亚洲成年人黄色一级片,日本香港三级亚洲三级,黄色成人小视频,国产青草视频,国产一区二区久久精品,91在线免费公开视频,成年轻人网站色直接看

顯影裝置以及包含該顯影裝置的處理盒和成像設(shè)備的制作方法

文檔序號(hào):2789778閱讀:114來源:國知局
專利名稱:顯影裝置以及包含該顯影裝置的處理盒和成像設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明總的涉及一種用于成像設(shè)備,如復(fù)印機(jī)、打印機(jī)、傳真機(jī)或能夠?qū)崿F(xiàn)這些功 能中至少兩個(gè)的多功能機(jī)器的顯影裝置、包含有該顯影裝置的處理盒和包含該顯影裝置的 成像設(shè)備。
背景技術(shù)
通常,諸如復(fù)印機(jī)、打印機(jī)、傳真機(jī)或者包括至少兩種這些功能的多功能機(jī)器等的 電子照相成像設(shè)備包括其上形成潛像的潛像承載件和用顯影劑顯影潛像的顯影裝置。存在采用磁刷顯影方法的成像設(shè)備,該方法采用兩組分顯影劑,該兩組分顯影劑 基本上由調(diào)色劑和磁性載體構(gòu)成。采用磁刷顯影方法的顯影裝置通常包括諸如殼體的顯 影劑容器,其中容納兩組分顯影劑;諸如傳送螺桿的攪拌器,以傳輸殼體內(nèi)側(cè)的顯影劑;以 及諸如顯影輥的顯影劑承載件。在磁刷顯影方法中,調(diào)色劑(即,調(diào)色劑顆粒)被靜電吸引 到載體(即,載體顆粒)上,并且顯影輥將靜電吸引到載體上的調(diào)色劑傳送到顯影區(qū)域,在 此顯影輥通過形成在顯影裝置的殼體內(nèi)的開口局部露出并且面對(duì)圖像承載件。在顯影區(qū)域 內(nèi),調(diào)色劑顆粒粘附到潛像承載件上形成的潛像上,由此將潛像顯影成調(diào)色劑圖像。例如,顯影劑承載件包括筒形顯影套筒和諸如是磁輥的磁場(chǎng)發(fā)生器或者多個(gè)磁鐵 設(shè)置在顯影套筒的內(nèi)側(cè),以產(chǎn)生使得顯影劑(即,顯影劑顆粒)豎立并堆積在顯影套筒的表 面上的磁場(chǎng)。更具體地說,載體顆粒沿著磁場(chǎng)所產(chǎn)生的磁力線豎立在顯影套筒的表面上,并 且被充電的調(diào)色劑顆粒附著到載體顆粒上,由此形成磁刷。例如,磁輥具有多個(gè)磁極,該磁 極是由桿狀形狀的多個(gè)磁鐵產(chǎn)生。多個(gè)磁極包括用于將顯影劑吸引到顯影套筒上的吸引磁 極、將調(diào)色劑傳遞到圖像承載件上的主顯影磁極和從顯影套筒釋放顯影劑的釋放磁極。尤 其是,主顯影磁極設(shè)置在與面對(duì)顯影區(qū)域的顯影套筒的位置相同的圓周位置上。豎立在顯 影套筒表面上的顯影劑可以通過旋轉(zhuǎn)顯影套筒和磁輥中的至少一個(gè)而被圓周方向傳輸。典型地是,為了利于顯影劑的傳送,顯影套筒的表面被噴砂或噴丸處理,以在其表 面上形成溝槽或者不規(guī)則部分。尤其是,具有溝槽表面或者不規(guī)則表面的顯影輥被廣泛用 在多顏色成像設(shè)備,如復(fù)印機(jī)和打印機(jī)中,用于實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量圖像。通過形成溝槽或噴砂來摩 擦顯影套筒的表面可以防止或減少顯影劑在顯影套筒的表面上打滑以及顯影劑在其上累 積,由此防止由其造成的圖像質(zhì)量降低。例如,JP-2009-80447-A提出利用具有多個(gè)凹陷的顯影套筒,該凹陷以規(guī)則間隔形 成在顯影套筒的表面上。在這個(gè)顯影套筒上承載的顯影劑密度與在具有不規(guī)則表面的噴砂 處理的顯影套筒上承載的一樣密。同時(shí),這個(gè)顯影套筒具有與溝槽顯影套筒同樣高的顯影 劑傳輸能力。圖30是在JP-2009-80447-A中公開的顯影套筒的表面的大約2到3cm2的區(qū)域的 放大圖,該圖是從顯影裝置一側(cè)看到的。如圖30所示,多個(gè)小卵形溝槽或者凹陷139Z形成 在顯影套筒的表面上,并且每個(gè)凹陷139Z相對(duì)于顯影套筒的旋轉(zhuǎn)軸方向傾斜,其左端向上 傾斜而右端向下傾斜。小凹陷139Z用切削工具,如鉆頭(bit),通過適當(dāng)?shù)卦O(shè)定鉆頭的旋轉(zhuǎn)頻率、刀具頭移動(dòng)的速度和顯影套筒的旋轉(zhuǎn)速度,密集地形成在顯影套筒的表面上。當(dāng)顯 影套筒在圖30中向下旋轉(zhuǎn)時(shí),由于凹陷139Z相對(duì)于顯影套筒的旋轉(zhuǎn)軸方向傾斜,在顯影套 筒上承載的顯影劑被沿著圖30所示的箭頭Yl所指的方向在顯影劑釋放部分內(nèi)移動(dòng),在該 顯影劑釋放部分,顯影劑從顯影套筒分離。由此產(chǎn)生沿著旋轉(zhuǎn)軸方向?qū)@影劑向顯影套筒 的一個(gè)端部(在圖30中為左端)傳輸?shù)牧?。?dāng)用于傳輸顯影劑的顯影輥所施加的力在與 攪拌器在攪拌顯影劑的同時(shí)傳送顯影劑的方向相同的方向上時(shí),攪拌器的旋轉(zhuǎn)頻率可以減 小,由此減小能量。另外,當(dāng)保持?jǐn)嚢杵鞯男D(zhuǎn)頻率時(shí),調(diào)色劑在顯影劑中的濃度會(huì)變得更 均勻。在這種顯影裝置中,如果調(diào)色劑的電荷由于顯影劑的退化或者由于調(diào)色劑與載體 的混合不充分而不足時(shí),調(diào)色劑不能被充分吸引到載體上,并且在顯影區(qū)域或者在顯影劑 被傳送到顯影區(qū)域的顯影劑傳送路徑中,調(diào)色劑有可能從載體分離,并且被從顯影區(qū)域收 集。結(jié)果,調(diào)色劑有可能漏出到顯影裝置之外,并散落在成像設(shè)備內(nèi)側(cè)或外側(cè)。尤其是,在 利用可拆卸地安裝的顯影裝置的成像設(shè)備中,優(yōu)選的是,在用戶或者維護(hù)人員將顯影裝置 插入到成像設(shè)備的方向上的前側(cè)上,散落的調(diào)色劑量最小,這是由于用戶或者維護(hù)人員也 操作或者視覺檢查設(shè)備的這個(gè)地方。對(duì)于這種顯影裝置的另一個(gè)問題是顯影劑過傳送(carry-over),這是調(diào)色劑在釋 放部分沒有從顯影劑承載件上分離而是被顯影劑承載件進(jìn)一步承載的現(xiàn)象。如果在圖像顯 影之后其中調(diào)色劑濃度降低的顯影劑沒有返回到顯影劑容器,而是被過傳送并且再次提供 到顯影區(qū)域,圖像密度會(huì)變得不均勻。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于前面內(nèi)容,在本發(fā)明的一個(gè)說明性實(shí)施方式中,顯影裝置包括殼體;顯影劑 容器,該顯影劑容器容納在殼體中,其用于容納基本上由調(diào)色劑和載體構(gòu)成的兩組分顯影 劑;中空筒形非磁性顯影劑承載件,該顯影劑承載件可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在殼體內(nèi),以在旋轉(zhuǎn)的同 時(shí)傳輸顯影劑;磁場(chǎng)發(fā)生器,該磁場(chǎng)發(fā)生器設(shè)置在顯影劑承載件內(nèi);顯影劑攪拌器,該顯影 劑攪拌器設(shè)置在顯影劑容器內(nèi),以在沿著顯影劑承載件的軸向傳輸顯影劑的同時(shí)攪拌顯影 劑;以及顯影劑調(diào)節(jié)器,該顯影劑調(diào)節(jié)器容納在殼體內(nèi),以調(diào)節(jié)顯影劑承載件上承載的顯影 劑的層厚度。所述顯影劑承載件在顯影區(qū)域通過殼體的開口被局部露出并面對(duì)潛像承載 件。所述磁場(chǎng)發(fā)生器具有多個(gè)磁極,包括將顯影劑從顯影劑容器吸引到顯影劑承載件上的 吸引磁極、在沿著顯影劑承載件的旋轉(zhuǎn)方向顯影區(qū)域的下游到顯影劑釋放部分將顯影劑保 持在顯影劑承載件上的顯影劑傳送磁極、將顯影劑從顯影劑承載件上分離并將顯影劑返回 到顯影劑容器的釋放磁極。沿著顯影劑承載件旋轉(zhuǎn)的方向在形成在殼體中的開口的下游并且顯影劑釋放部 分的上游的部分處,在顯影劑承載件的外圓周表面和殼體的內(nèi)壁之間保持預(yù)定間隙。相隔 一定距離的多個(gè)凹陷形成在顯影劑承載件的外圓周表面上,并且在顯影劑承載件的圓周方 向上相鄰凹陷之間的間距比在垂直于顯影劑承載件的軸向的方向上顯影劑傳送磁極的磁 通量密度的寬度的一半短。本發(fā)明的另一說明性實(shí)施方式提供了一種可拆卸地安裝在成像設(shè)備中的處理盒。 至少潛像承載件與上述顯影裝置容納在共同的殼體中。
本發(fā)明的另一說明性實(shí)施方式提供了一種成像設(shè)備,該成像設(shè)備包括上述處理
品.ο所述成像設(shè)備中使用的調(diào)色劑是通過使調(diào)色劑材料溶液在含水介質(zhì)中進(jìn)行交聯(lián) 和伸長反應(yīng)中的至少一種而制備的,所述調(diào)色劑材料溶液是至少將具有包含氮原子的功能 團(tuán)的聚酯預(yù)聚物、聚酯、著色劑和釋放劑分散在有機(jī)溶劑中而制備的。本發(fā)明的再一說明性實(shí)施方式中,顯影裝置包括容納在殼體中的顯影劑容器; 可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在殼體中的中空筒形非磁性顯影劑承載件,以在旋轉(zhuǎn)的同時(shí)傳輸顯影劑;設(shè) 置在顯影劑承載件內(nèi)側(cè)的第一磁場(chǎng)發(fā)生器;設(shè)置在顯影劑容器內(nèi)的顯影劑攪拌器,以在沿 著顯影劑承載件的軸向傳輸顯影劑的同時(shí)攪拌顯影劑;容納在殼體中的顯影劑調(diào)節(jié)器,以 調(diào)節(jié)顯影劑承載件上承載的顯影劑的層厚度;以及第二磁場(chǎng)發(fā)生器,該第二磁場(chǎng)發(fā)生器位 于在沿著顯影劑承載件的軸向的顯影裝置的第一側(cè)上的顯影裝置的第一端部處。在顯影區(qū) 域,所述顯影劑承載件通過殼體的開口局部露出并且面對(duì)潛像承載件。第一磁場(chǎng)發(fā)生器具 有多個(gè)磁極,包括將顯影劑從顯影劑容器吸引到顯影劑承載件上的吸引磁極、在顯影劑承 載件旋轉(zhuǎn)的方向上顯影區(qū)域的下游到顯影劑釋放部分將顯影劑保持在顯影劑承載件上的 顯影劑傳送磁極;以及將顯影劑從顯影劑承載件釋放的釋放磁極。相隔一定距離的多個(gè)卵形凹陷形成在顯影劑承載件的外圓周表面上,并且多個(gè)凹 陷中每一個(gè)的長軸相對(duì)于顯影劑承載件的軸向傾斜定位,使得顯影裝置的第一側(cè)上的其第 一縱向端部位于沿顯影劑承載件旋轉(zhuǎn)的方向與該第一縱向端部相對(duì)的其第二縱向端部的 上游,用于隨著顯影劑承載件旋轉(zhuǎn),沿著與顯影劑承載件的軸向平行的方向?qū)@影劑朝向 顯影裝置的第一側(cè)傳送。第二磁場(chǎng)發(fā)生器產(chǎn)生用于阻止在顯影劑釋放部分內(nèi)的顯影劑被所 述多個(gè)凹陷沿著朝向所述顯影裝置的第一側(cè)的方向移動(dòng)的磁場(chǎng)。本發(fā)明的又一說明性實(shí)施方式提供了一種可拆卸地安裝到成像設(shè)備上的處理盒, 至少潛像承載件與上述顯影裝置容納在共同的殼體中。本發(fā)明的另一說明性實(shí)施方式提供了一種成像設(shè)備,該成像設(shè)備包括上述處理
品.ο


