專利名稱：曝光裝置及裝置制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明關(guān)于一種曝光裝置及裝置制造方法，更詳細(xì)而言，關(guān)于經(jīng)由光學(xué)系統(tǒng)而通過(guò)能量光束曝光物體的曝光裝置，及使用該曝光裝置的裝置制造方法。
背景技術(shù)：
先前制造半導(dǎo)體組件(集成電路等)、液晶顯示組件等的電子裝置(微型裝置)的微影工藝，主要使用步進(jìn)及反復(fù)方式的投影曝光裝置(亦即步進(jìn)機(jī))，或是步進(jìn)及掃描方式的投影曝光裝置(亦即掃描步進(jìn)機(jī)(亦稱為掃描儀))等。此種投影曝光裝置具有保持晶圓或玻璃板等基板(以下統(tǒng)稱為晶圓)，并將該晶圓沿著指定的二維平面內(nèi)驅(qū)動(dòng)的載臺(tái)裝置。載臺(tái)裝置為了進(jìn)行精確曝光，而要求精確控制載臺(tái)的位置，此外，為了提高曝光動(dòng)作的通量，而要求載臺(tái)的高速且高加速度化。響應(yīng)于此要求，近年來(lái)開(kāi)發(fā)出使用電磁力驅(qū)動(dòng)方式的平面馬達(dá)，控制晶圓在二維平面內(nèi)的位置的載臺(tái)裝置(例如參照專利文獻(xiàn)1)。此外，例如在專利文獻(xiàn)2的第五種實(shí)施形態(tài)中揭示有在形成于平臺(tái)上面的凹部?jī)?nèi)布置編碼器頭的曝光裝置。記載于專利文獻(xiàn)2的曝光裝置，通過(guò)對(duì)布置于晶圓載臺(tái)的二維光柵，從正下方入射測(cè)量光束，而精確測(cè)量晶圓載臺(tái)的位置信息。但是對(duì)揭示于專利文獻(xiàn)2的第五種實(shí)施形態(tài)的在平臺(tái)內(nèi)布置編碼器頭的曝光裝置，適用揭示于專利文獻(xiàn)1的晶圓載臺(tái)具有動(dòng)子并且平臺(tái)具有定子的平面馬達(dá)時(shí)，在驅(qū)動(dòng)晶圓載臺(tái)時(shí)，可能因作用于平臺(tái)的反作用力造成編碼器系統(tǒng)的測(cè)量精度降低。先前技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1美國(guó)專利第6，437，463號(hào)說(shuō)明書(shū)專利文獻(xiàn)2美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2008/0094594號(hào)說(shuō)明書(shū)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明第一實(shí)施例提供第一曝光裝置，其經(jīng)由被第一支撐構(gòu)件所支撐的光學(xué)系統(tǒng)，而通過(guò)能量光束將物體曝光，且具備移動(dòng)體，其保持前述物體，并可沿著指定的二維平面移動(dòng)；引導(dǎo)面形成構(gòu)件，其形成前述移動(dòng)體沿著前述二維平面移動(dòng)時(shí)的引導(dǎo)面；第一驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其驅(qū)動(dòng)前述移動(dòng)體；第二支撐構(gòu)件，其經(jīng)由前述引導(dǎo)面形成構(gòu)件，從前述引導(dǎo)面形成構(gòu)件離開(kāi)而布置于與前述光學(xué)系統(tǒng)相反的一側(cè)，并固定于前述第一支撐構(gòu)件；及測(cè)量系統(tǒng)，其包括第一測(cè)量構(gòu)件，前述第一測(cè)量構(gòu)件用測(cè)量光束照射與前述二維平面平行的測(cè)量面，并接收來(lái)自前述測(cè)量面的光，并且前述測(cè)量系統(tǒng)依據(jù)該第一測(cè)量構(gòu)件的輸出獲得前述移動(dòng)體至少在前述二維平面內(nèi)的位置信息，前述測(cè)量面設(shè)于前述移動(dòng)體與前述第二支撐構(gòu)件中的一個(gè)處，前述第一測(cè)量構(gòu)件的至少一部分設(shè)于前述移動(dòng)體與前述第二支撐構(gòu)件的另一個(gè)處。根據(jù)該裝置，測(cè)量系統(tǒng)包括第一測(cè)量構(gòu)件，前述第一測(cè)量構(gòu)件的至少一部分設(shè)于
5前述移動(dòng)體與前述第二支撐構(gòu)件的另一個(gè)處。前述第一測(cè)量構(gòu)件用測(cè)量光束照射在設(shè)于移動(dòng)體與第二支撐構(gòu)件中的一個(gè)處的測(cè)量面上，并接收來(lái)自前述測(cè)量面的光，并且前述測(cè)量系統(tǒng)依據(jù)前述第一測(cè)量構(gòu)件的輸出獲得前述移動(dòng)體至少在前述二維平面內(nèi)的位置信息。此夕卜，其上設(shè)有第一測(cè)量構(gòu)件的至少一部分或測(cè)量面的第二支撐構(gòu)件被固定于支撐光學(xué)系統(tǒng)的第一支撐構(gòu)件。因而可抑制移動(dòng)體周邊環(huán)境氣體變動(dòng)等的影響，而通過(guò)測(cè)量系統(tǒng)并以光學(xué)系統(tǒng)的位置作為基準(zhǔn)而精確測(cè)量移動(dòng)體的位置信息。再者，由于經(jīng)由引導(dǎo)面形成構(gòu)件而在與光學(xué)系統(tǒng)相反的一側(cè)，從引導(dǎo)面形成構(gòu)件離開(kāi)而布置第二支撐構(gòu)件，因此不致因移動(dòng)體的驅(qū)動(dòng)力的反作用力而降低測(cè)量精度。在這種情況下，所謂引導(dǎo)面，是指在與移動(dòng)體的前述二維平面正交的方向引導(dǎo)移動(dòng)體，可為接觸型，亦可為非接觸型。例如非接觸型的引導(dǎo)方式，包括使用氣墊等氣體靜壓軸承的結(jié)構(gòu)，或使用磁浮的結(jié)構(gòu)等。此外，并非限定于按照引導(dǎo)面的形狀而引導(dǎo)移動(dòng)體。例如使用前述的氣墊等的氣體靜壓軸承的結(jié)構(gòu)是引導(dǎo)面形成構(gòu)件的與移動(dòng)體相對(duì)的面被加工成良好平面度，移動(dòng)體按照其相對(duì)面的形狀經(jīng)由指定的間隙被非接觸式引導(dǎo)。另外，將使用電磁力的馬達(dá)等的一部分布置于引導(dǎo)面形成構(gòu)件，并也在移動(dòng)體上布置其一部分，兩者互相配合而產(chǎn)生作用于與前述二維平面正交的方向的力的結(jié)構(gòu)，通過(guò)該力在指定的二維平面上控制移動(dòng)體的位置。例如亦包括以下的結(jié)構(gòu)在引導(dǎo)面形成構(gòu)件上設(shè)置平面馬達(dá)，而在移動(dòng)體上產(chǎn)生包括在二維平面內(nèi)正交的兩個(gè)方向及與二維平面正交的方向的方向上的力， 并且不設(shè)置前述氣體靜壓軸承，而使移動(dòng)體非接觸浮起。本發(fā)明第二實(shí)施例提供第二曝光裝置，其經(jīng)由被第一支撐構(gòu)件所支撐的光學(xué)系統(tǒng)，而通過(guò)能量光束將物體曝光，且具備移動(dòng)體，其保持前述物體，并可沿著指定的二維平面移動(dòng)；第二支撐構(gòu)件，其固定于前述第一支撐構(gòu)件；第一驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其驅(qū)動(dòng)前述移動(dòng)體； 移動(dòng)體支撐構(gòu)件，其布置于前述光學(xué)系統(tǒng)與前述第二支撐構(gòu)件之間以從該第二支撐構(gòu)件離開(kāi)，前述移動(dòng)體沿著前述二維平面移動(dòng)時(shí)，前述移動(dòng)體支撐構(gòu)件在該移動(dòng)體的與前述第二支撐構(gòu)件的長(zhǎng)度方向正交的方向上的至少兩點(diǎn)支撐前述移動(dòng)體；及測(cè)量系統(tǒng)，其包括第一測(cè)量構(gòu)件，前述第一測(cè)量構(gòu)件用測(cè)量光束照射與前述二維平面平行的測(cè)量面，并接收來(lái)自前述測(cè)量面的光，并且前述測(cè)量系統(tǒng)依據(jù)該第一測(cè)量構(gòu)件的輸出獲得前述移動(dòng)體至少在前述二維平面內(nèi)的位置信息，前述測(cè)量面設(shè)于前述移動(dòng)體與前述第二支撐構(gòu)件中的一個(gè)處， 前述第一測(cè)量構(gòu)件的至少一部分設(shè)于前述移動(dòng)體與前述第二支撐構(gòu)件的另一個(gè)處。根據(jù)該裝置，測(cè)量系統(tǒng)包括第一測(cè)量構(gòu)件，前述第一測(cè)量構(gòu)件的至少一部分設(shè)于前述移動(dòng)體與前述第二支撐構(gòu)件的另一個(gè)處。前述第一測(cè)量構(gòu)件用測(cè)量光束照射在設(shè)于移動(dòng)體與第二支撐構(gòu)件中的一個(gè)處的測(cè)量面上，并接收來(lái)自前述測(cè)量面的光，并且前述測(cè)量系統(tǒng)依據(jù)前述第一測(cè)量構(gòu)件的輸出獲得前述移動(dòng)體至少在前述二維平面內(nèi)的位置信息。此夕卜，其上設(shè)有第一測(cè)量構(gòu)件的至少一部分或測(cè)量面的第二支撐構(gòu)件被固定于支撐光學(xué)系統(tǒng)的第一支撐構(gòu)件。因而可抑制移動(dòng)體周邊環(huán)境氣體變動(dòng)等的影響，而通過(guò)測(cè)量系統(tǒng)并以光學(xué)系統(tǒng)的位置作為基準(zhǔn)而精確測(cè)量移動(dòng)體的位置信息。再者，由于第二支撐構(gòu)件從移動(dòng)體支撐構(gòu)件離開(kāi)而布置于與移動(dòng)體支撐構(gòu)件的光學(xué)系統(tǒng)相反的一側(cè)，因此不致因移動(dòng)體的驅(qū)動(dòng)力的反作用力而降低測(cè)量精度。在這種情況下，所謂移動(dòng)體支撐構(gòu)件在該移動(dòng)體與前述第二支撐構(gòu)件的長(zhǎng)度方向正交的方向上的至少兩點(diǎn)支撐移動(dòng)體，是指在與第二支撐構(gòu)件的長(zhǎng)度方向正交的方向上，例如僅兩端部、兩端部與其間的一部分、除了中央部與兩端部的與第二支撐構(gòu)件的長(zhǎng)度方向正交的方向的部分、包括兩端部且與第二支撐構(gòu)件的長(zhǎng)度方向正交的方向的全部等，而在對(duì)二維平面正交的方向上支撐移動(dòng)體。在這種情況下，支撐的方法除了接觸支撐外，還廣泛包括經(jīng)由氣墊等氣體靜壓軸承支撐的情況，或是磁浮等非接觸支撐。本發(fā)明第三實(shí)施例提供一種裝置制造方法，其包括使用本發(fā)明第一、第二曝光裝置的任何一個(gè)將物體曝光；及將前述曝光的物體顯影。


第一圖是概略顯示一種實(shí)施例的曝光裝置的結(jié)構(gòu)圖。第二圖是第一圖的曝光裝置的平面圖。第三圖是從+Y側(cè)觀察第一圖的曝光裝置的側(cè)視圖。第四(A)圖是曝光裝置具備的晶圓載臺(tái)WSTl的平面圖，第四(B)圖是沿第四(A) 圖的B-B線剖面的端視圖，第四(C)圖是沿第四㈧圖的C-C線剖面的端視圖。第五圖是顯示微動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。第六圖是用于說(shuō)明第一圖的曝光裝置具備的主控制裝置的輸入輸出關(guān)系的框圖。第七圖是顯示對(duì)放置于晶圓載臺(tái)WSTl上的晶圓進(jìn)行曝光，在晶圓載臺(tái)WST2上進(jìn)行晶圓更換的狀態(tài)圖。第八圖是顯示對(duì)放置于晶圓載臺(tái)WSTl上的晶圓進(jìn)行曝光，而對(duì)放置于晶圓載臺(tái) WST2上的晶圓進(jìn)行晶圓對(duì)準(zhǔn)的狀態(tài)圖。第九圖是顯示晶圓載臺(tái)WST2在平臺(tái)14B上向右側(cè)急停位置移動(dòng)的狀態(tài)圖。第十圖是顯示晶圓載臺(tái)WSTl與晶圓載臺(tái)WST2向急停位置的移動(dòng)結(jié)束的狀態(tài)圖。第—^一圖是顯示對(duì)放置于晶圓載臺(tái)WST2上的晶圓進(jìn)行曝光，在晶圓載臺(tái)WSTl上進(jìn)行晶圓更換的狀態(tài)圖。第十二(A)圖是顯示變形例的晶圓載臺(tái)的平面圖，第十二(B)圖是沿第十二(A) 圖的B-B線剖面圖。
