專利名稱:包括氧化硼抗氧化層的電極及其制造方法
CN 102549495 A
包括氧化硼抗氧化層的電極及其制造方法發(fā)明背景發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明涉及電氣裝置的電極,更具體地講,本發(fā)明涉及電極結(jié)構(gòu)的改進(jìn)。 技術(shù)背景眾所周知,在一些方法中,導(dǎo)體漿料被用作電極的原材料。導(dǎo)體漿料通常包含導(dǎo)電組分、玻璃料、有機(jī)基料和溶劑。可形成精細(xì)圖案的感光漿料也是被廣泛使用的,并且感光漿料的組成除前述組分之外通常還包括單體和光引發(fā)劑。通過絲網(wǎng)印刷或其它方法以預(yù)定的圖案涂覆非感光漿料,并且用含導(dǎo)電組分和基料的玻璃通過干燥和焙燒形成由此玻璃組成的電極。感光漿料(負(fù)型)在涂覆后通過掩模曝光。單體的聚合反應(yīng)在曝光位點(diǎn)進(jìn)行,此后通過使感光漿料顯影并且焙燒來形成電極,所述電極由含導(dǎo)電組分和基料的玻璃組成。通常將銀用作導(dǎo)電組分(例如美國專利5047313和美國專利公布2005/(^87472)。 由于例如金、銀和鈀等貴金屬可在空氣中燒結(jié),因此可減少對熔爐的資金投入。然而,由于貴金屬價(jià)格昂貴,所以使用貴金屬會造成材料成本劇增。銅是半導(dǎo)體電路等制品中廣泛使用的導(dǎo)電組分。銅的優(yōu)點(diǎn)是比銀廉價(jià)。但銅不能在空氣中燒結(jié),因?yàn)樗子谘趸?,這樣便增大了資金投入,因?yàn)樾枰诘Wo(hù)等氣氛下進(jìn)行
少口機(jī)ο將硼和金屬粉末一起使用的方法已作為一項(xiàng)技術(shù)得到公開,通過這項(xiàng)技術(shù)即可空氣焙燒非感光漿料中易于氧化的金屬(美國專利4122232)。在美國專利4,122,232的實(shí)例中,使用比325目更精細(xì)的銅粉。銅粉的平均粒度未具體描述,但使用325目篩網(wǎng)進(jìn)行篩選的銅粉的平均粒度通常為40-50 μ m。焙燒所產(chǎn)生的氧化硼( )具有高電阻值,并且這會增加所形成的電極的電阻。因此,需要尋找一種使包含比銀更廉價(jià)的導(dǎo)電組分(例如銅粉等)的漿料在空氣中焙燒后仍能保持所形成電極的低電阻的技術(shù)。發(fā)明概述本發(fā)明提供通過空氣焙燒形成的、并且具有低電阻的電極,雖然所包含的導(dǎo)電組分可能在空氣焙燒的過程中易于氧化。具有上述特征的電極可通過以下方法實(shí)現(xiàn),將包含硼粉的漿料配置成電極的頂層,所述電極包含作為導(dǎo)電組分的銅粉、另一種易于氧化的金屬或其合金。本發(fā)明公開了電極,所述電極包括包含導(dǎo)電組分的導(dǎo)電層和氧化保護(hù)層,所述導(dǎo)電組分選自銅、鎳、鐵、鈷、鈦、鉛、鋁、錫以及包含這些金屬中的一種作為其主要成分的合金;所述氧化保護(hù)層包含氧化硼,并且覆蓋導(dǎo)電層的頂部表面或覆蓋導(dǎo)電層的頂部表面和側(cè)面或覆蓋其上涂覆有導(dǎo)體漿料的任何和所有位置。此外,所述電極通過同時(shí)空氣焙燒所述導(dǎo)電層和所述氧化保護(hù)層而形成。本發(fā)明還為制造電極的方法,所述方法包括以下步驟
將包含導(dǎo)電組分的導(dǎo)體漿料以預(yù)定的圖案涂覆在基板上,所述導(dǎo)電組分選自銅、 鎳、鐵、鈷、鈦、鉛、鋁、錫以及包含這些金屬中的一種作為其主要成分的合金;干燥導(dǎo)體漿料;將包含硼粉的硼漿料涂覆在干燥導(dǎo)體漿料的頂部;干燥硼漿料; 以及空氣焙燒導(dǎo)體漿料和硼漿料。此外,本發(fā)明為制造電極的方法,所述方法包括以下步驟將包含導(dǎo)電組分的感光導(dǎo)體漿料涂覆在基板上,所述導(dǎo)電組分選自銅、鎳、鐵、鈷、 鈦、鉛、鋁、錫以及包含這些金屬中的一種作為其主要成分的合金;以預(yù)定的圖案曝光涂覆的導(dǎo)體漿料;對曝光的導(dǎo)體漿料進(jìn)行顯影;將包含硼粉的硼漿料涂覆在顯影后的導(dǎo)體漿料的頂部;干燥硼漿料;以及空氣焙燒導(dǎo)體漿料和硼漿料。