本發(fā)明更完全的理解以及它的多個(gè)伴隨而來的優(yōu)點(diǎn)將隨著參照下面詳細(xì)描述并 結(jié)合附圖考慮時(shí)被更好地理解而輕易獲得,圖中圖1是示出從其前側(cè)看到的根據(jù)本發(fā)明的成像設(shè)備的構(gòu)造的示意圖;圖2是安裝在成像設(shè)備中的根據(jù)本發(fā)明說明性實(shí)施方式的顯影裝置的端視圖 (end-onaxial view);圖3是沿著圖的線III-III的圖2所示的顯影裝置的顯影輥的剖視圖;圖4是圖2所示的顯影裝置的顯影套筒的透視圖;圖5是顯影套筒的表面的局部的示意性展開圖;圖6A是局部示出顯影套筒的表面的示意圖;圖6B是沿著圖6A所示的線VIB-VIB的顯影套筒的剖視圖;圖6C是沿著圖6A所示的線VIC-VIC的顯影套筒的剖視圖;圖7是局部示出圖4所示的顯影套筒的表面的示意性放大圖8A是用于銑削(mill)顯影套筒的表面由此在其上形成多個(gè)凹陷的表面處理裝 置的示意性側(cè)視圖;圖8B是沿著圖8A所示的線VIIIB-VIIIB的表面處理裝置的剖視圖;圖8C是圖8B所示的端銑刀的放大側(cè)視圖;圖8D是圖8C所示的端銑刀的前邊緣部分的前視圖;圖9A是局部示出圖6A所示的顯影套筒的表面中形成的凹陷的變型的示意性放大 圖;圖9B是圖9A所示的顯影套筒的沿著線IXB-IXB的剖視圖;圖9C是圖9A所示的顯影套筒的沿著線MC-MC的剖視圖;圖10是圖9B所示的顯影套筒的放大剖視圖;圖11是用于在圖9A所示的顯影套筒的表面上形成凹陷的端銑刀的放大側(cè)視圖;圖12是示出圖6B所示的顯影套筒的表面上形成的凹陷的另一種變型的放大剖視 圖;圖13是示出圖6B所示的顯影套筒的表面上形成的凹陷的再一種變型的放大剖視 圖;圖14是示意性示出圖5所示的顯影套筒的表面的變型的展開圖;圖15是示意性示出圖5所示的顯影套筒的表面的另一種變型的展開圖;圖16A是示意性示出圖5所示的顯影套筒的表面的再一種變型的展開圖;圖16B是用于形成圖16A所示的凹陷的端銑刀的放大側(cè)視圖;圖17是根據(jù)說明性實(shí)施方式的顯影裝置的示意性端視圖;圖18是示出圍繞磁輥的顯影劑傳送磁極P2和P3的結(jié)構(gòu)的放大圖;圖19是示出圍繞對(duì)比例的顯影劑傳送磁極P2和P3的結(jié)構(gòu)的放大圖;圖20是顯影套筒的放大透視圖;圖21是顯影裝置在其縱向上的透視圖;圖22A是顯影套筒132的透視圖,其中,凹陷139以其長軸相對(duì)于顯影套筒132的 軸向傾斜的方式定位;圖22B是22A所示的用圓圈A包圍的部分的放大圖;圖23A是根據(jù)第二實(shí)施方式的顯影輥從一側(cè)看到的剖視圖;圖23B是圖23A所示的顯影輥的顯影套筒的表面的放大圖;圖24是顯影裝置的端視圖,其中設(shè)置了面對(duì)釋放磁極的磁鐵;圖25A是在顯影套筒的軸向上從顯影輥的一側(cè)看到的剖視圖,示出圖對(duì)所示的磁 鐵的位置;圖25B是顯影套筒的表面的放大圖;圖26是示出在顯影套筒的表面上磁力分布和磁鐵沿著顯影套筒的旋轉(zhuǎn)方向延伸 的范圍之間的關(guān)系的示意圖;圖27是顯影輥的側(cè)視圖,并示出在顯影套筒的左端部分內(nèi)由磁鐵所偏轉(zhuǎn)的顯影 劑的流動(dòng);圖28A是從顯影輥一側(cè)的剖視圖,其示出在顯影套筒的軸向上另一磁鐵的位置;圖28B是顯影套筒的表面的放大圖四是根據(jù)另一實(shí)施方式的顯影裝置的端視圖;以及圖30是現(xiàn)有技術(shù)的顯影套筒的表面的放大圖,其中形成卵形凹陷,每個(gè)凹陷以其 左端在上右端在下的方式傾斜。
具體實(shí)施例方式在描述附圖所示的優(yōu)選實(shí)施方式中,為了清楚的緣故采用特定的術(shù)語。但是,本專 利說明書的公開內(nèi)容并不局限于如此選擇的特定術(shù)語,應(yīng)理解為每個(gè)特定元件包括所有的 以類似方式操作并實(shí)現(xiàn)類似結(jié)果的技術(shù)等同物。現(xiàn)在參照附圖,圖中相同的附圖標(biāo)記在其幾個(gè)視圖中表示相同或者相對(duì)應(yīng)的零 件,并尤其參照?qǐng)D1,描述根據(jù)本發(fā)明說明性實(shí)施方式的多顏色成像設(shè)備。圖1是示出從其前側(cè)看到的根據(jù)本發(fā)明的成像設(shè)備的結(jié)構(gòu)的視圖。參照?qǐng)D1,成像設(shè)備101是串列型成像設(shè)備,如復(fù)印機(jī),其使用中間轉(zhuǎn)印帶129并 且通過將黃色(Y)、品紅色(M)、青色(C)、和黑色(K)單色圖像一個(gè)重疊在另一個(gè)上而在記 錄片材107上形成多色圖像。要指出的是附加在每個(gè)附圖標(biāo)記末尾的后綴Y、M、C和K僅 表示由它所表示的部件分別用于形成黃色、品紅色、青色和黑色圖像,下面在不必區(qū)分顏色 時(shí),省略這些后綴。參照?qǐng)D1,成像設(shè)備101包括主體102、供紙器103、一對(duì)配準(zhǔn)輥IlOa和IlOb (下面 也簡(jiǎn)稱為一對(duì)配準(zhǔn)輥110)、中間轉(zhuǎn)印單元104、轉(zhuǎn)印輥126、定影裝置105、多個(gè)激光寫入單 元 122Y、122M、122C 和 122K,以及多個(gè)處理盒 106Y、106M、106C 和 106K。例如,主體102形狀如同盒子,安裝在地板上。主體102包含供紙器103、所述對(duì)配 準(zhǔn)輥110、中間轉(zhuǎn)印單元104、定影裝置105、多個(gè)激光寫入單元122Y、122M、122C和122K、以 及多個(gè)處理盒106Y、106M、106C和106K。例如,多個(gè)供紙器103設(shè)置在主體102的下部。每個(gè)供紙器103包含多張記錄片 材107,并且設(shè)置有可以從主體102中拉出以及可以縮回到主體102中的紙盒123以及供紙 輥124。供紙輥IM壓在紙盒123頂部上的記錄片材107上。供紙輥IM將頂部上的記錄 片材107拾取并供給到配準(zhǔn)輥110。所述對(duì)配準(zhǔn)輥110位于將記錄片材107從供紙器103供給到轉(zhuǎn)印輥1 所經(jīng)過的 傳送路徑中。該對(duì)配準(zhǔn)輥Iio將記錄片材107夾于其中,并然后在與要被轉(zhuǎn)印到記錄片材 107上的圖像的到達(dá)重合的時(shí)刻,使記錄片材107前進(jìn)到轉(zhuǎn)印輥126。中間轉(zhuǎn)印單元104設(shè)置在處理盒106Y、106M、106C和106K之上。中間轉(zhuǎn)印單元104 包括驅(qū)動(dòng)輥128、從動(dòng)輥127、中間轉(zhuǎn)印帶129、和中間轉(zhuǎn)印輥130Y、130M、130C禾口 130K。驅(qū) 動(dòng)輥1 定位成經(jīng)中間轉(zhuǎn)印帶1 與轉(zhuǎn)印輥1 面對(duì),并且被諸如電機(jī)的驅(qū)動(dòng)源驅(qū)動(dòng)。從 動(dòng)輥127被主體102可旋轉(zhuǎn)地支撐。中間轉(zhuǎn)印帶1 是環(huán)形帶,并且圍繞驅(qū)動(dòng)輥1 和從 動(dòng)輥127拉伸。隨著驅(qū)動(dòng)輥1 轉(zhuǎn)動(dòng),中間轉(zhuǎn)印帶129圍繞驅(qū)動(dòng)輥1 和從動(dòng)輥127沿圖 1的逆時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)。每個(gè)中間轉(zhuǎn)印輥130定位成經(jīng)中間轉(zhuǎn)印帶130與包括在相應(yīng)的處理盒106中的感 光鼓108相面對(duì)。相應(yīng)的處理盒106形成的黃色、品紅色、青色和黑色調(diào)色劑圖像從各個(gè)感 光鼓108被中間轉(zhuǎn)印單元104的相應(yīng)的中間轉(zhuǎn)印輥130初次轉(zhuǎn)印,并且彼此重疊在中間轉(zhuǎn) 印帶1 上,由此形成多顏色調(diào)色劑圖像。中間轉(zhuǎn)印帶1 將多顏色調(diào)色劑圖像傳送到轉(zhuǎn)印輥126,并且轉(zhuǎn)印輥1 將多顏色調(diào)色劑圖像二次轉(zhuǎn)印到記錄片材107上。轉(zhuǎn)印輥1 將 其上被轉(zhuǎn)印了調(diào)色劑圖像的記錄片材107送到定影裝置105。沿著記錄介質(zhì)107被傳送的方向,定影裝置105定位在轉(zhuǎn)印輥1 的下游,并且包 括一對(duì)輥10 和105b,這對(duì)輥將記錄片材107夾于二者之間。定影裝置105用熱量和壓力 將調(diào)色劑圖像固定在從轉(zhuǎn)印輥126傳送的夾于輥10 和10 之間的記錄片材107上。激光寫入單元122設(shè)置在處理盒106下面。激光寫入單元122Y、122M、122C和121 分別對(duì)應(yīng)于處理盒106Y、106M、106C和106K。在充電輥109均勻充電感光鼓108的表面之 后,每個(gè)激光寫入單元122將激光束照射到相應(yīng)處理盒106中的感光鼓108的表面上,由此 形成靜電潛像。處理盒106定位在中間轉(zhuǎn)印單元104和相應(yīng)的激光寫入單元122之間。處理盒 106可拆卸地插入到主體102中。處理盒106在中間轉(zhuǎn)印帶1 旋轉(zhuǎn)的方向上彼此平行布置。圖2是安裝在成像設(shè)備中的根據(jù)說明性實(shí)施方式的顯影裝置的端視圖。如圖2所示,每個(gè)處理盒106包括盒殼體111、作為充電裝置的充電輥109、感光鼓 108、作為清潔元件的清潔刮板112和顯影裝置113。盒殼體111可拆卸地插入到主體102中,并且容納充電輥109、感光鼓108、清潔刮 板112和顯影裝置113。充電輥109均勻充電感光鼓108的表面。感光鼓108從顯影裝置 113的顯影輥115跨過預(yù)定間隙定位。感光鼓108是柱形,并且圍繞其旋轉(zhuǎn)軸線可旋轉(zhuǎn)。如 上所述,通過相應(yīng)的激光寫入單元122,靜電潛像形成在每個(gè)感光鼓108的表面上。顯影裝 置113將調(diào)色劑供給到每個(gè)感光鼓108的表面上形成的靜電潛像上,從而將其顯影成調(diào)色 劑圖像。感光鼓108旋轉(zhuǎn)并且將調(diào)色劑圖像傳送到面對(duì)中間轉(zhuǎn)印帶129的位置,并然后調(diào) 色劑圖像被轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶1 上。清潔刮板112去除圖像轉(zhuǎn)印后在感光鼓108的表面 上剩余的任何調(diào)色劑。如圖2所示,顯影裝置113包括殼體125、顯影劑供給單元114、作為顯影劑承載件 的顯影輥115、和作為顯影劑調(diào)節(jié)器的刮刀116。顯影輥111在其外圓周側(cè)上包括顯影套筒 132。下面描述成像設(shè)備101所執(zhí)行的成像操作。最初,感光鼓108開始旋轉(zhuǎn),且例如,充電輥107將感光鼓108的表面均勻充電 到-700V電勢(shì)。然后,激光寫入單元122將激光束照射到相應(yīng)感光鼓108的表面上,從而將 每個(gè)感光鼓108的曝光部分(即,圖像部分)衰減到例如-150V電勢(shì)。于是,在相應(yīng)感光鼓 108上形成靜電潛像。當(dāng)隨著感光鼓108旋轉(zhuǎn)潛像被傳送到顯影區(qū)域131 (圖2所示)時(shí), 例如-550V的顯影偏壓施加到潛像上,由此將顯影裝置113的顯影套筒132上承載的顯影 劑轉(zhuǎn)移到感光鼓108上。從而,其上形成的潛像被顯影成調(diào)色劑圖像。形成在處理盒106中 的感光鼓108上的調(diào)色劑圖像被相應(yīng)的中間轉(zhuǎn)印輥130轉(zhuǎn)印并彼此重疊在中間轉(zhuǎn)印帶1 上,由此形成多顏色調(diào)色劑圖像。在供紙輥124從供紙器103提供的記錄片材107到達(dá)中間轉(zhuǎn)印帶129面對(duì)轉(zhuǎn)印輥 126的位置時(shí),多顏色調(diào)色劑圖像然后被轉(zhuǎn)印到記錄片材107上。圖像被定影裝置105定影 到記錄片材107上,由此成像設(shè)備101在其上形成多顏色圖像。同時(shí),在感光鼓108上剩余的任何調(diào)色劑被清潔刮板112去除,并且感光鼓108為隨后的成像做好準(zhǔn)備。另外,成像設(shè)備101執(zhí)行過程控制,用于減小圖像質(zhì)量的波動(dòng),該圖像質(zhì)量的波動(dòng) 是由于環(huán)境條件變化、各組件或顯影劑隨時(shí)間退化等所造成的。更具體地說,顯影裝置113 的顯影能力被探測(cè)。例如,在保持顯影偏壓恒定的情況下,將給定的調(diào)色劑圖案形成在感光 鼓108或中間轉(zhuǎn)印帶1 上,并且用光敏元件PSl (圖2所示)探測(cè)該調(diào)色劑圖案?;谡{(diào) 色劑圖案的圖像密度的變化,可以識(shí)別顯影能力。通過調(diào)節(jié)顯影劑中調(diào)色劑濃度的目標(biāo)值 使得顯影能力被調(diào)節(jié)到預(yù)定目標(biāo)值,可以將圖像質(zhì)量保持恒定。例如,如果由光敏元件PSl 探測(cè)的調(diào)色劑圖案的圖像密度低于目標(biāo)圖像密度,成像設(shè)備的控制器200 (圖2所示)控制 調(diào)色劑供給器201,該調(diào)色劑供給器201將新鮮調(diào)色劑補(bǔ)充到顯影裝置113中,使得顯影劑 中調(diào)色劑的濃度被調(diào)節(jié)到目標(biāo)值??刂破?00包括中央處理單元(CPU)。