具體實(shí)施例以下，依據(jù)第一圖至第十一圖說(shuō)明本發(fā)明一種實(shí)施例。第一圖概略顯示一種實(shí)施例的曝光裝置100的結(jié)構(gòu)。曝光裝置100是步進(jìn)及掃描方式的投影曝光裝置，亦即掃描儀。如后述，本實(shí)施例設(shè)有投影光學(xué)系統(tǒng)PL，以下將與該投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX平行的方向作為Z軸方向，在與其正交的平面內(nèi)，將相對(duì)掃描標(biāo)線片與晶圓的方向作為Y軸方向，將與Z軸及Y軸正交的方向作為X軸方向，并將X軸、Y軸及Z軸周圍的旋轉(zhuǎn)(傾斜)方向分別作為ΘΧ、ΘΥ及θ ζ方向，來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。如第一圖所示，曝光裝置100具備布置于底座12上的+Y側(cè)端部附近的曝光站(曝光處理區(qū)域)200、布置于底座12上的-Y側(cè)端部附近的測(cè)量站(測(cè)量處理區(qū)域)300、包括兩個(gè)晶圓載臺(tái)WST1、WST2的載臺(tái)裝置50及它們的控制系統(tǒng)等。第一圖中，在曝光站200中設(shè)有晶圓載臺(tái)WST1，并在晶圓載臺(tái)WSTl上保持晶圓W。此外，在測(cè)量站300中設(shè)有晶圓載臺(tái)WST2，并在晶圓載臺(tái)WST2上保持另外的晶圓W。曝光站200具備照明系統(tǒng)10、標(biāo)線片載臺(tái)RST、投影單元PU及局部浸液裝置8等。頁(yè)例如在美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2003/0025890號(hào)說(shuō)明書(shū)等所揭示，照明系統(tǒng)10包括光源、包括光學(xué)積分器等的照度均勻化光學(xué)系統(tǒng)、及具有標(biāo)線片遮簾等(均無(wú)圖標(biāo))的照明光學(xué)系統(tǒng)。照明系統(tǒng)10將標(biāo)線片遮簾(亦稱為屏蔽系統(tǒng))所規(guī)定的標(biāo)線片R上的縫隙狀照明區(qū)域IAR，通過(guò)照明光(曝光的光)IL以大致均勻的照度照明。照明光IL例如使用氟化氬(ArF)準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)193nm)。在標(biāo)線片載臺(tái)RST上，例如通過(guò)真空吸附固定在其圖案面(第一圖中的下面)形成有電路圖案等的標(biāo)線片R。標(biāo)線片載臺(tái)RST例如通過(guò)包括線性馬達(dá)等的標(biāo)線片載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)11 (第一圖中無(wú)圖示，參照第六圖)，可在掃描方向(第一圖中紙面內(nèi)左右方向的Y軸方向)以指定的行程及指定的掃描速度而驅(qū)動(dòng)，并且亦可在X軸方向微小驅(qū)動(dòng)。通過(guò)標(biāo)線片雷射干涉儀(以下稱為「標(biāo)線片干涉儀」)13，并經(jīng)由固定于標(biāo)線片載臺(tái)RST的移動(dòng)鏡15 (實(shí)際上是設(shè)有具有正交于Y軸方向的反射面的Y移動(dòng)鏡(或是后向反射鏡)與具有正交于X軸方向的反射面的X移動(dòng)鏡)，例如以0. 25nm程度的分辨率隨時(shí)測(cè)量標(biāo)線片載臺(tái)RST在XY平面內(nèi)的位置信息(包括ΘΖ方向的旋轉(zhuǎn)信息)。標(biāo)線片干涉儀 13的測(cè)量值送至主控制裝置20(第一圖中無(wú)圖示，參照第六圖)。另外，例如國(guó)際公開(kāi)第 2007/083758號(hào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2007/(^88121號(hào)說(shuō)明書(shū))等所揭示，亦可通過(guò)編碼器系統(tǒng)測(cè)量標(biāo)線片載臺(tái)RST的位置信息。例如美國(guó)專利第5，646，413號(hào)說(shuō)明書(shū)等所詳細(xì)揭示，在標(biāo)線片載臺(tái)RST的上方布置了一對(duì)通過(guò)圖像處理方式的標(biāo)線片對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)RAl和RA2，其具有CXD等攝像組件，并將曝光波長(zhǎng)的光(本實(shí)施例中是照明光IL)作為對(duì)準(zhǔn)用照明光的(第一圖中，標(biāo)線片對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) RA2隱藏于標(biāo)線片對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)RAl的紙面背面?zhèn)?。在后述的測(cè)量板位于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的正下方的狀態(tài)下，主控制裝置20經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL檢測(cè)形成于標(biāo)線片R上的一對(duì)標(biāo)線片對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(省略圖示)和所述測(cè)量板上的一對(duì)第一基準(zhǔn)標(biāo)記的投影影像，其中，所述測(cè)量板在微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)上與上述標(biāo)線片對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)應(yīng)，該對(duì)標(biāo)線片對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)RAl和 RA2被用來(lái)檢測(cè)投影光學(xué)系統(tǒng)PL在標(biāo)線片R的圖案的投影區(qū)域中心與測(cè)量板上的基準(zhǔn)位置 (亦即該對(duì)第一基準(zhǔn)標(biāo)記的中心)之間的位置關(guān)系。標(biāo)線片對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)RAl和RA2的檢測(cè)信號(hào)經(jīng)由無(wú)圖標(biāo)的信號(hào)處理系統(tǒng)而供給至主控制裝置20 (參照第六圖)。另外，亦可不設(shè)標(biāo)線片對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)RAl和RA2。該情況下，例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2002/0041377號(hào)說(shuō)明書(shū)等所揭示，優(yōu)選地，在后述的微動(dòng)載臺(tái)上搭載設(shè)置光透過(guò)部(受光部)的檢測(cè)系統(tǒng)，而檢測(cè)標(biāo)線片對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的投影影像。投影單元PU布置于標(biāo)線片載臺(tái)RST的第一圖中的下方。投影單元PU經(jīng)由凸緣部 FLG而支撐，該凸緣部FLG通過(guò)無(wú)圖示的支撐構(gòu)件水平地支撐的主框架(亦稱為計(jì)量框架) BD而固定于投影單元PU的外周部。主框架BD亦可構(gòu)成通過(guò)在前述支撐構(gòu)件上設(shè)置防振裝置等，避免從外部傳導(dǎo)振動(dòng)，或是避免傳導(dǎo)振動(dòng)至外部。投影單元PU包括鏡筒40、及保持于鏡筒40內(nèi)的投影光學(xué)系統(tǒng)PL。投影光學(xué)系統(tǒng)PL例如使用由沿著與Z軸方向平行的光軸AX而排列的多個(gè)光學(xué)組件(透鏡組件)構(gòu)成的折射光學(xué)系統(tǒng)。投影光學(xué)系統(tǒng)PL例如為兩側(cè)遠(yuǎn)心的(telecentric)并具有指定的投影倍率(例如1/4倍、1/5倍或1/8倍等)。 因而，通過(guò)來(lái)自照明系統(tǒng)10的照明光IL照明標(biāo)線片R上的照明區(qū)域IAR時(shí)，照明光IL通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)PL的第一面(物體面)與圖案面大致一致而布置的標(biāo)線片R。而后，在與布置于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的第二面(影像面)側(cè)并在表面涂布抗蝕劑(感應(yīng)劑)的晶圓W
8上的前述照明區(qū)域IAR共軛的區(qū)域(以下亦稱為曝光區(qū)域)IA內(nèi)經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL(投影單元PU)形成在照明區(qū)域IAR內(nèi)的標(biāo)線片R的電路圖案的縮小影像(電路圖案的一部分的縮小影像)。而后，通過(guò)標(biāo)線片載臺(tái)RST與晶圓載臺(tái)WSTl (或WST2)的同步驅(qū)動(dòng)，使標(biāo)線片R在掃描方向(Y軸方向)上相對(duì)于照明區(qū)域IAR(照明光IL)移動(dòng)，并且使晶圓W在掃描方向(Y軸方向)上相對(duì)于曝光區(qū)域IA(照明光IL)移動(dòng)，進(jìn)行晶圓W上的一個(gè)照射區(qū)域 (劃分區(qū)域)的掃描曝光。因此，在照射區(qū)域上轉(zhuǎn)印標(biāo)線片R的圖案。亦即，本實(shí)施例通過(guò)照明系統(tǒng)10及投影光學(xué)系統(tǒng)PL，而在晶圓W上生成標(biāo)線片R的圖案，并通過(guò)照明光(曝光的光)IL將晶圓W上的感應(yīng)層(抗蝕層)曝光，而在晶圓W上形成其圖案。在這種情況下， 主框架BD保持投影單元PU，本實(shí)施例通過(guò)分別經(jīng)由防振機(jī)構(gòu)而布置于設(shè)置面(底板面等) 的多個(gè)(例如三個(gè)或四個(gè))支撐構(gòu)件而大致水平地支撐主框架BD。另外，防振機(jī)構(gòu)亦可布置于各支撐構(gòu)件與主框架BD之間。此外，例如國(guó)際公開(kāi)第2006/038952號(hào)公報(bào)所揭示，亦可由布置于投影單元PU上方的主框架構(gòu)件(未示出)或是標(biāo)線片基座等垂掛支撐主框架 BD (投影單元PU)。局部浸液裝置8包括液體供給裝置5、液體回收裝置6 (在第一圖中均無(wú)圖示，參照第六圖)及噴嘴單元32等。如第一圖所示，噴嘴單元32經(jīng)由未示出的支撐構(gòu)件，被支撐投影單元PU等的主框架BD以垂掛方式支撐，使得其包圍保持構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)PL的最靠近像面?zhèn)?晶圓W側(cè))的光學(xué)組件的鏡筒40的下端部周圍，在這種情況下，光學(xué)組件為透鏡(以下亦稱為「頂端透鏡」)191。噴嘴單元32具備液體Lq的供給口及回收口 ；與晶圓 W相對(duì)布置且設(shè)置回收口的下表面；以及分別與液體供給管31A及液體回收管31B (第一圖中均無(wú)圖示，參照第二圖)連接的供給流通路及回收流通路。供給管(未示出)的一端連接液體供給管31A，供給管的另一端連接液體供給裝置5，回收管(未示出)的一端連接液體回收管31B，回收管的另一端連接液體回收裝置6。在本實(shí)施例中，主控制裝置20控制液體供給裝置5 (參照第七圖)，而向頂端透鏡 191與晶圓W之間的空隙供給液體，并且控制液體回收裝置6 (參照第七圖)，以從頂端透鏡 191與晶圓W之間的空隙回收液體。在此操作中，主控制裝置20控制供給的液體量與回收的液體量，以在不斷替換頂端透鏡191與晶圓W之間空隙中的液體的同時(shí)保持恒定量的液體Lq(參照第一圖)。在本實(shí)施例中，上述液體使用透過(guò)氟化氬準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)193nm的光)的純水(折射率η 1. 44)。測(cè)量站300具備設(shè)于主框架BD的對(duì)準(zhǔn)裝置99。例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第 2008/0088843號(hào)說(shuō)明書(shū)等所揭示，對(duì)準(zhǔn)裝置99包括第二圖所示的五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1、 AIA ΑΙΛ。具體地，如第二圖所示，在通過(guò)投影單元PU的中心(投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸 ΑΧ，在本實(shí)施例中，亦與前述的曝光區(qū)域IA的中心一致)且與Y軸平行的直線(以下稱為基準(zhǔn)軸)LV上，以從光軸AX在-Y側(cè)離開(kāi)指定距離的位置設(shè)置檢測(cè)中心的狀態(tài)布置主要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl。夾著主要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl，在X軸方向的一側(cè)與另一側(cè)分別設(shè)有相對(duì)于基準(zhǔn)軸LV 大致對(duì)稱地布置檢測(cè)中心的次要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2p AL22與AL23、AL24。