專(zhuān)利名稱(chēng)：電子照相感光構(gòu)件、處理盒和電子照相設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電子照相感光構(gòu)件以及具有電子照相感光構(gòu)件的處理盒和電子照相設(shè)備。
背景技術(shù)：
在電子照相感光構(gòu)件中，由于使用有機(jī)光導(dǎo)電性材料的那些具有良好的成膜性并能夠通過(guò)涂布來(lái)生產(chǎn)，因此具有能夠提供具有高生產(chǎn)率和廉價(jià)的電子照相感光構(gòu)件的優(yōu)點(diǎn)。雖然電子照相感光構(gòu)件根據(jù)當(dāng)其表面充電時(shí)的電荷極性而被廣泛地分為正帶電性電子照相感光構(gòu)件和負(fù)帶電性電子照相感光構(gòu)件，但是在使用有機(jī)光導(dǎo)電性材料的電子照相感光構(gòu)件的情況中，其更多為負(fù)帶電性電子照相感光構(gòu)件。雖然電子照相感光構(gòu)件通常具有支承體和形成于支承體上的感光層，但是對(duì)于負(fù)·帶電性電子照相感光構(gòu)件的感光層，使用包含電荷產(chǎn)生材料和空穴輸送材料的感光層(以下，也簡(jiǎn)單稱(chēng)作“感光層”)。包含電荷產(chǎn)生材料和空穴輸送材料的感光層包括從支承體上依次設(shè)置含有電荷產(chǎn)生材料的電荷產(chǎn)生層和含有空穴輸送材料的空穴輸送層的感光層，和電荷產(chǎn)生材料和空穴輸送材料包含于相同層中的感光層。如果將感光層(電荷產(chǎn)生層)直接設(shè)置于支承體上，則產(chǎn)生感光層(電荷產(chǎn)生層)的剝落并將支承體表面上的缺陷(形狀缺陷例如裂紋(flaw)或材料缺陷例如雜質(zhì))原樣反映到圖像上，并且一些情況中產(chǎn)生圖像缺陷例如黑點(diǎn)和空白區(qū)域。為了解決這些問(wèn)題，在許多電子照相感光構(gòu)件中，將稱(chēng)為底涂層的層(也稱(chēng)為中間層)設(shè)置于感光層和支承體之間。然而，在一些情況中觀察到被認(rèn)為是由底涂層引起的電子照相感光構(gòu)件特性的劣化。然后，常規(guī)地進(jìn)行嘗試以通過(guò)使電子輸送材料包含于底涂層中從而將底涂層轉(zhuǎn)變?yōu)殡娮虞斔蛯觼?lái)改善底涂層的特性(專(zhuān)利文獻(xiàn)I和2)。引文列表專(zhuān)利文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)I :日本專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)亻_(kāi)2001-83726專(zhuān)利文獻(xiàn)2 :日本專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)亻_(kāi)2003-34504
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問(wèn)題近年來(lái)，對(duì)于電子照相圖像品質(zhì)的要求與日俱增。例如，對(duì)于正重影的可接受范圍已明顯變得嚴(yán)格。正重影指在一張紙上形成圖像的過(guò)程中在電子照相感光構(gòu)件的隨后旋轉(zhuǎn)時(shí)光照射區(qū)域變?yōu)榘肷{(diào)圖像的情況中，僅光照射區(qū)域的濃度變高的現(xiàn)象。關(guān)于正重影的抑制(降低)，上述常規(guī)方法仍具有改進(jìn)的余地。
本發(fā)明的目的是提供正重影被抑制的電子照相感光構(gòu)件，和具有所述電子照相感光構(gòu)件的處理盒和電子照相設(shè)備。用于解決問(wèn)題的方案作為深入研究的結(jié)果，本發(fā)明人已發(fā)現(xiàn)使具有特定結(jié)構(gòu)的聚合物包含于電子照相感光構(gòu)件的底涂層中允許實(shí)現(xiàn)以高水平抑制正重影。S卩，本發(fā)明提供具有支承體、形成于所述支承體上的底涂層和形成于所述底涂層上并包含電荷產(chǎn)生材料和空穴輸送材料的感光層的電子照相感光構(gòu)件，其中，所述底涂層包含具有由下式(I)表示的重復(fù)結(jié)構(gòu)單元的聚合物，條件是從具有由下式(I)表示的重復(fù)結(jié)構(gòu)單元的聚合物排除進(jìn)一步具有由下式(2)表示的重復(fù)結(jié)構(gòu) 單元的聚合物
——E1-A1-Z2-W1-B1-W2-^--(I)
-Z3-A2-Z4-W3-B2-W4-^--(2)其中，式(I)和(2)中，Z1至Z4各自獨(dú)立地表示單鍵、亞烷基、亞芳基、用烷基取代的亞芳基、或亞芳烷基(aralkylene) W至W4各自獨(dú)立地表示單鍵、氨基甲酸酯鍵、或脲鍵出1表示用羧基或磺酸基取代的亞芳基、用羧基和烷基取代的亞芳基、或用羧基或磺酸基取代的亞燒基；B2表不亞芳基，亞燒基，亞芳燒基，用燒基、齒素原子、氛基或硝基取代的亞芳基，用鹵素原子、氰基或硝基取代的亞烷基，用烷基、鹵素原子、氰基或硝基取代的亞芳烷基，由醚(ether)或磺?；?sulfonyl)中斷(interrupted)的亞芳基,或由醚中斷的亞燒基W和A2各自獨(dú)立地表示由任意下式(A-I)至(A-8)表示的二價(jià)基團(tuán)
權(quán)利要求
1.一種電子照相感光構(gòu)件，其包括支承體、形成于所述支承體上的底涂層和形成于所述底涂層上的感光層，所述感光層包含電荷產(chǎn)生材料和空穴輸送材料， 其中所述底涂層包含具有由下式(I)表示的重復(fù)結(jié)構(gòu)單元的聚合物，條件是從所述具有由下式(I)表示的重復(fù)結(jié)構(gòu)單元的聚合物中排除進(jìn)一步具有由下式(2)表示的重復(fù)結(jié)構(gòu)單元的聚合物
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電子照相感光構(gòu)件,其中包含電荷產(chǎn)生材料和空穴輸送材料的所述感光層為包括從所述支承體側(cè)依次設(shè)置的含有電荷產(chǎn)生材料的電荷產(chǎn)生層和含有空穴輸送材料的空穴輸送層的感光層。
3.—種處理盒，其一體化地支承根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的電子照相感光構(gòu)件；和選自由充電裝置、顯影裝置、轉(zhuǎn)印裝置和清潔裝置組成的組中的至少一種裝置，所述處理盒可拆卸地安裝到電子照相設(shè)備的主體。
4.一種電子照相設(shè)備，其包括根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的電子照相感光構(gòu)件、充電裝置、曝光裝置、顯影裝置和轉(zhuǎn)印裝置。
全文摘要
電子照相感光構(gòu)件的底涂層包含具有特定重復(fù)結(jié)構(gòu)單元的聚合物，以提供抑制正重影的電子照相感光構(gòu)件，以及具有所述電子照相感光構(gòu)件的處理盒和電子照相設(shè)備。
文檔編號(hào)G03G5/05GK102971675SQ201180032350
公開(kāi)日2013年3月13日 申請(qǐng)日期2011年6月24日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月29日
發(fā)明者關(guān)戶(hù)邦彥, 關(guān)谷道代, 丸山晃洋, 高木進(jìn)司, 長(zhǎng)坂秀昭 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社