相反,如果被光敏 元件PSl探測(cè)的調(diào)色劑圖案的圖像密度高于目標(biāo)圖像密度,控制器200使得顯影裝置113 顯影圖像,由此減小在顯影裝置113的顯影劑中的調(diào)色劑濃度。顯影劑中的調(diào)色劑濃度可 以用設(shè)置在顯影裝置113內(nèi)側(cè)或外側(cè)的調(diào)色劑濃度探測(cè)器TDl來探測(cè)。下面更詳細(xì)描述顯影裝置113。顯影劑供給單元114包括顯影劑容器117和作為顯影劑攪拌器的一對(duì)攪拌螺桿 118。例如,顯影劑容器117形狀如同盒子,并具有與感光鼓108的軸向長度相類似的軸向 長度(在縱向上的長度)。另外,沿著縱向延伸的分隔壁119設(shè)置在顯影劑容器117的內(nèi) 側(cè)。該分隔壁119將顯影劑容器117分隔成第一隔室120和第二隔室121,該第一隔室120 和第二隔室121在縱向上的兩個(gè)端部處彼此連通。顯影劑被包含在顯影劑容器117的第一隔室120和第二隔室121 二者中。用于本 實(shí)施方式的顯影劑是基本上由調(diào)色劑顆粒和磁性顆粒(也可以是磁性粉末)構(gòu)成的兩組分 顯影劑。新鮮調(diào)色劑按需要被調(diào)色劑供給器201供給到第一隔室120的其中一個(gè)軸向端部 上,所述其中一個(gè)軸向端部比第二隔室121更遠(yuǎn)離顯影輥115定位。例如,調(diào)色劑顆粒是通 過乳劑聚合方法或者懸浮聚合方法生產(chǎn)的圓形精細(xì)顆粒。另外,要指出的是,調(diào)色劑可以通 過粉碎合成樹脂塊來生產(chǎn),在該合成樹脂塊中混合或散布有各種著色劑和色素。調(diào)色劑顆 粒具有在從3微米到7微米范圍內(nèi)的平均顆粒直徑。用于本實(shí)施方式的優(yōu)選調(diào)色劑可以如下生產(chǎn)至少將具有包含氮原子的功能團(tuán)的 聚酯預(yù)聚物、聚酯、著色劑和釋放劑分散在有機(jī)溶劑中,由此生產(chǎn)調(diào)色劑材料溶液。然后,通 過使調(diào)色劑材料溶液在含水介質(zhì)中進(jìn)行交聯(lián)和伸長(elongation)反應(yīng)中的至少一種,生 產(chǎn)調(diào)色劑。磁性載體被容納在第一和第二隔室120和121 二者中。磁性載體顆粒具有在20 微米到50微米范圍內(nèi)的平均顆粒直徑。攪拌螺桿118分別設(shè)置在第一隔室120和第二隔室121中。攪拌螺桿118的長軸 平行于顯影劑容器117、顯影輥115和感光鼓108的縱向。每個(gè)攪拌螺桿118圍繞旋轉(zhuǎn)軸線 旋轉(zhuǎn)。每個(gè)攪拌螺桿118將調(diào)色劑與磁性載體混合,并且在旋轉(zhuǎn)的同時(shí)沿著軸向傳輸顯影 劑。在圖中所示的結(jié)構(gòu)中,在第一隔室120內(nèi)的攪拌螺桿118將顯影劑從供給調(diào)色劑 的軸向端部傳送到另一軸向端部。在第二隔室121內(nèi)的攪拌螺桿118沿著與第一隔室內(nèi)顯 影劑被傳送的方向(下面稱為顯影劑傳送方向)相反的方向傳送顯影劑。
11
在上述結(jié)構(gòu)中,在將所供給的調(diào)色劑與磁性載體混合的同時(shí),顯影劑供給單元114 將供給到第一隔室120的端部的調(diào)色劑傳送到沿顯影劑傳送方向的下游端部,并進(jìn)一步沿 著第二隔室內(nèi)的顯影劑傳送方向傳送到第二隔室的上游端部。顯影劑供給單元114在沿著 軸向傳送調(diào)色劑的同時(shí),在第二隔室121中進(jìn)一步攪拌調(diào)色劑和磁性載體,并然后將顯影 劑提供到顯影輥115的表面(即,圓周表面)上。殼體125為盒狀,并且安裝到顯影劑供給單元114的顯影劑容器117上。殼體125 和顯影劑容器117 —起覆蓋顯影輥115等。另外,在殼體125面對(duì)感光鼓108的部分中設(shè) 置開口 125a。顯影輥115是柱狀,并且位于第二隔室121和感光鼓108之間,靠近開口 125a。要 指出的是在此使用的“筒形”和“柱狀”包括多邊形柱狀。顯影輥115平行于感光鼓108和 顯影劑容器117。如上所述,顯影輥115從感光鼓108跨過預(yù)定間隙定位。顯影輥115和 感光鼓108之間的間隙作為顯影區(qū)域131,在該顯影區(qū)域,顯影劑中的調(diào)色劑粘附到感光鼓 108上,由此將其上形成的靜電潛像顯影成調(diào)色劑圖像。顯影輥115在顯影區(qū)域131內(nèi)面對(duì) 感光鼓108。刮刀116設(shè)置在顯影裝置113的端部,在感光鼓108的一側(cè)上。刮刀116在從顯 影套筒132的表面跨過一間隙的位置處安裝到殼體125上。當(dāng)顯影劑的量過多時(shí),即,厚度 超過預(yù)定厚度時(shí),刮刀116從顯影套筒132上去除顯影劑,且將過多的顯影劑返回到顯影劑 容器117,由此調(diào)色劑傳送到顯影區(qū)域131的顯影劑的量。(第一實(shí)施方式)下面更詳細(xì)描述根據(jù)第一實(shí)施方式的顯影輥115。圖3是沿著圖2的線III-III的圖2所示的顯影裝置106的顯影輥115的剖視圖。如圖2和3所示,顯影輥115包括金屬芯部134、筒形磁輥133(也稱為磁體)、以 及中空筒形顯影套筒132。金屬芯部134以其長軸平行于感光鼓108的長軸的方式定位并 且安裝到殼體125上。金屬芯部134不旋轉(zhuǎn),即,其位置相對(duì)于殼體125固定。磁輥133由磁性材料形成并是筒形的。多個(gè)磁鐵固定到磁輥133的內(nèi)側(cè),并因此磁 輥133具有多個(gè)固定磁極。磁輥133設(shè)置在金屬芯部134的外圓周表面的外側(cè)。磁輥133 不旋轉(zhuǎn),即,它的位置相對(duì)于金屬芯部134或殼體125固定。固定到磁輥133內(nèi)側(cè)用于產(chǎn)生固定磁極的磁鐵形狀如同長桿。例如,磁鐵在磁輥 133的縱向上,即,顯影輥115的縱向上在磁輥133的整個(gè)縱向長度上延伸。磁輥133包含 在顯影套筒132的內(nèi)側(cè)。多個(gè)固定磁鐵中的一個(gè)(圖17中P5)面對(duì)攪拌螺桿118,并且產(chǎn)生將顯影劑吸引 到顯影套筒132的表面上的吸引磁極。更具體地說,在顯影套筒132上,即,顯影輥115外 表面上,由吸引磁極所產(chǎn)生的磁力將顯影容器117的第二隔室121內(nèi)包含的顯影劑吸引到 顯影套筒132的外表面上。另一磁鐵面對(duì)感光鼓108,并且產(chǎn)生顯影磁極,該顯影磁極在顯影區(qū)域131內(nèi)在顯 影套筒132的外表面上施加磁力。從而,用于顯影的磁場(chǎng)在顯影套筒132和感光鼓108之 間形成。顯影磁極所形成的磁場(chǎng)導(dǎo)致顯影劑形成磁刷,由此將附著到顯影套筒132的表面 上的顯影劑的調(diào)色劑轉(zhuǎn)移到感光鼓108上。在產(chǎn)生吸引磁極的磁鐵和產(chǎn)生顯影磁極的磁鐵之間存在至少多于一個(gè)磁鐵。位于吸引磁極和顯影磁極之間的磁鐵或多個(gè)磁鐵產(chǎn)生顯影劑傳送磁極,該顯影劑傳送磁極將磁 力施加在顯影套筒132上,S卩,顯影輥115的外表面上,用于將顯影劑(在顯影之前的顯影 劑)朝向顯影區(qū)域131上游的感光鼓108傳送并將從感光鼓108收集的顯影劑(顯影之后 的顯影劑)朝向顯影劑容器117傳送。更具體地說,顯影劑傳送磁極將顯影劑吸引到顯影套筒132的外表面上。然后,在 顯影劑中包含的磁性載體顆粒沿著顯影劑傳送磁極產(chǎn)生的磁力線豎立(stand on end)在 顯影套筒132上。然后,調(diào)色劑顆粒被吸引到顯影套筒132上豎立的磁性載體顆粒上。艮口, 利用顯影輥133施加的磁力,顯影套筒132將顯影劑吸引到其外表面上。在顯影裝置113中,調(diào)色劑和磁性載體在顯影劑供給單元114中被充分?jǐn)嚢瑁⑶?顯影劑被吸引磁極施加的磁力吸引到顯影套筒132的表面上。顯影套筒132轉(zhuǎn)動(dòng),并將被 吸引磁極和傳送磁極吸引到其表面上的顯影劑傳送到顯影區(qū)域131。然后,刮刀116調(diào)節(jié)在 顯影套筒132上承載的顯影劑的量,并然后顯影劑被吸引到感光鼓108上。從而,顯影裝置 113在顯影輥115上承載顯影劑,將其傳送到顯影區(qū)域131,并然后將感光鼓108上形成的 潛像顯影成調(diào)色劑圖像。此外,顯影裝置113將在圖像顯影中使用的顯影劑與顯影輥115分離,并將它返回 到顯影劑容器117。用過的顯影劑與包含在顯影劑容器117的第二隔室121內(nèi)的顯影劑攪 拌,并且被再次用于顯影感光鼓108上形成的潛像。要指出的是,當(dāng)調(diào)色劑濃度探測(cè)器TDl 探測(cè)到從顯影劑供給單元114向感光鼓108供給的顯影劑中的調(diào)色劑濃度已經(jīng)減小時(shí),調(diào) 色劑供給器201將新鮮調(diào)色劑供給到顯影裝置113。下面更詳細(xì)描述顯影套筒132。圖4是顯影套筒132的透視圖。如圖4所示,顯影套筒132是筒形的。包含磁輥133的顯影套筒132被殼體125 支撐,例如,圍繞旋轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動(dòng),使得其內(nèi)圓周表面依次面對(duì)多個(gè)固定磁極。顯影套筒132 由非磁性材料,如鋁合金、黃銅、不銹鋼或者導(dǎo)電樹脂形成。顯影套筒132的表面通過圖8A 所示的表面處理裝置1粗糙化。作為顯影套筒132的材料,鋁合金在其重量輕和易于加工方面是優(yōu)異的。作為鋁 合金,A6063、A5056和A3003是優(yōu)選的。在使用不銹鋼時(shí),SU303、SU304和SU316是優(yōu)選的。 在圖中所示的結(jié)構(gòu)中,顯影套筒132由鋁合金形成。在本實(shí)施方式中,顯影套筒132具有大約18mm的外徑。在成像設(shè)備101容納的最 大片材尺寸是A3尺寸時(shí),顯影套筒132的軸向長度在從300mm到350mm的范圍內(nèi)。圖5是示出顯影套筒132的表面的展開圖。如圖4和5所示,多個(gè)凹陷139形成在顯影套筒132的外表面內(nèi),每個(gè)凹陷139在 平面圖中為卵形的。在圖4和5所示的結(jié)構(gòu)中,多個(gè)凹陷139規(guī)則排列在顯影套筒132的 表面上,而不互相重疊。要指出的是在這個(gè)說明書中使用的“規(guī)則排列”意思為在圓周方向 上相鄰凹陷139之間的間隔是相同的,并且在顯影套筒132縱向上相鄰凹陷139之間的間 隔是相同的。另外,每個(gè)凹陷139以其長軸沿著顯影套筒132的縱向的方式定位。即,每個(gè)凹陷 139的長軸平行于或基本平行于顯影套筒132的縱向。在圖4和5所示的結(jié)構(gòu)中,每個(gè)凹 陷139的長軸相對(duì)于顯影套筒132的縱向稍微傾斜,并因此基本上平行于顯影套筒132的縱向。從而,在本說明書中,每個(gè)凹陷139的長軸被認(rèn)為是平行或基本平行于顯影套筒132 的縱向,即使相對(duì)于它稍微傾斜。圖6A是部分示出顯影套筒的表面的示意圖,而圖6B和6C分別是顯影套筒的沿著 圖6A所示的線VIB-VIB和沿著線VIC-VIC的剖視圖。如圖6A所示,在顯影套筒132的圓周方向上的兩個(gè)相鄰凹陷139在縱向上相對(duì)彼 此偏移每個(gè)凹陷139的縱向長度的大約一半或者每個(gè)凹陷139在顯影套筒132的縱向上的 長度的大約一半。此外,凹陷139與圖5所示的螺旋線對(duì)齊,這是由于該凹陷139是由圖8A 所示的表面處理裝置1在顯影套筒132的表面內(nèi)形成的。另外,凹陷139在其寬度方向或者在顯影套筒132的圓周方向上是V形的,如圖6B 的剖視圖所示,并且在其縱向或者在顯影套筒132的縱向上是弧形的,如圖6C的剖視圖所 示。由于凹陷139是通過圖8A所示的表面加工裝置1在顯影套筒132的表面內(nèi)形成,凹陷 139在如圖7所示的平面圖中沿著縱向稍微彎成弓形。要指出的是,在這個(gè)說明書中使用的 術(shù)語“卵形”包括在縱向上(長軸)是直的以及在縱向上是彎曲的形狀,只要縱向長度長于 寬度并且輪廓是彎曲的即可。在本實(shí)施方式中,凹陷139具有從1.0mm到2. 3mm(含1.0mm和2. 3mm)的縱向長 度,從 0. 3mm 到 0. 7mm(含 0. 3mm 和 0. 7mm)的寬度,以及從 0. 05mm 到 0. 15mm(含 0. 05mm 和 0. 15mm)的深度。凹陷139的數(shù)量是顯影套筒132的表面的每IOOmm2的面積從50到250 個(gè)。換句話說,多個(gè)凹陷139總共的立體容積(尺寸)是顯影套筒132的表面每IOOmm2的 面積從0. 