更具體地，五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1、AIA ΑΙΛ的檢測(cè)中心，沿著在主要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl的檢測(cè)中心與基準(zhǔn)軸LV垂直地交叉并與X軸平行的直線(以下稱為基準(zhǔn)軸)La而布置。注意，第一圖中顯示的對(duì)準(zhǔn)裝置 99的結(jié)構(gòu)包括五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1、AIA ΑΙΛ及保持這些對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的保持裝置(滑塊)。 例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2009/0233234號(hào)說(shuō)明書(shū)等所揭示，次要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AU1 AL&經(jīng)由可移動(dòng)式的滑塊固定于主框架BD的下表面(參照第一圖)，可通過(guò)未示出的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)至少在X軸方向調(diào)整次要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的檢測(cè)區(qū)域的相對(duì)位置。 在本實(shí)施例中，各個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl、KL2, AL&例如使用影像處理方式的FIA (場(chǎng)影像對(duì)準(zhǔn)(Field Image Alignment))系統(tǒng)。對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1、AI^ AU4的結(jié)構(gòu)在例如國(guó)際公開(kāi)第2008/056735號(hào)等中詳細(xì)揭示。來(lái)自各個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1、AI^ AL&的攝像信號(hào)，經(jīng)由未示出的信號(hào)處理系統(tǒng)而供給至主控制裝置20 (參照第六圖)。另外，曝光裝置100具有對(duì)晶圓載臺(tái)WSTl進(jìn)行晶圓的搬送作業(yè)的第一加載位置， 及對(duì)晶圓載臺(tái)WST2進(jìn)行晶圓的搬送作業(yè)的第二加載位置，不過(guò)未加以圖示。在本實(shí)施例的情況下，第一加載位置設(shè)于平臺(tái)14A側(cè)，第二加載位置設(shè)于平臺(tái)14B側(cè)。如第一圖所示，載臺(tái)裝置50具備底座12 ；布置于底座12上方的一對(duì)平臺(tái)14A、 14B(第一圖中平臺(tái)14B隱藏于平臺(tái)14A的紙面背面?zhèn)?；在平行于由一對(duì)平臺(tái)14A、14B的上表面所形成的XY平面的引導(dǎo)面上移動(dòng)的兩個(gè)晶圓載臺(tái)WST1，WST2 ；經(jīng)由配管/配線系統(tǒng) (以下，方便起見(jiàn)稱為軟管)Ta2,Tb2 (第一圖中未示出，參照第二圖、第三圖)而分別連接于晶圓載臺(tái)WST1，WST2的軟管載體TCa、TCb (軟管載體TCb在第一圖中未示出。參照第二圖、 第三圖等)；及測(cè)量晶圓載臺(tái)WST1，WST2的位置信息的測(cè)量系統(tǒng)等。分別對(duì)晶圓載臺(tái)WSTl 和WST2經(jīng)由軟管Ta2、Tb2而從外部供給各種傳感器類、馬達(dá)等的致動(dòng)器用的電力、對(duì)致動(dòng)器的溫度調(diào)整用冷媒、空氣軸承用的加壓空氣等。另外，以下亦將電力、溫度調(diào)整用冷媒、力口壓空氣等統(tǒng)稱為用力。需要真空吸引力情況下，亦將真空用力(負(fù)壓)包括于用力中。底座12由具有平板狀外形的構(gòu)件構(gòu)成，并且如第一圖所示，在底板面102上經(jīng)由防振機(jī)構(gòu)(省略圖示)而大致水平地(平行于XY平面地)支撐。在底座12上表面沿X軸方向的中央部，如第三圖所示地形成在與Y軸平行的方向延伸的凹部12a(凹溝)。在底座 12的上表面?zhèn)?在這種情況下，除了形成凹部1 的部分)容納有包括將XY 二維方向作為行方向及列方向而矩陣狀布置的多個(gè)線圈的線圈單元CU。另外，前述防振機(jī)構(gòu)未必需要設(shè)置。如第二圖所示，各個(gè)平臺(tái)14A、14B由從平面觀察(從上方觀察)其長(zhǎng)度方向沿Y 軸方向的矩形板狀的構(gòu)件構(gòu)成，并分別布置于基準(zhǔn)軸LV的-X側(cè)及+X側(cè)。平臺(tái)14A與平臺(tái) 14B關(guān)于基準(zhǔn)軸LV相對(duì)稱，并在X軸方向隔以少許間隔而布置。平臺(tái)14A、14B的各個(gè)上表面(+Z側(cè)的面)通過(guò)加工成非常高的平坦度，使得上表面可發(fā)揮當(dāng)晶圓載臺(tái)WST1，WST2分別沿著XY平面移動(dòng)時(shí)在Z軸方向上的引導(dǎo)面的功能?；蚴牵嗫蓸?gòu)成通過(guò)后述的平面馬達(dá)對(duì)晶圓載臺(tái)WST1、WST2作用的Z方向的力，而使晶圓載臺(tái)WST1、WST2在平臺(tái)14A、14B上磁浮。在本實(shí)施例的情況下，由于使用平面馬達(dá)的結(jié)構(gòu)可以不使用氣體靜壓軸承，因此如前述，無(wú)須提高平臺(tái)14A、14B上面的平坦度。如第三圖所示，平臺(tái)14A、14B經(jīng)由未示出的空氣軸承(或滾動(dòng)軸承)而支撐于底座12的凹部12a的兩側(cè)部分的上表面12b上。平臺(tái)14A、14B分別具有其上表面形成有上述引導(dǎo)面的厚度較薄的板狀的第一部分HApHB1 ；及分別在該第一部分HApHB1的下表面一體地固定的較厚且X軸方向尺寸短的板狀的第二部分14A2、14B2。平臺(tái)14A的第一部分HA1的+X側(cè)端部從第二部分14A2 的+X側(cè)端面稍微伸出于+X側(cè)，平臺(tái)14B的第一部分HB1的-X側(cè)的端部從第二部分14 的-χ側(cè)的端面稍微伸出于-χ側(cè)。不過(guò)，并非限定于如此構(gòu)成，亦可不設(shè)伸出而構(gòu)成。
在第一部分HApHB1的各個(gè)內(nèi)部容納有包括將XY二維方向作為行方向及列方向而矩陣狀布置的多個(gè)線圈的線圈單元(省略圖標(biāo))。通過(guò)主控制裝置20 (參照第六圖)控制分別供給至構(gòu)成各線圈單元的多個(gè)線圈的電流大小及方向。在平臺(tái)14A的第二部分14A2的內(nèi)部(底部)，容納有由將XY 二維方向作為行方向及列方向而矩陣狀布置的多個(gè)永久磁鐵(及無(wú)圖示的磁軛)構(gòu)成的磁鐵單元MUa，以對(duì)應(yīng)于容納于底座12的上表面?zhèn)鹊木€圈單元CU。磁鐵單元MUa與底座12的線圈單元CU —起構(gòu)成例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2003/0085676號(hào)說(shuō)明書(shū)等揭示的電磁力(洛蘭茲力)驅(qū)動(dòng)方式的由平面馬達(dá)構(gòu)成的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)60A(參照第六圖)。平臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)60A產(chǎn)生將平臺(tái) 14A在XY平面內(nèi)的三個(gè)自由度方向(Χ、Υ、θ ζ)驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力。同樣地，在平臺(tái)14Β的第二部分14Β2的內(nèi)部(底部)，容納有由多個(gè)永久磁鐵(及未示出的磁軛)構(gòu)成的磁鐵單元MUb，磁鐵單元MWd與底座12的線圈單元CU—起構(gòu)成由將平臺(tái)14Β驅(qū)動(dòng)于XY平面內(nèi)的三個(gè)自由度方向的平面馬達(dá)構(gòu)成的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)60Β (參照第六圖)。另外，構(gòu)成各個(gè)平臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)60Α、60Β的平面馬達(dá)的線圈單元及磁鐵單元的布置， 亦可與上述(動(dòng)磁式)的情況相反(在底座側(cè)具有磁鐵單元、在平臺(tái)側(cè)具有線圈單元的動(dòng)圈式)。平臺(tái)14Α、14Β的三個(gè)自由度方向的位置信息，通過(guò)例如包括編碼器系統(tǒng)的第一及第二平臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)69Α、69Β (參照第六圖)分別獨(dú)立地獲得(測(cè)量)。第一及第二平臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)69Α，69Β的各個(gè)輸出供給至主控制裝置20 (參照第六圖)，主控制裝置20使用(依據(jù))平臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)69Α、69Β的輸出來(lái)控制供給至構(gòu)成平臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)60Α、60Β的線圈單元的各線圈的電流大小及方向，并根據(jù)需要來(lái)控制平臺(tái)14Α、14Β在各個(gè)XY平面內(nèi)的三個(gè)自由度方向上的位置。當(dāng)平臺(tái)14Α、14Β用作后述的反作用物(Countermass)時(shí)，主控制裝置20使用(依據(jù))平臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)69Α、69Β的輸出，并經(jīng)由平臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)60Α、60Β 驅(qū)動(dòng)平臺(tái)14Α、14Β返回其基準(zhǔn)位置，使得平臺(tái)14Α、14Β從基準(zhǔn)位置的移動(dòng)量在指定范圍內(nèi)。 亦即，平臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)60Α、60Β用作微調(diào)馬達(dá)(Trim Motor)。第一及第二平臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)69A、69B的結(jié)構(gòu)并無(wú)特別限定，例如可使用一種編碼器系統(tǒng)，其中，編碼器頭被布置于底座12 (或在第二部分14A2、14 布置編碼器頭，在底座 12上布置標(biāo)尺)，編碼器頭通過(guò)在布置于第二部分14A2、14B2的各個(gè)下表面的標(biāo)尺(Scale) (例如二維光柵)上照射測(cè)量光束和使用通過(guò)該照射而獲得的反射光(來(lái)自二維光柵的衍射光)，獲得(測(cè)量)平臺(tái)14A、14B在各個(gè)XY平面內(nèi)的三個(gè)自由度方向上的位置信息。另夕卜，平臺(tái)14A、14B的位置信息亦可通過(guò)例如光干涉儀系統(tǒng)，或是組合光干涉儀系統(tǒng)與編碼器系統(tǒng)的測(cè)量系統(tǒng)而獲得(測(cè)量)。如第二圖所示，作為晶圓載臺(tái)之一的WSTl具備保持晶圓W的微動(dòng)載臺(tái)(亦稱為臺(tái))WFS1、及包圍微動(dòng)載臺(tái)WFSl的周圍的矩形框狀的粗動(dòng)載臺(tái)WCS1。另一個(gè)晶圓載臺(tái)WST2 如第二圖所示，具備保持晶圓W的微動(dòng)載臺(tái)WFS2、及包圍微動(dòng)載臺(tái)WFS2的周圍的矩形框狀粗動(dòng)載臺(tái)WCS2。從第二圖可看出，晶圓載臺(tái)WST2除了相對(duì)于晶圓載臺(tái)WSTl以左右反轉(zhuǎn)的狀態(tài)布置外，包括其驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)及位置測(cè)量系統(tǒng)等的全部結(jié)構(gòu)與晶圓載臺(tái)WSTl相同。因此， 以下采用晶圓載臺(tái)WSTl為代表作說(shuō)明，關(guān)于晶圓載臺(tái)WST2僅在特別有必要說(shuō)明時(shí)才作說(shuō)明。粗動(dòng)載臺(tái)WCSl如第四(A)圖所示，具有由在Y軸方向彼此離開(kāi)而平行布置、長(zhǎng)度方向沿X軸方向的立方體狀的構(gòu)件構(gòu)成的一對(duì)粗動(dòng)滑塊部90a、90b ；及由長(zhǎng)度方向沿Y軸方向的立方體狀的構(gòu)件構(gòu)成、并在Y軸方向的一端與另一端連結(jié)一對(duì)粗動(dòng)滑塊部90a、90b 的一對(duì)連結(jié)構(gòu)件92a、92b。