此外,本發(fā)明為制造電極的方法,所述方法包括以下步驟將包含導(dǎo)電組分的導(dǎo)體漿料涂覆在基板上,所述導(dǎo)電組分選自銅、鎳、鐵、鈷、鈦、鉛、鋁、錫以及包含這些金屬中的一種作為其主要成分的合金;干燥導(dǎo)體漿料;將包含硼粉的感光硼漿料涂覆在干燥導(dǎo)體漿料的頂部;以預(yù)定的圖案曝光涂覆的感光硼漿料;對導(dǎo)體漿料和曝光的硼漿料進(jìn)行顯影; 以及空氣焙燒導(dǎo)體漿料和硼漿料。本發(fā)明能夠使用廉價(jià)的導(dǎo)電組分,通過空氣焙燒形成低電阻的圖案。本發(fā)明將有助于降低生產(chǎn)電子器件的電極的成本。附圖簡述
圖1是本發(fā)明電極的第一實(shí)施方案的剖面示意圖;圖2是本發(fā)明電極的第二實(shí)施方案的剖面示意圖;圖3是本發(fā)明電極的第三實(shí)施方案的剖面圖;圖4是說明本發(fā)明制造方法的第一實(shí)施方案的剖面示意圖;圖5是說明對硼漿料的涂覆圖案作了調(diào)整的實(shí)施方案的剖面示意圖;圖6是說明對硼漿料的涂覆圖案作了調(diào)整的另一實(shí)施方案的剖面示意圖;圖7是說明本發(fā)明制造方法的第二實(shí)施方案的剖面示意圖;并且圖8是說明本發(fā)明制造方法的第三實(shí)施方案的剖面示意圖。發(fā)明詳述在本發(fā)明的電極中,焙燒前,至少導(dǎo)體漿料表面的頂部被包含硼粉的硼漿料涂覆, 所述導(dǎo)體漿料包含易氧化的導(dǎo)電組分,例如銅。因此,即使在空氣中進(jìn)行焙燒,銅的氧化也會被硼漿料抑制,并形成低電阻的電極。形成的電極成為層壓體,所述層壓體包括導(dǎo)電層和氧化保護(hù)層,所述導(dǎo)電層包含導(dǎo)電組分,例如銅、鎳等,并且所述氧化保護(hù)層包含覆蓋導(dǎo)電層頂部表面的氧化硼。下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的電極進(jìn)行描述。圖1是本發(fā)明電極的第一實(shí)施方案的剖面示意圖。包含導(dǎo)電組分的導(dǎo)電層20形成于基板10的頂部。包含氧化硼的氧化保護(hù)層30位于導(dǎo)電層20的頂部。形成氧化保護(hù)層30的漿料包含硼,在焙燒步驟后,氧化保護(hù)層30包含氧化硼。在圖1中,只有導(dǎo)電層20的頂部表面覆蓋有氧化保護(hù)層30,并且其側(cè)面是裸露的。因此,在焙燒期間包含于導(dǎo)電層 20中的導(dǎo)電組分的氧化會在導(dǎo)電層側(cè)面進(jìn)行。然而,因?yàn)檎急砻鎱^(qū)域大部分的頂部表面受到氧化保護(hù)層30的保護(hù),所以由于其中導(dǎo)電組分氧化而造成的電極電阻增加得以控制??赏ㄟ^用氧化保護(hù)層覆蓋側(cè)面來抑制導(dǎo)電層側(cè)面處導(dǎo)電組分的氧化。圖2是本發(fā)明電極的第二實(shí)施方案的剖面示意圖。如圖2的電極所示,還通過覆蓋這些側(cè)面來抑制導(dǎo)電層側(cè)面處導(dǎo)電組分的氧化,這使得電極的電阻減小程度更大。下文詳細(xì)描述了用氧化保護(hù)層覆蓋導(dǎo)電層側(cè)面的方法,但是以寬于導(dǎo)電層圖案的寬度涂覆硼漿料的模式僅被視為一個實(shí)例。涂覆的硼漿料圖案比導(dǎo)電層20的圖案要寬。 延伸出導(dǎo)電層20的部分由于重力會下垂向基板10。因此,形成其中導(dǎo)電層20的側(cè)面被氧化保護(hù)層30覆蓋的電極。