5mm3到7. 0mm3。凹陷139的數(shù)量是感光鼓108的圓周方向上每lmml. 0到3. 0個(gè), 該感光鼓108與顯影套筒132 —起旋轉(zhuǎn)。要指出的是,顯影套筒132的縱向是圖5、6A和7 中的橫向。雖然通常顯影套筒132的顯影劑傳送能力隨著凹陷139的深度增加而增大,但是 隨著凹陷139的深度的增加,在其上承載的顯影劑的量由于凹陷139的間距而變得周期性 不均勻(下面稱為顯影劑量的間距不均勻),類似于帶溝槽的顯影套筒。相反,雖然隨著凹 陷139的深度減小而顯影劑量的不均勻被減緩,但是,顯影套筒132的顯影劑傳送能力也變 差。尤其是,目前,由于成像技術(shù)的發(fā)展,如引入更小的調(diào)色劑顆粒和磁性載體顆粒以及靠 近顯影(close development)而使得圖像再現(xiàn)性得到提高,顯影劑量的間距不均勻更頻繁 發(fā)生。因此,在上述顯影套筒132中,雖然凹陷139的深度相對(duì)小,凹陷139的分布密度增 加來平衡顯影劑傳送能力和防止在顯影套筒132上承載的顯影劑量的間距不均勻。接著,在下面描述用于在顯影套筒132的表面中形成凹陷139的表面處理裝置1。圖8A是用于銑削(mill)顯影套筒132的表面的表面加工裝置1的示意性側(cè)視圖。 如圖8A所示,表面處理裝置1包括作為驅(qū)動(dòng)單元的電機(jī)2、基座3、保持器4、工具傳送單元 5、工具單元6和控制器140?;?是平面的并放置在地板或者臺(tái)面上?;?的上表面平行于水平方向。基 座3在平面圖中是矩形的。保持器4包括固定保持部分7和可滑動(dòng)保持部分8。固定保持部分7包括豎立在 基座3的縱向上的端部上的固定立柱9和設(shè)置在固定立柱9的上端部的旋轉(zhuǎn)卡盤10。旋轉(zhuǎn) 卡盤10形狀如同厚圓板,并且由固定立柱9的上端部繞其中心部分可旋轉(zhuǎn)地支撐。旋轉(zhuǎn)卡 盤10的旋轉(zhuǎn)軸線平行于基座的表面,并且柱狀卡盤頂尖(chuck pin) 11位于旋轉(zhuǎn)卡盤10的中心部分(在圖8A的旋轉(zhuǎn)卡盤的右側(cè))。不必說,卡盤頂尖11與旋轉(zhuǎn)卡盤10同軸??苫瑒?dòng)保持部分8包括滑塊12、滑柱(slide pillar) 13和設(shè)置在滑柱13的上端 部的旋轉(zhuǎn)卡盤14?;瑝K12沿著基座3的表面,即沿著旋轉(zhuǎn)卡盤10的卡盤頂尖11的軸線, 可滑動(dòng)。滑塊12的位置可以按需要相對(duì)于卡盤頂尖11在卡盤頂尖11的軸向上固定。滑柱13豎立在滑塊12上。旋轉(zhuǎn)卡盤14形狀如同厚圓板,并且安裝到電機(jī)2的輸 出軸上,而電機(jī)2安裝到滑柱13的上端部上。旋轉(zhuǎn)卡盤13的旋轉(zhuǎn)中心與固定保持部分7 的旋轉(zhuǎn)卡盤10的卡盤頂尖11的旋轉(zhuǎn)中心同軸。柱狀卡盤頂尖15設(shè)置在旋轉(zhuǎn)卡盤14的中 心部分上(在圖8A中旋轉(zhuǎn)卡盤14的左側(cè)上)。不必說,卡盤頂尖15與旋轉(zhuǎn)卡盤14同軸。在保持器4中,在形成凹陷139之前的顯影套筒132在可滑動(dòng)保持部分8遠(yuǎn)離固 定保持部分7的狀態(tài)下被支撐在卡盤頂尖11和15之間。隨著可滑動(dòng)保持部分8靠近固定 保持部分7,卡盤頂尖11和15的前邊緣部分進(jìn)入顯影套筒132的端部。然后,滑塊12相對(duì) 于夾在卡盤頂尖11和15之間的顯影套筒132固定到位。從而,保持器4將顯影套筒132 保持在卡盤頂尖11和15之間。電機(jī)2安裝到可滑動(dòng)保持部分8的滑柱13的上端部上。電機(jī)2圍繞其中心部分 轉(zhuǎn)動(dòng)旋轉(zhuǎn)卡盤14,由此使得在卡盤頂尖11和15之間支撐的顯影套筒132圍繞其旋轉(zhuǎn)軸線 轉(zhuǎn)動(dòng)。工具傳送單元5包括線性導(dǎo)引件16和用于傳送的致動(dòng)器(未示出)。線性導(dǎo)引件 16包括導(dǎo)軌17和滑塊18。導(dǎo)軌17設(shè)置在基座3上。導(dǎo)軌17是線性的。導(dǎo)軌17的縱向 平行于基座3以及卡盤頂尖11和15的縱向,即,支撐在卡盤頂尖11和15之間的顯影套筒 132的軸向?;瑝K18被導(dǎo)軌17沿著導(dǎo)軌17的縱向可滑動(dòng)地支撐。用于傳送的致動(dòng)器安裝到基座3上,并且在基座3以及卡盤頂尖11和15的縱向 上,即在支撐于卡盤頂尖11和15之間的顯影套筒132的軸向上移動(dòng)滑塊18。工具單元6包括工具體19、作為工具旋轉(zhuǎn)器的電機(jī)20和作為旋轉(zhuǎn)工具的端銑刀 21。工具體19形狀如同豎立在滑塊18上的立柱。電機(jī)20安裝到工具體19的上端部。如圖8A和8B所示,電機(jī)20的輸出軸22從 工具體19的上端部向支撐在卡盤頂尖11和15之間的顯影套筒132突出。電機(jī)20的輸出 軸22的軸向平行于基座3的表面,并且橫過(在圖8B中,垂直于)支撐在卡盤頂尖11和 15之間的顯影套筒132的軸向。端銑刀21大致為柱狀,并且安裝到電機(jī)20的輸出軸22的端部上。因此,端銑刀 21的軸向平行于基座3的表面,并且橫過(在圖8B中,垂直于)支撐于卡盤頂尖11和15 之間的顯影套筒132的軸向。另外,端銑刀21從工具體19的上端朝向支撐在卡盤頂尖11 和15之間的顯影套筒132突出。如圖8C所示,端銑刀21包括柱狀主體23和兩個(gè)切削刃對(duì)。主體23安裝到工具 體19上。切削刃M設(shè)置在主體23在顯影套筒132 —側(cè)的端部?jī)?nèi)、在圓周方向上間隔開。 如圖8D所示,切削刃M從主體23的端部的外緣沿著主體23,即端銑刀21的圓周方向突 出,并且螺旋形延伸。此外,如圖8C所示,在本實(shí)施方式中,每個(gè)切削刃24的端部的外緣25 成形為在橫截面上為銳角。在上述工具單元6中,電機(jī)20使得端銑刀21圍繞其旋轉(zhuǎn)軸線轉(zhuǎn)動(dòng),由此在顯影套 筒132的表面上形成凹陷139。
表面處理裝置1的控制器140是計(jì)算機(jī),例如包括已知的CPU、隨機(jī)存取存儲(chǔ)器 (RAM)、和只讀存儲(chǔ)器(ROM)??刂破?40可操作地連接到電機(jī)2、用于工具傳送單元5的傳 送的致動(dòng)器、工具單元6的電機(jī)20,并整體控制表面加工裝置1。當(dāng)在顯影套筒132的表面上形成多個(gè)凹陷139時(shí),表面加工裝置1的控制器140用 電機(jī)2使得顯影套筒132圍繞其旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn),并且借助用于傳送的致動(dòng)器在顯影套筒132 的軸向上移動(dòng)工具單元6,同時(shí)借助電機(jī)20使得端銑刀21圍繞其旋轉(zhuǎn)軸線轉(zhuǎn)動(dòng)。此外,控 制器140使得切削刃M隨著端銑刀21旋轉(zhuǎn)而間歇地銑削(mill)、S卩、刨削(chip)顯影套 筒132的表面,由此形成多個(gè)凹陷139。此時(shí),每個(gè)凹陷139的曲率半徑由切削刃M的外緣的曲率半徑確定,并且每個(gè)凹 陷139的深度由切削刃M切削顯影套筒132的深度(下面稱為“銑削量”)確定。在顯影 套筒132的縱向上凹陷132之間的間隔由工具單元6移動(dòng)的速度確定。此外,控制器140 控制作為用于旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)源的電機(jī)2、工具傳送單元5的用于傳送的致動(dòng)器和工具單元6的 電機(jī)20,使得滿足下面的方程1 :N2 = Nl X {[m/ (η/2) -0. 5]}(1)其中,附表示顯影套筒132的轉(zhuǎn)數(shù),m表示端銑刀21的切削刃M的數(shù)量??刂破?40按需要調(diào)節(jié)這些參數(shù),以便改變凹陷139的尺寸或排列密度。從而,表 面加工裝置1銑削顯影套筒132的表面。另外,諸如鍵盤的輸入裝置141和諸如顯示屏的顯示裝置連接到控制器140。下面給出通過上述用于形成凹陷139的表面加工裝置1來銑削顯影套筒132的表 面的過程的順序的描述。最初,操作者通過輸入裝置141向控制器140輸入要被加工的顯影套筒132的產(chǎn) 品號(hào)??刂破?40將作為工具單元6的旋轉(zhuǎn)工具的端銑刀21設(shè)定到初始位置,即,在顯影 套筒132沿其縱向的端部處,并然后用保持器4保持顯影套筒132。此時(shí),顯影套筒132和 卡盤頂尖11和15同軸定位。然后,操作者通過輸入裝置141指令表面加工裝置1開始加工。并且控制器140基 于上述方程1驅(qū)動(dòng)電機(jī)2、工具傳送單元5的致動(dòng)器和工具單元6的電機(jī)20。然后,端銑刀 21的切削刃M圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn),并且間歇地切削顯影套筒132的表面,由此在顯影套筒 132的表面內(nèi)形成凹陷139。換句話說,通過圍繞其旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)的工具單元6所執(zhí)行的銑 削,在顯影套筒132的表面內(nèi)形成凹陷139。此外,由于電機(jī)2、工具傳送單元5的致動(dòng)器和工具單元6的電機(jī)20被同時(shí)驅(qū)動(dòng), 在刀具單元6圍繞其旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)并且銑削顯影套筒132的表面時(shí),橫過(在圖8B中垂直 于)端銑刀21定位的顯影套筒132也圍繞其旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。在顯影套筒132在這種狀態(tài) 下旋轉(zhuǎn)時(shí),端銑刀21和顯影套筒132相對(duì)于彼此移動(dòng),由此形成凹陷139。當(dāng)端銑刀21位于加工完成位置時(shí),即,位于顯影套筒132的與初始位置相對(duì)的端 部并由此顯影套筒132的銑削完成時(shí),電機(jī)2、工具傳送單元5的致動(dòng)器以及工具單元6的 電機(jī)20被停止??苫瑒?dòng)保持部分8與固定保持部分7脫開,并且其中形成有多個(gè)凹陷139 的顯影套筒132從卡盤頂尖11和15上釋放,此后,通過保持器4保持另一個(gè)顯影套筒132。 從而,顯影套筒132的表面被加工而形成凹陷139,并且可以生產(chǎn)如圖4所示的顯影套筒 132。
16
