃描曝光處理，控制裝置CONT在基板P上的2個(gè)拍攝區(qū)域Si、S2間在Y軸方向上步進(jìn)移動(dòng)。此時(shí)，液體供給機(jī)構(gòu)10使在基板P上的2個(gè)拍攝區(qū)域間的步進(jìn)移動(dòng)期間的液體1的供給量相對(duì)在拍攝區(qū)域的曝光期間的供給量不同。具體地說，控制裝置CONT使從在步進(jìn)移動(dòng)期間的液體供給機(jī)構(gòu)對(duì)基板P上的每單位時(shí)間的液體供給量，比拍攝區(qū)域的掃描曝光期間的液體供給量少。由此，抑制在不進(jìn)行曝光處理的步進(jìn)移動(dòng)期間的基板P的液體供給量，可以抑制在曝光處理全體(把基板P搭載在基板載臺(tái)PST上，對(duì)全部拍攝區(qū)域Sl S12的曝光處理結(jié)束直至從基板載臺(tái)PST卸載)中的液體使用量。這樣，控制裝置CONT與構(gòu)成曝光處理執(zhí)行動(dòng)作的一部分的基板P的移動(dòng)動(dòng)作(步進(jìn)移動(dòng)或者掃描移動(dòng))相應(yīng)，改變第1、第2液體供給部11、12各自每單位時(shí)間的液體供給量。在此，液體供給機(jī)構(gòu)10在基板P的步進(jìn)移動(dòng)期間降低液體1的每單位時(shí)間的供給量，而維持(連續(xù))液體1的供給動(dòng)作。即，液體供給機(jī)構(gòu)10通過改變拍攝區(qū)域而改變掃描方向，或者即使在步進(jìn)動(dòng)作時(shí)，也維持(連續(xù))來自供給口 13A、14A的液體供給動(dòng)作。這樣，液體供給機(jī)構(gòu)10在順序曝光基板P上的多個(gè)拍攝區(qū)域時(shí)，連續(xù)從被設(shè)置在多個(gè)位置上的供給口 13A、14A提供液體1，根據(jù)掃描方向改變液體供給位置，或者在步進(jìn)移動(dòng)時(shí)不改變液體供給位置，換句話說，液體供給機(jī)構(gòu)10在對(duì)1塊基板P的一連串的曝光處理動(dòng)作結(jié)束前(把基板P放置在基板載臺(tái)PST上對(duì)全部拍攝區(qū)域Sl S12的曝光處理結(jié)束，直至從基板載臺(tái)PST卸載)，從多個(gè)位置上連續(xù)提供液體1。由此，可以防止因液體1的供給以及停止引起的液體的振動(dòng)(水錘現(xiàn)象)的發(fā)生。圖6 (b)是展示一邊使基板P在-X方向上移動(dòng)一邊曝光處理被設(shè)置在基板P上的第2拍攝區(qū)域(例如圖5的S2、S4等)時(shí)的液體1的行跡的模式圖。在圖6(b)中，對(duì)于投影光學(xué)系統(tǒng)PL和基板P之間的空間從供給口 13A、14A提供液體1，由此如包含投影區(qū)域 ARl那樣形成液浸區(qū)域AR2。在此，從相對(duì)投影區(qū)域ARl被設(shè)置在+X側(cè)上的供給口 14A提供的液體1的每單位時(shí)間的液體量因?yàn)楸辉O(shè)定成比從被設(shè)置在-X側(cè)上的供給口 13A提供的液體1的每單位時(shí)間的液體量多，所以從供給口 14A提供的液體1被在-X方向上移動(dòng)的基板P牽引，被平滑地配置在投影光學(xué)系統(tǒng)PL和基板P之間的空間上。這樣控制裝置CONT 與構(gòu)成曝光處理執(zhí)行動(dòng)作的一部分的基板P的移動(dòng)方向(移動(dòng)動(dòng)作)相應(yīng)，改變第1、第2 供給口 11、12各自的每單位時(shí)間的液體供給量。此外，要從供給口 13A、14A流出到外側(cè)的液體1被回收口 22A回收，抑制要流出到基板P周圍的異常的發(fā)生。在此，通過使基板P在-X方向移動(dòng)，被+X側(cè)的收集面31捕捉的液體1沿著收集面 31下降，從液體回收機(jī)構(gòu)20的回收口 22A回收。由此，可以可靠地防止液體1的殘存和對(duì)外部的流出。而后，伴隨基板P向-X側(cè)的移動(dòng)，向-X側(cè)移動(dòng)的液體量增加，由此即使不能用-X側(cè)回收口 22A全部回收液體1，也如圖6(b)所示，從該液體回收位置上用被設(shè)置在-X 側(cè)上的收集部件30的收集面31捕捉液體1。進(jìn)而在此，收集面31是被形成為相對(duì)投影區(qū)域ARl隨著向外側(cè)方向而向上方傾斜，但也可以是水平(0度)。另一方面，如果收集面31向下方傾斜，則因?yàn)橐鞒龅耐鈧?cè)的流通能量未被轉(zhuǎn)換為勢(shì)能，而且即使基板P在相反方向上移動(dòng)時(shí)如流體1沿著收集面31下降那樣不移動(dòng)到回收口 22A，所以不能用回收口 22A平滑地回收液體1。因而，理想的是收集面31是水平面(0度)或者向上方向的傾斜面。進(jìn)而，在相對(duì)基板P上的每單位時(shí)間的液體供給量多的情況下，和掃描速度高速的情況下，因?yàn)橐鞒龅酵鈧?cè)的液體量多，所以收集面31的傾斜角度根據(jù)這些液體供給量以及掃描速度被設(shè)定在最佳角度。即，當(dāng)液體供給量多的情況下和掃描速度高速的情況下， 收集面31的傾斜角度被設(shè)定得大。另一方面，當(dāng)收集面31的傾斜角度過大時(shí)，存在不能用收集面31徹底捕捉(保持)液體1的情況。在此，因?yàn)橥ㄟ^采用親液化處理增強(qiáng)親液性， 收集面31的液體保持力增大，所以在增大傾斜角度的情況下，通過改變親液化處理的處理?xiàng)l件對(duì)收集面31賦予最佳的親液性，即使增大傾斜角度也可以保持液體1。因而，收集面 31的傾斜角度根據(jù)液體供給量、掃描速度以及液體的材料特性(收集面的液體親和性)等的各參數(shù)，被設(shè)定在最佳角度?？墒牵緦?shí)施方式的回收材料22的構(gòu)成包括被連續(xù)地形成為圓環(huán)狀的回收口 22A、被設(shè)置在回收口 22A的內(nèi)部的隔斷部件23、用該隔斷部件23分割的多個(gè)分割空間M， 在聚合多個(gè)分割空間M的岐管部25上經(jīng)由回收管21A接觸液體回收部21。由此，因?yàn)榘婵毡玫葮?gòu)成的液體回收部21設(shè)置1個(gè)即可，所以可以簡(jiǎn)化裝置構(gòu)成。在此，在回收部件22的外周方向的各位置的各自上產(chǎn)生用于回收液體1的吸引負(fù)荷不同的狀態(tài)，由此液體回收部21的吸引力降低，存在不能平滑地進(jìn)行回收動(dòng)作的情況。但是，通過設(shè)置隔斷部件 23可以平滑地進(jìn)行回收動(dòng)作。即，例如因液體1的行跡的原因，相對(duì)在回收部件22中在+X 側(cè)的回收口 22A中只回收(吸引)液體1相反，在-X側(cè)的回收口 22A中發(fā)生包含空氣(吞入空氣)吸引的狀態(tài)。這種情況下，擴(kuò)大在-X側(cè)的回收口 22A中的空氣吞入?yún)^(qū)域，如本實(shí)施方式所示當(dāng)用一系統(tǒng)的液體回收部21回收液體的情況下，由于吞入的空氣產(chǎn)生構(gòu)成液體回收部21的真空泵的吸引力降低的異常?？墒?，在連續(xù)形成的回收口 22A的內(nèi)部(內(nèi)部空間22H)上設(shè)置隔斷部件23，通過設(shè)置相互獨(dú)立的分割空間24，因?yàn)榭梢韵鄬?duì)吞入空氣的區(qū)域把只吸引液體1的區(qū)域在空間上分離，所以可以防止由于空氣吞入?yún)^(qū)域的擴(kuò)大或者吞入的空氣的影響液體回收部21的吸引力降低這種異常的發(fā)生，由此即使液體回收部21是一系統(tǒng)，液體回收機(jī)構(gòu)20也可以平滑地回收液體1。如上所述，為了形成液浸區(qū)域AR2，因?yàn)樵O(shè)置在相對(duì)投影區(qū)域ARl在不同的多個(gè)方向上隔開的位置上(從投影區(qū)域ARl的相互不同的多側(cè))同時(shí)進(jìn)行基板P上的液體1的供給的液體供給機(jī)構(gòu)10，所以即使基板P在包含掃描方向(士X方向)以及步進(jìn)方向(士Y方向)的多個(gè)方向上移動(dòng)的情況下，也可以在投影光學(xué)系統(tǒng)PL和基板P之間始終平滑并且良好地形成液浸區(qū)域AR2。因而，可以在高解像度以及寬焦深下進(jìn)行曝光處理。在順序曝光處理基板P上的多個(gè)拍攝區(qū)域的各自時(shí)，因?yàn)橛靡后w供給機(jī)構(gòu)10從多個(gè)位置連續(xù)提供液體1，所以可以防止伴隨液體1的提供以及停止的液體振動(dòng)(水錘現(xiàn)象) 的發(fā)生，由此可以防止被轉(zhuǎn)印的圖案的劣化。此外，液體供給機(jī)構(gòu)10因?yàn)橛晒┙o口 13A、14A從投影區(qū)域ARl的掃描方向兩側(cè)提供液體1，所以為了使所提供的液體1被在掃描方向上移動(dòng)的基板P牽引而在投影區(qū)域ARl 上漬濕擴(kuò)散，如包含投影區(qū)域ARl那樣平滑地形成液浸區(qū)域AR2。而后，在本實(shí)施方式中， 液體供給機(jī)構(gòu)10因?yàn)橄鄬?duì)掃描方向，使從投影區(qū)域ARl的跟前提供的液體量比在其相反側(cè)提供的液體量還多，所以被提供給基板P上的液體1被移動(dòng)的基板P牽引沿著基板P的移動(dòng)方向流動(dòng)，被吸引進(jìn)投影光學(xué)系統(tǒng)PL和基板P之間的空間平滑地配置。因而，從液體供給機(jī)構(gòu)10提供的液體1即使其供給能量小也在投影光學(xué)系統(tǒng)PL和基板P之間被平滑地配置，可以良好地形成液浸區(qū)域AR2。而后，與掃描方向相應(yīng)通過變更從供給口 13A、14A各自提供的液體量，可以切換液體1的流動(dòng)方向。由此即使在+X方向，或者-χ方向的某一方向上掃描基板P的情況下，也可以平滑地在投影光學(xué)系統(tǒng)PL和基板P之間形成液浸區(qū)域AR2， 可以得到高解像度以及寬焦深。此外，液體回收機(jī)構(gòu)20的回收部件22如包圍投影區(qū)域ARl以及供給部件13、14那樣被形成為圓環(huán)狀，因?yàn)樵谙鄬?duì)投影區(qū)域ARl不同的多個(gè)方向上隔開的多個(gè)位置上(從投影區(qū)域ARl的不同的多側(cè))同時(shí)進(jìn)行基板P上的液體1的回收，所以可以可靠地防止液體1 對(duì)基板P外側(cè)流出或飛濺等的異常的發(fā)生。即，液體回收機(jī)構(gòu)20在與1個(gè)基板P有關(guān)的一連串的曝光處理動(dòng)作結(jié)束前(直至相對(duì)基板P上的全部拍攝區(qū)域Sl S12的曝光處理結(jié)束，形成液浸區(qū)域AR2的液體1的回收完成前)，因?yàn)檫B續(xù)從如包圍投影區(qū)域ARl那樣配置的回收口 22A進(jìn)行回收動(dòng)作，所以即使在基板P的一連串的曝光處理動(dòng)作中液體1向任何方向上擴(kuò)散，也可以良好地回收液體1。此外，在與基板P有關(guān)的一連串的曝光處理動(dòng)作中， 因?yàn)椴恍枰Ｖ箒碜曰厥湛?22A的液體的吸引，所以可以抑制伴隨液體吸引停止的振動(dòng)。
