專利名稱：光刻膠容器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及集成電路制造工藝技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光刻膠容器。
背景技術(shù)：
伴隨集成電路制造技術(shù)的不斷進(jìn)步，半導(dǎo)體器件的體積和關(guān)鍵尺寸正變得越來(lái)越小，同時(shí)晶圓尺寸也變得越來(lái)越大。隨著半導(dǎo)體器件關(guān)鍵尺寸的減小和晶圓尺寸的擴(kuò)大，集成電路產(chǎn)業(yè)也面臨越來(lái)越多的挑戰(zhàn)，所面臨的重要挑戰(zhàn)之一是半導(dǎo)體生產(chǎn)線制造成本的急劇上升。光刻模塊制造成本一直以來(lái)都是在所有模塊中最高的，光刻模塊的成本約占到半導(dǎo)體生產(chǎn)總成本的三分之一左右。光刻模塊中一項(xiàng)重要的成本就是光刻膠的成本，以一瓶4升裝的應(yīng)用在170nm及以上技術(shù)代的248nm光源的光刻膠為例，其費(fèi)用約為一千美金左右，每一毫升的光刻膠的費(fèi)用合人民幣I. 6兀左右，而同樣一瓶4升裝的應(yīng)用在65nm或者45nm及以下技術(shù)代的193nm光源的光刻膠，其費(fèi)用往往高達(dá)一萬(wàn)美金以上，即每一毫升的光刻膠的費(fèi)用合人民幣15元以上，每毫升成本上升了 10倍以上。由此可以看到由技術(shù)進(jìn)步帶來(lái)的成本上升的劇烈程度。如何降低半導(dǎo)體生產(chǎn)線的生產(chǎn)成本，已經(jīng)得到了半導(dǎo)體業(yè)界的普遍關(guān)注和重視，這也是半導(dǎo)體裝備及工藝技術(shù)發(fā)展的一個(gè)重要研究和開發(fā)方向。圖I所示為現(xiàn)有技術(shù)的光刻膠容器，該容器11采用平底設(shè)計(jì)，盛裝在所述容器11內(nèi)的光刻膠在液泵的作用下由光刻膠吸嘴12進(jìn)入光刻膠吸管13，再通過(guò)光刻膠管路14，液泵、閥門及過(guò)濾系統(tǒng)等15送到光刻膠噴嘴16，所述光刻膠噴嘴16位于晶圓17的上方，光刻膠通過(guò)所述光刻膠噴嘴16噴射到所述晶圓17上。所述光刻膠吸嘴12采用斜切面設(shè)計(jì)，插入所述容器11底部位置，當(dāng)光刻膠的液面低于吸嘴斜切面的上邊沿時(shí)，會(huì)有空氣被吸入所述光刻膠吸嘴12而產(chǎn)生報(bào)警并提醒生產(chǎn)人員更換容器。但是，被更換的光刻膠容器內(nèi)還剩有許多光刻膠，以現(xiàn)有最通用的4升裝光刻膠容器為例，吸嘴斜切面的上邊沿距離容器底部約I厘米左右，光刻膠容器的內(nèi)徑為15厘米，由此可計(jì)算出被更換的光刻膠容器內(nèi)還剩有約為200毫升的光刻膠，這些價(jià)值不菲的剩余光刻膠不僅沒有得到利用，反而由于本身有毒有害而增加廢棄物處理成本。如果能夠減少每一光刻膠容器內(nèi)的剩余光刻膠的浪費(fèi)，對(duì)于總量來(lái)說(shuō)也是一筆不小的費(fèi)用節(jié)約。同時(shí)，減少有毒有害、污染環(huán)境的物質(zhì)排放對(duì)綠色環(huán)保及可持續(xù)發(fā)展也可以做出重要貢獻(xiàn)。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種光刻膠容器，可減少容器更換時(shí)剩余在容器內(nèi)的光刻膠的量，節(jié)約生產(chǎn)成本。為了達(dá)到上述的目的，本實(shí)用新型提供一種光刻膠容器，包括盛裝腔體，所述盛裝腔體的底端面呈V型，且其中央設(shè)有下沉式凹槽。