為了便于說明,在圖2中,導(dǎo)電層20的頂部表面上形成的氧化保護(hù)層30的厚度被描述為與在導(dǎo)電層20的側(cè)面上形成的氧化保護(hù)層30的厚度相同,但是以上述方式保護(hù)側(cè)面時(shí),側(cè)面的氧化保護(hù)層通常比頂部的薄。如果下垂?jié){料的量很大,則隨著漿料接近基板,在側(cè)面上形成的氧化保護(hù)層變得越來越厚。另一方面,如果下垂?jié){料的量很小,則隨著漿料接近基板,氧化保護(hù)層變得越來越薄。側(cè)面處導(dǎo)電組分的氧化在這兩種情況下都受到抑制。圖3中示出的模式可被視為用氧化保護(hù)層覆蓋導(dǎo)電層側(cè)面的另一方法。圖3是本發(fā)明電極的第三實(shí)施方案的剖面示意圖。在圖3中形成氧化保護(hù)層30以便其覆蓋在基板10上形成的整個導(dǎo)電層20。換句話說,不是形成與導(dǎo)電層20的圖案相匹配的氧化保護(hù)層,而是形成了具有與基板尺寸匹配的尺寸的氧化保護(hù)層。當(dāng)氧化保護(hù)層以這種方式涂覆時(shí),可很好地抑制導(dǎo)電層的導(dǎo)電組分的氧化,并且因?yàn)椴槐嘏c導(dǎo)電層的圖案對齊,氧化保護(hù)層很容易形成。然而,應(yīng)當(dāng)指出的是,用于該氧化保護(hù)層的硼漿料原材料的量大于圖2的情況。下文將說明制造本發(fā)明的電極的方法。在制造方法的第一實(shí)施方案中,導(dǎo)體漿料和硼漿料都不是感光的。在制造方法的第二實(shí)施方案中,導(dǎo)體漿料是感光的,而硼漿料不是感光的。在制造方法的第三實(shí)施方案中,硼漿料是感光的。在第三實(shí)施方案中,導(dǎo)體漿料可以是感光的或非感光的。首先描述導(dǎo)體漿料的導(dǎo)電組分、硼漿料的硼粉、玻璃料、溶劑、有機(jī)聚合物基料、光聚合單體和光聚合引發(fā)劑,然后完整說明每種制造方法。⑴導(dǎo)電組分銅、鎳、鐵、鈷、鈦、鉛、鋁、錫以及包含這些金屬中的一種作為其主要成分的合金都可視為導(dǎo)電組分。在本文中,“主要成分,,是指按重量計(jì)占40 %或更多的組分,并且是合金中具有最高含量比的組分。其兩種或更多種類型可組合使用。此類合金的具體實(shí)例包括其中主要成分為錫的合金,例如Sn-Cu-Ag合金,其中主要成分為銅的合金,例如Cu-Sn-Ni-P合金,其中主要成分為鋁的合金,例如Al-Si合金,以及其中主要成分為鉛的合金,例如I^b-Sn合金。添加導(dǎo)電組分以提供導(dǎo)電性。其平均直徑為,但不限于,優(yōu)選地小于30 μ m,更優(yōu)選地小于20 μ m,甚至更優(yōu)選地小于10 μ m。對于直徑的下限并無具體限制;然而,從材料成本的角度考慮,優(yōu)選平均直徑大于0. 1 μ m的導(dǎo)電組分。通過采用激光衍射散射法測量粒徑分布來獲得平均直徑,并且可將平均直徑定義為D50。因此,Microtrac X-100型是可商購獲得的儀器的實(shí)例。使用細(xì)粒度的導(dǎo)電組分可形成低電阻的電極。使用細(xì)的導(dǎo)電組分存在一個問題, 因?yàn)檫M(jìn)行空氣焙燒時(shí)會發(fā)生氧化,從而造成電極的電阻增大。在本發(fā)明中,通過使用細(xì)的導(dǎo)電組分來減小電極電阻。導(dǎo)電組分的形式無具體限制。可以為球形或片狀。但是在感光漿料中,優(yōu)選球形。除了上述導(dǎo)電組分之外,感光漿料中還可包含其它金屬,但是從降低原材料成本的角度考慮,優(yōu)選地使用較低含量的貴金屬,例如銀、金或鈀。具體地講,貴金屬的總量優(yōu)選地小于30重量%,更優(yōu)選地小于15重量%,還更優(yōu)選地小于5重量%,甚至更優(yōu)選地小于 1重量%,并且最優(yōu)選地,其中基本上不包含貴金屬。本文中術(shù)語“基本上不包含”是這樣一個概念包括非有意地將貴金屬作為雜質(zhì)包含在其中的情況。(II)硼粉硼粉用于在焙燒期間抑制導(dǎo)電組分的氧化。導(dǎo)電組分的氧化造成的電極電阻的增加可通過向漿料中添加硼粉來抑制。