此外，通過設(shè)置捕捉不能用液體回收機(jī)構(gòu)20徹底回收的液體1的收集部件30，可以防止液體1對(duì)基板P外側(cè)的流出或飛濺等的異常的發(fā)生。而后，在本實(shí)施方式中，收集面 31因?yàn)楸恍纬蔀榘蜒刂后w1最容易向基板P外側(cè)流出的掃描方向(X軸方向)作為長(zhǎng)度方向的平面看橢圓形狀，所以可以可靠地防止液體1流出到外部。此外，因?yàn)閷?duì)收集面31實(shí)施提高和液體1的親和性的親液化處理，所以可以良好地捕捉要流出的液體1。進(jìn)而，收集面31的液體親和性因?yàn)橥ㄟ^表面處理比基板P表面的液體親和性還高，所以因?yàn)橐鞒龅酵獠康囊后w1不附著在基板P上而被收集面31捕捉，所以可以防止在基板P的表面上殘存液體1的異常的發(fā)生。此外，因?yàn)槭占?1相對(duì)投影區(qū)域ARl隨著向外側(cè)方向而向上方傾斜，所以可以良好地捕捉要流出到外部的液體1，而且，在基板P的掃描方向是相反方向時(shí)， 因?yàn)楸徊蹲降囊后w1在收集面31上向下方傳遞，所以可以用與該收集面31連接的回收口 22A良好地回收。此外，因?yàn)闉榱艘航毓庥枚鴱囊后w供給機(jī)構(gòu)10提供和投影光學(xué)系統(tǒng)PL的前端的液體接觸面2a的親水性比和涂布在基板P表面上的感光材料的親水性還高的液體 (水)1，所以在可以用液體1可靠充滿投影光學(xué)系統(tǒng)PL和基板P之間的光路的同時(shí)，提供給基板(P)上的液體(1)被平滑地回收，可以防止液體1的流出或飛濺等的異常。進(jìn)而，在本實(shí)施方式中在從投影區(qū)域ARl的掃描方向兩側(cè)提供液體1時(shí)，在掃描方向上使從在接近投影光學(xué)系統(tǒng)的一側(cè)提供的液體量比在遠(yuǎn)離投影光學(xué)系統(tǒng)的一側(cè)提供的液體量還多，但也可以把從投影區(qū)域ARl的兩側(cè)提供的液體1設(shè)置為同樣量。這種情況下， 因?yàn)樵谇袚Q掃描方向時(shí)也不發(fā)生液體1的供給量的變化，所以可以更可靠地防止水錘現(xiàn)象的發(fā)生。另一方面，通過一邊連續(xù)提供液體1，一邊根據(jù)掃描方向使從投影區(qū)域ARl的掃描方向兩側(cè)提供的液體量變化，可以在抑制水錘現(xiàn)象發(fā)生的同時(shí)抑制液體1的使用量。進(jìn)而，在本實(shí)施方式中其構(gòu)成是，在對(duì)1塊基板P的曝光處理動(dòng)作中，連續(xù)進(jìn)行來自供給口 13A、14A的液體1的供給，在中途不停止。例如，其構(gòu)成可以是，在使基板P向+X側(cè)掃描移動(dòng)時(shí)，停止來自供給口 14A的液體供給只從供給口 13A提供液體1，在使基板P向-X 側(cè)掃描移動(dòng)時(shí)，停止來自供給口 13A的液體提供只從供給口 14A提供液體1。進(jìn)而其構(gòu)成可以是，在基板P的步進(jìn)移動(dòng)時(shí)，液體供給機(jī)構(gòu)10停止對(duì)基板P的液體1的供給。這種情況下，在開始掃描曝光時(shí)，只要在規(guī)定時(shí)間進(jìn)行液體1的供給等待液體振動(dòng)平息后掃描曝光即可。通過設(shè)置成這樣的結(jié)構(gòu)可以抑制液體1的使用量。另一方面。通過連續(xù)供給液體 1，因?yàn)椴恍枰O(shè)定直到液體振動(dòng)平息的等待時(shí)間，所以可以提高生產(chǎn)量。在本實(shí)施方式中的構(gòu)成是，液體供給機(jī)構(gòu)10的的供給口 13A、14A相對(duì)投影區(qū)域 ARl被設(shè)置在掃描方向兩側(cè)上，但例如如全部包圍投影區(qū)域ARl的四周那樣也可以在投影區(qū)域ARl的非掃描方向兩側(cè)設(shè)置供給口(供給部件)。而后也可以從如包圍投影區(qū)域ARl 那樣設(shè)置的供給口各自向基板P上提供液體1。在此，在對(duì)投影區(qū)域ARl在掃描方向兩側(cè)的各自和非掃描方向兩側(cè)的各自上設(shè)置供給口時(shí)，即，在如包圍投影區(qū)域ARl那樣相互獨(dú)立設(shè)置的4個(gè)供給口時(shí)，在一邊使基板P在掃描方向上移動(dòng)一邊曝光處理時(shí)，可以從4個(gè)供給口的全部提供液體1，也可以只從設(shè)置在掃描方向兩側(cè)的供給口提供液體1，而停止(或者少量提供)從被設(shè)置在非掃描方向兩側(cè)上的供給口的液體供給。而后，在向非掃描方向移動(dòng)基板P時(shí)，也可以從被設(shè)置在非掃描方向兩側(cè)上的供給口提供液體?；蛘?，也可以是這樣的結(jié)構(gòu)，如包圍投影區(qū)域ARl那樣設(shè)置環(huán)狀的供給部件，經(jīng)由該供給部件向基板P上提供液體1。這種情況下，因?yàn)榘岩后w1發(fā)送到供給部件的液體供給部用1個(gè)即可，所以可以簡(jiǎn)化裝置結(jié)構(gòu)。另一方面，如上述實(shí)施方式所示，如果相對(duì)投影區(qū)域ARl在掃描方向兩側(cè)上有供給口 13A、14A，則可以把投影區(qū)域ARl充分設(shè)置在液浸區(qū)域AR2上，可以抑制液體1的使用量。此外，在本實(shí)施方式中的結(jié)構(gòu)是，液體供給機(jī)構(gòu)10的供給口 13A、14A相對(duì)投影區(qū)域APl被設(shè)置在掃描方向兩側(cè)上，當(dāng)投影光學(xué)系統(tǒng)PL和基板P之間用液體1充分充滿的情況下，可以從接近投影區(qū)域ARl配置的1個(gè)供給口提供液體。這種情況下，直至1塊基板P 上的全部拍攝的曝光結(jié)束前，通過從該1個(gè)供給口連續(xù)提供液體，可以抑制水錘現(xiàn)象的發(fā)生，可以抑制液體的使用量。進(jìn)而，在上述實(shí)施方式中，第1、第2供給部件13、14和回收部件22隔開，但也可以連接第1、第2供給部件13、14和回收部件22，還可以設(shè)置在第1、第2供給部件13、14和回收部件22之間連接它們的連接部件。此外，在上述實(shí)施方式中，說明了供給部件13、14的內(nèi)部流路13H、14H和回收部件22的內(nèi)部流路22H相對(duì)基板P的表面垂直的情況，但也可以傾斜。例如，也可以設(shè)置成使供給部件13、14的內(nèi)部流路13H、14H(或者供給口 13A、14A) 向著投影區(qū)域ARl側(cè)。進(jìn)而，也可以使供給口 13A、14A和回收部件22的回收口 22A的相對(duì)基板P的表面的距離(高度)不同。進(jìn)而，包含供給部件13、14的液體供給機(jī)構(gòu)10以及包含回收部件22的液體回收機(jī)構(gòu)20的各自理想的是，用投影光學(xué)系統(tǒng)PL以及支撐該投影光學(xué)系統(tǒng)PL的支撐部件以外的支撐部件支撐。由此，可以防止在液體供給機(jī)構(gòu)10和液體回收機(jī)構(gòu)20中發(fā)生的振動(dòng)傳遞到投影光學(xué)系統(tǒng)PL。此外相反，由于使投影光學(xué)系統(tǒng)PL和供給部件13、14無縫隙接觸， 還可以期待防止大氣混入液體1的效果。以下，說明本發(fā)明的另一實(shí)施方式。在此，在以下的說明中，對(duì)和上述實(shí)施方式相同或者相等的構(gòu)成部分標(biāo)注相同的符號(hào)，簡(jiǎn)化或者省略其說明。上述實(shí)施方式的液體回收機(jī)構(gòu)20的結(jié)構(gòu)包括1個(gè)液體回收部21 ；在該液體回收部21上經(jīng)由回收管21A連接，具有連續(xù)形成為圓環(huán)狀的回收口 22A的回收部件22，但也可以設(shè)置多個(gè)液體回收部。由此可以抑制在回收口 22A的各回收位置上的回收力的離散。此外，控制裝置CONT也可以根據(jù)液體回收位置使該多個(gè)液體回收部的各自的回收力不同。參見圖7。圖7是展示本發(fā)明的另一實(shí)施方式的圖，是展示液體回收機(jī)構(gòu)20的另一例子的平面模式圖。在圖7中，液體回收機(jī)構(gòu)20包括第1液體回收部26 ；第2液體回收部27 ；在該第1液體回收部26上經(jīng)由回收管26A連接的第1回收部件28、在第2液體回收部27上經(jīng)由回收管27A連接的第2回收部29。第1、第2回收部件28、29的各自被形成為平面看大致圓弧狀，第1回收部件28被配置在投影區(qū)域ARl的-X側(cè)，另一方面，第2回收部件29 被配置在投影區(qū)域ARl的+X側(cè)上。進(jìn)而，第1、第2回收部件28、29和上述實(shí)施方式一樣， 具備向基板P—側(cè)的回收口和被設(shè)置在其內(nèi)部的隔斷部件。此外，第1、第2液體回收部件 26,27的回收動(dòng)作由控制裝置CONT分別獨(dú)立進(jìn)行。在掃描曝光基板P上的拍攝區(qū)域時(shí)，控制裝置CONT在由液體供給機(jī)構(gòu)10把液體1 提供給基板P上的同時(shí)，在液體回收機(jī)構(gòu)20中驅(qū)動(dòng)第1、第2液體回收部26、27的各自，回收基板P上的液體1。在此，控制裝置CONT根據(jù)液體回收位置控制液體回收機(jī)構(gòu)20的液體回收力使其不同。具體地說，控制裝置CONT相對(duì)于掃描方向，把在投影區(qū)域ARl的跟前的每單位時(shí)間的液體回收量(回收力)設(shè)定為比在其相反側(cè)的液體回收量還少。即，增加在掃描方向前方側(cè)(液體1流過的下游側(cè))上的液體回收力。具體地說，在基板P向+X方向移動(dòng)時(shí)，相對(duì)投影區(qū)域ARl把被設(shè)置在+X側(cè)上的第2回收部件29 (第2液體回收部件27) 的回收力設(shè)置成比由被設(shè)置在-X側(cè)上的第1回收部件28(第1液體回收部26)的回收力大。由此，在可以防止流體1向外部流出的同時(shí)可以平滑地進(jìn)行基板P上的液體回收動(dòng)作。進(jìn)而，在上述實(shí)施方式中其構(gòu)成是同時(shí)進(jìn)行采用第1、第2液體回收部件26、27的液體回收動(dòng)作，但也可以是分別進(jìn)行的結(jié)構(gòu)。例如其結(jié)構(gòu)是，在基板P向-X方向移動(dòng)時(shí)，只由相對(duì)投影區(qū)域ARl被設(shè)置在+X側(cè)上的第2回收部件29 (第2液體回收部27)進(jìn)行液體回收動(dòng)作，停止由第1回收部件28(第1液體回收部26)進(jìn)行的液體回收動(dòng)作。