專利名稱：照相設(shè)備及其x射線發(fā)生器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及X射線技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種照相設(shè)備及其X射線發(fā)生器。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的用于PCB板鉆孔及檢驗(yàn)、金屬探測(cè)及測(cè)厚的照相設(shè)備及其X射線發(fā)生器，產(chǎn)生焦點(diǎn)太大，在成像時(shí)圖像顯示不清晰。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型實(shí)施例所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于，提供一種焦點(diǎn)大小適當(dāng)，成像顯示清晰的照相設(shè)備及其X射線發(fā)生器。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，一方面，提供一種X射線發(fā)生器，包括設(shè)置在一外殼內(nèi)的真空管；設(shè)置于所述真空管一端發(fā)射電子的陰極；設(shè)置于所述真空管另一端的陽(yáng)極；聚焦所述電子并產(chǎn)生X射線且對(duì)應(yīng)靶面傾角為9度-11度的X射線透鏡。進(jìn)一步地，所述靶面傾角為10. 4度-10. 6度。進(jìn)一步地，所述靶面傾角為10. 5度。另一方面，還提供了一種照相設(shè)備，包括上述任一項(xiàng)所述的X射線發(fā)生器、依次設(shè)置于所述X射線發(fā)生器的真空管的X射線產(chǎn)生部位的圖像增強(qiáng)器、光學(xué)鏡頭及電荷耦合元件鏡頭。上述技術(shù)方案至少具有如下有益效果因?yàn)椴捎昧税忻鎯A角為9度-11度的X射線透鏡的技術(shù)手段，所以克服了現(xiàn)有技術(shù)中產(chǎn)生焦點(diǎn)太大，在成像時(shí)圖像顯示不清晰的技術(shù)問(wèn)題，進(jìn)而達(dá)到了焦點(diǎn)大小適當(dāng)，成像顯示清晰的技術(shù)效果。

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例的X射線發(fā)生器的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例的使用X射線發(fā)生器的照相設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例的X射線發(fā)生器的原理示意圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型實(shí)施例的X射線發(fā)生器包括殼體、設(shè)于所述殼體內(nèi)部的χ射線發(fā)生器電源、控制所述電源的控制器及X射線發(fā)生機(jī)構(gòu)10。所述殼體密封，其內(nèi)充滿變壓器油作為冷卻劑，對(duì)應(yīng)的一側(cè)設(shè)有加油口，用于添加所述變壓器油。所述控制器用于對(duì)所述χ射線發(fā)生器電源的電壓和電流進(jìn)行調(diào)節(jié)，以得到產(chǎn)生X 射線所需要的電壓和電流。所述控制器輸出電壓為50000伏，輸出功率為0-50千瓦。請(qǐng)參考圖1-2，所述χ射線發(fā)生機(jī)構(gòu)10包括真空管11、陰極12、陽(yáng)極13及X射線透鏡14。[0016]所述真空管11設(shè)置在所述外殼內(nèi)，為真空玻璃管。所述陰極12設(shè)置于所述真空管11 一端，用于發(fā)射電子。所述陽(yáng)極13設(shè)置于所述真空管11的另一端，接收所述電子產(chǎn)生高壓。所述X射線透鏡14設(shè)置于所述陰極12和所述陽(yáng)極13之間，用于聚焦所述電子并產(chǎn)生X射線，對(duì)應(yīng)靶面傾角(參照后續(xù)說(shuō)明)為9度-11度，優(yōu)選地，所述靶面傾角為10. 4 度-10. 6度，最好是10. 5度。本實(shí)用新型的還提供一種的照相設(shè)備，其與所述X射線發(fā)生器不同的是，是在所述X射線發(fā)生器真空管11的X射線產(chǎn)生部位依次設(shè)置圖像增強(qiáng)器20、光學(xué)鏡頭21及CXD (Charge Coupled Device ；電荷耦合元件)鏡頭22，以對(duì)X射線照射物體拍攝成像。