平均粒徑優(yōu)選地小于3 μ m,更優(yōu)選地為2 μ m。通過采用激光衍射散射法測量粒徑分布來獲得平均直徑,并且可將平均直徑定義為D50。由此,Microtrac X-100型是可商購獲得的儀器的實(shí)例。對于直徑的下限并無具體限制;然而,從材料成本的角度考慮,優(yōu)選平均直徑大于0.1 μπι的硼粉。形成薄電極時(shí),使用小粒度的硼粉是有效的。形成薄膜厚度為1_4μπι的薄電極時(shí),使用大粒度的硼粉將在顯影時(shí)降低薄膜的外觀質(zhì)量。使用上述規(guī)定的小粒度的硼粉可以很好地保持電極的外觀。(III)玻璃料利用基板(例如用于PDP后片的玻璃基板),玻璃料可增加組合物的密封特性。玻璃料的類型包括基于鉍的玻璃料、基于硼酸的玻璃料、基于磷的玻璃料、基于鋅和硼的玻璃料,以及基于鉛的玻璃料??紤]到對環(huán)境的影響,優(yōu)選使用不含鉛的玻璃料。玻璃料可通過本領(lǐng)域熟知的方法來制備。例如,玻璃組分可以這樣制備混合和熔融諸如氧化物、氫氧化物、碳酸鹽等原材料,通過驟冷將其形成碎玻璃,然后進(jìn)行機(jī)械粉碎 (濕研磨或干研磨)。然后,如果需要,則對所需粒度進(jìn)行分選。玻璃料的軟化點(diǎn)通常為325-700 °C,優(yōu)選地為350-650 °C,并且更優(yōu)選為 550-600°C。如果在低于325°C的溫度下發(fā)生熔化,則有機(jī)物質(zhì)將容易被包層,并且隨后有機(jī)物質(zhì)的降解將使?jié){料中產(chǎn)生氣泡。另一方面,超過700°C的軟化點(diǎn)將會減弱漿料的粘附性并且會損害玻璃基板。玻璃料的比表面積優(yōu)選地不超過10m2/g。平均直徑通常為0. 1-10 μ m。優(yōu)選地, 至少90重量%的玻璃料的粒徑為0. 4-10 μ m。下面將描述感光漿料的有機(jī)組分。光聚合引發(fā)劑、單體和有機(jī)載體都是典型的有機(jī)組分。通常,有機(jī)載體包含有機(jī)聚合物基料和溶劑。(IV)光聚合引發(fā)劑光聚合引發(fā)劑被用于光聚合所述光聚合型單體。光聚合引發(fā)劑優(yōu)選地在185°C或更低溫度下不會因受熱發(fā)生反應(yīng),但在曝光于紫外線時(shí)會產(chǎn)生自由基。光聚合引發(fā)劑的實(shí)例包括在共軛碳環(huán)體系中具有兩個分子內(nèi)環(huán)的化合物。此類化合物包括取代的或非取代的多核醌。在實(shí)踐中,醌的實(shí)例包括4-二甲氨基苯甲酸乙酯、二乙基硫雜蒽酮、9,10-蒽醌、
2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、八甲基蒽醌、1,4_萘醌、9,10_菲醌、苯并[a] 蒽-7,12- 二酮、2,3-并四苯-5,12- 二酮、2-甲基-1,4-萘醌、1,4- 二甲基蒽醌、2,3- 二甲基蒽醌、2-苯基蒽醌、2,3_ 二苯基蒽醌、惹醌、7,8,9,10-四氫萘-5,12-二酮和1,2,3,4-四氫苯并[a]蒽-7,12-二酮。其它可用的化合物包括美國專利2,760,863,2, 850,445,2, 875,047,3, 074,974、 3,097,097,3, 145,104,3, 427,161,3, 479,185,3, 549,367 以及 4,162,162 中提出的那些。(V)光聚合單體光聚合單體在本文中無具體限制。實(shí)例包括具有至少一個可聚合乙烯基的乙烯基類不飽和化合物。優(yōu)選地,感光漿料包含至少一種具有三個或更多個連接基團(tuán)的多點(diǎn)交聯(lián)單體。優(yōu)選單體的實(shí)例包括(甲基)丙烯酸叔丁酯、二(甲基)丙烯酸1,5-戊二醇酯、 (甲基)丙烯酸N,N-二甲氨乙酯、二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,4_ 丁二醇酯、二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸己二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,