這種情況下，因?yàn)橐后w1主要在+X側(cè)流動(dòng)，所以只通過第2液體回收部27的回收動(dòng)作也可以回收液體1。此外，在上述各實(shí)施方式中，配置液體回收機(jī)構(gòu)20的回收部件包圍投影區(qū)域ARl 的全部，但其結(jié)構(gòu)也可以是只在投影區(qū)域ARl的掃描方向兩側(cè)上。此外，在上述各實(shí)施方式中，如包圍投影區(qū)域ARl那樣連續(xù)形成液體回收機(jī)構(gòu)20 的回收部件，而如圖8所示其構(gòu)成也可以是，斷續(xù)配置多個(gè)回收部件22D。同樣其結(jié)構(gòu)也可以是，對(duì)于液體供給機(jī)構(gòu)10也是斷續(xù)配置多個(gè)供給部件13D、14D。這種情況下，因?yàn)橛萌绨鼑队皡^(qū)域ARl那樣配置的回收口連續(xù)進(jìn)行回收動(dòng)作，所以即使液體1向某一方向擴(kuò)散，也可以良好地回收液體1。此外，在設(shè)置有多個(gè)液體回收機(jī)構(gòu)20的回收部件的情況等中，液體回收機(jī)構(gòu)20通過使相對(duì)投影區(qū)域ARl在掃描方向上隔開的位置上的液體回收力(每單位時(shí)間的液體回收量)，比在和它不同的位置上，具體地說是在非掃描方向上隔開的位置上的液體回收力還大，可以在掃描曝光時(shí)，平滑地回收基板P上的液體1。此外，通過對(duì)用隔斷部件23分割的分割空間24的各自經(jīng)由回收管分別連接具有真空泵等的多個(gè)液體回收部，獨(dú)立控制這些多個(gè)液體回收部的回收動(dòng)作，可以根據(jù)液體回收位置使回收力不同。進(jìn)而，在分割空間24的各自上不各自連接液體回收部，而用多個(gè)回收管連接1個(gè)液體回收部和多個(gè)分割空間24的各自，在這些回收管的各自上設(shè)置閥門，通過調(diào)整閥門的開度，可以與液體回收位置相應(yīng)地使回收力不同。進(jìn)而，通過改變上述多個(gè)回收管各自的長(zhǎng)度，也可以通過壓力損失使在各分割空間24上的回收力不同。進(jìn)而，在上述各實(shí)施方式中，液體供給機(jī)構(gòu)10的供給部件是平面看大致圓弧形狀，而如圖9所示，也可以是直線形狀。在此，圖9所示的平面看直線狀的供給部件13、14 分別被設(shè)置在投影區(qū)域ARl的掃描方向兩側(cè)上。同樣，液體回收機(jī)構(gòu)20的回收部件22也并不限于圓環(huán)狀，如圖9所示可以是矩形形狀。如圖10(a)所示，也可以在液體供給機(jī)構(gòu)10的供給部件13(14)的內(nèi)部流路 13H(14H)上設(shè)置多孔質(zhì)體40。或者如圖10(b)所示，也可以設(shè)置隔斷部件41形成縫隙狀的流路。通過這樣，可以整流從供給部件13(14)提供給基板P上的液體1，可以抑制在基板 P上產(chǎn)生紊流或者液體振動(dòng)的異常的發(fā)生。在上述各實(shí)施方式中，說明了收集部件30(收集面31)是平面看橢圓形狀，但也可以是圓形或者矩形形狀。另一方面，因?yàn)橐后w1容易流出的地方是投影區(qū)域ARl的掃描方向兩側(cè)，所以如上所述，通過把收集部件30設(shè)置成橢圓形狀，可以良好地捕捉要流出的液體1。此外，在上述實(shí)施方式中其構(gòu)成是，收集部件30 (收集面31)是橢圓形狀，在回收部件22的液體回收位置的外側(cè)全部上如包圍回收部件22那樣設(shè)置，例如可以設(shè)置成只設(shè)置在投影區(qū)域ARl的掃描方向兩側(cè)，不設(shè)置在相對(duì)投影區(qū)域ARl在非掃描方向上隔開的位置上。因?yàn)橐后w1不容易流出的位置在掃描方向兩側(cè)，所以即使只在投影區(qū)域ARl的掃描方向兩側(cè)上設(shè)置收集部件30，也可以良好地捕捉要流出的液體1。此外，也可以設(shè)置成收集面 31的傾斜角度根據(jù)其位置不同。例如，在收集面31中也可以使投影區(qū)域ARl的掃描方向兩側(cè)附近的傾斜角度比其他的部分大。此外，收集面31不需要是平面，例如可以是組合多個(gè)平面的形狀。圖11是展示收集部件30的收集面31的另一實(shí)施方式的圖。如圖11所示，收集面31可以是曲面形狀。具體地說，如圖11所示，收集面31可以是斷面看例如2維曲線形狀或者圓弧形狀。在此，收集面31理想的是向基板P—側(cè)脹出的曲面。即使是這樣的形狀也可以良好地捕捉液體1?；蛘?，如圖12所示，可以對(duì)收集面31實(shí)施表面積擴(kuò)大處理，具體地說實(shí)施粗面處理。通過粗面處理收集面31的表面積擴(kuò)大，可以更進(jìn)一步良好地捕捉液體1。進(jìn)而，粗面處理不需要在收集面31的整個(gè)面上，其構(gòu)成可以是在收集面31中，例如只在沿著掃描方向的一部分的區(qū)域上實(shí)施粗面處理。如圖13所示，也可以用多個(gè)扇形部件32構(gòu)成收集部件30。在圖13中，扇形部件 32是側(cè)面看大致三角形，與基板P相對(duì)的邊(下邊)隨著相對(duì)投影區(qū)域ARl向外側(cè)而向上方傾斜。而后，這多個(gè)扇形部件32在回收部件22的外側(cè)面上，使其長(zhǎng)度方向向著外側(cè)安裝成放射狀。在此，多個(gè)扇形部件32之間隔開，在各扇形部件32之間形成空間部分33。用回收部件22不能徹底回收的液體1通過靠表面張力捕捉扇形部件32之間的空間部分33，防止液體1流到基板P的外部。進(jìn)而，多個(gè)扇形部件32可以以等間隔設(shè)置，也可以以不等間隔設(shè)置。例如，也可以把沿著掃描方向的位置設(shè)置的扇形部件32的間隔設(shè)定成比被設(shè)置在沿著非掃描方向的位置設(shè)置的扇形部件32的間隔小。此外，多個(gè)扇形部件32各自的長(zhǎng)度(放射方向的大小) 可以相同，被設(shè)置在沿著掃描方向的位置的扇形部件32的長(zhǎng)度也可以比被設(shè)置在此外的位置上的扇形部件32長(zhǎng)。此外，在收集部件30中，也可以用扇形部件構(gòu)成一部分的區(qū)域， 用收集面構(gòu)成剩下的區(qū)域。進(jìn)而其構(gòu)成也可以是，在參照?qǐng)D4等說明的收集面31上安裝扇形部件32。進(jìn)而理想的是，對(duì)于扇形部件32的表面，也實(shí)施提高和液體1的親和性的親液化處理。在上述各實(shí)施方式中，當(dāng)對(duì)收集面31 (或者扇形部件32)實(shí)施親液化處理的情況下，也可以使該收集面31具有親液性分布。換句話說，可以通過實(shí)施表面處理使對(duì)于表面處理的面上的多個(gè)區(qū)域的液體接觸角是各自不同的值。例如，在收集面31中也可以相對(duì)投影區(qū)域ARl使外側(cè)的一部分區(qū)域的親液性相對(duì)內(nèi)側(cè)區(qū)域降低。進(jìn)而其構(gòu)成也可以是，不需要親液化處理收集面31的全部，例如只親液化處理沿著掃描方向的一部分的區(qū)域。進(jìn)而，在上述實(shí)施方式中，說明了對(duì)收集面31實(shí)施親液化處理，但在液體供給機(jī)構(gòu)10的液體回收部20中對(duì)液體1流過的流路的表面也可以實(shí)施親水化處理。特別是通過對(duì)液體回收機(jī)構(gòu)20的回收部件22實(shí)施親液化處理，可以平滑地進(jìn)行液體回收?；蛘咭部梢詫?duì)包含液體1接觸的鏡筒PK的投影光學(xué)系統(tǒng)PL的前端部分實(shí)施親液化處理。進(jìn)而，當(dāng)在光學(xué)元件2上形成薄膜的情況下，因?yàn)楸慌渲迷谄毓夤馐鳨L的光路上，所以用相對(duì)曝光光束EL具有透過性的材料形成，其膜厚度也被設(shè)置成可以透過曝光光束EL的程度。此外，用于表面處理的薄膜是單層膜，也可以是由多層組成的膜。此外，其形成材料如果是金屬、金屬化合物以及有機(jī)物等可以發(fā)揮所希望的性能的材料，則也可以使用任意的材料。此外，在基板P的表面上也可以和液體1的親和性一致地實(shí)施表面處理。進(jìn)而，如上所述，收集面31的液體親和性理想的是比基板P表面的液體親和性還高。以下，參照?qǐng)D14說明本發(fā)明的液體供給機(jī)構(gòu)10以及液體回收機(jī)構(gòu)20的另一實(shí)施方式。在圖14中，液體供給機(jī)構(gòu)10包括第1液體供給部件11以及第2液體供給部件 12 ；相對(duì)投影區(qū)域ARl被設(shè)置在掃描方向一側(cè)(-X側(cè))上的第1供給部件13 ；被設(shè)置在另一側(cè)(+X側(cè))上的第2供給部件14 ；連接第1液體供給部11和第1供給部件13的第1供給管41 ；連接第2液體供給部件12和第2供給部件14的第2供給管42。第1、第2供給部件13、14和參照?qǐng)D2以及圖3說明的實(shí)施方式一樣，分別具備內(nèi)部流路13H、14H和被形成在其下端部分上的供給口 13A、14A，被形成為平面看大致圓弧形狀。連接第1供給部11和第1供給部件13的第1供給管41具有直管部43、縫隙管部 44。直管部43的一端部分與第1液體供給部11連接，直管部43的另一端部分與縫隙管部 44的一端連接。此外，縫隙管部44的另一端與第1供給部件13的內(nèi)部流路13H的上端部分連接?？p隙管部44的一端部分被形成為和直管部43大致同樣大小，另一端被形成為和第1供給管部件13的上端部分大小大致相同。而后，縫隙管部44從一端部分向另一端部分在水平方向上逐漸擴(kuò)大形成為平面看大致三角形形狀，被形成在縫隙部44上的縫隙狀的內(nèi)部流路44H從一端部分向另一端部分形成為在水平方向上逐漸擴(kuò)大。連接第2液體供給部12和第2液體供給部14的第2供給管42具有直管部45 ； 縫隙管部46。直管部45的一端部分與第2液體供給部12連接，直管部45的另一端與縫隙管46的一端部分連接。此外，縫隙管部46的另一端與第2供給部件14的內(nèi)部流路14H 的上端部分連接。縫隙管部46的一端部分和直管部45形成為大小大致相同，另一端部分和第2供給部件14的上端部分形成大致大小相同。而后，縫隙管部46從一端部分向另一端部分形成為在水平縫隙上逐漸擴(kuò)大那樣的平面看大致三角形形狀，被形成在縫隙管部46 上的縫隙狀的內(nèi)部流路46H被形成從一端部分向另一端部分在水平方向上逐漸擴(kuò)大。液體回收機(jī)構(gòu)20包括被形成在平面看環(huán)狀的回收部件22 ；多個(gè)液體回收部件 61 64 ；連接回收部件22和液體回收部61 64的各自的多根回收管71 74。在本實(shí)施方式中，液體回收部用第1 第4液體回收部61 64的4個(gè)構(gòu)成，如與之對(duì)應(yīng)那樣回收管用第1 第4回收管71 74的4個(gè)構(gòu)成?