雖然噴丸(如噴砂)的顯影套筒在其表面上包括凸起,但是在通過上述過程生產(chǎn) 的顯影套筒的表面上不形成凸起。此外,在上述過程中形成的凹陷139相對(duì)大。這些特征 具有優(yōu)點(diǎn)。例如,凹陷139不容易隨時(shí)間消逝而被磨損,并于是可以減小顯影劑傳送能力的 降低。另外,顯影劑可以累積在凹陷139中,該凹陷在顯影套筒132的表面上規(guī)則定位, 彼此不重疊。即,顯影劑累積的部分規(guī)則排列,這防止或減小了圖像密度的不均勻。此外, 在顯影套筒132上承載的顯影劑的量可以增加,以在高速成像設(shè)備中保持高成像質(zhì)量。此外,凹陷130的規(guī)則排列可以實(shí)現(xiàn)下列優(yōu)點(diǎn)??梢暂p易調(diào)節(jié)加工條件,以用來平 衡顯影套筒132使用壽命的延長和其上承載的顯影劑的量的增加。凹陷139可以用設(shè)定的 條件可靠的形成,并且加工更容易。此外,由于多個(gè)凹陷139規(guī)則排列,且凹陷139的長軸沿著顯影套筒132的縱向, 凹陷139的立體容器總共等于或大于顯影套筒132的表面的每IOOmm2面積0. 5mm3,因此, 可以實(shí)現(xiàn)充足的顯影劑傳送能力。由于多個(gè)凹陷139中的在顯影套筒132的圓周方向上彼此相鄰的兩個(gè)凹陷在顯影 套筒132的縱向上彼此偏移,凹陷139可以整體上和均勻地延伸或分布。即,沒有不存在凹 陷139的部分或者凹陷139比其他部分更密的部分。因此,可以防止或者減小附著到顯影 套筒132的表面上的顯影劑的不均勻,從而防止或減小圖像密度的不均勻。接著,在下面參照?qǐng)D9A到9C描述凹陷139的變型。雖然如上所述凹陷139在顯影套筒132的圓周方向上的橫截面為V形的,如圖6B 所示,但是形成在顯影套筒132中的凹陷139可以在顯影套筒132圓周方向上的橫截面上 具有弧形形狀。在圖9A到9C所示的結(jié)構(gòu)中,各自在顯影套筒132A的圓周方向上的橫截面 上具有弧形形狀的多個(gè)凹陷139A形成在顯影套筒132A的表面上。在這種情況下,如圖11 所示,使用切削刃24A的外緣25A是弧形的端銑刀21A。利用這種切削刃24A,在顯影套筒 132A的圓周方向上凹陷139A的橫截面可以是弧形的。另外,參照?qǐng)D10,優(yōu)選的是,在顯影 套筒132的圓周方向上的橫截面中凹陷139A的內(nèi)表面與顯影套筒132的圓周表面之間的 角度θ等于或小于60度,以減輕由于磁輥133的顯影磁極的影響所造成的顯影劑密度的 不均勻,并且這不局限于圖9Α到9C所示的變型。要指出的是,類似于圖6到8D中所示的 那些部分的圖9Α到11中的部分被附于相同或類似的附圖標(biāo)記,并因此省略對(duì)它們的描述。在圖9Α到11中所示的情況下,由于凹陷139Α在顯影套筒132Α的縱向和圓周方 向的橫截面上都是弧形的,可以增加在凹陷139Α中保持的量。于是,可以在顯影套筒132Α 上承載足夠量的顯影劑。另外,雖然在上面的描述中,凹陷139在顯影套筒132的圓周方向上的橫截面為V 形的,如圖6Β所示,但是,如圖12和13所示,凹陷139在顯影套筒132的圓周方向上的橫 截面形狀可以通過改變切削刃M的外緣25的橫截面形狀來改變。在圖12中,形成在顯影 套筒132Β的表面中的凹陷139Β基本上橫截面是V形的,V形的底部是平坦的。在圖13中, 形成在顯影套筒132C的表面內(nèi)的凹陷139C橫截面基本是V形的,V形的底部是弧形的。另外,雖然在相對(duì)于圖6Α到圖8D的上面的描述中,電機(jī)2和20以及致動(dòng)器同時(shí) 和連續(xù)工作,用于形成沿著顯影套筒132的表面螺旋排列的凹陷139,并且用于將每個(gè)凹陷 139稍微彎曲地成形,可替代的是,通過間歇地操作電機(jī)2和20以及致動(dòng)器,圖14和15的凹陷139D在顯影套筒132D和132E的縱向上是線性的,同時(shí)多個(gè)凹陷139D沿著顯影套筒 132D和132E的圓周方向線性排列。此外,雖然在上面關(guān)于圖6A到8D的描述中凹陷139是卵形的,但是其形狀不局限于此。例如,圖16A以平面圖示出形成在顯影套筒132F的表面上的圓形凹陷139E。參照?qǐng)D 16B,通過比用于形成橢圓凹陷139的端銑刀21的外徑更小的外徑的端銑刀21B,可以形成圓形凹陷139F。如上所述,圖1所示的成像設(shè)備101使用處理盒106,每個(gè)處理盒106包括盒殼體 111、充電輥109、感光鼓108、清潔刮板112、和顯影裝置113。但是,不需要在盒殼體111中容納充電輥109、感光鼓108、清潔刮板112和顯影裝置113所有這些。顯影裝置113和充電輥109、感光鼓108和清潔刮板112中的至少一個(gè)可以一起容納在處理盒106的盒殼體 111中。要指出的是,不需要將顯影裝置113和充電輥109、感光鼓108和清潔刮板112中的至少一個(gè)集成為處理盒106。另外,顯影裝置113可以獨(dú)立地安裝在成像設(shè)備101中。下面,詳細(xì)描述根據(jù)本實(shí)施方式的顯影裝置113的磁極。圖17與磁輥133的法向上的磁通量密度一起示意性地示出顯影裝置113。如上所述,磁輥133包括多個(gè)固定磁極。在圖17中,附圖標(biāo)記Pl表示顯影磁極,P2和P3表示顯影劑傳送磁極,P4表示釋放磁極,而P5表示吸引磁極,其位于釋放磁極P4的下游。在圖 17所示的結(jié)構(gòu)中,在多個(gè)固定磁極中,顯影劑傳送磁極P2和P3或者產(chǎn)生它們的磁鐵作為磁場(chǎng)發(fā)生器,用于產(chǎn)生施加用于將已經(jīng)穿過顯影區(qū)域131的調(diào)色劑傳送到顯影劑釋放部分 137的力的磁場(chǎng),在顯影劑釋放部分137,顯影劑與顯影套筒132分離。顯影套筒132在圖17所示的箭頭A所表示的方向上旋轉(zhuǎn),并且在第二隔室121內(nèi)的顯影劑被磁輥133所施加的磁力吸引到顯影套筒132的表面上。隨后,顯影劑的量被調(diào)節(jié),即顯影套筒132上的顯影劑被刮刀116攤平,并且被傳送到顯影區(qū)域131,在該顯影區(qū)域處,感光鼓108跨過間隙面對(duì)顯影輥115。然后,顯影劑將感光鼓108上形成的潛像顯影成調(diào)色劑圖像。顯影劑穿過殼體135的開口 125a,并且被顯影劑傳送磁極P2和P3所施加的磁力進(jìn)一步傳送到顯影劑釋放部分137,此后,顯影劑被釋放磁極P4與顯影套筒132分離,并收集在第二隔室121中。在第二隔室121中,攪拌螺桿118攪拌并傳送顯影劑。沿著顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)方向在開口 12 的下游且顯影劑釋放部分137的上游的位置處,預(yù)定間隙設(shè)置在殼體125的內(nèi)壁和顯影套筒132的外圓周表面之間。這個(gè)間隙, 即殼體125的內(nèi)壁和顯影套筒132的外圓周表面之間的距離下面被稱作殼體間隙GP。顯影劑傳送磁極P2和P3中的至少一個(gè)所施加的磁力作用在該殼體間隙GP中。在顯影套筒132和顯影裝置113的內(nèi)壁(即,殼體125)之間允許殼體間隙GP,來防止調(diào)色劑散落。更具體地說,殼體間隙GP定位在顯影套筒132的表面和在穿過顯影區(qū)域 131之后的顯影劑所穿過的內(nèi)壁之間,靠近開口 125a。這個(gè)殼體間隙GP面對(duì)磁輥133的多個(gè)磁極中的一個(gè)。下面參照?qǐng)D18更詳細(xì)描述殼體間隙GP,圖18是顯影劑傳送磁極P2和P3周圍的放大圖。在圖18中,例如,殼體125的內(nèi)壁和顯影套筒132的外圓周表面之間的殼體間隙 GP在面對(duì)顯影劑傳送磁極P2的位置處大約為1. 8mm (以下稱為間隙GP^,并且在面對(duì)顯影劑傳送磁極P3的位置處大約為1. Omm(以下稱為間隙GP3)。
假設(shè)上述殼體間隙GP可以導(dǎo)致流入顯影裝置113的氣流(下面稱為吸入氣流), 當(dāng)顯影套筒132上的顯影劑穿過殼體125的內(nèi)壁和顯影套筒132的外圓周表面之間的殼體 間隙GP時(shí),該吸入氣流在顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)方向上傳送顯影劑。換句話說,由于顯影劑 沿著磁輥133所產(chǎn)生的磁力線豎立在顯影套筒132的端部上,當(dāng)豎立在顯影輥132上的顯 影劑隨著顯影套筒132轉(zhuǎn)動(dòng)而穿過殼體間隙GP時(shí),導(dǎo)致流入顯影裝置113的氣流。吸入氣 流可以防止或減少調(diào)色劑散落到裝置外側(cè)。要指出的是,在使用根據(jù)本實(shí)施方式的在表面上形成有多個(gè)凹陷的顯影套筒,如 顯影套筒132時(shí),在顯影套筒132的圓周方向上凹陷139之間的間隔應(yīng)被正確設(shè)定,以防止 調(diào)色劑散落到顯影裝置113的外側(cè)。更具體地說,保持在凹陷139中的顯影劑顆粒一個(gè)豎 立在另一個(gè)上。因此,如果在顯影套筒132的圓周方向上凹陷139之間的間隔相對(duì)大,空氣 會(huì)通過凹陷139中豎立在彼此之上的顯影劑顆粒之間的間隙泄漏,從而使得難于產(chǎn)生吸入 氣流。結(jié)果,調(diào)色劑散落到顯影裝置113的外側(cè)。另外,顯影劑顆粒沿著磁輥133的顯影劑傳送磁極P2和P3所產(chǎn)生的磁力線豎立 在顯影套筒132的表面上,在與沿垂直于縱向的方向顯影劑傳送磁極P2和P3的磁通量密 度的寬度的一半相對(duì)應(yīng)的顯影套筒132的表面上可靠地產(chǎn)生這個(gè)現(xiàn)象。因此,在本實(shí)施方 式中,在顯影套筒圓周方向上,凹陷139的排列間距(間隔)Pc小于對(duì)應(yīng)于顯影劑傳送磁極 P2和P3的磁通量密度的一半寬度(以下稱為殼體間隙寬度)的顯影套筒的圓周長度。例如,對(duì)于顯影劑傳送磁極P3,在顯影套筒132的圓周方向上凹陷139的排列間距 如下。參照?qǐng)D18,在垂直于縱向的方向上顯影劑傳送磁極P2的磁通量密度的一半寬度是圍 繞磁輥133的軸線大約40度。于是,當(dāng)顯影套筒132的直徑是18mm時(shí),殼體間隙寬度WGP3 大約為6. ^mm到6. 40mm。優(yōu)選的是,在顯影套筒132的圓周方向上凹陷139的排列間距 Pc小于該殼體間隙寬度WGP3,使得在殼體間隙寬度WGP3中至少存在一對(duì)凹陷139。在本實(shí) 施方式中,考慮到安全因數(shù),在顯影套筒132的圓周方向上凹陷139的排列間距Pc等于或 小于1mm,使得在殼體間隙寬度WGP3中存在足夠量的凹陷139。利用這種結(jié)構(gòu),可以產(chǎn)生充 足量的吸入氣流,由此防止或減少調(diào)色劑通過殼體125的開口 12 散落。要指出的是,雖然在上面的描述中,在顯影套筒132的圓周方向上凹陷139的排列 間距Pc是基于在垂直于縱向的方向上顯影劑傳送磁極P3的磁通量密度的一半寬度來設(shè)定 的,但是,可替代的,可以基于顯影劑傳送磁極P2在垂直于縱向的方向上的磁通量密度的 一半寬度來設(shè)定。凹陷139的排列間距可以通過調(diào)節(jié)圖8A所示的表面加工裝置1的變量 來予以改變,這些變量諸如是鉆頭的旋轉(zhuǎn)頻率、鉆頭移動(dòng)的速度、和顯影套筒132的旋轉(zhuǎn) 速度。圖19是根據(jù)對(duì)比例的顯影裝置113Z的示意性剖視圖。在圖19所示的對(duì)比顯影 裝置113Z中,形成在顯影套筒132Z的表面上的凹陷139Z以大于殼體間隙寬度WGP3的排 列間距PcZ來排列。在這個(gè)對(duì)比例中,由于在凹陷139Z中豎立在彼此之上的顯影劑顆粒之 間所產(chǎn)生的間隙較大,空氣通過該間隙泄漏。于是,空氣不能流入到顯影裝置113Z中。由 于沒有產(chǎn)生流入顯影裝置113Z中的氣流,如果未充分充電的調(diào)色劑沒有充分附著到載體 上并然后與之分離,調(diào)色劑會(huì)通過開口 125aZ泄漏,并且散落到顯影裝置113Z的外側(cè)。圖20是示出根據(jù)本實(shí)施方式的顯影套筒132的表面的放大透視圖。在圖20中, 圖14和15所示的卵形凹陷139D (下面簡(jiǎn)稱為凹陷139)形成在顯影套筒132的表面內(nèi),以其長軸與顯影套筒132的軸向?qū)R而定位。凹陷139在顯影套筒132的圓周方向上以多條 線排列,并且相鄰凹陷139在圓周方向上彼此偏移。另外,優(yōu)選的是在顯影套筒132的軸向上凹陷139之間的排列間距1 等于或短于 每個(gè)凹陷139在顯影套筒132的軸向上的長度L。換句話說,在顯影套筒132的圓周方向上 相鄰的兩個(gè)凹陷139沿著顯影套筒132的軸向彼此偏移,并且相鄰凹陷139彼此偏移的量 等于或短于凹陷139在顯影套筒132軸向上的長度L。利用這種結(jié)構(gòu),在顯影套筒132的 軸向上在沿著顯影套筒132的圓周方向彼此相鄰的兩個(gè)凹陷139的端部之間沒有間隙。因 此,當(dāng)顯影套筒132旋轉(zhuǎn)時(shí),在沿軸向彼此相鄰的兩個(gè)凹陷139的端部?jī)?nèi),沒有空氣或很少 的空氣通過豎立在凹陷139上的顯影劑顆粒之間的間隙泄漏。于是,可以產(chǎn)生充足量的吸 入氣流。另外,在本實(shí)施方式中,顯影裝置113可拆卸地安裝到成像設(shè)備101的主體102 內(nèi),并且在殼體125的內(nèi)壁和顯影套筒132的外圓周表面之間的上述間隙中產(chǎn)生在顯影裝 置113可安裝到設(shè)備中的方向(以下稱為顯影裝置113的安裝方向)上從前側(cè)到后側(cè)流動(dòng) 的氣流。圖21是顯影裝置113在其縱向上的透視圖,并示出凹陷139的密度的變化。圖21 中所示的箭頭A2表示顯影裝置113的安裝方向。由圖21的斷開線所表示的部分是顯影套 筒132的表面的放大圖。雖然在本實(shí)施方式中顯影裝置113結(jié)合到處理盒106中,但是可 替代的是,顯影裝置113可以被設(shè)計(jì)成獨(dú)立地安裝到成像設(shè)備101的主體102內(nèi)和從該主 體102上拆卸。如圖21所示,沿著顯影裝置113的安裝方向,顯影套筒132每單位面積的凹陷139 的密度在前側(cè)較小,并且朝向后側(cè)逐漸增加。換句話說,沿著顯影裝置113的安裝方向,在 圓周方向上凹陷139的排列間距Pc在后側(cè)上小于在前側(cè)上的。