3-丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸癸二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,4_環(huán)己二醇酯、2,2_二甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸甘油酯、二(甲基)丙烯酸三丙二醇酯、三 (甲基)丙烯酸甘油酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯,美國專利3,380,381中公開的化合物、2,2-二(對羥苯基)_丙烷二(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、五丙烯酸二戊赤蘚醇酯、四丙烯酸二季戊四醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、聚氧乙基-1,2- 二 -(對羥乙基)丙烷二甲基丙烯酸酯、雙酚-A 二 -[3-(甲基)丙烯酰氧基-2-羥丙基]醚、雙酚-A 二-[2-(甲基)丙烯酰乙氧基]醚、1,4_ 丁二醇二-(3-甲基丙烯酰氧基-2-羥丙基)醚、二甲基丙烯酸三甘醇酯、聚氧丙基三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸丁二醇酯、三(甲基)丙烯酸1,2,4_ 丁二醇酯、二(甲基) 丙烯酸2,2,4_三甲基-1,3-戊二醇酯、1-苯乙烯-1,2-二甲基丙烯酸酯、富馬酸二烯丙酯、 苯乙烯、二甲基丙烯酸1,4_苯二酚酯、1,4_ 二異丙烯基苯和1,3,5_三異丙烯基苯。本文中,(甲基)丙烯酸酯代表丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。(VI)有機(jī)聚合物基料使用有機(jī)基料來使例如導(dǎo)電粉、硼粉以及玻璃料等組分分散到組合物中。通過已知方法采用絲網(wǎng)印刷或相關(guān)技術(shù)將導(dǎo)電漿料涂覆在基板上后,有機(jī)聚合物基料被用于改善涂層特性和涂層薄膜的穩(wěn)定性。通過燒結(jié)感光漿料形成電極之后,移除有機(jī)聚合物基料。有機(jī)基料在本文中無具體限制,只要其能溶解于所需溶劑中并提供優(yōu)選的粘度。 實(shí)例包括纖維素衍生物,例如乙基纖維素、乙酰纖維素;聚丙烯酸酯;聚甲基丙烯酸酯;聚苯乙烯;乙烯基聚合物,例如聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇縮丁醛等;聚氨酯;聚酯;聚醚;聚碳酸酯;以及它們的共聚物。當(dāng)用顯影溶液(例如水或堿性溶液)形成線條時(shí),優(yōu)選的是選擇可擴(kuò)散并溶解于顯影劑的基料聚合物。例如,當(dāng)水和堿性溶液被用于顯影過程時(shí),可使用羥丙基纖維素以及側(cè)鏈具有羧基的基料聚合物,如甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸的共聚物。使用水性顯影液使涂覆并干燥的感光漿料顯影并形成圖案時(shí),就水性顯影液的顯影性能而言,優(yōu)選使用具有高分辨率的有機(jī)聚合物基料。可滿足此條件的有機(jī)聚合物基料的實(shí)例包括含有非酸性共聚單體或酸性共聚單體的那些有機(jī)聚合物基料。共聚物或共聚體 (混合聚合物)也是優(yōu)選的。有機(jī)聚合物基料的其它實(shí)例為丙烯酸類聚合物基料或美國專利公布2007/0001607所示的其它聚合物基料。