；厥詹考?2和參照?qǐng)D2以及圖3說明的實(shí)施方式一樣，包括環(huán)狀的內(nèi)部流路22H、被形成在其下端部分上的回收口 22k。進(jìn)而，在圖14 所示的實(shí)施方式的內(nèi)部流路22H上不設(shè)置隔斷部件(23)。液體回收機(jī)構(gòu)20的回收部件22 被配置在液體供給機(jī)構(gòu)10的第1、第2供給部件13、14的外側(cè)上。在多個(gè)液體回收部件中連接第1液體回收部61和回收部件22的第1回收管71 具有直管部75、縫隙管部76。直管部75的一端部分與第1液體回收部61連接，直管部75的另一端與縫隙管部件76的另一端連接。此外，縫隙管部76的另一端與回收部件22的內(nèi)部流路22H的上端部分連接。在此，縫隙管部76的一端部分被形成為和直管部75大小大致相同，另一方面，縫隙管部76的另一端被形成為圓環(huán)狀的回收部件22的上端部分的大致 1/4的大小。而后，縫隙管部76如從一端部分向另一端部分在水平方向上逐漸擴(kuò)大那樣被形成為平面看大致三角形形狀，被形成在縫隙管部76上的縫隙狀的內(nèi)部流路76H被形成為從一端部分向另一端部分逐漸擴(kuò)大。同樣，連接第2液體回收部件62和回收部件22的第2回收管72具有直管部77、 縫隙管部78，縫隙管部78的一端部分被形成為和直管部77大致同樣大小，另一方面，縫隙管部78的另一端被形成為圓環(huán)狀的回收部件22的上端部分的大致1/4的大小。而后，縫隙管部78被形成為平面看大致三角形形狀，被形成在縫隙管部78上的縫隙管狀的內(nèi)部流路 78H從一端部分向另一端被形成為在水平方向上逐漸擴(kuò)大。此外，連接第3液體回收部63 的回收部件22的第3回收管73具有直管部79、縫隙管部80，連接第4液體回收管部64和回收部件22的第4回收管74具有直管部81和縫隙管部82。而后，縫隙管部80、82的另一端分別被形成為圓環(huán)狀的回收部件22的上端部分的大致1/4的大小。而后，縫隙管部80、 82的各自被形成為平面看大致三角形形狀，被形成在縫隙管80、82上的縫隙狀的內(nèi)部流路 80H、82H的各自被形成為從一端部分向另一端部分在水平縫隙上逐漸擴(kuò)大。在構(gòu)成液體供給機(jī)構(gòu)10以及液體回收機(jī)構(gòu)20的部件中液體流通的部件，具體地說供給管41、42以及回收管71 74如上所述，可以用聚四氟乙烯等合成樹脂形成，例如也可以用不銹鋼和鋁等的金屬形成。在本實(shí)施方式中，液體流通的部件是金屬制。特別是把在液體供給機(jī)構(gòu)10以及液體回收機(jī)構(gòu)20中構(gòu)成液體流路的部件設(shè)置成鋁，因?yàn)殇X和液體 (水)的接觸角小，所以可以平滑地流通液體。此外，雖然在圖14中未圖示，但在液體回收機(jī)構(gòu)20的回收部件的周圍上和前面的實(shí)施方式一樣設(shè)置收集部件30。以下，說明液體供給機(jī)構(gòu)10以及液體回收機(jī)構(gòu)20的動(dòng)作。為了形成液浸區(qū)域 (AR2)，控制裝置CONT驅(qū)動(dòng)液體供給機(jī)構(gòu)10的第1、第2液體供給部11、12的各自。從第 1、第2液體供給部11、12各自送出的液體1在使第1、第2供給管41、42的各自流通后，經(jīng)由第1、第2供給部件13、14提供給基板P上。在此，從第1液體供給部件11送出的液體1 在第1供給管41的直管部43上流通后，通過在縫隙管44上流通在水平方向(橫方向)上擴(kuò)散，在縫隙管部44的另一端上，在擴(kuò)大到第1供給部件13的內(nèi)部流路13H(供給口 13A) 的大致Y軸方向的大小后，經(jīng)由第1供給部件13的內(nèi)部流路13H提供給基板P上。由此， 液體1在把Y軸方向作為長(zhǎng)度方向的大致圓弧形狀的供給口 13A的各位置上以大致均勻的液體供給量提供給基板P上。同樣，從第2液體供給部12送出的液體1也在流過第2供給管42的直管部45后，在經(jīng)由縫隙管46在水平方向(橫方向)上擴(kuò)大后，因?yàn)樘峁┙o第2 供給部件14，所以在供給口 14A的各位置上以大致均勻的液體供給量提供給基板P上。S卩，在參照?qǐng)D2以及圖3說明的實(shí)施方式中，因?yàn)楣┙o管IlA全部用直管構(gòu)成，所以從該直管的供給管IlA向把Y軸方向作為長(zhǎng)度方向的第1供給部件13直接提供液體，則由于該流路面積的不同，因而在第1供給部件13的供給口 13A的長(zhǎng)度方向的中央部分、即在供給管IlA的正下位置上的液體供給量與在供給口 13A的長(zhǎng)度方向端部、即在和供給管 IlA隔開的位置上的液體供給量之間產(chǎn)生差，出現(xiàn)液體供給量在供給口 13A的各位置上不均勻的現(xiàn)象。具體地說，在供給口 13A的長(zhǎng)度方向中央部分(供給管11的正下的位置)中的液體供給量比在供給口 13A的長(zhǎng)度方向端部(和供給管IlA隔開的位置)中的液體供給量多，產(chǎn)生不能均勻提供液體，液浸區(qū)域AR2不均勻的可能性。但是，在把Y軸方向設(shè)置為長(zhǎng)度方向的第1供給部件13(供給口 13A)上在由第1液體供給部11提供液體1時(shí)，供給管41的至少一部分的流路大小與第1供給部件13的大小相應(yīng)地設(shè)定，如本實(shí)施方式所示， 通過把供給管41的一部分設(shè)置成向著第1供給部件13具有在水平方向逐漸擴(kuò)大的喇叭形狀的內(nèi)部流路44H的縫隙管部44，可以在把Y軸方向作為長(zhǎng)度方向的第1供給部件13的供給口 13A的各位置中用大致均勻的液體供給量向基板P上提供液體1。同樣，從第2液體供給部12送出的液體1也經(jīng)由第2供給管42以及第2供給部件14均勻地提供給基板P上。此外，控制裝置CONT驅(qū)動(dòng)液體回收機(jī)構(gòu)20的第1 第4液體回收部61 64的各自，經(jīng)由回收部件22以及第1 第4回收管71 74的各自回收基板P上的液體1。第 1 第4液體回收部件61 64的各自通過經(jīng)由第1 第4回收管71 74吸引基板P上的液體1回收。而后，基板P上的液體1在圓環(huán)狀的回收部件22的回收口 22A的各位置中以大致均勻的回收量(回收力)回收。S卩，和上述一樣，如果直接連接直管的回收管和回收部件22，則由于其流路面積不同，在回收口 22A的各位置中的液體回收量(回收力)中產(chǎn)生差異，產(chǎn)生液體回收量在回收口 22A的各位置上不均勻的情況。例如，在回收管的正下的位置中的液體回收量比在此外的位置上的液體供給量多，不能均勻地回收液體，產(chǎn)生液浸區(qū)域AR2不均勻的可能性。但是，如本實(shí)施方式所示，通過把回收管的一部分設(shè)置成具有向著回收部件22在水平方向上逐漸擴(kuò)大的的喇叭形狀的內(nèi)部流路的縫隙管部76、78、80、82，在圓環(huán)狀的回收部件22的回收口 22A的各位置上可以以大致均勻的液體回收量回收基板P上的液體。這樣，在供給口 13A、14A各自的各位置上在可以均勻提供液體的同時(shí)，因?yàn)榭梢栽诨厥湛?22A的各位置上均勻回收，所以可以形成均勻的液浸區(qū)域AR2。在參照?qǐng)D14說明的實(shí)施方式中，縫隙管部44(46)的內(nèi)部流路44H(46H)是空洞形狀，如圖15所示，在構(gòu)成液體供給機(jī)構(gòu)10的供給管41 (42)的一部分的縫隙管部44(46)的內(nèi)部流路44H(46H)上，沿著液體1的流通方向(從縫隙管部的一端部分向另一端部分)可以設(shè)置多個(gè)扇形部件85。由此，可以在整流液體1后經(jīng)由供給部件13(14)向基板P上提供。進(jìn)而，也可以把該扇形部件85延伸到供給部件13 (14)的內(nèi)部流路13H(14H)。此外，在構(gòu)成液體供給機(jī)構(gòu)20的回收管的縫隙管部76、78、80、82的內(nèi)部流路76H、78H、80H、82H的各自上設(shè)置扇形部件85。進(jìn)而，例如在基板P高速掃描移動(dòng)的情況等下，考慮即使在圖14所示的實(shí)施方式中，也不能徹底回收基板P上的液體1，基板P上的液體1流出到回收部件22的外側(cè)的情況。這種情況下，可以把沿著基板P的掃描方向(X軸方向)的位置設(shè)置的平面看大致三角形形狀的縫隙管部44、46的下面，代替收集部件30作為收集面使用。進(jìn)而，在本實(shí)施方式中，其構(gòu)成是對(duì)于1個(gè)回收部件22連接多條回收管71 74， 而其構(gòu)成也可以是如與多條回收管71 74對(duì)應(yīng)那樣把多個(gè)回收部件(回收口)接近基板 P設(shè)置。以下，參照?qǐng)D16 圖19說明本發(fā)明的液體供給機(jī)構(gòu)10以及液體回收機(jī)構(gòu)20的
另一實(shí)施方式。圖16是展示本實(shí)施方式的液體供給機(jī)構(gòu)(10)以及液體回收機(jī)構(gòu)(20)的斜視圖。在圖16中，液體供給機(jī)構(gòu)(10)包括第1、第2液體供給部11、12 ；與第1、第2液體供給部 11、12的各自連接的第1、第2供給管41、42。液體回收機(jī)構(gòu)(20)包括第1 第4液體回收部61 64 ；與第1 第4液體回收部61 64的各自連接的第1 第4回收管71 74。 而后，第1、第4供給管41、42的各自的一端與第1、第2液體供給部11、12連接，另一端與用流路形成部件90形成的以后敘述的供給流路連接。第1 第4回收管71 74的各自的一端與第1 第4液體回收部件61 64連接，另一端與用流路形成部件90形成的以后敘述的回收流路連接。流路形成部件90包括第1部件91 ；被配置在第1部件91的上部的第2部件92 ； 被配置在第2部件92的上部的第3部件93。流路形成部件90被配置成包圍投影光學(xué)系統(tǒng)PL，構(gòu)成該流路形成部件90的第1 第3部件91 93的各自是同一尺寸矩形的板狀部件，具有可以在其中央部分上配置投影光學(xué)系統(tǒng)PL的孔部分91A 93A?？撞糠?1A 93A被形成為相互連通。此外，第1、第2供給管41、42在第1 第3部件中與最上端的第 3部件93連接，第1 第4回收管71 74與中段的第2部件92連接。圖17是展示在第1 第3部件中被配置在最下段上的第1部件91的斜視圖。第 1部件91包括被形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的-X側(cè)上，形成向基板1上提供液體1的供給口的第1供給孔部94A ；被形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的+X側(cè)上，形成向基板1上提供液體的供給口的第2供給孔部95A。第1供給孔部94A以及第2供給孔部95A的各自平面看被形成為大致圓弧狀。