在圖21所示的結(jié)構(gòu)中,豎 立在凹陷139上的顯影劑顆粒的密度沿著顯影裝置113的安裝方向在后側(cè)上的大于在前側(cè) 上的。于是,在顯影裝置113旋轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的吸入氣流在后側(cè)上比在前側(cè)上強(qiáng)。此時(shí),產(chǎn)生沿 著顯影裝置113的安裝方向從前側(cè)到后側(cè)流動(dòng)的氣流(下面也簡(jiǎn)稱為朝向后側(cè)的氣流)。 于是,即使未充分充電的調(diào)色劑在顯影裝置113的安裝方向上的前側(cè)上在開12 附近與載 體分離,調(diào)色劑可以被氣流朝向后側(cè)傳送到顯影裝置113的后側(cè)部分,由此防止或減少調(diào) 色劑散落到顯影裝置113外側(cè)。于是,當(dāng)維護(hù)人員或用戶握持顯影裝置113的前側(cè)部分,并 且將它拉出以進(jìn)行更換或檢查時(shí),調(diào)色劑不會(huì)散落在顯影裝置113的前側(cè)上。于是,握持顯 影裝置113的維護(hù)人員或用戶的手可以保持清潔。另外,在本實(shí)施方式中,為了在殼體125的內(nèi)壁和顯影套筒132的外圓周表面之間 的間隙內(nèi)產(chǎn)生沿著顯影裝置113的安裝方向從前側(cè)到后側(cè)流動(dòng)的氣流,卵形凹陷139可以 定位成它們的長軸相對(duì)于顯影套筒132的軸向傾斜。圖22A是顯影套筒132的透視圖,其中,凹陷139定位成它們的長軸相對(duì)于顯影套 筒132的軸向傾斜,并且圖22B是圖22k中所示的圓圈A所圍繞的部分的放大圖。如圖22k和22B所示,當(dāng)具有相對(duì)于顯影套筒132的軸向傾斜定位的凹陷139的 顯影套筒132沿著箭頭B所示的方向旋轉(zhuǎn)時(shí),由凹陷139中豎立在彼此之上的顯影劑顆粒, 產(chǎn)生在箭頭C(如圖22B所示)所示的方向上流動(dòng)的氣流。在顯影劑釋放部分137中,顯影 劑沿著箭頭C所示的方向朝向顯影裝置113的安裝方向上的后側(cè)與顯影套筒132分離。從而,隨著顯影套筒132旋轉(zhuǎn),能夠產(chǎn)生沿著顯影裝置113的安裝方向朝向后側(cè)流動(dòng)的氣流。 于是,即使未充分充電的調(diào)色劑在顯影裝置113的安裝方向的前側(cè)上在開口 12 附近與載 體分離,調(diào)色劑也可以被氣流傳送到顯影裝置113的后側(cè)部分,由此防止或減少調(diào)色劑散 落到顯影裝置113的外側(cè)。尤其是,可以減輕調(diào)色劑散落到顯影裝置113的前側(cè)部分上。另外,如圖21所示,當(dāng)顯影套筒132的每單位面積的凹陷139的密度沿著顯影裝 置113的安裝方向從前側(cè)向后側(cè)逐漸增加時(shí),朝向后側(cè)的氣流可以更強(qiáng)。如上所述,第一實(shí)施方式的效果是在其中多個(gè)凹陷以間隔形成在顯影套筒的表面 上的結(jié)構(gòu)中,可以可靠地產(chǎn)生氣流,以防止或減少在豎立在顯影套筒上的顯影劑穿過殼體 間隙時(shí)發(fā)生的調(diào)色劑散落。因此,根據(jù)本實(shí)施方式的顯影裝置113包括作為顯影劑承載件的顯影輥115、包含 要被承載到顯影輥115的表面上的兩組分顯影劑的顯影劑容器117、作為調(diào)節(jié)在顯影輥115 上承載的顯影劑的層厚度的顯影劑調(diào)節(jié)器的刮刀116、以及殼體125,在殼體125中,容納顯 影輥115、顯影劑容器117和刮刀116。顯影輥115包括作為非磁性可旋轉(zhuǎn)中空筒的顯影套 筒132和作為磁場(chǎng)發(fā)生器的磁輥133,該磁輥133設(shè)置在顯影套筒132的內(nèi)側(cè)。顯影輥115 傳送顯影套筒132的圓周表面上承載的顯影劑,該顯影套筒由于磁輥133所施加的磁力在 其圓周表面上承載顯影劑。在顯影劑容器117中的顯影劑由于磁輥133施加的磁力而被吸 引到顯影輥115上,并然后刮刀116調(diào)節(jié)在顯影輥115上承載的顯影劑的量。隨后,顯影劑 穿過顯影區(qū)域,在該顯影區(qū)域,顯影套筒132的圓周表面通過殼體125的開口 12 被局部 暴露,并且面對(duì)作為潛像承載件的感光鼓108,并然后返回到顯影劑容器117中。磁輥133 具有顯影劑傳送磁極P2和P3,該顯影劑傳送磁極P2和P3作用為磁場(chǎng)發(fā)生器,用于產(chǎn)生磁 場(chǎng),該磁場(chǎng)施加用于將已經(jīng)穿過顯影區(qū)域131的顯影劑傳送到顯影劑釋放部分137的力,在 顯影劑釋放部分137,顯影劑從顯影套筒132上分離。在沿著顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)方向開 口 12 的下游且顯影劑釋放部分137的上游,在殼體125的內(nèi)壁和顯影套筒132的外圓周 表面之間設(shè)置了預(yù)定間隙。此外,多個(gè)凹陷139以間隔形成在顯影套筒132的表面上。凹 陷139在顯影套筒132的圓周方向上的排列間距Pc比長度WGP3短,所述長度WGP3等于在 垂直于縱向的方向上顯影劑傳送磁極P3的磁通量密度的寬度的一半。利用如此設(shè)定的在 圓周方向上凹陷139的間距Pc,在長度等于磁通量密度的寬度的一半的顯影套筒132的部 分中存在至少兩個(gè)凹陷139,并且包含在凹陷139中的顯影劑顆粒在其中豎立在彼此之上。 顯影劑顆粒如此在凹陷139中堆積在彼此之上,將位于顯影套筒132的圓周表面和殼體125 的內(nèi)表面之間的殼體間隙分隔開。于是,隨著顯影套筒132轉(zhuǎn)動(dòng),保持在被分隔的殼體間隙 中的空氣可以被傳送到顯影劑容器117中。當(dāng)空氣被傳送到顯影劑容器117中時(shí),在殼體間 隙中產(chǎn)生負(fù)壓,由此產(chǎn)生從顯影裝置113的外側(cè)通過開口 12 進(jìn)入裝置流動(dòng)的吸入氣流, 該氣流可以防止或減少調(diào)色劑散落到裝置的外側(cè)。另外,在顯影套筒132圓周方向上相鄰的兩個(gè)凹陷139沿著顯影套筒132的軸向 彼此偏移,并且相鄰凹陷139彼此偏移的量等于或小于在顯影套筒132的軸向上凹陷139 的長度L。利用這種結(jié)構(gòu),在顯影套筒132的軸向上,在沿著顯影套筒132的圓周方向彼此 相鄰的兩個(gè)凹陷139的端部之間不存在間隙。因此,當(dāng)顯影套筒132旋轉(zhuǎn)時(shí),空氣不易于通 過在軸向上兩個(gè)相鄰的凹陷139的端部?jī)?nèi)在凹陷中豎立在彼此之上的顯影劑顆粒之間的 間隙泄漏。于是,可以產(chǎn)生充足量的吸入氣流。
21
此外,顯影裝置113沿著顯影套筒132的軸向可拆卸地安裝在成像設(shè)備101的主 體102內(nèi),并且產(chǎn)生在顯影裝置113的安裝方向上從前側(cè)到后側(cè)的氣流。因此,即使在顯影 裝置113的安裝方向上在前側(cè)上鄰近開口 12 存在未被吸引到載體上而是浮在空氣中的 調(diào)色劑,該調(diào)色劑也可以通過流向顯影裝置113的后側(cè)部分的氣流所傳輸,由此防止或減 少調(diào)色劑散落在顯影裝置113的外側(cè)。此外,在圓周方向上凹陷139的排列間距Pc沿著顯影裝置113的安裝方向在后側(cè) 上的小于在前側(cè)上的。在圖21所示的結(jié)構(gòu)中,豎立在凹陷139中的顯影劑顆粒的密度沿著 顯影裝置113的安裝方向在后側(cè)上大于在前側(cè)上的。于是,在顯影裝置113旋轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的 吸入氣流在后側(cè)上的強(qiáng)于在前側(cè)上的,并且空氣沿著顯影裝置113的安裝方向從前側(cè)流向 后側(cè)。另外,在本實(shí)施方式中,每個(gè)凹陷139為橢圓形的或卵形的,并且凹陷139的長軸 相對(duì)于顯影套筒132的軸向傾斜。尤其是,凹陷139相對(duì)于顯影套筒132的軸向的角度被 確定成產(chǎn)生沿著顯影裝置113的安裝方向從前向后流動(dòng)的氣流。更具體地說,如圖22A和 22B所示,為了產(chǎn)生這樣的氣流,凹陷139定位成在顯影裝置113的安裝方向上的后側(cè)上凹 陷139的縱向端部(后端)在箭頭B所示的方向上向凹陷139的另一端(前端)的上游傾 斜,所述箭頭B所示的方向是顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)方向。隨著顯影套筒132旋轉(zhuǎn),通過在凹陷139中豎立在彼此之上的顯影劑顆粒,空氣在 顯影裝置113的安裝方向上從前向后流動(dòng)。在顯影劑釋放部分137中,顯影劑在顯影裝置 113的安裝方向上朝向后側(cè)從顯影套筒132上分離。從而,隨著顯影套筒132旋轉(zhuǎn),產(chǎn)生沿 著顯影裝置113的安裝方向朝向后側(cè)流動(dòng)的氣流。(第二實(shí)施方式)下面描述根據(jù)第二實(shí)施方式的顯影輥115-1和包括該顯影輥115-1的顯影裝置 113-1。圖23A是根據(jù)第二實(shí)施方式的顯影輥從側(cè)面看到的剖視圖,而圖2 是圖23A所 示的顯影輥的顯影套筒的表面的放大視圖。圖M是顯影裝置113-1的端視圖。要指出的是與根據(jù)第一實(shí)施方式的顯影裝置113的組成部件類似的顯影裝置 113-1的部件(圖M所示)被賦予相同或相似的附圖標(biāo)記,并因此省略它們的描述。圖23A和2 所示的顯影輥115_1是典型的低成本顯影輥,并且包括顯影套筒 132、磁輥133-1和磁輥軸134-1。磁輥133-1設(shè)置在磁輥軸134-1的外側(cè),并且固定于其 上而不旋轉(zhuǎn),并且磁輥軸Π4-1固定到殼體125上,如圖M所示。磁輥133-1包括多個(gè)固 定磁極,例如,磁極Sl、m、S2、N2和N3,它們沿著這個(gè)順序在顯影套筒132旋轉(zhuǎn)的方向上排 列,所述顯影套筒132旋轉(zhuǎn)的方向是圖M中的逆時(shí)針方向。在圖M中,要指出的是附圖標(biāo) 記Si、Ni、S2、N2和N3也分別表示磁極Si、附、S2、N2和N3所產(chǎn)生的磁場(chǎng)。具有相同極性 的磁極N2和N3產(chǎn)生在顯影劑穿過顯影區(qū)域后將顯影劑從顯影套筒132分離的磁力。通過 調(diào)節(jié)圍繞固定到殼體125上的磁輥軸134-1的軸線的角度位置,可以確定在顯影輥隙中的 主磁極的位置。磁輥軸134-1的右端部分134a(第二軸向端部)和左端位置134b(第一軸向端 部)分別設(shè)置有軸承13 和135b,并且軸承13 和13 分別可旋轉(zhuǎn)地支撐右凸緣13 和左凸緣13沘。由于右凸緣13 和左凸緣13 固定在顯影套筒132的兩個(gè)軸向端部的內(nèi)側(cè),通過轉(zhuǎn)動(dòng)左凸緣132b的旋轉(zhuǎn)軸132c,顯影套筒132可以圍繞磁輥軸134-1的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。在圖23A中,附圖標(biāo)記Ll和L2分別表示磁輥軸134_1的右端部分13 和左端部 分134b位于磁輥133-1的兩個(gè)軸向端部(即,縱向上的端部)的外側(cè)的長度。由于磁輥 軸134-1的右端部分13 的尖端固定到殼體125上,左端部分134b的長度L2比右端部分 134a的長度Ll短。磁輥軸134-1由磁性金屬材料形成。從而,位于磁輥133-1的主體的軸向邊緣表 面的外側(cè)的磁輥軸Π4-1的右端部分13 和左端部分134b長度不同。在圖23A所示的結(jié) 構(gòu)中,右端部分13 比左端部分134b長。右端部分13 和左端部分134b之間的長度差 別造成在磁輥133-1的兩個(gè)軸向端部上、顯影套筒132面對(duì)位于顯影劑釋放部分137上游 的磁極N2和面對(duì)位于顯影劑釋放部分137下游的磁極N3的部分之間的磁場(chǎng)分布差異,所 述磁極N3作為吸引磁極。因此,對(duì)應(yīng)于右端部分13 的磁場(chǎng)Tl (下面稱為右端磁場(chǎng)Tl) 與對(duì)應(yīng)于左端部分134b的磁場(chǎng)T2(下面稱為左端磁場(chǎng)1 相比形狀像一個(gè)大弧形,所述右 端磁場(chǎng)包括流入其中的磁場(chǎng)。