(VI)溶劑使用有機(jī)溶劑的主要目的是允許組合物中包含的固體分散體容易地施涂到基板上。就這一點(diǎn)來說,首先,有機(jī)溶劑優(yōu)選的是那些允許固體分散的同時(shí)保持適當(dāng)穩(wěn)定性的有機(jī)溶劑。第二,有機(jī)溶劑的流變學(xué)特性優(yōu)選地賦予分散體良好的施用特性。有機(jī)溶劑可為單組分溶劑或有機(jī)溶劑的混合物。所選的有機(jī)溶劑優(yōu)選地是這樣的有機(jī)溶劑能夠完全溶解聚合物和其它有機(jī)組分。所選的有機(jī)溶劑優(yōu)選地是這樣的有機(jī)溶劑對組合物中的其它成分來說是惰性的。有機(jī)溶劑優(yōu)選地具有足夠高的揮發(fā)性,并且優(yōu)選地即使在溫度相對較低的空氣中施用時(shí),也可從分散體蒸發(fā)。優(yōu)選地,該溶劑不是如此易揮發(fā)以致于在印刷過程中篩網(wǎng)上的漿料在常溫下會過快干燥。常壓下有機(jī)溶劑的沸點(diǎn)優(yōu)選不超過300°C,更優(yōu)選不超過250°C。有機(jī)溶劑的具體實(shí)例包括脂族醇以及這些醇的酯,例如乙酸酯或丙酸酯;萜烯, 例如松脂、α -或β -萜品醇,或它們的混合物;乙二醇或乙二醇的酯,例如乙二醇單丁醚或丁基溶纖劑醋酸酯;丁基卡必醇或丁基卡必醇的酯,例如丁基卡必醇醋酸酯和卡必醇醋酸酯;以及酯醇"12 (2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇單異丁酸酯)。(VII)其它成分感光漿料中還可以存在本領(lǐng)域的技術(shù)人員已知的其它成分,例如分散劑、穩(wěn)定劑如TAOBN(1,4,4-三甲基-2,3- 二氮雜二環(huán)[3. 2. 2]-2-壬烯-N,N- 二氧化物),以及丙二酸、增塑劑、脫模劑、剝色劑、分散劑、消泡劑(如硅油)和濕潤劑。適當(dāng)成分可基于常規(guī)技術(shù)選擇。為了配制感光漿料,可能需要通過使用有機(jī)成分和溶劑(根據(jù)需要)來配制每種成分的載體,然后將其與導(dǎo)電粉末和玻璃料混合。之后,通過使用混砂機(jī)(例如,輾輪式混砂機(jī)、攪拌器、均質(zhì)攪拌機(jī)、球磨機(jī)和砂磨機(jī))將所得到的混合物攪拌,從而獲得感光漿料。根據(jù)每種組分能否賦予漿料感光性,以及能否賦予漿料導(dǎo)電性來調(diào)整每種組分的含量。表1根據(jù)漿料類型匯總了每種組分的常規(guī)含量。每個數(shù)值以相對于漿料總量的重量比(重量%)表示。符號“χ-χ> Υ-Υ”意指相對于寬范圍的“Χ-Χ”,窄范圍的“Υ-Υ”是優(yōu)選的。在表中,硼不是導(dǎo)體漿料的基本組分,而且導(dǎo)電粉末不是硼漿料的基本組分。然而,為了改善膜的光澤度,調(diào)整感光速度、漿料的粘度、以及可印刷性,特定量組分可在一定范圍內(nèi)混合,使得電阻特性不會因此受到不利影響。此外,引發(fā)劑和單體對于非感光漿料通常不是必需的,但可添加適量的引發(fā)劑和單體以賦予膜柔韌性,從而有利于全方位圖像曝光、表面固化和涂覆后的處理,以及在涂覆后使單體和增塑劑分散于另一層等?!副?Il
權(quán)利要求
1.電極,包括導(dǎo)電層,所述導(dǎo)電層包含導(dǎo)電組分,所述導(dǎo)電組分選自銅、鎳、鐵、鈷、鈦、鉛、鋁、錫以及包含這些金屬中的一種作為其主要成分的合金;和氧化保護(hù)層,所述氧化保護(hù)層包含氧化硼并覆蓋所述導(dǎo)電層的頂部表面或覆蓋所述導(dǎo)電層的頂部和側(cè)面或覆蓋所述導(dǎo)電層的已形成了所述導(dǎo)電層的所有位置; 所述電極通過同時(shí)空氣焙燒所述導(dǎo)電層和所述氧化保護(hù)層而形成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的電極,其中所述氧化保護(hù)層既覆蓋所述導(dǎo)電層的頂部表面也覆蓋所述導(dǎo)電層的側(cè)面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的電極,其中所述氧化保護(hù)層覆蓋已形成了所述導(dǎo)電層的所有位置。