請(qǐng)參考圖3，具體為實(shí)際焦點(diǎn)和有效焦點(diǎn)的關(guān)系示意圖。所述陰極12對(duì)應(yīng)的燈絲發(fā)射的電子，經(jīng)聚焦加速后撞擊在所述陽(yáng)極13對(duì)應(yīng)的陽(yáng)極靶上的面積稱為實(shí)際焦點(diǎn)。所述實(shí)際焦點(diǎn)在垂直于所述真空管11軸線方向上投影的面積，稱為有效焦點(diǎn)(effective focal spot)o兩個(gè)焦點(diǎn)都具有對(duì)應(yīng)的面積值，它們之間通過(guò)靶面傾角θ建立起對(duì)應(yīng)的正比關(guān)系。所述靶面傾角θ即為靶的表面相對(duì)于X射線輸出方向的夾角。設(shè)所述實(shí)際焦點(diǎn)的長(zhǎng)度為Α，寬度為B，根據(jù)光學(xué)投影成像原理，經(jīng)過(guò)投影后，有效焦點(diǎn)的寬度b仍等于實(shí)際焦點(diǎn)的寬度B，而有效焦點(diǎn)的長(zhǎng)度a則變成了 Asine，比實(shí)際焦點(diǎn)的長(zhǎng)度短?？梢姲忻鎯A角θ 越小，有效焦點(diǎn)的長(zhǎng)度越小，即有效焦點(diǎn)的面積越小。實(shí)際焦點(diǎn)的大小直接影響X射線管的散熱和影像的清晰度。實(shí)際焦點(diǎn)面積越大， 有效焦點(diǎn)的面積也增大，圖像就不清晰，實(shí)際焦點(diǎn)面積越小，有效焦點(diǎn)面積也越小，產(chǎn)生的圖像就越清晰。但實(shí)際焦點(diǎn)面積越小時(shí)，所述真空管11溫度就越高，產(chǎn)生的功率就越大，有時(shí)會(huì)使所述真空管11過(guò)熱，對(duì)散熱不利。但實(shí)際焦點(diǎn)越大，必然影響在膠片上所形成影像的清晰度。若減小靶面傾角θ來(lái)減小有效焦點(diǎn)，必然使單位面積上的電子密度增加，實(shí)際焦點(diǎn)的溫度快速上升，所述陽(yáng)極13將不能承受較大的功率。再者，靶面傾角θ越大，則χ散射線越多；若θ過(guò)小，為了不改變照射野，需增大管電流，但隨X射線量的增加其散射線量也隨之增加，因此，在所述實(shí)際焦點(diǎn)面積一定的情況下，應(yīng)通過(guò)改變所述靶面傾角θ的角度，使所述有效焦點(diǎn)處于可使用范圍。根據(jù)試驗(yàn)，所述靶面傾角θ為9度-11度，優(yōu)選地，所述靶面傾角θ為10. 4度-10. 6度，最好是10. 5 度時(shí)效果最佳。以上所述是本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種X射線發(fā)生器，其特征在于，包括設(shè)置在一外殼內(nèi)的真空管；設(shè)置于所述真空管一端發(fā)射電子的陰極；設(shè)置于所述真空管另一端的陽(yáng)極；聚焦所述電子并產(chǎn)生X 射線且對(duì)應(yīng)靶面傾角為9度-11度的X射線透鏡。
2.如權(quán)利要求1所述的X射線發(fā)生器，其特征在于，所述靶面傾角為10.4度-10. 6度。
3.如權(quán)利要求1所述的X射線發(fā)生器，其特征在于，所述靶面傾角為10.5度。
4.一種照相設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的X射線發(fā)生器、依次設(shè)置于所述X射線發(fā)生器的真空管的X射線產(chǎn)生部位的圖像增強(qiáng)器、光學(xué)鏡頭及電荷耦合元件鏡頭。
專利摘要本實(shí)用新型實(shí)施例涉及一種照相設(shè)備及其X射線發(fā)生器，所述X射線發(fā)生器包括設(shè)置在一外殼內(nèi)的真空管；設(shè)置于所述真空管一端發(fā)射電子的陰極；設(shè)置于所述真空管另一端的陽(yáng)極；聚焦所述電子并產(chǎn)生X射線且對(duì)應(yīng)靶面傾角為9度-11度的X射線透鏡。本實(shí)用新型實(shí)施例的照相設(shè)備及其X射線發(fā)生器對(duì)應(yīng)的焦點(diǎn)大小適當(dāng)，成像顯示清晰。
文檔編號(hào)G03B42/02GK201936839SQ20112000582
公開日2011年8月17日 申請(qǐng)日期2011年1月10日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月10日
發(fā)明者胡玉林, 趙慧 申請(qǐng)人:深圳市晶金電子有限公司