因此,用于發(fā)生顯影劑過傳送(carry-over)的余量(margin) 程度在顯影套筒132的右端部分的大于在其左端部分的?!帮@影劑過傳送”是顯影劑在釋放 部分137沒有從顯影套筒132分離而是被顯影套筒132進(jìn)一步承載的現(xiàn)象。如果在圖像顯 影之后其中調(diào)色劑濃度降低的顯影劑沒有返回到顯影劑容器,而是被過傳送并再次供給到 顯影區(qū)域,圖像密度變得不均勻。在本實(shí)施方式中,多個(gè)凹陷139形成在顯影套筒132的表面上,并且考慮到右端磁 場(chǎng)Tl和左端磁場(chǎng)T2的效果,每個(gè)凹陷139相對(duì)于顯影套筒132的軸向傾斜定位。更具體 地說,如圖2 所示,在顯影劑釋放部分137中,凹陷139的短邊(例如,凹陷139垂直于其 長軸的中心線)相對(duì)于顯影套筒132的軸向的角度被設(shè)定成顯影劑從顯影套筒132朝向磁 輥軸134-1的左端部分134b分離,該左端部分位于磁輥133-1沿著其縱向的端部的外側(cè), 并且比右端部分13 短。換句話說,在圖23A和2 所示的結(jié)構(gòu)中,每個(gè)凹陷139在與磁 輥軸134-1的較短的左端部分134b相同一側(cè)(第一側(cè))上的左端在顯影套筒132旋轉(zhuǎn)方 向上位于其右端的上游,所述右端在與較長的右端部分13 的相同側(cè)上(第二側(cè)),用于 隨著顯影劑承載件旋轉(zhuǎn),將顯影劑沿著顯影套筒132的軸向朝向磁輥軸134-1的端部(左 端部分134b)較短的第一側(cè)移動(dòng)。利用這種結(jié)構(gòu),在顯影輥115-1的左端部分內(nèi),顯影劑被 引向成像區(qū)域內(nèi)側(cè),即,引向圖23A的右側(cè),并且在圍繞左端部分134b的左端磁場(chǎng)T2的作 用下,從顯影套筒132掉落。相反,在顯影輥115-1的右端部分內(nèi),在此由于圍繞右端部分 134a的右端磁場(chǎng)Tl的作用,發(fā)生過傳送顯影劑的余量程度較低,在圖23B中箭頭所示的方 向上,顯影劑從顯影套筒132分離,并且朝向成像區(qū)域內(nèi)側(cè)掉落,即,向圖23A的左側(cè)掉落。在此,當(dāng)各自相對(duì)于顯影套筒132的軸向傾斜定位的多個(gè)卵形凹陷139如上所述 形成在顯影套筒132的表面上時(shí),顯影劑可能會(huì)累積在顯影劑被凹陷139所移動(dòng)的方向的 下游側(cè)上(圖23A中的左側(cè))。此外,由于在顯影劑釋放部分137中從顯影套筒132分離的 顯影劑朝向顯影套筒132的一端移動(dòng),顯影劑有可能不從顯影套筒132分離,而是移動(dòng)到端 部,并然后隨著顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)被過傳送(顯影劑過傳送)。鑒于上面的問題,第二實(shí)施方式進(jìn)一步包括第二磁場(chǎng)發(fā)生器,用于防止顯影劑過 傳送,從而在保持設(shè)備相對(duì)緊湊的同時(shí)減輕圖像密度的不均勻。
更具體的說,如圖M所示,顯影裝置113-1還包括作為第二磁場(chǎng)發(fā)生器的磁鐵 149,其面對(duì)顯影劑釋放部分137或者磁輥133-1的釋放磁極而定位。在圖M所示的結(jié)構(gòu) 中,磁鐵149被附著到殼體125的外表面上。雖然上面的描述涉及到低應(yīng)力型顯影裝置,其 中,單個(gè)磁極作為吸引磁極來將顯影劑吸引到顯影套筒132上并且作為顯影劑調(diào)節(jié)磁極來 調(diào)節(jié)在顯影套筒132上承載的顯影劑的量,當(dāng)磁鐵149設(shè)置在諸如圖19所示的對(duì)比例那樣 的顯影裝置中時(shí),可以獲得類似的效果,在所示對(duì)比例中,單獨(dú)的兩個(gè)磁極分別作為吸引磁 極和顯影劑調(diào)節(jié)磁極,并且類似于圖M所示地那樣定位。磁鐵149經(jīng)顯影套筒132面對(duì)磁輥133_1的作為顯影劑釋放磁極的磁極N2和N3 定位,且磁鐵149的北極面對(duì)顯影輥115-1。此外,如圖25A所示,磁鐵149相對(duì)于顯影套筒 132的軸向的位置是磁輥133-1在其縱向上的左端的外側(cè)。更具體地說,磁鐵149面對(duì)顯影 劑釋放部分定位,并且位于顯影套筒132的軸向端部的其中一個(gè)處,在該處,由于圖25B所 示的凹陷139,產(chǎn)生沿著軸向傳送顯影劑的力。因此,可以減小在顯影套筒132的左軸向端部處顯影劑的過傳送,并于是可以減 小顯影輥115-1的縱向長度。圖沈是示出在顯影套筒132的表面上的磁力分布與磁鐵149在顯影套筒傳送顯 影劑的方向上延伸的布置范圍(角度范圍)之間的關(guān)系的示意圖。參照?qǐng)D沈,磁鐵149在顯影套筒132的顯影劑傳送方向(旋轉(zhuǎn)方向)上從沿法向 穿過磁極N2在顯影套筒132的表面上產(chǎn)生的磁通量的最大強(qiáng)度點(diǎn)的法線Hl到沿法向穿過 磁極N3在顯影套筒132的表面上產(chǎn)生的磁通量的最大強(qiáng)度點(diǎn)的法線H2延伸。要指出的是,在圖19所示的對(duì)比例中,其中單獨(dú)的磁極分別作為吸引磁極和顯影 劑調(diào)節(jié)磁極,在顯影套筒132的顯影劑傳送方向上,磁鐵149的布置范圍是從沿法向穿過磁 極S2在顯影套筒132的表面上產(chǎn)生的磁通量的最大強(qiáng)度點(diǎn)的法線到沿法向穿過磁極S3所 產(chǎn)生的磁通量的最大強(qiáng)度點(diǎn)的法線。作為顯影劑釋放磁極的磁極N2和N3產(chǎn)生用于將顯影劑從顯影套筒132分離的磁 力線,并且磁鐵149產(chǎn)生將磁極N2和N3在顯影劑釋放部分137中產(chǎn)生的磁力線中的穿過 軸向端部的磁力線沿顯影套筒132的軸向向內(nèi)側(cè)偏轉(zhuǎn)的磁場(chǎng)。更具體地說,通過將面對(duì)顯 影套筒132的一側(cè)的磁極與磁極N2和N3的極性(北極)相同,在顯影套筒132的顯影劑 傳送方向(顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)方向)上,磁鐵149被定位在從法線Hl到法線H2的區(qū)域 內(nèi),所述法線Hl沿法向穿過磁極N2在顯影套筒132的表面上產(chǎn)生的磁力線的最大強(qiáng)度點(diǎn), 而所述法線H2沿法向穿過磁極N3在顯影套筒132的表面上產(chǎn)生的磁力線的最大強(qiáng)度點(diǎn)。 磁鐵149在顯影套筒132的軸向上位于磁輥133-1的主體的外側(cè)。利用這種結(jié)構(gòu),如上所 述,在顯影套筒132的釋放部分137中,在面對(duì)磁輥133-1的區(qū)域中,在軸向端部上磁力線 的方向可以被偏轉(zhuǎn)而接近垂直于顯影套筒132的軸向的方向,S卩,偏轉(zhuǎn)成將顯影劑從顯影 套筒132上掉落的方向。由于可以增加在軸向端部上將顯影劑從顯影套筒132分離的力, 在軸向端部處顯影劑可以充分地從顯影套筒132的表面分離。因此,可以減少顯影劑易于 過傳送的面對(duì)磁輥133的區(qū)域的軸向長度(即,寬度)。因此,即使在減少面對(duì)磁輥133-1 的區(qū)域的軸向長度時(shí),顯影劑過傳送所造成的圖像密度的不均勻也可以較小。從而,顯影裝 置在顯影套筒132的軸向上可以更緊湊。另外,如圖沈所示,磁鐵149定位成磁鐵149的N極側(cè)和顯影套筒132的外圓周表面之間的最短距離X大于在磁鐵149的N極側(cè)和顯影套筒132的外圓周表面之間的距離 最短的位置處在顯影套筒132的圓周表面上承載的顯影劑的高度(即,層厚度)。這種布 置可以防止磁鐵149所施加的磁力在顯影套筒132旋轉(zhuǎn)時(shí)碰撞顯影套筒132上承載的顯影 劑,并且可以保持理想的效果。圖27是顯影輥115-1的側(cè)視圖,并示出顯影劑在顯影套筒132的左端部分內(nèi)被磁 鐵149偏轉(zhuǎn)的流動(dòng)。磁鐵149施加的磁力可以將位于磁輥133-1左端外側(cè)的顯影套筒132 的表面上承載的顯影劑TC指向該部分正下方或者成像區(qū)域內(nèi)側(cè)。此外,顯影劑TC可以被 分別位于顯影劑釋放部分137上游和下游的磁極N2和N3所施加的法向上的磁力線從顯影 套筒132上分離并且引向顯影劑容器。由此,可以減輕顯影劑過傳送。要指出的是除了在顯影套筒132的軸向的左端部分之外,另一個(gè)磁鐵可以設(shè)置在 顯影裝置113-1的右端部分。圖28A是顯影輥115-1的側(cè)視圖,其包括第三磁場(chǎng)發(fā)生器,除了磁鐵149之外,磁 鐵150位于磁輥133-2的右端外側(cè)的右端部分處。圖28B是顯影輥115-2的顯影套筒132 的放大圖。類似于圖25A到27的顯影輥115_1,凹陷139形成在顯影輥115_2的顯影套筒132 的表面上。顯影劑的過傳送可以通過除了磁鐵149之外還設(shè)置作為第三磁場(chǎng)發(fā)生器的磁鐵 150來更好地防止。要指出的是磁鐵149的磁力可以比磁鐵150的更強(qiáng),這是由于在左端部分,由于在 顯影套筒132表面內(nèi)形成的凹陷139,在顯影劑釋放部分137中產(chǎn)生將顯影劑向左傳送的 力。當(dāng)在左端部分內(nèi)的磁鐵149的磁力比磁鐵150的更強(qiáng)時(shí),可以減輕向左傳送顯影劑的 力。從而,在兩個(gè)端部,顯影劑從顯影套筒132的釋放性可以基本上相同。要指出的是各實(shí)施方式的上述特征可以適用于圖中所示之外的其他顯影裝置。(第三實(shí)施方式)下面參照?qǐng)D四描述第三實(shí)施方式。圖四是根據(jù)第三實(shí)施方式的顯影裝置113-2的端視圖。圖四所示的顯影裝置 113-2包括顯影劑承載件341,在其內(nèi)側(cè)設(shè)置磁場(chǎng)發(fā)生器347 ;面對(duì)顯影劑承載件341的下 側(cè)定位的顯影劑調(diào)節(jié)器346 ;以及第一和第二顯影劑傳送元件342和343,以在裝置的縱向 上傳送顯影劑裝置113-2的殼體內(nèi)包含的顯影劑。磁場(chǎng)發(fā)生器347圍繞顯影劑承載件341 產(chǎn)生多個(gè)磁極。顯影劑調(diào)節(jié)器346調(diào)節(jié)顯影劑承載件341上承載的顯影劑量。第一顯影劑 傳送元件342面對(duì)顯影劑承載件341定位并基本上在顯影劑承載件341的下方,并且在沿 著軸向傳送顯影劑的同時(shí)將顯影劑提供到顯影劑承載件341。第二顯影劑傳送元件343面 對(duì)顯影劑承載件341定位,并且將從顯影劑承載件341分離的顯影劑與外面提供的調(diào)色劑 混合。分隔壁344將殼體的內(nèi)部分隔成其中設(shè)置第一顯影劑傳送元件342的隔室和其中設(shè) 置第二顯影劑傳送元件343的另一隔室,并且第一和第二顯影劑傳送元件342和343單向 傳送顯影劑。從而,利用分隔壁344和殼體形成顯影劑傳送路徑。通過將各實(shí)施方式的上述 特征應(yīng)用于如圖四所示的顯影裝置,在顯影劑被收集并于是顯影劑的高度較高的一側(cè)上, 可以提高顯影劑過傳送的余量程度。從而,可以實(shí)現(xiàn)更高的效果。如上所述,上述第二和第三實(shí)施方式的效果是減輕顯影劑在顯影套筒表面上的過 傳送,由此減小圖像密度的不均勻,同時(shí)防止在如下結(jié)構(gòu)中裝置尺寸的增加,即在該結(jié)構(gòu)中,由于形成在顯影套筒表面上的傾斜凹陷,隨著顯影套筒旋轉(zhuǎn),顯影劑沿著顯影套筒的軸 向向一端移動(dòng)。更具體地說,根據(jù)第二和第三實(shí)施方式的顯影裝置包括磁輥軸134-1,其作為磁性 支撐軸,突出到磁輥133-1的兩個(gè)軸向端部的外側(cè)。磁輥軸134-1包括不等軸向長度的磁輥 軸134-1的右端部分13 和左端部分134b。沿隨著顯影套筒132旋轉(zhuǎn)顯影劑在顯影劑釋 放部分137中由于凹陷139而移動(dòng)的方向的下游側(cè)上的左端部分134b比在相對(duì)側(cè)上的右 端部分13 的短。利用這種結(jié)構(gòu),在顯影輥115-1的左端部分內(nèi),受到圍繞左端部分134b 的左端磁場(chǎng)T2的影響,顯影劑被引向成像區(qū)域內(nèi)側(cè),并且從顯影套筒132上掉落。在顯影 輥115-1的右端部分內(nèi),由于圍繞右端部分13 的右端磁場(chǎng)Tl的作用,發(fā)生顯影劑過傳送 的余量程度較低,顯影劑從顯影套筒132朝向成像區(qū)域內(nèi)側(cè)掉落。