4.制造電極的方法,包括以下步驟將包含導(dǎo)電組分的導(dǎo)體漿料以預(yù)定的圖案涂覆在基板上,所述導(dǎo)電組分選自銅、鎳、 鐵、鈷、鈦、鉛、鋁、錫以及包含這些金屬中的一種作為其主要成分的合金; 干燥所述導(dǎo)體漿料;將包含硼粉的硼漿料涂覆在所述干燥導(dǎo)體漿料的頂部;干燥所述硼漿料;以及空氣焙燒所述導(dǎo)體漿料和所述硼漿料。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的制造電極的方法,其中所述硼漿料以與所述導(dǎo)體漿料的涂覆圖案相同的涂覆圖案涂覆。
6.根據(jù)權(quán)利要求4的制造電極的方法,其中所述硼漿料以比所述導(dǎo)體漿料的涂覆圖案更寬的涂覆圖案涂覆,并且部分所述涂覆硼漿料覆蓋所述導(dǎo)體漿料的側(cè)面。
7.根據(jù)權(quán)利要求4的制造電極的方法,其中涂覆所述硼漿料以覆蓋已涂覆有所述導(dǎo)體漿料的所有位置。
8.制造電極的方法,包括以下步驟將包含導(dǎo)電組分的感光導(dǎo)體漿料涂覆在基板上,所述導(dǎo)電組分選自銅、鎳、鐵、鈷、鈦、 鉛、鋁、錫以及包含這些金屬中的一種作為其主要成分的合金; 以預(yù)定的圖案曝光所述涂覆的導(dǎo)體漿料; 對所述曝光的導(dǎo)體漿料進(jìn)行顯影;將包含硼粉的硼漿料涂覆在所述顯影后的導(dǎo)體漿料的頂部;干燥所述硼漿料;以及空氣焙燒所述導(dǎo)體漿料和硼漿料。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的制造電極的方法,其中所述硼漿料以與所述導(dǎo)體漿料的涂覆圖案相同的涂覆圖案涂覆。
10.根據(jù)權(quán)利要求8的制造電極的方法,其中所述硼漿料以比所述導(dǎo)體漿料的涂覆圖案更寬的涂覆圖案涂覆,并且部分所述涂覆的硼漿料覆蓋所述導(dǎo)體漿料的側(cè)面。
11.根據(jù)權(quán)利要求8的制造電極的方法,其中涂覆所述硼漿料以覆蓋已涂覆有所述導(dǎo)體漿料的所有位置。
12.制造電極的方法,包括以下步驟將包含導(dǎo)電組分的導(dǎo)體漿料涂覆在基板上,所述導(dǎo)電組分選自銅、鎳、鐵、鈷、鈦、鉛、鋁、錫以及包含這些金屬中的一種作為其主要成分的合金; 干燥所述涂覆的導(dǎo)體漿料;將包含硼粉的感光硼漿料涂覆在所述干燥導(dǎo)體漿料的頂部; 以預(yù)定的圖案曝光所述涂覆的感光硼漿料; 對所述導(dǎo)體漿料和曝光的硼漿料進(jìn)行顯影;以及空氣焙燒所述導(dǎo)體漿料和所述硼漿料。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種電極,所述電極包括包含導(dǎo)電組分的導(dǎo)電層以及包含氧化硼的氧化保護(hù)層,所述導(dǎo)電組分選自銅、鎳、鐵、鈷、鈦、鉛、鋁、錫以及包含這些金屬中的一種作為其主要成分的合金,所述氧化保護(hù)層覆蓋所述導(dǎo)電層的頂部表面或既覆蓋所述導(dǎo)電層的頂部表面也覆蓋所述導(dǎo)電層的側(cè)面或覆蓋已形成了所述導(dǎo)電層的所有位置;所述電極通過同時(shí)空氣焙燒所述導(dǎo)電層和所述氧化保護(hù)層而形成。
文檔編號G03F7/004GK102549495SQ201080042952
公開日2012年7月4日 申請日期2010年10月6日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月9日
發(fā)明者黑木正勝 申請人:E.I.內(nèi)穆爾杜邦公司