亦即，粗動(dòng)載臺(tái)WCSl形成在中央部具有貫穿于Z軸方向的矩形開(kāi)口部的矩形框狀。如第四⑶圖及第四(C)圖所示，在粗動(dòng)滑塊部90a、90b的各個(gè)內(nèi)部(底部)容納有磁鐵單元96a、96b。磁鐵單元96a、96b對(duì)應(yīng)于容納在平臺(tái)14A、14B的第一部分14A:、 HB1W各個(gè)內(nèi)部的線圈單元，并且均由將XY 二維方向作為行方向及列方向而矩陣狀布置的多個(gè)磁鐵構(gòu)成。磁鐵單元96a、96b與平臺(tái)14A、14B的線圈單元一起構(gòu)成例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2003/0085676號(hào)說(shuō)明書(shū)等揭示的由對(duì)粗動(dòng)載臺(tái)WCSl可在六個(gè)自由度方向上產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力的電磁力(洛蘭茲力)驅(qū)動(dòng)方式的平面馬達(dá)而構(gòu)成的粗動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)62A(參照第六圖)。此外，與此同樣地，通過(guò)晶圓載臺(tái)WST2的粗動(dòng)載臺(tái)WCS2 (參照第二圖)具有的磁鐵單元與平臺(tái)14A、14B的線圈單元，構(gòu)成由平面馬達(dá)構(gòu)成的粗動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)62B(參照第六圖)。在這種情況下，因?yàn)閆軸方向的力作用于粗動(dòng)載臺(tái)WCSl (或WCS2)上，因此粗動(dòng)載臺(tái)在平臺(tái)14A、14B上磁浮。因而不需要使用要求較高加工精度的氣體靜壓軸承，從而亦不需要提高平臺(tái)14A、14B上面的平坦度。另外，本實(shí)施例的粗動(dòng)載臺(tái)WCS1，WCS2中僅粗動(dòng)滑塊部90a、90b具有平面馬達(dá)的磁鐵單元的結(jié)構(gòu)，不過(guò)不限于此，亦可與連結(jié)構(gòu)件92a、92b —起布置磁鐵單元。此外，驅(qū)動(dòng)粗動(dòng)載臺(tái)WCS1，WCS2的致動(dòng)器不限于電磁力(洛蘭茲力)驅(qū)動(dòng)方式的平面馬達(dá)，亦可使用例如可變磁阻驅(qū)動(dòng)方式的平面馬達(dá)等。此外，粗動(dòng)載臺(tái)WCS1，WCS2的驅(qū)動(dòng)方向不限于六個(gè)自由度方向，例如亦可僅為XY平面內(nèi)的三個(gè)自由度方向(Χ，Υ、ΘΖ)。此時(shí)，例如可通過(guò)氣體靜壓軸承(例如空氣軸承)使粗動(dòng)載臺(tái)WCS1，WCS2在平臺(tái)14Α、14Β上浮起。此外，本實(shí)施例的粗動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)62Α、62Β使用動(dòng)磁式的平面馬達(dá)，不過(guò)不限于此，亦可使用在平臺(tái)上布置磁鐵單元、在粗動(dòng)載臺(tái)上布置線圈單元的動(dòng)圈式的平面馬達(dá)。在粗動(dòng)滑塊部90a的-Y側(cè)的側(cè)面及粗動(dòng)滑塊部90b的+Y側(cè)的側(cè)面，分別固定有在微小驅(qū)動(dòng)微動(dòng)載臺(tái)WFSl時(shí)發(fā)揮引導(dǎo)功能的引導(dǎo)構(gòu)件94a、94b。如第四(B)圖所示，引導(dǎo)構(gòu)件9 由在X軸方向延伸的剖面為L(zhǎng)字狀的構(gòu)件構(gòu)成，其下表面布置于與粗動(dòng)滑塊部90a 的下表面的同一面上。引導(dǎo)構(gòu)件94b對(duì)弓I導(dǎo)構(gòu)件9 左右對(duì)稱，不過(guò)結(jié)構(gòu)相同且布置相同。在引導(dǎo)構(gòu)件94a的內(nèi)部(底面)，沿X軸方向以指定間隔容納有分別包括將XY 二維方向作為行方向及列方向而矩陣狀布置的多個(gè)線圈的一對(duì)線圈單元CUa、CUb (參照第四 ㈧圖)。另外，在引導(dǎo)構(gòu)件94b的內(nèi)部(底部)容納有包括將XY 二維方向作為行方向及列方向而矩陣狀布置的多個(gè)線圈的一個(gè)線圈單元CUc(參照第四(A)圖)。通過(guò)主控制裝置 20(參照第六圖)控制供給至構(gòu)成線圈單元CUa CUc的各線圈的電流大小及方向。連結(jié)構(gòu)件92a、92b形成為中空的、在其內(nèi)部容納有用于供給用力至微動(dòng)載臺(tái)WFSl 的未示出的配管構(gòu)件及配線構(gòu)件等。亦可在連結(jié)構(gòu)件9 及/或92b的內(nèi)部容納各種光學(xué)構(gòu)件(例如空間影像測(cè)量器、照度不均勻測(cè)量器、照度監(jiān)視器、波面像差測(cè)量器等)。在這種情況下，通過(guò)構(gòu)成粗動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)62A的平面馬達(dá)在平臺(tái)14A上伴隨加減速而在Y軸方向驅(qū)動(dòng)晶圓載臺(tái)WSTl時(shí)(例如在曝光站200與測(cè)量站300的間移動(dòng)時(shí))， 平臺(tái)14A通過(guò)晶圓載臺(tái)WSTl驅(qū)動(dòng)的反作用力的作用，亦即按照所謂作用反作用定律(動(dòng)量守恒定律)，而在與晶圓載臺(tái)WSTl相反的方向上被驅(qū)動(dòng)。此外，亦可通過(guò)平臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)60A在Y軸方向產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力，而形成不滿足前述作用反作用定律的狀態(tài)。此外，將晶圓載臺(tái)WST2在平臺(tái)14B上驅(qū)動(dòng)于Y軸方向時(shí)，平臺(tái)14B亦通過(guò)晶圓載臺(tái)WST2的驅(qū)動(dòng)力的反作用力的作用，亦即按照所謂作用反作用定律(運(yùn)動(dòng)量守恒定律)，而在與晶圓載臺(tái)WST2相反的方向被驅(qū)動(dòng)。亦即，平臺(tái)14A、14B發(fā)揮反作用物的功能，將晶圓載臺(tái)WST1、WST2及平臺(tái)14A、14B全體構(gòu)成的系統(tǒng)的動(dòng)量予以守恒，而不產(chǎn)生重心移動(dòng)。因此，不致因晶圓載臺(tái)WST1、WST2在Y軸方向的移動(dòng)而發(fā)生對(duì)平臺(tái)14A、14B的作用偏負(fù)荷等的問(wèn)題。另外，關(guān)于晶圓載臺(tái)WST2，亦可通過(guò)平臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)60B在Y軸方向產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力，而形成不滿足前述作用反作用定律的狀態(tài)。此外，通過(guò)晶圓載臺(tái)WST1、WST2在X軸方向移動(dòng)時(shí)，通過(guò)其驅(qū)動(dòng)力的反作用力的作用，平臺(tái)14A、14B發(fā)揮反作用物的功能。如第四(A)圖及第四(B)圖所示，微動(dòng)載臺(tái)WFSl具備由從平面觀察為矩形的構(gòu)件構(gòu)成的本體部80、固定于本體部80的+Y側(cè)的側(cè)面的一對(duì)微動(dòng)滑塊部84a、84b，以及固定于本體部80的-Y側(cè)的側(cè)面的微動(dòng)滑塊部84c。本體部80以熱膨脹率較小的材料如陶瓷或玻璃等而形成，在其底面位于與粗動(dòng)載臺(tái)WCSl的底面為同一平面的狀態(tài)下，通過(guò)粗動(dòng)載臺(tái)WCSl而非接觸性地被支撐。本體部 80為了減輕重量，亦可形成中空。另外，本體部80的底面亦可不與粗動(dòng)載臺(tái)WCSl的底面為
同一平面。在本體部80的上表面中央布置有通過(guò)真空吸附等而保持晶圓W的晶圓保持器 (無(wú)圖示)。在本實(shí)施例中，例如使用在環(huán)狀的凸部(凸緣部)內(nèi)形成支撐晶圓W的多個(gè)支撐部(支桿構(gòu)件)的所謂支桿夾頭方式的晶圓保持器，并且在一面(表面)是晶圓放置面的晶圓保持器的另一面(背面)側(cè)設(shè)置后述的二維光柵RG等。另外，晶圓保持器亦可與微動(dòng)載臺(tái)WFSl (本體部80) —體地形成，亦可例如經(jīng)由靜電夾盤(Chuck)機(jī)構(gòu)或夾鉗(Cramp) 機(jī)構(gòu)等的保持機(jī)構(gòu)而可裝卸地固定到本體部80。此時(shí)，光柵RG設(shè)于本體部80的背面?zhèn)取?此外，晶圓保持器亦可通過(guò)粘合劑等而固定于本體部80。如第四(A)圖所示，在本體部80 的上面安裝有在晶圓保持器(晶圓W的放置區(qū)域)的外側(cè)、中央形成比晶圓W(晶圓保持器)大一圈的圓形開(kāi)口且具有對(duì)應(yīng)于本體部80的矩形狀外形(輪廓)的板(拒液板)82。 板82的表面實(shí)施對(duì)液體Lq拒液化處理(形成拒液面)。本實(shí)施例中，板82的表面例如包括由金屬、陶瓷或玻璃等構(gòu)成的基底、及形成于其基底表面的拒液性材料的膜。拒液性材料例如包括PFA(四氟乙烯-全氟代烷基乙烯基醚共聚合物(Tetrafluoro ethylene-per fluoro alkylvinyl ether copolymer))、PTFE(高分子聚四氣乙j；希(Poly tetra fluoro ethylene))、鐵氟龍(登錄商標(biāo))等。另外形成膜的材料亦可為丙烯基系樹(shù)脂、硅系樹(shù)脂。 此外，整個(gè)板82亦可由PFA、PTFE、鐵氟龍(登錄商標(biāo))、丙烯基系樹(shù)脂及硅系樹(shù)脂的至少一個(gè)而形成。本實(shí)施例中，板82的上表面對(duì)液體Lq的接觸角例如超過(guò)90度。亦在前述的連結(jié)構(gòu)件92b表面實(shí)施同樣的拒液化處理。板82以其表面的全部(或是一部分)與晶圓W的表面成為同一面的方式而固定于本體部80的上表面。此外，板82及晶圓W的表面位于與前述連結(jié)構(gòu)件92b的表面大致同一面上。此外，在板82的+X側(cè)且+Y側(cè)的角落附近形成圓形的開(kāi)口，在該開(kāi)口內(nèi)以與晶圓W的表面大致成為同一面的狀態(tài)無(wú)間隙地布置測(cè)量板FMl。在測(cè)量板FMl的上面形成有分別通過(guò)前述一對(duì)標(biāo)線片對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)RA1、RA2 (參照第一圖、第六圖)而檢測(cè)的一對(duì)第一基準(zhǔn)標(biāo)記、及通過(guò)主要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl而測(cè)量的第二基準(zhǔn)標(biāo)記(均未示出)。如第二圖所示，在晶圓載臺(tái)WST2的微動(dòng)載臺(tái)WFS2上，在板82的-X側(cè)且+Y側(cè)的角落附近，以與晶圓W的表面大致成為同一面的狀態(tài)固定有與測(cè)量板FMl同樣的測(cè)量板FM2。另外，亦可將板82安裝于微動(dòng)載臺(tái)WFSl (本體部80)的方式改為例如與微動(dòng)載臺(tái)WFSl —體形成晶圓保持器，在微動(dòng)載臺(tái)WFSl的包圍晶圓保持器的周圍區(qū)域(與板82同一區(qū)域(亦可包括測(cè)量板的表面)) 的上表面實(shí)施拒液化處理，而形成拒液面。如第四⑶圖所示，在微動(dòng)載臺(tái)WFSl的本體部80的下面中央部，以其下面位于與其它部分(周圍部分)大致同一面上(板的下面不致比周圍部分突出于下方)的狀態(tài)，而布置大小程度覆蓋晶圓保持器(晶圓W的放置區(qū)域)與測(cè)量板FMl (在微動(dòng)載臺(tái)WFS2的情況下是測(cè)量板FiC)的指定形狀的薄板狀的板。在板的一面(上面(或下面))形成有二維光柵RG(以下簡(jiǎn)稱為光柵RG)。光柵RG包括以X軸方向?yàn)橹芷诜较虻姆瓷湫脱苌涔鈻?X 衍射光柵)、及以Y軸方向?yàn)橹芷诜较虻姆瓷湫脱苌涔鈻?Y衍射光柵)。板例如通過(guò)玻璃而形成，光柵RG例如以138nm 4 μ m間的間距，例如Wlym間距，刻上衍射光柵的刻度而作成。另外，光柵RG亦可覆蓋本體部80的整個(gè)下表面。此外，用于光柵RG的衍射光柵的種類，除了機(jī)械性形成溝等之外，例如亦可為在感光性樹(shù)脂上曝光干涉條紋而產(chǎn)生。另外， 薄板狀的板的結(jié)構(gòu)并非限定于此。如第四(A)圖所示，一對(duì)微動(dòng)滑塊部84a、84b是從平面觀察為大致正方形的板狀構(gòu)件，且在本體部80的+Y側(cè)的側(cè)面，在X軸方向以指定距離隔開(kāi)而布置。