進(jìn)而，第1部件91包括被形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的-X側(cè)上，形成回收基板P上液體的回收口的第1回收孔部96A ；被形成投影光學(xué)系統(tǒng)PL的-Y側(cè)上的，形成回收基板P上的液體的回收口的第2回收孔部97A ；被形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的+X側(cè)上，形成回收基板P上的液體的回收口的第3回收孔部98A ；被形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的+Y側(cè)上， 形成回收基板P上的液體的回收口的第4回收孔部99A。第1 第4回收孔部96A 99A 的各自被形成為平面看大致圓弧形狀，沿著投影光學(xué)系統(tǒng)PL的周圍被設(shè)置成大致等間隔。 此外，回收孔部96A 99A的各自與供給孔部94A、95A相比相對(duì)投影光學(xué)系統(tǒng)PL被設(shè)置在外側(cè)。圖18是展示在第1 第3部件中被配置在中段上的第2部件92的斜視圖，圖 18(a)是從上側(cè)看的斜視圖，圖18(b)是從下側(cè)看的斜視圖。第2部件92包括被形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的-X側(cè)上，與第1部件91的第1供給孔94A連接的第3供給孔部94B ；被形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的+X側(cè)上，與第1部件91的第2供給孔95A連接的第4供給孔部 95B。第3、第4供給孔94B、95B各自的形狀以及大小與第1、第2供給孔部94A、95A對(duì)應(yīng)。進(jìn)而，第2部件92包括在其下面被形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的-X側(cè)上，與第1部件91的第1回收孔部96A連接的第1回收溝部96B ；被形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的-Y側(cè)上， 與第1部件91的第2回收孔97A連接的第2回收溝部97B ；被形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的 +X側(cè)上，與第1部件91的第3回收孔部98A連接的第3回收溝部98B ；被形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的+Y側(cè)上，與第1部件91的第4回收孔部99A連接的第4回收溝部99B。第1 第4回收溝部96B 99B的各自如與第1 第4回收孔部96A 99A的形狀以及大小對(duì)應(yīng)那樣被形成為平面看大致圓弧形狀，沿著投影光學(xué)系統(tǒng)PL的周圍大致等間隔設(shè)置。此外， 第1回收管71和第2回收溝部96B經(jīng)由喇叭形狀溝部96T連接。喇叭形狀溝部96T被形成為從相對(duì)第1回收管71的連接部向第1回收溝部96B在水平方向上逐漸擴(kuò)大。同樣，第2回收管72和第2回收溝部97B經(jīng)由喇叭形狀溝部97T連接，第3回收管73和第3回收溝部98B經(jīng)由喇叭形狀溝部98T連接，第4回收管74和第4回收溝部99B經(jīng)由喇叭形狀溝部 99T連接。圖19是展示在第1 第3部件中被配置在最上段上的第3部件93的斜視圖，圖 19(a)是從上側(cè)看的斜視圖，圖19(b)是從下側(cè)看的斜視圖。第3部件93包括在其下面形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的-X側(cè)上，與第2部件92的第3供給孔部94B連接的第1供給溝部94C ；被形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的+X側(cè)上，與第2部件92的第4供給孔95B連接的第 2供給溝部95C。第1、第2供給溝部94C、95C各自的形狀以及大小如與第3、第4供給孔部 94B、95B(進(jìn)而第1、第2供給孔94A、95A)對(duì)應(yīng)那樣被形成為平面看大致圓弧形狀。此外， 第1供給管41和第1供給溝部94C經(jīng)由喇叭形狀溝部94T連接。喇叭形狀溝部94T被形成為從與第1供給管41相對(duì)的連接部向第1供給溝部94C在水平方向上逐漸擴(kuò)大。同樣， 第2供給管42和第2供給溝部95C經(jīng)由帶狀溝部95T連接。第1 第3部件91 93例如用不銹鋼、鈦、鋁或者包含它們的合金等的金屬形成， 各部件91 93的孔部和溝部例如用放電加工形成。在通過放電加工對(duì)各部件91 93加工，通過用粘接劑、熱壓接法等粘合這些各部件91 93，形成流路形成部件90。通過疊層各部件91 93粘合，喇叭形狀溝部94T、第1供給溝部94C、第3供給孔部94B以及第1供給孔部94A的各自連接(連通)，由此形成與第1供給管41連接(連通)的供給流路。同樣，通過連接(連通)喇叭形狀溝部95T、第2供給溝部95C、第4供給孔部95B以及第2供給孔部95A的各自，形成與第2供給管41連接(連通)的供給流路。而后，從第1、第2液體供給部11、12各自送出的液體1經(jīng)由第1、第2供給管41、42以及上述供給流路提供給基板P上。即，通過疊層板狀部件91 93，形成液體供給流路。此外，通過連接(連通)喇叭形狀溝部96T、第1回收溝部96B以及第1回收孔部 96A的各自，形成與第1回收管71連接(連通)的回收流路。同樣，通過連接喇叭形狀溝部 97T、第2回收溝部97B以及第2回收孔部97A的各自，形成與第2回收管72連接(連通) 的回收流路，通過連接(連通)喇叭形狀溝部98T、第3回收溝部98B以及第3回收孔部98A 的各自，形成與第3回收管73連接(連通)的回收流路，通過連接(連通)喇叭形狀溝部 99T、第4回收溝部99B以及第4回收孔部99A的各自，形成與第4回收管74連接(連通) 的回收流路。而后，基板P上的液體經(jīng)由上述回收流路以及第1 第4回收管71 74的各自被回收。此時(shí)，因?yàn)樵诘?、第2供給管41、42的各自上連接喇叭形狀溝部94T、95T，所以和參照?qǐng)D14說明的實(shí)施方式一樣，在把Y軸方向設(shè)置為長(zhǎng)度方向的供給口的各位置上可以均勻進(jìn)行液體供給。同樣，因?yàn)樵诨厥展?1 74的各自上也連接喇叭形狀溝部，所以可以用均勻的回收力回收液體。而后，通過用作為板狀部件的第1 第3部件91 93的各自形成流路形成部件 90，例如可以用流路形成部件90吸收在液體回收時(shí)吞入空氣吸引液體時(shí)發(fā)生的振動(dòng)。此外，因?yàn)閷?duì)于許多板狀部件91 93的各自通過實(shí)施放電加工等的加工形成流路的一部分， 通過組合它們形成液體的流路，所以可以容易形成供給流路以及回收流路的各自。進(jìn)而，在形成流路形成部件90的多個(gè)部件91 93中，在被配置在最下段上的第1 部件91的下面的第1 第4回收孔部96Α 99Α的周圍上設(shè)置相對(duì)XY平面傾斜的面，通過親液處理該表面，可以作為捕捉不能用液體回收機(jī)構(gòu)徹底回收的液體的收集面使用。此外，形成流路形成部件90的部件91 93是方形的板狀部件，但也可以使用圓形的板狀部件，可以設(shè)置成在X方向上長(zhǎng)的橢圓狀的板狀部件。此外，上述的流路形成部件90在其內(nèi)部形成供給流路和回收流路的雙方，也可以只把任意一方設(shè)置在流路形成部件90的內(nèi)部。此外，疊層多個(gè)部件形成的流路形成部件可分成為供給流路用和回收流路用而分別提供。以下，說明本發(fā)明的進(jìn)一步的另一實(shí)施方式。如上所述，包含供給部件13、14的液體供給機(jī)構(gòu)10以及包含回收部件22的液體回收機(jī)構(gòu)20的各自理想的是，用投影光學(xué)系統(tǒng) PL以及支撐該投影光學(xué)系統(tǒng)PL的支撐部件以外的支撐部件支撐。以下，參照?qǐng)D20說明液體供給機(jī)構(gòu)10以及支撐液體回收機(jī)構(gòu)20的支撐結(jié)構(gòu)。圖20是展示液體供給機(jī)構(gòu)10以及液體回收機(jī)構(gòu)20的支撐構(gòu)造的概略圖。圖20 中，曝光裝置EX包括支撐投影光學(xué)系統(tǒng)PL的鏡筒平臺(tái)(第1支撐部件)100 ；支撐鏡筒平臺(tái)100、掩模載臺(tái)MST以及基板載臺(tái)PST的主框架(第2支撐部件)102。進(jìn)而，在圖20中， Z載臺(tái)以及XY載臺(tái)用一體圖示。主框架102在超凈間等的地面上通過腳部分108設(shè)置成大致水平。在主框架102上形成向內(nèi)側(cè)突出的上側(cè)段部102A以及下側(cè)段部102B。照明光學(xué)系統(tǒng)IL用被固定在主框架102的上部的支撐框架120支撐。在主框架 102的上側(cè)段部分102A中，經(jīng)由防振動(dòng)裝置122支撐掩模平臺(tái)124。在掩模載臺(tái)MST以及掩模平臺(tái)124的中央部分上形成使掩模M的圖案像通過的開口部。在掩模載臺(tái)MST的下面上設(shè)置多個(gè)作為非接觸軸承的氣體軸承(空氣軸承)126。掩模載臺(tái)MST用空氣軸承126相對(duì)掩模平臺(tái)124的上面(引導(dǎo)面)非接觸支撐，用掩模載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置在XY平面內(nèi)可以2維移動(dòng)以及在θZ方向上微小旋轉(zhuǎn)。在保持投影光學(xué)系統(tǒng)PL的鏡筒PK的外周上設(shè)置法蘭盤104，投影光學(xué)系統(tǒng)PL經(jīng)由該法蘭盤104支撐在鏡筒平臺(tái)100上。在鏡筒平臺(tái)100和主框架102的下段部102Β之間配置包含空氣墊等的防振裝置106，支撐投影光學(xué)系統(tǒng)PL的鏡筒平臺(tái)100通過防振裝置 106支撐在主框架102的下側(cè)段部分102Β上。用該防振裝置106如主框架102的振動(dòng)不傳遞到支撐投影光學(xué)系統(tǒng)PL的鏡筒平臺(tái)100上那樣，把鏡筒平臺(tái)100和主框架102在振動(dòng)性上彼此隔離。在基板載臺(tái)PST的下面上設(shè)置作為多個(gè)非接觸軸承的氣體軸承(空氣軸承)130。 此外，在主框架102上，通過包含空氣墊等的防振裝置110支撐載臺(tái)基座112?；遢d臺(tái)PST 用空氣軸承130相對(duì)載臺(tái)基座112的上面(引導(dǎo)面)非接觸支撐，用基板載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置可以在XY平面內(nèi)2維移動(dòng)以及在ΘΖ方向上微小移動(dòng)。