[0009]上述光刻膠容器，其中，所述盛裝腔體的V型底端面與水平面之間的夾角為5 45。。上述光刻膠容器，其中，所述凹槽的直徑為I 3cm。 上述光刻膠容器，其中，光刻膠吸管吸取所述盛裝腔體內(nèi)的光刻膠，所述光刻膠吸管設(shè)有呈斜切面狀的光刻膠吸嘴，所述凹槽的頂端與底端之間的間距大于所述光刻膠吸嘴的上邊沿與下邊沿之間的間距。 上述光刻膠容器，其中，所述光刻膠容器還包括支腳，所述支腳連接在所述盛裝腔體的底部，支撐著所述盛裝腔體。上述光刻膠容器，其中，所述支腳為多個(gè)點(diǎn)狀支腳或者環(huán)形支腳。本實(shí)用新型的光刻膠容器將容器底端面設(shè)為V型，在V型底端面的中央設(shè)置下沉式凹槽，使置于凹槽內(nèi)的光刻膠吸嘴能充分吸取容器內(nèi)的光刻膠，減少光刻膠的浪費(fèi)，降低光刻エ藝生產(chǎn)成本。

本實(shí)用新型的光刻膠容器由以下的實(shí)施例及附圖給出。圖I是現(xiàn)有技術(shù)的光刻膠容器的示意圖。圖2是本實(shí)用新型的光刻膠容器的示意圖。圖3是圖2中虛線圈部分的局部放大圖。圖4是本實(shí)用新型一實(shí)施例中點(diǎn)狀支腳的仰視圖
具體實(shí)施方式
以下將結(jié)合圖2 圖4對(duì)本實(shí)用新型的光刻膠容器作進(jìn)ー步的詳細(xì)描述。參見圖2，本實(shí)用新型實(shí)施例的光刻膠容器包括盛裝腔體21，所述盛裝腔體21的底端面212呈V型，且其中央設(shè)有下沉式凹槽211。將所述盛裝腔體21的底端面212設(shè)計(jì)成V型，能使光刻膠(在重力作用下)向底端面212的中央聚集，在V型底端面212的中央設(shè)置ー個(gè)下沉式凹槽211，將呈斜切面狀的光刻膠吸嘴31置于所述凹槽211的正中，可充分吸取所述盛裝腔體21內(nèi)的光刻膠。參見圖3，較佳地，所述盛裝腔體21的V型底端面212與水平面之間的夾角a為
5 45° o較佳地，所述凹槽211的頂端213與底端214之間的間距大于所述光刻膠吸嘴31的上邊沿311與下邊沿312之間的間距，即，所述凹槽211的頂端213與底端214之間的間距大于所述光刻膠吸嘴31的上邊沿311所在平面與下邊沿312所在平面之間的垂直距離，使所述光刻膠吸嘴31置于所述凹槽211的正中時(shí)，所述光刻膠吸嘴31的上邊沿311位于所述凹槽211的頂端213的下方，且所述光刻膠吸嘴31的下邊沿312與所述凹槽211的底端214不接觸。較佳地，所述凹槽211為圓形凹槽，所述凹槽211的直徑為I 3cm，既能容納下所述光刻膠吸嘴31，又能使光刻膠的剩余量趨于最小化，所述光刻膠吸嘴31與所述凹槽211的側(cè)壁不接觸?；蛘?，所述凹槽211也可以為方形凹槽，所述方形凹槽底面的邊長(zhǎng)為I 3cm。當(dāng)然，所述凹槽211還可以為其它形狀，只要是能容納下所述光刻膠吸嘴31，并且使光刻膠的剩余量趨于最小化的設(shè)計(jì)均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。由于所述盛裝腔體21的底端面212呈V型，不能直接將所述盛裝腔體21置于水平面上，需要有一支腳來(lái)支撐所述盛裝腔體21，使所述盛裝腔體21可水平放置。如圖2所示，所述光刻膠容器還包括支腳22 ;所述支腳22設(shè)置在所述盛裝腔體21的底部，支撐著所述盛裝腔體21。參見圖4，一較佳實(shí)施例中，所述支腳22為點(diǎn)狀支腳，所述多個(gè)點(diǎn)狀支腳與所述盛裝腔體21的底部相連，且沿所述盛裝腔體21底部外圍的圓周均勻分布。所述多個(gè)點(diǎn)狀支腳與所述盛裝腔體21的底部可采用一體成型的方式制作。另一較佳實(shí)施例中，所述支腳22為環(huán)形支腳，可與所述盛裝腔體21的底部可采用一體成型的方式制作。