微動(dòng)滑塊部84c 是從平面觀察在X軸方向?yàn)榧?xì)長(zhǎng)的長(zhǎng)方形的板狀構(gòu)件，且以在其長(zhǎng)度方向一端與另一端位于與微動(dòng)滑塊部84a、84b中心大致同一直線的Y軸平行的直線上的狀態(tài)，固定于本體部80 的-Y側(cè)的側(cè)面。一對(duì)微動(dòng)滑塊部84a、84b分別被前述的引導(dǎo)構(gòu)件9 支撐，微動(dòng)滑塊部8 被引導(dǎo)構(gòu)件94b支撐。亦即，微動(dòng)載臺(tái)WFS以相對(duì)于粗動(dòng)載臺(tái)WCS不在同一直在線上的三處而支撐。在微動(dòng)滑塊部8 84c的各個(gè)內(nèi)部，對(duì)應(yīng)于粗動(dòng)載臺(tái)WCSl的引導(dǎo)構(gòu)件94a、94b 具有的線圈單元OTa CUc，容納有由將XY 二維方向作為行方向及列方向而矩陣狀布置的多個(gè)永久磁鐵(及無(wú)圖示的磁軛)構(gòu)成的磁鐵單元98a、98b、98c。磁鐵單元98a與線圈單元Cfe —起，磁鐵單元9 與線圈單元CUb —起，磁鐵單元98c與線圈單元⑶c 一起，分別構(gòu)成例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2003/0085676號(hào)說(shuō)明書(shū)等揭示的可在X、Y、Z軸方向產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力的電磁力(洛蘭茲力)的驅(qū)動(dòng)方式的三個(gè)平面馬達(dá)，通過(guò)這三個(gè)平面馬達(dá)構(gòu)成將微動(dòng)載臺(tái)WFSl在六個(gè)自由度方向(Χ、Υ、Ζ、ΘΧ、及θ ζ)驅(qū)動(dòng)的微動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)64A (參照第六圖)。晶圓載臺(tái)WST2中亦同樣地具有由粗動(dòng)載臺(tái)WCS2具有的線圈單元與微動(dòng)載臺(tái)WFS2 具有的磁鐵單元而構(gòu)成的三個(gè)平面馬達(dá)，并通過(guò)這三個(gè)平面馬達(dá)構(gòu)成將微動(dòng)載臺(tái)WFS2在六個(gè)自由度方向(Χ、Υ、Ζ、ΘΧ、Qy及θ ζ)驅(qū)動(dòng)的微動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)64Β (參照第六圖)。微動(dòng)載臺(tái)WFSl可在X軸方向沿著在X軸方向延伸的引導(dǎo)構(gòu)件94a、94b移動(dòng)比其它五個(gè)自由度方向長(zhǎng)的行程。微動(dòng)載臺(tái)WFS2亦同。通過(guò)以上的結(jié)構(gòu)，微動(dòng)載臺(tái)WFSl可相對(duì)于粗動(dòng)載臺(tái)WCSl在六個(gè)自由度方向移動(dòng)。 此外，此時(shí)通過(guò)微動(dòng)載臺(tái)WFSl驅(qū)動(dòng)的反作用力的作用，與前述同樣的作用反作用定律(運(yùn)動(dòng)量守恒定律)成立。亦即，粗動(dòng)載臺(tái)WCSl發(fā)揮微動(dòng)載臺(tái)WFSl的反作用物的功能，粗動(dòng)載臺(tái)WCSl在與微動(dòng)載臺(tái)WFSl相反的方向被驅(qū)動(dòng)。微動(dòng)載臺(tái)WFS2與粗動(dòng)載臺(tái)WCS2的關(guān)系亦同。另外，在本實(shí)施例中，主控制裝置20在將微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)伴隨加減速而在X軸方向增大驅(qū)動(dòng)時(shí)(例如在曝光中進(jìn)行照射區(qū)域間的步進(jìn)動(dòng)作時(shí)等)，通過(guò)構(gòu)成粗動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)62A(或62B)的平面馬達(dá)，而將微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)在X軸方向驅(qū)動(dòng)。此夕卜，同時(shí)，經(jīng)由粗動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)62A (或62B)，主控制裝置20賦予粗動(dòng)載臺(tái)WCSl (或WCS2) 被驅(qū)動(dòng)與微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)同一方向的初速(將粗動(dòng)載臺(tái)WCSl (或WCS2)驅(qū)動(dòng)于與微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)同一方向)。因此，使粗動(dòng)載臺(tái)WCSl (或WCS2)發(fā)揮所謂反作用物的功能，并且可縮短粗動(dòng)載臺(tái)WCSl (或WCS2)伴隨微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)在X軸方向的移動(dòng)(起因于驅(qū)動(dòng)力的反作用力)而向相反方向的移動(dòng)距離。特別是在微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或 WFS2)進(jìn)行包括向X軸方向的步進(jìn)移動(dòng)的動(dòng)作，亦即微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)進(jìn)行交互地反復(fù)向X軸方向的加速與減速的動(dòng)作情況下，可使粗動(dòng)載臺(tái)WCSl (或WCS2)的移動(dòng)中所需的關(guān)于X軸方向的行程為最短。此時(shí)，主控制裝置20亦可將包括微動(dòng)載臺(tái)與粗動(dòng)載臺(tái)的晶圓載臺(tái)WSTl (或WST2)整個(gè)系統(tǒng)的重心在X軸方向進(jìn)行等速運(yùn)動(dòng)的初速賦予粗動(dòng)載臺(tái) WCSl (或WCS2)。如此，粗動(dòng)載臺(tái)WCSl (或WCS2)將微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)的位置作為基準(zhǔn)，而在指定的范圍內(nèi)來(lái)回運(yùn)動(dòng)。因此，粗動(dòng)載臺(tái)WCSl (或WCS2)在X軸方向的移動(dòng)行程， 只須備有在其指定的范圍中添加若干邊緣的距離即可。關(guān)于此方面的詳細(xì)內(nèi)容，例如揭示于美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2008/0143994號(hào)說(shuō)明書(shū)等。此外，如前述，由于微動(dòng)載臺(tái)WFSl通過(guò)粗動(dòng)載臺(tái)WCSl以不在同一直線的三處被支撐，因此主控制裝置20通過(guò)適當(dāng)控制例如分別作用于微動(dòng)滑塊部8 8 的Z軸方向的驅(qū)動(dòng)力(推力)，可以任意的角度(旋轉(zhuǎn)量)將微動(dòng)載臺(tái)WFSl (亦即晶圓W)相對(duì)于XY平面沿ΘΧ及/或θ y方向傾斜。此外，主控制裝置20例如通過(guò)產(chǎn)生沿+ ΘΧ方向(第四(B) 圖系在紙面左轉(zhuǎn)方向)分別作用于微動(dòng)滑塊部84a、84b的驅(qū)動(dòng)力，和產(chǎn)生沿-θ χ方向(第四(B)圖系在紙面右轉(zhuǎn)方向)作用于微動(dòng)滑塊部8 的驅(qū)動(dòng)力，可使微動(dòng)載臺(tái)WFSl的中央部沿+Z方向(凸?fàn)畹?彎曲。此外，主控制裝置20也可以通過(guò)例如產(chǎn)生沿-0y、+ 0y方向(分別從+Y側(cè)觀察為左轉(zhuǎn)、右轉(zhuǎn))分別作用于微動(dòng)滑塊部84a、84b的驅(qū)動(dòng)力，使微動(dòng)載臺(tái)WFSl的中央部沿+Z方向(凸?fàn)畹?彎曲。對(duì)于微動(dòng)載臺(tái)WFS2主控制裝置20也可以同樣地進(jìn)行。另外，在本實(shí)施例中，微動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)64A、64B使用動(dòng)磁式的平面馬達(dá)，不過(guò)不限于此，亦可使用在微動(dòng)載臺(tái)的微動(dòng)滑塊部上布置線圈單元，而在粗動(dòng)載臺(tái)的引導(dǎo)構(gòu)件上布置磁性單元的動(dòng)圈式平面馬達(dá)。如第四(A)圖所示，在粗動(dòng)載臺(tái)WCSl的連結(jié)構(gòu)件92a與微動(dòng)載臺(tái)WFSl的本體部 80之間架設(shè)有一對(duì)軟管86a、86b，用于傳導(dǎo)從外部供給至連結(jié)構(gòu)件92a的用力至微動(dòng)載臺(tái) WFS1。另外，包括第四(A)圖的各附圖中均省略其圖示，不過(guò)實(shí)際上一對(duì)軟管86a、86b分別通過(guò)多條軟管而構(gòu)成。各個(gè)軟管86a、86b的一端連接于連結(jié)構(gòu)件92a的+X側(cè)的側(cè)面，另一端分別經(jīng)由在本體部80的上表面具有從-X側(cè)的端面沿+X方向以指定的長(zhǎng)度所形成的指定深度的一對(duì)凹部80a(參照第四(C)圖)而連接于本體部80的內(nèi)部。如第四(C)圖所示， 軟管86a、86b不致于突出于微動(dòng)載臺(tái)WFSl的上表面上方。如第二圖所示，在粗動(dòng)載臺(tái)WCS2的連結(jié)構(gòu)件92a與微動(dòng)載臺(tái)WFS2的本體部80之間，亦架設(shè)有一對(duì)軟管86a、86b，用于傳導(dǎo)從外部供給至連結(jié)構(gòu)件92a的用力至微動(dòng)載臺(tái)WFS2。在本實(shí)施例中，由于微動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)64A，64B使用動(dòng)磁式的三個(gè)平面馬達(dá)，因此經(jīng)由軟管86a、86b而在粗動(dòng)載臺(tái)與微動(dòng)載臺(tái)之間傳導(dǎo)電力以外的用力。另外，亦可取代軟管86a、86b，而改為采用例如國(guó)際公開(kāi)第2004/100237號(hào)揭示的結(jié)構(gòu)、方法，以非接觸方式在粗動(dòng)載臺(tái)與微動(dòng)載臺(tái)之間傳導(dǎo)用力。如第二圖所示，軟管載體TCa之一經(jīng)由軟管Ta2而連接于粗動(dòng)載臺(tái)WCSl的連結(jié)構(gòu)件92a內(nèi)部的配管構(gòu)件、配線構(gòu)件。如第三圖所示，軟管載體TCa布置于在底座12的-X側(cè)的端部所形成的階部上。軟管載體TCa在底座12的階梯部上通過(guò)線性馬達(dá)等的致動(dòng)器，而追隨晶圓載臺(tái)WSTl在Y軸方向被驅(qū)動(dòng)。如第三圖所示，軟管載體中的另一個(gè)TCb布置于底座12的+X側(cè)的端部所形成的階梯部上，并經(jīng)由軟管作2而連接于粗動(dòng)載臺(tái)WCS2的連結(jié)構(gòu)件92a內(nèi)部的配管構(gòu)件、配線構(gòu)件(參照第二圖)。軟管載體TCb在底座12的階梯部上通過(guò)線性馬達(dá)等的致動(dòng)器，而追隨晶圓載臺(tái)WST2在Y軸方向被驅(qū)動(dòng)。如第三圖所示，軟管Tal、Tbl的一端分別連接至軟管載體TCa、TCb，軟管Tal、Tbl 的另一端連接至設(shè)置在外部的未示出的用力供給裝置(例如電源、氣槽、壓縮機(jī)或真空泵等)。從用力供給裝置經(jīng)由軟管Tal而供給至軟管載體TCa的用力，經(jīng)由軟管Ta2、容納在粗動(dòng)載臺(tái)WCSl的連結(jié)構(gòu)件9 中的未示出的配管構(gòu)件、配線構(gòu)件及軟管86a、86b，而供給至微動(dòng)載臺(tái)WFSl。同樣地，從用力供給裝置經(jīng)由軟管Tbl而供給至軟管載體TCb的用力，經(jīng)由軟管Tb2、容納在粗動(dòng)載臺(tái)WCS2的連結(jié)構(gòu)件92a中的未示出的配管構(gòu)件、配線構(gòu)件及軟管 86a、86b而供給至微動(dòng)載臺(tái)WFS2。接下來(lái)，就測(cè)量晶圓載臺(tái)WST1，WST2的位置信息的測(cè)量系統(tǒng)作說(shuō)明。曝光裝置100 具有測(cè)量微動(dòng)載臺(tái)WFS1、WFS2的位置信息的微動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)70 (參照第六圖)、及測(cè)量粗動(dòng)載臺(tái)WCS1、WCS2各個(gè)位置信息的粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68A、68B (參照第六圖)。微動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)70具有第一圖所示的測(cè)量桿71。如第三圖所示，測(cè)量桿 71布置于一對(duì)平臺(tái)14A、14B的各個(gè)第一部分14A1、14B1的下方。如第一圖及第三圖所示， 測(cè)量桿71由Y軸方向?yàn)殚L(zhǎng)度方向的剖面矩形的梁狀構(gòu)件構(gòu)成，在其長(zhǎng)度方向的兩端部分別經(jīng)由垂掛構(gòu)件74而在垂掛狀態(tài)下固定于主框架BD。亦即，主框架BD與測(cè)量桿71是一體。 另外，梁狀構(gòu)件采用不致妨礙晶圓載臺(tái)的移動(dòng)的結(jié)構(gòu)的情況下，不限于兩端支撐，亦可在其長(zhǎng)度方向的一端單邊支撐。此外，梁狀構(gòu)件只須布置于前述底座12的下方即可。再者，梁狀構(gòu)件支撐于主框架BD，不過(guò)亦可例如經(jīng)由防振機(jī)構(gòu)而設(shè)于設(shè)置面(底板面等)。此時(shí)宜設(shè)置測(cè)量主框架BD與梁狀構(gòu)件的相對(duì)性位置關(guān)系的測(cè)量裝置。梁狀構(gòu)件亦可稱為測(cè)量用構(gòu)件等。測(cè)量桿71的+Z側(cè)半部(上半部)布置于平臺(tái)14A、14B的各個(gè)第二部分14A2、14B2 相互之間，-Z側(cè)半部(下半部)則容納于底座12中所形成的凹部12a內(nèi)。此外，在測(cè)量桿 71與平臺(tái)14A、14B及底座12的各個(gè)之間形成有指定的游隙，測(cè)量桿71與主框架BD以外的構(gòu)件成為機(jī)械性非接觸狀態(tài)。測(cè)量桿71通過(guò)熱膨脹率較低的材料(例如不脹鋼或陶瓷等)而形成。另外，測(cè)量桿71的形狀并非特別限定。例如剖面亦可為圓形(圓柱狀)或梯形或三角形狀。此外，亦未必需要通過(guò)棒狀或梁狀構(gòu)件等的長(zhǎng)形構(gòu)件而形成。