進(jìn)而，基板載臺(tái)PST還可以在Z方向、 θ X方向以及θ Y方向上移動(dòng)。用該防振裝置110如主框架102的振動(dòng)不傳遞到非接觸支撐基板載臺(tái)PST的載臺(tái)座112那樣，載臺(tái)基座112和主框架102被在振動(dòng)性上彼此隔離。在基板載臺(tái)PST上的+X側(cè)的規(guī)定位置上設(shè)置移動(dòng)鏡55，在鏡筒PK的+X側(cè)的規(guī)定位置上設(shè)置參照鏡(固定鏡)114。此外，在與移動(dòng)鏡55以及參照鏡114相對(duì)的位置上設(shè)置激光干涉計(jì)56。激光干涉計(jì)56因?yàn)楸话惭b在鏡筒平臺(tái)100上，所以激光干涉計(jì)56和液體供給機(jī)構(gòu)10以及液體回收機(jī)構(gòu)20被在振動(dòng)性上彼此隔離。激光干涉計(jì)56在向鏡筒鏡 55照射測(cè)長(zhǎng)光束(測(cè)定光)的同時(shí)，在參照鏡114上照射參照光束(參照光)。基于被照射的測(cè)長(zhǎng)光束以參照光束的來自移動(dòng)鏡55以及參照鏡114各自的反射光在激光干涉計(jì)56的受光部上接收光，激光干涉計(jì)56干涉這些光，測(cè)量以參照光束的光路長(zhǎng)度為基準(zhǔn)的測(cè)長(zhǎng)光束的光路長(zhǎng)度的變化量，進(jìn)而測(cè)量以參照鏡114為基準(zhǔn)的移動(dòng)鏡55的位置信息，即基板載臺(tái)PST的位置信息。同樣，雖然未同時(shí)，但在基板載臺(tái)PST上以及鏡筒PK的+Y側(cè)也設(shè)置移動(dòng)鏡以及參照鏡，在與它們相對(duì)的位置上設(shè)置激光干涉計(jì)。此外，在鏡筒平臺(tái)100上用于測(cè)量基板P的聚焦位置(Z位置)以及傾斜的自聚焦檢測(cè)系統(tǒng)和基板P上的校準(zhǔn)標(biāo)志的校準(zhǔn)系統(tǒng)等，也被未圖示的測(cè)量系統(tǒng)支撐，這些測(cè)量系統(tǒng)也是和主框架102、液體供給機(jī)構(gòu)10、液體回收機(jī)構(gòu)20在振動(dòng)性上彼此隔離。液體供給機(jī)構(gòu)10以及液體回收機(jī)構(gòu)20被主框架102的下段部102B支撐。在本實(shí)施方式中的構(gòu)成是構(gòu)成液體供給機(jī)構(gòu)10的第1、第2供給部件13、14、供給管11A、12A 以及構(gòu)成液體回收機(jī)構(gòu)20的回收部件22、回收管21A等用支撐部件140支撐，該支撐部件 140與主框架102的下段部102B連接。進(jìn)而，在圖20中，供給部件13、14、回收部件22、供給管11A、12A以及回收管21A等簡(jiǎn)化圖示。這樣，通過用和支撐投影光學(xué)系統(tǒng)PL的鏡筒平臺(tái)100在振動(dòng)性上彼此隔離的主框架102支撐液體供給機(jī)構(gòu)10以及液體供給機(jī)構(gòu)20，液體供給機(jī)構(gòu)10及液體回收機(jī)構(gòu)20和投影光學(xué)系統(tǒng)PL被在振動(dòng)性上彼此隔離。因而，在液體供給時(shí)，或者液體回收時(shí)產(chǎn)生的振動(dòng)，不會(huì)經(jīng)由鏡筒平臺(tái)100傳遞到投影光學(xué)系統(tǒng)PL、激光干涉計(jì)56以及自聚焦檢測(cè)和校準(zhǔn)系統(tǒng)等的測(cè)量系統(tǒng)。因而，可以防止由于投影光學(xué)系統(tǒng)振動(dòng)發(fā)生圖案像劣化的異常的情況， 此外，因?yàn)榭梢愿呔冗M(jìn)行基板載臺(tái)(基板P)的位置控制，所以可以把圖案像高精度投影到基板上。此外，通過用和支撐基板載臺(tái)PST的載臺(tái)基座112在振動(dòng)性上彼此隔離的主框架102支撐液體供給機(jī)構(gòu)10以及液體供給機(jī)構(gòu)20，液體供給機(jī)構(gòu)10及液體回收機(jī)構(gòu)20和載臺(tái)基座112被在振動(dòng)性上彼此隔離。因而，在液體供給時(shí)，或者在液體回收時(shí)產(chǎn)生的振動(dòng)不會(huì)傳遞到載臺(tái)基座112，可以防止產(chǎn)生降低基板載臺(tái)PST的位置確定精度，或者移動(dòng)精度的的異常。進(jìn)而，本實(shí)施方式中，在主框架102上一體地支撐液體供給機(jī)構(gòu)10以及液體回收機(jī)構(gòu)20，但也可以將液體供給機(jī)構(gòu)10和液體回收機(jī)構(gòu)20分開安裝在主框架102上。進(jìn)而， 主框架102和另一支撐部件配置在超凈間等的地上，在該支撐部件上也可以支撐液體供給機(jī)構(gòu)和液體回收機(jī)構(gòu)。如上所述，本實(shí)施方式中的液體1使用純水。純水在半導(dǎo)體制造工廠等中在可以容易大量得到的同時(shí)，具有對(duì)基板P上的光刻膠和光學(xué)元件(透鏡)等沒有不良影響的優(yōu)點(diǎn)。此外，純水在對(duì)環(huán)境沒有不良影響的同時(shí)，因?yàn)殡s質(zhì)的含有量極其低，所以還可以期待洗凈基板P的表面以及被設(shè)置在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的前端面上的光學(xué)元件的表面的作用。 而后，相對(duì)波長(zhǎng)193nm左右的曝光光束EL的純水(水)的折射率η可以說大致在1. 44左右，作為曝光光束EL的光源當(dāng)使用ArF準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)193nm)的情況下，在基板P上被短波長(zhǎng)化為1/n，即134nm左右而得到高的解像度。進(jìn)而，焦深與空氣中相比因?yàn)榧s擴(kuò)大為 η倍，即約為1.44倍，所以當(dāng)在空氣中使用的情況下只要確保同等的焦深即可的情況下，可以進(jìn)一步增加投影光學(xué)系統(tǒng)PL的數(shù)值孔徑，這一點(diǎn)也可以提高解像度。進(jìn)而，如上所述當(dāng)使用了液浸法的情況下，投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑NA為0. 9 1. 3。當(dāng)投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑NA這樣大的情況下，在以往作為曝光光束使用的隨機(jī)偏振光中因偏振光效應(yīng)成像性能惡化，所以希望使用偏振光照明。這種情況下，進(jìn)行與掩模(掩模原版)的線和間距圖案的線圖案的長(zhǎng)度方向一致的直線偏振光照明，從掩模(掩模原版)的圖案中，可以射出許多S偏振光成分(沿著線圖案的長(zhǎng)度方向的偏振光方向成分)的衍射光。與用液體充滿投影光學(xué)系統(tǒng)PL和被涂布在基板P表面上的抗蝕劑之間的情況，和用空氣(氣體)充滿投影光學(xué)系統(tǒng)PL和被涂布在基板P表面上的抗蝕劑之間的情況相比， 因?yàn)樵谟欣谔岣邔?duì)比度的S偏振光成分的衍射光的抗蝕劑表面上的透過率高，所以即使在投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑NA超過1. 0的情況下，也可以得到高的成像性能。此外，如果適宜地組合與相移掩?；蚓€圖案的長(zhǎng)度方向一致的斜向入射照明法(特別是偶極照明法) 等，則具有進(jìn)一步效果。進(jìn)而，對(duì)于和線圖案的長(zhǎng)度方向一致的斜向入射照明法，例如被公開在特開平6-188169號(hào)公報(bào)上，在由本國(guó)際申請(qǐng)中指定或者選擇的國(guó)家法令容許的范圍中，援引該公開作為本文的記載的一部分。在本實(shí)施方式中，在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的前端上作為光學(xué)元件2安裝透鏡，可以用該投影進(jìn)行投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)特性，例如像差(球面像差，彗形像差等)的調(diào)整。進(jìn)而，作為光學(xué)元件2也可以是調(diào)整上述光學(xué)特性的光學(xué)板。另一方面，也可以把和液體1接觸的光學(xué)元件2設(shè)置成比透鏡便宜的平行平面板。通過把光學(xué)元件2設(shè)置成平行平面板， 在曝光裝置EX的運(yùn)輸、組裝、調(diào)整時(shí)等中降低投影光學(xué)系統(tǒng)PL的透過率、基板P上的曝光光束EL的照度以及照明分布的均勻性的物質(zhì)(例如硅基有機(jī)物質(zhì))即使附著在該平行平面板上，也可以只在提供液體1之前更換該平行平面板，和把和液體1接觸的光學(xué)元件設(shè)置為透鏡的情況相比具有其更換成本低的優(yōu)點(diǎn)。即，因?yàn)橛捎谝蚱毓夤馐鳨L的照射從抗蝕劑中發(fā)生的飛濺粒子，或者液體1中的雜質(zhì)的附著等引起與液體1接觸的光學(xué)元件的表面污濁，所以需要定期更換該光學(xué)元件，而通過把該光學(xué)元件設(shè)置成便宜的平行平面板，與透鏡相比更換部件的成本降低，并且可以縮短更換所需要的時(shí)間，可以抑制維護(hù)成本(運(yùn)行成本)的上升和生產(chǎn)量的降低。進(jìn)而，當(dāng)因液體1的流動(dòng)產(chǎn)生的投影光學(xué)系統(tǒng)PL的前端的光學(xué)元件和基板P之間的壓力大的情況下，不能更換該光學(xué)元件，該光學(xué)元件被堅(jiān)固地固定不能被該壓力移動(dòng)。進(jìn)而，本實(shí)施方式的液體1是水，而也可以是水以外的液體。例如在曝光光束EL 的光源是F2激光的情況下，該F2激光因?yàn)椴煌高^水，所以作為液體1可以是能夠透過F2激光光束的例如過氟化聚醚(PFPE)或氟元素基油等的氟元素基流體。這種情況下，在和以收集面31為主的液體1接觸的部分上，例如，通過用包含氟元素的極性小的分子構(gòu)造的物質(zhì)形成薄膜進(jìn)行親液化處理。此外，作為液體1，除此以外還可以使用相對(duì)曝光光束EL具有透過性，折射率盡可能高，對(duì)于在投影光學(xué)系統(tǒng)PL和被涂布在基板P表面上的光刻膠穩(wěn)定的物質(zhì)(例如雪松油)。這種情況下也是表面處理與所使用的液體1的極性相應(yīng)地進(jìn)行。