另外,在上述實(shí)施方式中,包括在顯影劑中的調(diào)色劑顆粒具有在從3微米到8微米 范圍內(nèi)的體積平均顆粒直徑。另外,體積平均顆粒直徑(Dv)與數(shù)量平均顆粒直徑(Dn)的比 在1. 00到1. 40 (Dv/Dn)的范圍內(nèi)。為了再現(xiàn)大于600dpi的精細(xì)點(diǎn)圖像,體積平均顆粒直徑 與數(shù)量平均顆粒直徑的比(Dv/Dn)優(yōu)選的接近1.00,用于實(shí)現(xiàn)更尖銳的顆粒直徑分布。在 具有這種小直徑和窄顆粒直徑分布的調(diào)色劑的情況下,電荷分布可以均勻,并因此,可以產(chǎn) 生減少調(diào)色劑散落在背景中的高質(zhì)量圖像。此外,在靜電轉(zhuǎn)印方法中,可以提高轉(zhuǎn)印比率。此外,用在上述實(shí)施方式中的調(diào)色劑的第一形狀因數(shù)SF-I在100到180的范圍 內(nèi),且第二形狀因數(shù)SF-2在100到180范圍內(nèi)。當(dāng)?shù)谝恍螤钜驍?shù)SF-I是100時(shí),調(diào)色劑顆 粒是圓形的。第一形狀因數(shù)SF-I變得越大,調(diào)色劑顆粒越不定形。當(dāng)?shù)诙螤钜驍?shù)SF-2 是100時(shí),調(diào)色劑顆粒是平的,第二形狀因數(shù)SF-2越大,調(diào)色劑顆粒越不規(guī)則。當(dāng)?shù)谝恍螤?因數(shù)SF-I和第二形狀因數(shù)SF-2中任一個(gè)或二者都超過180時(shí),顯影劑的流動(dòng)性和圓度以 及轉(zhuǎn)印效率都退化。鑒于上述教導(dǎo),各種另外的改進(jìn)和變型都是可能的。因此,可以理解到在所附權(quán)利 要求書的范圍內(nèi),本說明書的公開內(nèi)容可以在此詳細(xì)描述的之外的方式實(shí)現(xiàn)。與相關(guān)申請(qǐng)的橫向參考本專利說明書基于2010年2月10日在日本專利局提交的日本專利申請(qǐng)第 2010-027208號(hào)和2010年2月23日在日本專利局提交的日本專利申請(qǐng)2010-036809號(hào)并 要求它們的優(yōu)先權(quán),這些申請(qǐng)通過引用整體結(jié)合于此。
權(quán)利要求
1.一種顯影裝置,該顯影裝置用兩組分顯影劑顯影潛像承載件上形成的潛像,所述兩 組分顯影劑基本上由調(diào)色劑和載體構(gòu)成,所述顯影裝置包括殼體;顯影劑容器,該顯影劑容器容納在所述殼體內(nèi),其用于容納顯影劑;中空筒形非磁性顯影劑承載件,該顯影劑承載件可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在所述殼體內(nèi),在旋轉(zhuǎn) 的同時(shí)傳送顯影劑,在顯影區(qū)域內(nèi),所述顯影劑承載件通過所述殼體的開口局部露出并面 對(duì)所述潛像承載件;磁場(chǎng)發(fā)生器,所述磁場(chǎng)發(fā)生器設(shè)置在所述顯影劑承載件內(nèi)側(cè),具有多個(gè)磁極,所述多 個(gè)磁極包括將顯影劑從顯影劑容器吸引到顯影劑承載件的吸引磁極、在顯影劑承載件旋轉(zhuǎn) 方向上所述顯影區(qū)域的下游到顯影劑釋放部分將顯影劑保持在顯影劑承載件上的顯影劑 傳送磁極、以及將顯影劑從顯影劑承載件上分離并將該顯影劑返回到顯影劑容器的釋放磁 極;顯影劑攪拌器,該顯影劑攪拌器設(shè)置在顯影劑容器內(nèi),在沿著顯影劑承載件的軸向傳 送顯影劑的同時(shí)攪拌該顯影劑;以及顯影劑調(diào)節(jié)器,該顯影劑調(diào)節(jié)器容納在所述殼體內(nèi),以調(diào)節(jié)所述顯影劑承載件上承載 的顯影劑的層厚度,其中,在所述顯影劑承載件的外圓周表面和所述殼體的內(nèi)壁之間、在沿著所述顯影劑 承載件旋轉(zhuǎn)的方向、所述殼體內(nèi)形成的開口的下游且所述顯影劑釋放部分的上游的部分 處、保持有預(yù)定間隙;相隔一定距離的多個(gè)凹陷形成在顯影劑承載件的外圓周表面上;以及沿著所述顯影劑承載件的圓周方向在相鄰凹陷之間的間距比在垂直于所述顯影劑承 載件的軸向的方向上所述顯影劑傳送磁極的磁通量密度的寬度的一半短。
2.如權(quán)利要求1所述的顯影裝置,其中,在所述顯影劑承載件的圓周方向上相鄰的凹 陷沿著顯影劑承載件的軸向偏移,所偏移的長度不大于所述凹陷在所述顯影劑承載件的軸向上的長度。
3.如權(quán)利要求1所述的顯影裝置,其中,所述顯影裝置在平行于所述顯影劑承載件的 軸向的方向上可拆卸地安裝到成像設(shè)備上。
4.如權(quán)利要求3所述的顯影裝置,其中,沿著所述顯影裝置可安裝到成像設(shè)備上的方 向、在所述顯影劑承載件圓周方向上相鄰凹陷之間的間距在后側(cè)上的比在前側(cè)上的小,用 于產(chǎn)生在所述顯影裝置可安裝的方向上從顯影裝置的前側(cè)向后側(cè)流動(dòng)的氣流。
5.如權(quán)利要求3所述的顯影裝置,其中,在所述顯影劑承載件的外圓周表面上形成的 多個(gè)凹陷中的每一個(gè)是卵形的,并且定位成其長軸相對(duì)于顯影劑承載件的軸向傾斜;且在顯影裝置可安裝到成像設(shè)備上的方向上,凹陷的后端部分沿著顯影劑承載件的旋轉(zhuǎn) 方向位于上游,而凹陷的前端部分沿著顯影劑承載件的旋轉(zhuǎn)方向位于下游,用于產(chǎn)生從顯 影裝置的后側(cè)向前側(cè)流動(dòng)的氣流。
6.一種處理盒,該處理盒可拆卸地安裝到成像設(shè)備中,該處理盒包括如權(quán)利要求1所 述的顯影裝置,其中,至少潛像承載件與所述顯影裝置容納在共同的殼體中。
7.一種成像設(shè)備,包括如權(quán)利要求6所述的處理盒。
8.如權(quán)利要求7所述的成像設(shè)備,其中使用的調(diào)色劑是通過使調(diào)色劑材料溶液在含水 介質(zhì)中進(jìn)行交聯(lián)和伸長反應(yīng)中的至少一種而制備的,所述調(diào)色劑材料溶液是至少將具有包 含氮原子的功能團(tuán)的聚酯預(yù)聚物、聚酯、著色劑和釋放劑分散在有機(jī)溶劑中而制備的。
9.一種顯影裝置,該顯影裝置用兩組分顯影劑顯影潛像承載件上形成的潛像,所述兩 組分顯影劑基本上由調(diào)色劑和載體構(gòu)成,所述顯影裝置包括殼體;顯影劑容器,該顯影劑容器容納在所述殼體內(nèi),其用于容納顯影劑;中空筒形非磁性顯影劑承載件,該顯影劑承載件可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在所述殼體內(nèi),以在旋 轉(zhuǎn)的同時(shí)傳送顯影劑,在顯影區(qū)域,所述顯影劑承載件通過所述殼體的開口局部露出,并面 對(duì)所述潛像承載件;第一磁場(chǎng)發(fā)生器,該第一磁場(chǎng)發(fā)生器設(shè)置在所述顯影劑承載件的內(nèi)側(cè),具有多個(gè)磁極, 所述多個(gè)磁極包括將顯影劑從顯影劑容器吸引到顯影劑承載件的吸引磁極、在顯影劑承載 件旋轉(zhuǎn)方向上所述顯影區(qū)域的下游到顯影劑釋放部分將顯影劑保持在顯影劑承載件上的 顯影劑傳送磁極、以及將顯影劑從顯影劑承載件上分離并將該顯影劑返回到顯影劑容器的 釋放磁極;顯影劑攪拌器,該顯影劑攪拌器設(shè)置在所述顯影劑容器內(nèi),在沿著顯影劑承載件的軸 向傳送顯影劑的同時(shí)攪拌該顯影劑;顯影劑調(diào)節(jié)器,該顯影劑調(diào)節(jié)器容納在所述殼體內(nèi),以調(diào)節(jié)所述顯影劑承載件上承載 的顯影劑的層厚度;以及第二磁場(chǎng)發(fā)生器,該第二磁場(chǎng)發(fā)生器位于顯影劑承載件的軸向上所述顯影裝置的第一 側(cè)上的顯影裝置的第一端部,其中,相隔一定距離的多個(gè)卵形凹陷形成在顯影劑承載件的外圓周表面上,所述多個(gè) 凹陷的每一個(gè)的長軸相對(duì)于顯影劑承載件的軸向傾斜定位,且在所述顯影裝置的第一側(cè)上 的所述凹陷的第一縱向端部沿所述顯影劑承載件旋轉(zhuǎn)方向位于其第二縱向端部的上游,所 述第二縱向端部與所述第一縱向端部相對(duì),用于隨著顯影劑承載件的旋轉(zhuǎn)在與所述顯影劑 承載件的軸向平行的方向上將顯影劑朝向所述顯影裝置的第一側(cè)傳送;且所述第二磁場(chǎng)發(fā)生器產(chǎn)生磁場(chǎng),該磁場(chǎng)用于阻止在顯影劑釋放部分中顯影劑被所述多 個(gè)凹陷沿著所述顯影劑承載件的軸向朝向所述顯影裝置的第一側(cè)傳送。
10.如權(quán)利要求9所述的顯影裝置,其中,所述第一磁場(chǎng)發(fā)生器包括磁性支撐軸,該磁 性支撐軸具有分別設(shè)置在所述顯影裝置的第一側(cè)和第二側(cè)上的不等長度的第一軸向端部 和第二軸向端部,磁性支撐軸的第一軸向端部和第二軸向端部二者都從第一磁場(chǎng)發(fā)生器的 主體突出;且磁性支撐軸位于顯影裝置的第一側(cè)上的第一軸向端部比磁性支撐軸的第二軸向端部 短,其中所述顯影劑被顯影劑承載件的外圓周表面上的多個(gè)凹陷朝向所述顯影裝置的所述 第一側(cè)移動(dòng)。
11.如權(quán)利要求9所述的顯影裝置,其中,所述第二磁場(chǎng)發(fā)生器定位成經(jīng)顯影劑承載件 面對(duì)第一磁場(chǎng)發(fā)生器的釋放磁極,并且定位在所述顯影裝置的第一側(cè)上,其中所述顯影劑 被顯影劑承載件的外圓周表面上的多個(gè)凹陷朝向所述顯影裝置的所述第一側(cè)移動(dòng),以及第二磁場(chǎng)發(fā)生器具有與第一磁場(chǎng)發(fā)生器的釋放磁極的極性相同的極性。
12.如權(quán)利要求11所述的顯影裝置,還包括第三磁場(chǎng)發(fā)生器,該第三磁場(chǎng)發(fā)生器具有 與釋放磁極的極性相同的極性,所述第三磁場(chǎng)發(fā)生器定位成經(jīng)顯影劑承載件面對(duì)所述第一 磁場(chǎng)發(fā)生器的釋放磁極,并且定位在顯影裝置的與所述第一端部相對(duì)的第二端部上;并且定位在顯影裝置的第一側(cè)上的第二磁場(chǎng)發(fā)生器具有比第三磁場(chǎng)發(fā)生器所施加的磁力 更強(qiáng)的磁力,其中,其中所述顯影劑被顯影劑承載件的外圓周表面上的多個(gè)凹陷朝向所述 顯影裝置的所述第一側(cè)移動(dòng)。
13.如權(quán)利要求9所述的顯影裝置,其中,所述釋放磁極包括彼此相鄰且具有相同極性 的兩個(gè)磁極。
14.一種處理盒,該處理盒可拆卸地安裝在成像設(shè)備內(nèi),并包括如權(quán)利要求9所述的顯影裝置,其中,至少潛像承載件與所述顯影裝置容納在共同的殼體中。
15.一種成像設(shè)備,包括如權(quán)利要求14所述的處理盒。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種顯影裝置以及包括該顯影裝置的處理盒和成像設(shè)備,所述顯影裝置包括顯影劑容器、局部從殼體露出并在顯影區(qū)域面對(duì)潛像承載件的顯影劑承載件、顯影劑承載件內(nèi)側(cè)的磁場(chǎng)發(fā)生器,其具有多個(gè)磁極,即將顯影劑從顯影區(qū)域的下游傳送到顯影劑釋放部分的顯影劑傳送磁極、顯影劑攪拌器、和顯影劑調(diào)節(jié)器。在所述顯影劑承載件的外圓周表面和所述殼體的內(nèi)壁之間、沿所述顯影劑承載件旋轉(zhuǎn)的方向在所述殼體的開口的下游且所述顯影劑釋放部分的上游保持有預(yù)定間隙。多個(gè)凹陷間隔地形成在顯影劑承載件的外圓周表面上,且在圓周方向上的間距比在垂直于所述顯影劑承載件的軸向的方向上所述顯影劑傳送磁極的磁通量密度的寬度的一半短。
文檔編號(hào)G03G15/09GK102147582SQ20111003556
公開日2011年8月10日 申請(qǐng)日期2011年2月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月10日
發(fā)明者佐藤裕貴, 增田克己, 大澤正幸, 寺坂巧, 小島敏男, 尾關(guān)孝將, 林俊樹, 田口信幸, 神谷紀(jì)行, 肥塚恭太 申請(qǐng)人:株式會(huì)社理光
網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
  • 還沒有人留言評(píng)論。精彩留言會(huì)獲得點(diǎn)贊!
1