如第五圖所示，在測(cè)量桿71中設(shè)有測(cè)量位于投影單元PU下方的微動(dòng)載臺(tái)(WFS1 或WFS2)的位置信息時(shí)使用的第一測(cè)量頭群72、及測(cè)量位于對(duì)準(zhǔn)裝置99下方的微動(dòng)載臺(tái) (WFS1或WFS2)的位置信息時(shí)使用的第二測(cè)量頭群73。另外為了容易理解附圖，第五圖以虛線(二點(diǎn)鏈線)表示對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1、AU1 AL24。此外，第五圖中省略對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AU1 AL24的附圖標(biāo)記。如第五圖所示，第一測(cè)量頭群72布置于投影單元PU的下方，且包括X軸方向測(cè)量用一維編碼器頭(以下簡(jiǎn)稱為X頭或編碼器頭)7 、一對(duì)Y軸方向測(cè)量用一維編碼器頭 (以下簡(jiǎn)稱為Y頭或編碼器頭)75ya、75yb，以及三個(gè)Z頭76a、7b6、76c。X頭75x、Y頭75ya、75yb及三個(gè)Z頭76a 76c以其位置不變化的狀態(tài)而布置于測(cè)量桿71的內(nèi)部。X頭7 布置于基準(zhǔn)軸LV上，Y頭75ya、75yb在X頭75x的-X側(cè)及+X 側(cè)分別離開(kāi)相同距離而布置。本實(shí)施例的三個(gè)編碼器頭75x、75ya、75yb分別使用例如與國(guó)際公開(kāi)第2007/083758號(hào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2007/(^88121號(hào)說(shuō)明書(shū))等所揭示的編碼器頭同樣的將光源、受光系統(tǒng)(包括光測(cè)量器)及各種光學(xué)系統(tǒng)予以單元化而構(gòu)成的衍射干涉型的頭。各個(gè)X頭75x、Y頭75ya、75yb在晶圓載臺(tái)WSTl (或WST2)位于投影光學(xué)系統(tǒng)PL (參照第一圖)的正下方時(shí)，經(jīng)由平臺(tái)14A與平臺(tái)14B間的空隙，或是形成于平臺(tái)14A、14B各個(gè)第一部分14A1、14B1的光透過(guò)部(例如開(kāi)口)，照射測(cè)量光束于布置在微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或 WFS2)下面的光柵RG(參照第四(B)圖)。再者，各個(gè)X頭75x、Y頭75ya、75yb通過(guò)接收來(lái)自光柵RG的衍射光，而獲得微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)在XY平面內(nèi)的位置信息(亦包括 θ ζ方向的旋轉(zhuǎn)信息)。亦即，通過(guò)使用光柵RG具有的X衍射光柵測(cè)量微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或 WFS2)在X軸方向的位置的X頭75χ，而構(gòu)成X線性編碼器51 (參照第六圖)。此外，通過(guò)使用光柵RG的Y衍射光柵測(cè)量微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)在Y軸方向的位置的一對(duì)Y頭75ya、 75yb,而構(gòu)成一對(duì)Y線性編碼器52、53 (參照第六圖)。X頭75x、Y頭75ya、75yb的各個(gè)測(cè)量值供給至主控制裝置20 (參照第六圖)，主控制裝置20使用(依據(jù))X頭75x的測(cè)量值測(cè)量微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)在X軸方向的位置，并依據(jù)一對(duì)Y頭75ya、75yb的測(cè)量值的平均值而測(cè)量(算出)微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)在Y軸方向的位置。此外，主控制裝置20 使用一對(duì)Y線性編碼器52、53的各個(gè)測(cè)量值，而測(cè)量(算出)微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)在 θ ζ方向的位置(Ζ軸周圍的旋轉(zhuǎn)量)。此時(shí)，從X頭7 照射的測(cè)量光束在光柵RG上的照射點(diǎn)(測(cè)量點(diǎn))與晶圓W上的曝光區(qū)域IA(參照第一圖)中心的曝光位置一致。此外，分別從一對(duì)Y頭75ya、75yb照射的測(cè)量光束在光柵RG上的一對(duì)照射點(diǎn)(測(cè)量點(diǎn))的中點(diǎn)，與從X頭7 照射的測(cè)量光束在光柵RG上的照射點(diǎn)(測(cè)量點(diǎn))一致。主控制裝置20依據(jù)二個(gè)Y頭75ya、75yb的測(cè)量值的平均算出微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)在Y軸方向的位置信息。因而微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2) 在Y軸方向的位置信息，實(shí)質(zhì)上在照射于晶圓W的照明光IL的照射區(qū)域(曝光區(qū)域)IA中心的曝光位置測(cè)量。亦即，X頭75x的測(cè)量中心及二個(gè)Y頭75ya、75yb的實(shí)質(zhì)性測(cè)量中心與曝光位置一致。因此，主控制裝置20通過(guò)使用X線性編碼器51及Y線性編碼器52、53， 可隨時(shí)在曝光位置的正下方(背面)進(jìn)行微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)在XY平面內(nèi)的位置信息(包括θ ζ方向的旋轉(zhuǎn)信息)的測(cè)量。Z頭76a 76c例如使用與⑶驅(qū)動(dòng)裝置等使用的光學(xué)拾取裝置同樣的光學(xué)式位移傳感器的頭。三個(gè)Z頭76a 76c布置于與等腰三角形(或正三角形)的各頂點(diǎn)對(duì)應(yīng)的位置。各個(gè)Z頭76a 76c用與Z軸平行的測(cè)量光束從下方照射微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)的下表面，并接收通過(guò)形成有光柵RG的板的表面(或反射型衍射光柵的形成面)而反射的反射光。因此，各個(gè)Z頭76a 76c構(gòu)成在各照射點(diǎn)測(cè)量微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)的面位置 (Z軸方向的位置)的面位置測(cè)量系統(tǒng)M (參照第六圖)。三個(gè)Z頭76a 76c的各個(gè)測(cè)量值供給至主控制裝置20 (參照第六圖)。此外，將分別從三個(gè)Z頭76a 76c照射的測(cè)量光束在光柵RG上的三個(gè)照射點(diǎn)作為頂點(diǎn)的等腰三角形(或正三角形)的重心，與晶圓W上的曝光區(qū)域IA(參照第一圖)中心的曝光位置一致。因此，主控制裝置20依據(jù)三個(gè)Z頭76a 76c的測(cè)量值的平均值，可隨時(shí)在曝光位置的正下方取得微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)在Z軸方向的位置信息(面位置信息)。此外，主控制裝置20使用(依據(jù))三個(gè)Z頭76a 76c的測(cè)量值，加上微動(dòng)載臺(tái) WFSl(或WFS2)在Z軸方向的位置，測(cè)量(算出)ΘΧ方向及方向的旋轉(zhuǎn)量。第二測(cè)量頭群73具有構(gòu)成X線性編碼器55 (參照第六圖)的X頭77x、構(gòu)成一對(duì) Y線性編碼器56、57(參照第六圖)的一對(duì)Y頭77ya、77yb，及構(gòu)成面位置測(cè)量系統(tǒng)58 (參照第六圖)的三個(gè)Z頭78a、78b、78c。以X頭77x作為基準(zhǔn)的一對(duì)Y頭77ya、77yb及三個(gè) Z頭78a 78c的各自位置關(guān)系，與將前述的X頭7 作為基準(zhǔn)的一對(duì)Y頭75ya、75yb及三個(gè)Z頭76a 76c的各自位置關(guān)系相同。從X頭77x照射的測(cè)量光束在光柵RG上的照射點(diǎn)(測(cè)量點(diǎn))，與主要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl的測(cè)量中心一致。亦即，X頭77x的測(cè)量中心及二個(gè)Y 頭77ya、77yb的實(shí)質(zhì)性測(cè)量中心與主要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl的測(cè)量中心一致。因此，主控制裝置 20可隨時(shí)以主要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl的測(cè)量中心測(cè)量微動(dòng)載臺(tái)WFS2(或WFS1)在XY平面內(nèi)的位置信息及面位置信息。另外，本實(shí)施例的X頭75x、77x及Y頭75ya、75yb、77ya、77yb分別將圖上未顯示的光源、受光系統(tǒng)(包括光測(cè)量器)及各種光學(xué)系統(tǒng)予以單元化而布置于測(cè)量桿71的內(nèi)部， 不過(guò)編碼器頭的結(jié)構(gòu)不限于此。例如亦可將光源及受光系統(tǒng)布置于測(cè)量桿的外部。該情況下，亦可例如經(jīng)由光纖等分別連接布置于測(cè)量桿內(nèi)部的光學(xué)系統(tǒng)與光源及受光系統(tǒng)。此外， 亦可構(gòu)成將編碼器頭布置于測(cè)量桿的外部，僅將測(cè)量光束經(jīng)由布置于測(cè)量桿內(nèi)部的光纖而引導(dǎo)至光柵。此外，晶圓在θ ζ方向的旋轉(zhuǎn)信息亦可使用一對(duì)X線性編碼器測(cè)量(此時(shí)只要一個(gè)Y線性編碼器即可)。此外，微動(dòng)載臺(tái)的面位置信息亦可例如使用光干涉儀而測(cè)量。 此外，亦可取代第一測(cè)量頭群72及第二測(cè)量頭群73的各頭，而將包括至少一個(gè)將X軸方向及Z軸方向作為測(cè)量方向的)(Ζ編碼器頭，與至少一個(gè)將Y軸方向及Z軸方向作為測(cè)量方向的Π編碼器頭的合計(jì)三個(gè)編碼器頭設(shè)計(jì)成與前述的X頭及一對(duì)Y頭相同的布置。此外，亦可將測(cè)量桿71分割成多個(gè)。例如亦可分割成具有第一測(cè)量頭群72的部分與具有第二測(cè)量頭群73的部分，各個(gè)部分(測(cè)量桿)將主框架BD (的測(cè)量基準(zhǔn)面)作為基準(zhǔn)，測(cè)量與主框架BD的相對(duì)位置，而將其位置關(guān)系控制為一定。該情況下，可在各部分(測(cè)量桿)的兩端設(shè)置包括多個(gè)編碼器頭及Z頭(面位置測(cè)量系統(tǒng))的頭單元，而算出各部分 (測(cè)量桿)在Z軸方向的位置及ΘΧ、θ y方向的旋轉(zhuǎn)量。粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68A (參照第六圖)在晶圓載臺(tái)WSTl在平臺(tái)14A上移動(dòng)于曝光站200與測(cè)量站300的間時(shí)，測(cè)量粗動(dòng)載臺(tái)WCSl (晶圓載臺(tái)WST1)的位置信息。粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68A的結(jié)構(gòu)并無(wú)特別限定，包括編碼器系統(tǒng)或光干涉儀系統(tǒng)(亦可組合光干涉儀系統(tǒng)與編碼器系統(tǒng))。在粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68A包括編碼器系統(tǒng)的情況下，例如可構(gòu)成沿著晶圓載臺(tái)WSTl的移動(dòng)路徑，從以垂掛狀態(tài)固定于主框架BD的多個(gè)編碼器頭， 照射測(cè)量光束于固定(或形成)在粗動(dòng)載臺(tái)WCSl上面的標(biāo)尺(例如二維光柵)，并接收其衍射光而測(cè)量粗動(dòng)載臺(tái)WCSl的位置信息。在粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68A包括光干涉儀系統(tǒng)的情況下，可構(gòu)成從分別具有平行于X軸及Y軸的測(cè)量軸的X光干涉儀及Y光干擾儀照射測(cè)量光束于粗動(dòng)載臺(tái)WCSl的側(cè)面，并接收其反射光而測(cè)量晶圓載臺(tái)WSTl的位置信息。粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68B (參照第六圖)具有與粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68A相同的結(jié)構(gòu)，測(cè)量粗動(dòng)載臺(tái)WCS2(晶圓載臺(tái)WST2)的位置信息。主控制裝置20依據(jù)粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68A、68B的測(cè)量值，個(gè)別地控制粗動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)62A、62B，來(lái)控制粗動(dòng)載臺(tái) WCS1、WCS2(晶圓載臺(tái)WST1、WST2)的各個(gè)位置。此外，曝光裝置100亦具備分別測(cè)量粗動(dòng)載臺(tái)WCSl與微動(dòng)載臺(tái)WFSl的相對(duì)位置、 及粗動(dòng)載臺(tái)WCS2與微動(dòng)載臺(tái)WFS2的相對(duì)位置的相對(duì)位置測(cè)量系統(tǒng)66A、66B (參照第六圖)。相對(duì)位置測(cè)量系統(tǒng)66A、66B的結(jié)構(gòu)并無(wú)特別限定，例如可通過(guò)包括靜電電容傳感器的間隙傳感器而構(gòu)成。該情況下，間隙傳感器例如可通過(guò)固定于粗動(dòng)載臺(tái)WCSl (或WCS2)的探針部與固定于微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)的標(biāo)的部而構(gòu)成。另外，相對(duì)位置測(cè)量系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)不限于此，例如亦可使用線性編碼器系統(tǒng)及光干涉儀系統(tǒng)等而構(gòu)成相對(duì)位置測(cè)量系統(tǒng)。第六圖中顯示主要構(gòu)成曝光裝置100的控制系統(tǒng)，并顯示統(tǒng)籌控制各部結(jié)構(gòu)的主控制裝置20的輸入輸出關(guān)系的框圖。主控制裝置20包括工作站(或是微電腦)等，而統(tǒng)籌控制前述的局部浸液裝置8、平臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)60A、60B、粗動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)62A、62B及微動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)64A、64B等曝光裝置100的各部結(jié)構(gòu)。其次，依據(jù)第七圖至第十一圖說(shuō)明使用二個(gè)晶圓載臺(tái)WST1、WST2的并行處理動(dòng)作。另外，以下的動(dòng)作中，通過(guò)主控制裝置20如前述地控制液體供給裝置5與液體回收裝置6，并通過(guò)在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的頂端透鏡191的正下方保持一定量的液體Lq，而隨時(shí)形成浸液區(qū)域。第七圖顯示在曝光站200中，對(duì)放置于晶圓載臺(tái)WSTl的微動(dòng)載臺(tái)WFSl上的晶圓 W進(jìn)行步進(jìn)及掃描方式的曝光，同時(shí)在第二加載位置，在晶圓搬送機(jī)構(gòu)(未示出)與晶圓載臺(tái)WST2的微動(dòng)載臺(tái)WFS2之間進(jìn)行晶圓更換。主控制裝置20依據(jù)事前進(jìn)行的晶圓對(duì)準(zhǔn)結(jié)果(例如將通過(guò)增強(qiáng)型全晶圓對(duì)準(zhǔn) (EGA)而獲得的晶圓W上的各照射區(qū)域的排列坐標(biāo)，轉(zhuǎn)換成將測(cè)量板FMl上的第二基準(zhǔn)標(biāo)記作為基準(zhǔn)的坐標(biāo)的信息)和標(biāo)線片對(duì)準(zhǔn)的結(jié)果等，反復(fù)進(jìn)行使晶圓載臺(tái)WSTl向晶圓W上的各照射區(qū)域曝光用的開(kāi)始掃描位置(開(kāi)始加速位置)移動(dòng)的照射區(qū)域間移動(dòng)(照射間步進(jìn))動(dòng)作，及以掃描曝光方式將形成于標(biāo)線片R的圖案轉(zhuǎn)印于晶圓W上的各照射區(qū)域的掃描曝光動(dòng)作，執(zhí)行步進(jìn)及掃描方式的曝光動(dòng)作。在該步進(jìn)及掃描動(dòng)作中，伴隨晶圓載臺(tái)WSTl 例如掃描曝光時(shí)在Y軸方向的移動(dòng)，如前述，平臺(tái)14A、14B發(fā)揮反作用物的功能。此外，為了進(jìn)行照射間步進(jìn)動(dòng)作而通過(guò)主控制裝置20在X軸方向驅(qū)動(dòng)微動(dòng)載臺(tái)WFSl時(shí)，通過(guò)主控制裝置20對(duì)粗動(dòng)載臺(tái)WCSl賦予初速，從而粗動(dòng)載臺(tái)WCSl發(fā)揮對(duì)微動(dòng)載臺(tái)的內(nèi)部反作用物的功能。因此，晶圓載臺(tái)WSTl (粗動(dòng)載臺(tái)WCS1、微動(dòng)載臺(tái)WFS1)的移動(dòng)不致造成平臺(tái)14A、 14B振動(dòng)，且不致對(duì)晶圓載臺(tái)WST2帶來(lái)不良影響。上述的曝光動(dòng)作在頂端透鏡191與晶圓W(依據(jù)照射區(qū)域的位置可以為晶圓W及板8 之間保持液體Lq的狀態(tài)，亦即通過(guò)浸液曝光而進(jìn)行。本實(shí)施例的曝光裝置100在上述一連串的曝光動(dòng)作中，通過(guò)主控制裝置20使用微動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)70的第一測(cè)量頭群72測(cè)量微動(dòng)載臺(tái)WFSl，并依據(jù)該測(cè)量結(jié)果控制微動(dòng)載臺(tái)WFSl (晶圓W)的位置。在微動(dòng)載臺(tái)WFS2在第二加載位置更換晶圓時(shí)，通過(guò)未示出的晶圓搬送機(jī)構(gòu)，從微動(dòng)載臺(tái)WFS2上卸載曝光后的晶圓，并且將新的晶圓加載微動(dòng)載臺(tái)WFS2上而進(jìn)行。此時(shí)，第二加載位置是在微動(dòng)載臺(tái)WFS2上進(jìn)行晶圓更換的位置，在本實(shí)施例中定義為在主要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl的正下方定位測(cè)量板FM2的微動(dòng)載臺(tái)WFS2(晶圓載臺(tái)WST2)的位置。上述的晶圓更換中及其晶圓更換后，晶圓載臺(tái)WST2在第二加載位置停止時(shí)，主控制裝置20在開(kāi)始對(duì)新的晶圓W進(jìn)行晶圓對(duì)準(zhǔn)(及其它的前處理測(cè)量)之前，執(zhí)行微動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)70的第二測(cè)量頭群73，亦即編碼器55、56、57 (及面位置測(cè)量系統(tǒng)58)的重設(shè) (原點(diǎn)的再設(shè)定)。晶圓更換(加載新的晶圓W)與編碼器55、56、57(及面位置測(cè)量系統(tǒng)58)的重設(shè)結(jié)束后，主控制裝置20使用主要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl檢測(cè)測(cè)量板FM2上的第二基準(zhǔn)標(biāo)記。而后， 主控制裝置20檢測(cè)將主要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl的指針中心作為基準(zhǔn)的第二基準(zhǔn)標(biāo)記的位置，并依據(jù)其檢測(cè)結(jié)果及檢測(cè)時(shí)通過(guò)編碼器陽(yáng)，56，57測(cè)量微動(dòng)載臺(tái)WFS2的位置的結(jié)果，算出將基準(zhǔn)軸La及基準(zhǔn)軸LV作為坐標(biāo)軸的正交坐標(biāo)系統(tǒng)(對(duì)準(zhǔn)坐標(biāo)系統(tǒng))中的第二基準(zhǔn)標(biāo)記的位置坐標(biāo)。其次，主控制裝置20使用編碼器55、56、57，測(cè)量微動(dòng)載臺(tái)WFS2(晶圓載臺(tái)WST2) 在對(duì)準(zhǔn)坐標(biāo)系統(tǒng)中的位置坐標(biāo)，并進(jìn)行EGA(參照第八圖)。詳細(xì)而言，例如在美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2008/0088843號(hào)說(shuō)明書(shū)等所揭示，主控制裝置20使晶圓載臺(tái)WST2，亦即使支撐微動(dòng)載臺(tái)WFS2的粗動(dòng)載臺(tái)WCS2例如在Y軸方向移動(dòng)，在其移動(dòng)路徑上的多處實(shí)施微動(dòng)載臺(tái)WFS2的定位，定位時(shí)使用對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl、ΑΙΛ ΑΙΛ中的至少一個(gè)，檢測(cè)在對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域 (抽樣照射區(qū)域)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在對(duì)準(zhǔn)坐標(biāo)系統(tǒng)中的位置坐標(biāo)。第八圖顯示進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在對(duì)準(zhǔn)坐標(biāo)系統(tǒng)中的位置坐標(biāo)的檢測(cè)時(shí)的微動(dòng)載臺(tái)WFS2的情形。該情況下，各個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl、AU1 ΑΙΛ與上述晶圓載臺(tái)WST2向Y軸方向的移動(dòng)動(dòng)作連動(dòng)，而檢測(cè)在檢測(cè)區(qū)域(例如相當(dāng)于檢測(cè)光的照射區(qū)域)內(nèi)依序布置的沿著X軸方向而排列的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(抽樣標(biāo)記)。因而，在測(cè)量上述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記時(shí)，不在X軸方向驅(qū)動(dòng)晶圓載臺(tái)WST2。而后，主控制裝置20依據(jù)附設(shè)于晶圓W上的抽樣照射區(qū)域的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置坐標(biāo)與設(shè)計(jì)上的位置坐標(biāo)，執(zhí)行例如美國(guó)專利第4，780，617號(hào)說(shuō)明書(shū)等揭示的統(tǒng)計(jì)運(yùn)算 (EGA運(yùn)算)，而算出多個(gè)照射區(qū)域在對(duì)準(zhǔn)坐標(biāo)系統(tǒng)中的位置坐標(biāo)(排列坐標(biāo))。