進(jìn)而，上述的投影光學(xué)系統(tǒng)PL的構(gòu)成(設(shè)計(jì))是，在用液體1(純水)充滿該像面?zhèn)鹊囊航顟B(tài)下，其成像性能最佳，而也可以設(shè)置(設(shè)計(jì))成這樣的結(jié)構(gòu)，通過更換投影光學(xué)系統(tǒng)PL的一部分的光學(xué)元件(接近基板P的光學(xué)元件)，在該像面?zhèn)炔淮嬖谝后w的非液浸狀態(tài)和用另一液體充滿該像面?zhèn)鹊囊航顟B(tài)下都可以得到所希望的成像性能。通過這樣構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)PL，例如當(dāng)需要大焦深DOF的情況下在液浸狀態(tài)下使用曝光裝置 EX，在要求高生產(chǎn)率的情況下更換一部分光學(xué)元件在非液浸狀態(tài)下使用曝光裝置EX。這種情況下，為了測(cè)定一部分光學(xué)元件的更換后的成像性能，希望在基板載臺(tái)PST上配置空間像傳感器或波面像差測(cè)定傳感器。此外，可以使用波面像差測(cè)定用的掩模，也可以根據(jù)該成像性能的測(cè)定結(jié)果，如在各狀態(tài)下得到所希望的成像性能那樣，推動(dòng)一部分光學(xué)元件， 或者進(jìn)行曝光光束EL的波長(zhǎng)的微調(diào)整。進(jìn)而，對(duì)于上述空間像傳感器的詳細(xì)，例如在特開 2002-14005號(hào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利公開20020041377)中公開，此外對(duì)于波面像差測(cè)定傳感器的詳細(xì)，例如在國(guó)際公開第02/63664號(hào)公報(bào)中公開，在本國(guó)際申請(qǐng)中指定或者被選擇的國(guó)家的法令允許的范圍中，援引這些公開作為本文的記載的一部分。此外，一部分的光學(xué)元件的更換理想的是在曝光裝置EX上安裝投影光學(xué)系統(tǒng)PL 的狀態(tài)下進(jìn)行，而也可以在從曝光裝置EX上拆下投影光學(xué)系統(tǒng)PL的狀態(tài)下進(jìn)行。進(jìn)而，作為上述各實(shí)施方式的基板P，不僅適用于半導(dǎo)體器件制造用的半導(dǎo)體晶片，而且適用于顯示器器件用的玻璃基板、薄膜磁頭用的陶瓷晶片，或者在曝光裝置中使用的掩?；蛘哐谀Ｔ娴脑?合成石英，硅晶片)等。作為曝光裝置EX除了可以適用使掩模M和基板P同步移動(dòng)掃描曝光掩模M的圖案的步進(jìn)式掃描方式的掃描型曝光裝置(掃描步進(jìn)曝光裝置)外，還可以適用在使掩模M 和基板P靜止的狀態(tài)下一并曝光掩模M的圖案，使基板P順序步進(jìn)移動(dòng)的步進(jìn)重復(fù)方式的投影曝光裝置(步進(jìn)曝光裝置)。此外，本發(fā)明還可以適用于在基板P上至少局部重疊轉(zhuǎn)移 2個(gè)圖案的步進(jìn)斷續(xù)方式的曝光裝置。此外，本發(fā)明還可以適用于雙載臺(tái)型的曝光裝置。雙載臺(tái)型的曝光裝置的構(gòu)造以及曝光動(dòng)作例如在特開平10-163099號(hào)以及特開平10-214783號(hào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利6341007， 6400441,6549269 以及 6590634)，特表 2000-505958 號(hào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利 5，969，441)或者美國(guó)專利6208407中公開，在本國(guó)際申請(qǐng)中指定或者被選擇的國(guó)家的法令容許的范圍中，援引這些公開作為本文記載的一部分。作為曝光裝置EX的種類，并不限于在基板P上曝光半導(dǎo)體元件圖案的半導(dǎo)體元件制造用的曝光裝置，也可以廣泛適用于制造液晶顯示元件制造用或者顯示器制造用曝光裝置，和薄膜磁頭、攝像元件(CCD)或者掩模原版或者掩模等的曝光裝置等中。當(dāng)在基板載臺(tái)PST和掩模載臺(tái)MST中適用線性電機(jī)的情況下，也可以使用采樣了空氣軸承的空氣上浮型以及使用了勞倫茲力或者電抗力的磁懸浮型之一。此外，各載臺(tái) PST、MST可以是沿著導(dǎo)軌移動(dòng)的類型，也可以是不設(shè)置導(dǎo)軌的無導(dǎo)軌型。在載臺(tái)中使用了線性電機(jī)的例子在美國(guó)專利5，623，853以及5，528，118中公開，分別在本國(guó)際申請(qǐng)中指定或者被選擇的國(guó)家的法令容許的范圍中，援引這些文件的記載內(nèi)容作為本文的記載的一部分。作為各載臺(tái)PST、MST的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，可以使用使在兩維上配置了磁鐵的磁鐵組件， 和在二維上配置了線圈的電樞組件相對(duì)，用電磁力驅(qū)動(dòng)各載臺(tái)PST、MST的平面電機(jī)。這種情況下，只要把磁鐵組件和電樞組件之一連接在載臺(tái)PST、MST上，把磁鐵組件和電樞組件的另一方設(shè)置在載臺(tái)PST、MST的移動(dòng)側(cè)面上即可。由基板載臺(tái)PST的移動(dòng)產(chǎn)生的反作用力可以使用框架部件機(jī)械性地傳導(dǎo)到大地，以使其不傳遞到投影光學(xué)系統(tǒng)PL上。其反作用力的處理方法例如在美國(guó)專利 5，528，118(特開平8-166475號(hào)公報(bào))中詳細(xì)公開，在本國(guó)際申請(qǐng)中指定或者被選擇的國(guó)家的法令容許的范圍中，援引該文獻(xiàn)記載的內(nèi)容作為本文記載的一部分。由掩模載臺(tái)MST的移動(dòng)產(chǎn)生的反作用力使用框架部件機(jī)械性地傳遞到大地，以使其不傳遞到投影光學(xué)系統(tǒng)PL。該反作用力的處理方法例如被詳細(xì)公開在美國(guó)專利第5，874，820(特開平8-330224號(hào)公報(bào))中，在本國(guó)際申請(qǐng)中被指定或者選擇的國(guó)家的法令容許的范圍中，援引該文獻(xiàn)的公開作為本文的記載的一部分。如上所述，本申請(qǐng)實(shí)施方式的曝光裝置EX通過如保持規(guī)定的機(jī)械精度、電氣精度、光學(xué)性精度那樣組裝包含在本申請(qǐng)專利請(qǐng)求的范圍中列舉的各構(gòu)成要素的各種子系統(tǒng)制造。為了確保這些精度，在該組裝的前后，對(duì)各種光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行用于實(shí)現(xiàn)光學(xué)性精度的調(diào)整，對(duì)各種機(jī)械系統(tǒng)進(jìn)行用于實(shí)現(xiàn)機(jī)械性精度的調(diào)整、對(duì)各種電氣系統(tǒng)進(jìn)行用于實(shí)現(xiàn)電氣精度的調(diào)整。從各種子系統(tǒng)到曝光裝置的組裝的工序包含各種子系統(tǒng)相互的機(jī)械連接、電氣電路的配線連接、氣壓回路的配管連接等。在從各種子系統(tǒng)向曝光裝置的組裝的工序前， 當(dāng)然有各子系統(tǒng)各自的組裝工序。如果對(duì)各種子系統(tǒng)的曝光裝置的組裝工序結(jié)束，則進(jìn)行綜合調(diào)整，確保作為曝光裝置整體的各種精度。進(jìn)而，曝光裝置的制造希望在溫度以及清潔度被管理的潔凈間中進(jìn)行。半導(dǎo)體器件等的微型器件經(jīng)由如圖21所示的以下步驟制造進(jìn)行微型器件的功能和性能設(shè)計(jì)的步驟201 ；制造基于該設(shè)計(jì)步驟的掩模(掩模原版)的步驟202;制造作為器件的基礎(chǔ)材料的基板的步驟203;用上述的實(shí)施方式的曝光裝置EX把掩模的圖案曝光在基板上的曝光處理步驟204 ；器件組裝步驟(包含切割工序，粘接工序，封裝工序)205 ；檢查步驟206等。如果采用本發(fā)明，則在投影光學(xué)系統(tǒng)和基板之間形成液浸區(qū)域的狀態(tài)下進(jìn)行曝光處理時(shí)，可以在穩(wěn)定地形成液浸區(qū)域的同時(shí)良好地回收該液體，因?yàn)榭梢苑乐挂后w向周邊流出等，所以可以高精度地進(jìn)行曝光處理。因而，本發(fā)明的曝光裝置在使用了 ArF準(zhǔn)分子激光等的短波長(zhǎng)光源的高解像度的曝光期間極其有效。
權(quán)利要求
1.一種曝光裝置，通過隔著液體把規(guī)定圖案的像投影到基板上來曝光基板，該曝光裝置包括把上述圖案的像投影到基板上的投影光學(xué)系統(tǒng)；為了在包含投影光學(xué)系統(tǒng)的投影區(qū)域的一部分基板上形成液浸區(qū)域而向基板上提供液體的液體供給機(jī)構(gòu)；在離開投影區(qū)域的回收位置上進(jìn)行基板上的液體回收的液體回收機(jī)構(gòu)； 被配置在相對(duì)投影區(qū)域由液體回收機(jī)構(gòu)進(jìn)行的液體回收位置的外側(cè)且形成有捕捉液體的液體收集面的收集部件。
2.權(quán)利要求1所述的曝光裝置，上述收集面被實(shí)施了提高和上述液體的親和性的處理。
3.權(quán)利要求2所述的曝光裝置，上述收集面對(duì)上述液體的親和性比上述基板表面對(duì)上述液體的親和性高。
4.權(quán)利要求1所述的曝光裝置，上述收集面相對(duì)水平面傾斜。
5.權(quán)利要求1所述的曝光裝置，上述收集面被配置成包圍上述投影區(qū)域且根據(jù)上述收集面的位置其長(zhǎng)度不同。
6.權(quán)利要求1所述的曝光裝置，在上述收集面上被捕捉到的液體被上述液體回收機(jī)構(gòu)回收。
7.權(quán)利要求1所述的曝光裝置，上述液體供給機(jī)構(gòu)在由上述液體回收機(jī)構(gòu)進(jìn)行的液體回收位置和上述投影區(qū)域之間進(jìn)行液體的供給。
8.一種曝光裝置，通過把規(guī)定圖案的像投影到基板上來曝光基板，該曝光裝置包括 把上述圖案的像投影到基板上的投影光學(xué)系統(tǒng)；為了在包含投影光學(xué)系統(tǒng)的投影區(qū)域的一部分基板上形成液浸區(qū)域而向基板上提供液體的液體供給機(jī)構(gòu)；在離開投影區(qū)域的回收位置上進(jìn)行基板上的液體回收的液體回收機(jī)構(gòu)， 由液體供給機(jī)構(gòu)進(jìn)行的液體的供給在液體回收機(jī)構(gòu)的液體回收位置和投影區(qū)域之間進(jìn)行。
9.權(quán)利要求7或8所述的曝光裝置，上述液體供給機(jī)構(gòu)根據(jù)執(zhí)行的動(dòng)作改變液體的供給量。