如圖2所示，使用本實(shí)施例的光刻膠容器時(shí)，將所述光刻膠容器水平置于軌道機(jī)臺(tái)的化學(xué)品柜子(圖2中未示)中，光刻膠吸管32插于所述盛裝腔體21內(nèi)，所述光刻膠吸 嘴31置于所述凹槽211的正中，盛裝在所述盛裝腔體21內(nèi)的光刻膠在液泵的作用下由所述光刻膠吸嘴31進(jìn)入所述光刻膠吸管32，再通過(guò)光刻膠管路33，液泵、閥門及過(guò)濾系統(tǒng)等34送到光刻膠噴嘴35,所述光刻膠噴嘴35位于晶圓36的上方,光刻膠通過(guò)所述光刻膠噴嘴35旋涂于所述晶圓36的表面上；當(dāng)光刻膠接近用完時(shí)，底部剩余的光刻膠會(huì)由于底端面V型設(shè)計(jì)和流體作用從而聚集在中央的下沉式凹槽211內(nèi)部；當(dāng)光刻膠繼續(xù)被消耗時(shí)，當(dāng)所述凹槽211內(nèi)部的光刻膠液面低于光刻膠吸嘴切面的上邊沿311時(shí)，才會(huì)有空氣被吸入所述光刻膠吸嘴31而產(chǎn)生報(bào)警并提醒生產(chǎn)人員更換所述盛裝腔體21。以所述凹槽211的直徑為2厘米為例，更換光刻膠容器時(shí)，容器內(nèi)剩余的光刻膠不超過(guò)10毫升，相比現(xiàn)有技術(shù)的光刻膠容器剩余200毫升，較少浪費(fèi)約95%，成果顯著，降低了光刻工藝總生產(chǎn)成本；且改良的容器本身不增加生產(chǎn)和維護(hù)成本，減少了有毒有害廢棄物排放。需要說(shuō)明的是，本實(shí)用新型的發(fā)明點(diǎn)在于凹槽的設(shè)計(jì)，所述光刻膠容器的其他部分(如瓶身)可與現(xiàn)有的結(jié)構(gòu)相同或類似，例如，所述光刻膠容器的瓶身可以大致呈圓形，本實(shí)用新型不予限定。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包括這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種光刻膠容器，其特征在于，包括盛裝腔體，所述盛裝腔體的底端面呈V型，且其中央設(shè)有下沉式凹槽。
2.如權(quán)利要求I所述的光刻膠容器，其特征在于，所述盛裝腔體的V型底端面與水平面之間的夾角為5 45°。
3.如權(quán)利要求I所述的光刻膠容器，其特征在于，所述凹槽的直徑為I 3cm。
4.如權(quán)利要求I所述的光刻膠容器，其特征在于，光刻膠吸管吸取所述盛裝腔體內(nèi)的光刻膠，所述光刻膠吸管設(shè)有呈斜切面狀的光刻膠吸嘴，所述凹槽的頂端與底端之間的間距大于所述光刻膠吸嘴的上邊沿與下邊沿之間的間距。
5.如權(quán)利要求I至4中任一權(quán)利要求所述的光刻膠容器，其特征在于，所述光刻膠容器底部還包括支腳，所述支腳連接在所述盛裝腔體的底部，支撐著所述盛裝腔體。
6.如權(quán)利要求5所述的光刻膠容器，其特征在于，所述支腳為多個(gè)點(diǎn)狀支腳或者環(huán)形支腳。
專利摘要本實(shí)用新型的光刻膠容器包括盛裝腔體，所述盛裝腔體的底端面呈V型，且其中央設(shè)有下沉式凹槽。本實(shí)用新型的光刻膠容器可減少容器更換時(shí)剩余在容器內(nèi)的光刻膠的量，節(jié)約生產(chǎn)成本。
文檔編號(hào)G03F7/16GK202423237SQ20112050293
公開日2012年9月5日 申請(qǐng)日期2011年12月6日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月6日
發(fā)明者袁偉 申請(qǐng)人:上海集成電路研發(fā)中心有限公司