10.權(quán)利要求9所述的曝光裝置，一邊移動(dòng)上述基板一邊掃描曝光上述基板上的各拍攝區(qū)域，上述液體供給機(jī)構(gòu)使液體的供給量在上述基板上的2個(gè)拍攝區(qū)域之間的步進(jìn)移動(dòng)期間和各拍攝區(qū)域的曝光期間彼此不同。
11.權(quán)利要求1以及8的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，上述液體供給機(jī)構(gòu)提供對(duì)上述投影光學(xué)系統(tǒng)的前端的液體接觸面的親和性比對(duì)上述基板表面的親和性高的液體。
12.權(quán)利要求11所述的曝光裝置，上述液體是水，上述投影光學(xué)系統(tǒng)的前端的液體接觸面被實(shí)施了親水化處理，在上述基板表面上涂布有防水性的感光材料。
13.一種器件制造方法，使用權(quán)利要求1以及8的任一項(xiàng)所述的曝光裝置。
14.一種曝光方法，通過隔著液體把規(guī)定圖案的由投影光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)生的像投影到基板上來曝光基板，該曝光方法包括向包含投影光學(xué)系統(tǒng)的投影區(qū)域的一部分基板上提供對(duì)投影光學(xué)系統(tǒng)的前端的液體接觸面的親和性比對(duì)基板表面的親和性還高的液體以形成液浸區(qū)域；隔著提供給上述液浸區(qū)域的液體把規(guī)定圖案的像投影到基板上。
15.權(quán)利要求14所述的曝光方法，上述液體是水，上述投影光學(xué)系統(tǒng)的前端的液體接觸面被實(shí)施了親水化處理，在上述基板表面上涂布有防水性的感光材料。
16.權(quán)利要求14所述的曝光方法，在上述基板的曝光期間，在上述基板上進(jìn)行上述液體供給的同時(shí)，回收上述基板上的液體。
17.一種器件制造方法，使用權(quán)利要求14所述的曝光方法。
18.—種曝光裝置，通過隔著液體把規(guī)定圖案的像投影到基板上來曝光基板，該曝光裝置包括把上述圖案的像投影到基板上的投影光學(xué)系統(tǒng)；具有向上述基板上提供液體的供給流路的液體供給機(jī)構(gòu)；具有回收所供給的液體的回收流路的液體回收機(jī)構(gòu)，上述供給流路以及回收流路的至少一方被形成在疊層有多個(gè)板狀部件的疊層部件中。
19.權(quán)利要求18所述的曝光裝置，形成有配置了投影光學(xué)系統(tǒng)的一部分的貫通孔以在上述疊層部件的中央在疊層部件的厚度方向上貫通疊層部件。
20.權(quán)利要求18或者19所述的曝光裝置，上述供給流路以及回收流路的至少一方被形成為在厚度方向上貫通至少2個(gè)板狀部件。
21.一種曝光裝置，通過隔著液體把規(guī)定圖案的像投影到基板上來曝光基板，該曝光裝置包括把上述圖案的像投影到基板上的投影光學(xué)系統(tǒng)；為了在包含投影光學(xué)系統(tǒng)的投影區(qū)域的一部分基板上形成液浸區(qū)域而向基板上提供液體的液體供給機(jī)構(gòu)，液體供給機(jī)構(gòu)和投影光學(xué)系統(tǒng)在振動(dòng)性上彼此隔離。
22.權(quán)利要求21所述的曝光裝置，上述液體供給機(jī)構(gòu)具有設(shè)置在投影上述圖案像的投影區(qū)域的兩側(cè)上的供給口，在上述投影區(qū)域的兩側(cè)上同時(shí)進(jìn)行對(duì)上述基板上的液體供給。
23.權(quán)利要求22所述的曝光裝置，上述基板上的各拍攝區(qū)域一邊向規(guī)定的掃描方向移動(dòng)一邊被曝光，上述液體供給機(jī)構(gòu)相對(duì)于上述掃描方向從上述投影區(qū)域的兩側(cè)同時(shí)進(jìn)行上述液體的供給。
24.權(quán)利要求21所述的曝光裝置，還具備回收上述基板上的液體的液體回收機(jī)構(gòu)，該液體回收機(jī)構(gòu)和上述投影光學(xué)系統(tǒng)在振動(dòng)性上彼此隔離。
25.權(quán)利要求M所述的曝光裝置，上述液體回收機(jī)構(gòu)的回收口配置成包圍上述液體供給機(jī)構(gòu)的供給口。
26.權(quán)利要求21所述的曝光裝置，進(jìn)一步包括支撐上述投影光學(xué)系統(tǒng)的第1支撐部件； 和第1支撐部件在振動(dòng)性上彼此隔離、支撐上述液體供給機(jī)構(gòu)的第2支撐部件。
27.一種曝光裝置，通過隔著液體把規(guī)定圖案的像投影到基板上來曝光基板，該曝光裝置包括把上述圖案的像投影到基板上的投影光學(xué)系統(tǒng)；回收提供給包含投影光學(xué)系統(tǒng)的投影區(qū)域的一部分基板上的液體的液體回收機(jī)構(gòu)，液體回收機(jī)構(gòu)和投影光學(xué)系統(tǒng)在振動(dòng)性上彼此隔離。
28.權(quán)利要求27所述的曝光裝置，進(jìn)一步包括支撐上述投影光學(xué)系統(tǒng)的第1支撐部件； 和第1支撐部件在振動(dòng)性上彼此隔離、支撐上述液體回收機(jī)構(gòu)的第2支撐部件。
29.權(quán)利要求27或觀所述的曝光裝置，在第1支撐部件和第2支撐部件之間設(shè)置有防振機(jī)構(gòu)。
30.權(quán)利要求27或觀所述的曝光裝置，進(jìn)一步包括被上述第1支撐部件支撐的激光干涉計(jì)，該激光干涉計(jì)測(cè)量保持上述基板且能夠移動(dòng)的基板載臺(tái)的位置信息。
31.權(quán)利要求27或觀所述的曝光裝置，包括支撐保持上述基板且能夠移動(dòng)的基板載臺(tái)的基座，上述第2支撐部件和上述基座部件在振動(dòng)性上彼此隔離。
32.—種曝光裝置，隔著液體把規(guī)定圖案的像投影到基板上且順序曝光該基板上的多個(gè)拍攝區(qū)域，該曝光裝置包括把上述圖案的像投影到上述基板上的投影光學(xué)系統(tǒng)；為了在包含該投影光學(xué)系統(tǒng)的投影區(qū)域的一部分基板上形成液浸區(qū)域，從和上述基板對(duì)置配置的供給口供給液體的液體供給機(jī)構(gòu)，該液體供給機(jī)構(gòu)在進(jìn)行上述基板上的多個(gè)拍攝區(qū)域的曝光處理期間從上述供給口連續(xù)提供液體。
33.權(quán)利要求32所述的曝光裝置，上述液體供給機(jī)構(gòu)具有多個(gè)供給口。
34.權(quán)利要求33所述的曝光裝置，上述供給口被配置在上述投影區(qū)域的兩側(cè)。
35.權(quán)利要求32所述的曝光裝置，一邊使上述基板在規(guī)定方向上移動(dòng)一邊掃描曝光上述基板上的多個(gè)拍攝區(qū)域中的一部分拍攝區(qū)域，一邊使上述基板在和上述規(guī)定方向相反的方向上移動(dòng)一邊掃描曝光剩下的拍攝區(qū)域。
36.一種曝光裝置，隔著液體把規(guī)定圖案的像投影到基板上且順序曝光該基板上的多個(gè)拍攝區(qū)域，該曝光裝置包括在上述基板上投影上述圖案的像的投影光學(xué)系統(tǒng)；為了在包含該投影光學(xué)系統(tǒng)的投影區(qū)域的一部分基板上形成液浸區(qū)域，從配置在規(guī)定位置上的供給口提供液體的液體供給機(jī)構(gòu)；具有和上述基板對(duì)置配置的回收口且回收從上述液體供給機(jī)構(gòu)提供的液體的液體回收機(jī)構(gòu)，該液體回收機(jī)構(gòu)在進(jìn)行上述基板上的多個(gè)拍攝區(qū)域的曝光處理期間從上述回收口連續(xù)回收液體。
37.權(quán)利要求36所述的曝光裝置，上述回收口配置成包圍上述投影區(qū)域。
38.權(quán)利要求36所述的曝光裝置，一邊使上述基板在規(guī)定方向上移動(dòng)一邊掃描曝光上述基板上的多個(gè)拍攝區(qū)域中的一部分拍攝區(qū)域，一邊使上述基板在和上述規(guī)定方向相反的方向上移動(dòng)一邊掃描曝光剩下的拍攝區(qū)域。
39.一種器件制造方法，使用權(quán)利要求18、21、27、32以及36的任一項(xiàng)所述的曝光裝置。
40.權(quán)利要求1或8所述的曝光裝置，上述液體回收機(jī)構(gòu)具有連續(xù)或不連續(xù)地形成為包圍上述投影區(qū)域的回收口。
41.權(quán)利要求40所述的曝光裝置，上述液體回收機(jī)構(gòu)將上述液體與空氣一起回收。
42.權(quán)利要求40或41所述的曝光裝置，上述回收口配置為圓形。
43.權(quán)利要求40或41所述的曝光裝置，上述回收口配置為四角形。
44.權(quán)利要求41至43的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，上述液體供給機(jī)構(gòu)具有供給口，上述供給口與回收口配置為基板對(duì)向于上述供給口與回收口以使上述回收口包圍上述供給口。
45.權(quán)利要求40至44的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，在上述液體的回收的同時(shí)，上述液體供給機(jī)構(gòu)向上述基板上供給上述液體。
46.權(quán)利要求45所述的曝光裝置，上述液體供給機(jī)構(gòu)根據(jù)要執(zhí)行的動(dòng)作來改變上述液體的供給量。
47.權(quán)利要求46所述的曝光裝置，一邊移動(dòng)上述基板一邊掃描曝光上述基板上的各個(gè)拍攝區(qū)域，上述液體供給機(jī)構(gòu)被操作使得液體的供給量在上述基板上的2個(gè)拍攝區(qū)域之間的步進(jìn)移動(dòng)期間和各拍攝區(qū)域的曝光期間彼此不同。
48.權(quán)利要求1或8所述的曝光裝置，上述液體供給機(jī)構(gòu)具有供給口，上述液體回收機(jī)構(gòu)具有回收口，上述供給口離開上述基板的表面的距離與上述回收口離開上述基板的表面的距離不同。
全文摘要
曝光裝置是通過使光線經(jīng)過規(guī)定圖案再透過一種液體投影到感光基板上來使感光基板曝光的。曝光裝置有一套用于投影的投影光學(xué)系統(tǒng)和用于供給液體到感光基板上從而在部分感光基板上形成液體浸入?yún)^(qū)域的液體供給機(jī)構(gòu)。液體供給機(jī)構(gòu)向感光基板供給液體。供給的液體同時(shí)向投影區(qū)四周擴(kuò)散。曝光裝置能通過回收液體很好地保持液體浸入?yún)^(qū)域，所以能阻止液體流向浸入?yún)^(qū)外面并且能很好地曝光。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102495540SQ201210012709
公開日2012年6月13日 申請(qǐng)日期2004年2月26日 優(yōu)先權(quán)日2003年2月26日
發(fā)明者長(zhǎng)坂博之 申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康