此外，本實(shí)施例的曝光裝置100，由于測(cè)量站300與曝光站200分離，因此主控制裝置20從晶圓對(duì)準(zhǔn)結(jié)果所獲得的晶圓W上各照射區(qū)域的位置坐標(biāo)，減去之前所檢測(cè)的第二基準(zhǔn)標(biāo)記的位置坐標(biāo)，而獲得將第二基準(zhǔn)標(biāo)記的位置作為原點(diǎn)的晶圓W上的復(fù)數(shù)個(gè)照射區(qū)域的位置坐標(biāo)。通常上述的晶圓更換及晶圓對(duì)準(zhǔn)程序比曝光程序早結(jié)束。因而，晶圓對(duì)準(zhǔn)結(jié)束時(shí)， 主控制裝置20將晶圓載臺(tái)WST2驅(qū)動(dòng)于+X方向，并向平臺(tái)14B上的指定的待機(jī)位置移動(dòng)。 此時(shí)，將晶圓載臺(tái)WST2驅(qū)動(dòng)于+X方向時(shí)，微動(dòng)載臺(tái)WFS從微動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)70可測(cè)量的范圍脫離(亦即從第二測(cè)量頭群73照射的各測(cè)量光束超出光柵RG)。因而，主控制裝置20依據(jù)微動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)70 (編碼器55、56、57)的測(cè)量值與相對(duì)位置測(cè)量系統(tǒng)66B 的測(cè)量值，獲得粗動(dòng)載臺(tái)WCS2的位置，之后，依據(jù)粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68B的測(cè)量值控制晶圓載臺(tái)WST2的位置。亦即，從使用編碼器55、56、57測(cè)量晶圓載臺(tái)WST2在XY平面內(nèi)的位置，切換成使用粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68B的測(cè)量。而后，主控制裝置20在對(duì)微動(dòng)載臺(tái) WFSl上的晶圓W曝光結(jié)束前，使晶圓載臺(tái)WST2在上述指定的待機(jī)位置待機(jī)。對(duì)微動(dòng)載臺(tái)WFSl上的晶圓W曝光結(jié)束時(shí)，主控制裝置20開(kāi)始將晶圓載臺(tái)WST1、 WST2朝向第十圖所示的各個(gè)右側(cè)急停位置驅(qū)動(dòng)。晶圓載臺(tái)WSTl朝向右側(cè)急停位置而在-X 方向驅(qū)動(dòng)時(shí)，微動(dòng)載臺(tái)WFSl從微動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)70 (編碼器51、52、53及面位置測(cè)量系統(tǒng)54)可測(cè)量范圍脫離(亦即從第一測(cè)量頭群72照射的測(cè)量光束超出光柵RG)。因而， 主控制裝置20依據(jù)微動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)70 (編碼器51、52、5；3)的測(cè)量值與相對(duì)位置測(cè)量系統(tǒng)66A的測(cè)量值，獲得粗動(dòng)載臺(tái)WCSl的位置，之后，依據(jù)粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68A的測(cè)量值控制晶圓載臺(tái)WSTl的位置。亦即，主控制裝置20從使用編碼器51、52、53測(cè)量晶圓載臺(tái)WSTl在XY平面內(nèi)的位置，切換成使用粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68A的測(cè)量。此外，此時(shí)主控制裝置20使用粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68B測(cè)量晶圓載臺(tái)WST2的位置，并依據(jù)其測(cè)量結(jié)果如第九圖所示，將晶圓載臺(tái)WST2在平臺(tái)14B上沿+Y方向(參照第九圖中的空心箭頭) 驅(qū)動(dòng)。通過(guò)該晶圓載臺(tái)WST2的驅(qū)動(dòng)力的反作用力的作用，平臺(tái)14B發(fā)揮反作用物的功能。此外，主控制裝置20與晶圓載臺(tái)WST1、WST2朝向上述右側(cè)急停位置移動(dòng)的同時(shí)， 依據(jù)相對(duì)位置測(cè)量系統(tǒng)66A的測(cè)量值，將微動(dòng)載臺(tái)WFSl沿+X方向驅(qū)動(dòng)，而接近或接觸于粗動(dòng)載臺(tái)WCSl，并且依據(jù)相對(duì)位置測(cè)量系統(tǒng)66B的測(cè)量值將微動(dòng)載臺(tái)WFS2沿-X方向驅(qū)動(dòng)，而接近或接觸于粗動(dòng)載臺(tái)WCS2。而后，在兩個(gè)晶圓載臺(tái)WST1、WST2移動(dòng)于右側(cè)急停位置的狀態(tài)下，如第十圖所示， 晶圓載臺(tái)WSTl與晶圓載臺(tái)WST2成為在X軸方向接近或接觸的急停狀態(tài)。與此同時(shí)，微動(dòng)載臺(tái)WFSl與粗動(dòng)載臺(tái)WCSl成為急停狀態(tài)，粗動(dòng)載臺(tái)WCS2與微動(dòng)載臺(tái)WFS2成為急停狀態(tài)。 而后，通過(guò)微動(dòng)載臺(tái)WFS1、粗動(dòng)載臺(tái)WCSl的連結(jié)構(gòu)件92b、粗動(dòng)載臺(tái)WCS2的連結(jié)構(gòu)件92b 及微動(dòng)載臺(tái)WFS2的上表面形成在外觀上一體的全平面的表面。隨著晶圓載臺(tái)WSTl及WST2在保持上述三個(gè)急停狀態(tài)下移動(dòng)于_X方向，形成于頂端透鏡191與微動(dòng)載臺(tái)WFSl之間的浸液區(qū)域(液體Lq)向微動(dòng)載臺(tái)WFS1、粗動(dòng)載臺(tái)WCSl 的連結(jié)構(gòu)件92b、粗動(dòng)載臺(tái)WCS2的連結(jié)構(gòu)件92b及微動(dòng)載臺(tái)WFS2上依序移動(dòng)。第十圖顯示浸液區(qū)域(液體Lq)的移動(dòng)開(kāi)始之前的狀態(tài)。另外，在保持上述三個(gè)急停狀態(tài)下驅(qū)動(dòng)晶圓載臺(tái)WSTl與晶圓載臺(tái)WST2時(shí)，優(yōu)選地以防止或抑制液體Lq漏出的方式設(shè)定晶圓載臺(tái)WSTl 與晶圓載臺(tái)WST2的間隙(游隙)、微動(dòng)載臺(tái)WFSl與粗動(dòng)載臺(tái)WCSl的間隙(游隙)、及粗動(dòng)載臺(tái)WCS2與微動(dòng)載臺(tái)WFS2的間隙(游隙)。此時(shí)所謂接近，亦包括成為上述急停狀態(tài)的二個(gè)構(gòu)件間的間隙(游隙)為零的情況，亦即為兩者接觸的情況。浸液區(qū)域(液體Lq)向微動(dòng)載臺(tái)WFS2上的移動(dòng)完成時(shí)，晶圓載臺(tái)WSTl移動(dòng)于平臺(tái)14A上。因此，主控制裝置20為了使其移動(dòng)于第十一圖所示的第一加載位置，而使用粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68A測(cè)量其位置，使晶圓載臺(tái)WSTl在平臺(tái)14A上移動(dòng)于-Y方向，進(jìn)一步移動(dòng)于+X方向。該情況下，晶圓載臺(tái)WSTl向-Y方向移動(dòng)時(shí)，通過(guò)其驅(qū)動(dòng)力的反作用力的作用，平臺(tái)14A發(fā)揮反作用物的功能。此外，亦可在晶圓載臺(tái)WSTl向+X方向移動(dòng)時(shí)，通過(guò)其驅(qū)動(dòng)力的反作用力的作用，使平臺(tái)14A發(fā)揮反作用物的功能。晶圓載臺(tái)WSTl到達(dá)第一加載位置后，主控制裝置20將晶圓載臺(tái)WSTl在XY平面內(nèi)的位置測(cè)量，從使用粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68A的測(cè)量切換成使用編碼器55、56、57的測(cè)量。與上述晶圓載臺(tái)WSTl移動(dòng)的同時(shí)，主控制裝置20驅(qū)動(dòng)晶圓載臺(tái)WST2，并將測(cè)量板FM2定位于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的正下方。在此之前，主控制裝置20測(cè)量晶圓載臺(tái)WST2在 XY平面內(nèi)的位置，從使用粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68B的測(cè)量切換成使用編碼器51、52、53的測(cè)量。而后，使用標(biāo)線片對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)RA1、RA2檢測(cè)測(cè)量板FM2上的一對(duì)第一基準(zhǔn)標(biāo)記，并檢測(cè)與第一基準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)應(yīng)的標(biāo)線片R上的標(biāo)線片對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在晶圓面上投影影像的相對(duì)位置。另夕卜，該檢測(cè)經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL及形成浸液區(qū)域的液體Lq而進(jìn)行。主控制裝置20依據(jù)此時(shí)所檢測(cè)的相對(duì)位置信息，及將先前獲得的微動(dòng)載臺(tái)WFS2 上的第二基準(zhǔn)標(biāo)記作為基準(zhǔn)的晶圓W上各照射區(qū)域的位置信息，算出標(biāo)線片R的圖案的投影位置(投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影中心)與放置于微動(dòng)載臺(tái)WFS2上的晶圓W上的各照射區(qū)域的相對(duì)位置關(guān)系。主控制裝置20依據(jù)其算出結(jié)果，與前述放置于微動(dòng)載臺(tái)WFSl上的晶圓W的情況同樣地，管理微動(dòng)載臺(tái)WFS2 (晶圓載臺(tái)WST2)的位置，并且以步進(jìn)及掃描方式轉(zhuǎn)印標(biāo)線片R的圖案于放置在微動(dòng)載臺(tái)WFS2上的晶圓W上的各照射區(qū)域。第十一圖顯示如此在晶圓W上的各照射區(qū)域轉(zhuǎn)印標(biāo)線片R的圖案時(shí)的情況。在對(duì)上述微動(dòng)載臺(tái)WFS2上的晶圓W進(jìn)行曝光動(dòng)作的同時(shí)，主控制裝置20在第一加載位置執(zhí)行在晶圓搬送機(jī)構(gòu)(無(wú)圖示)與晶圓載臺(tái)WSTl之間的晶圓更換，而在微動(dòng)載臺(tái) WFSl上放置新的晶圓W。此時(shí)，第一加載位置是在晶圓載臺(tái)WSTl上進(jìn)行晶圓更換的位置， 在本實(shí)施例中定義為在主要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl的正下方定位測(cè)量板FMl的微動(dòng)載臺(tái)WFSl (晶圓載臺(tái)WST1)的位置。而后，主控制裝置20使用主要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl檢測(cè)測(cè)量板FMl上的第二基準(zhǔn)標(biāo)記。 另外，在檢測(cè)第二基準(zhǔn)標(biāo)記之前，在晶圓載臺(tái)WSTl在第一加載位置的狀態(tài)下，主控制裝置 20執(zhí)行微動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)70的第二測(cè)量頭群73，亦即編碼器55、56、57(及面位置測(cè)量系統(tǒng)58)的重設(shè)(原點(diǎn)的再設(shè)定)。其后，主控制裝置20管理晶圓載臺(tái)WSTl的位置，并且對(duì)微動(dòng)載臺(tái)WFSl上的晶圓W，進(jìn)行與前述同樣的使用對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1、AIA ΑΙΛ的晶圓對(duì)準(zhǔn)(EGA)。對(duì)微動(dòng)載臺(tái)WFSl上的晶圓W的晶圓對(duì)準(zhǔn)(EGA)結(jié)束，且對(duì)微動(dòng)載臺(tái)WFS2上的晶圓W的曝光亦結(jié)束時(shí)，主控制裝置20將晶圓載臺(tái)WST1、WST2朝向左側(cè)急停位置驅(qū)動(dòng)。該左側(cè)急停位置指晶圓載臺(tái)WST1、WST2在與第十圖所示的右側(cè)急停位置為相對(duì)于前述的基準(zhǔn)軸LV左右對(duì)稱的位置的位置關(guān)系。朝向左側(cè)急停位置驅(qū)動(dòng)中的晶圓載臺(tái)WSTl的位置測(cè)量，按照與前述晶圓載臺(tái)WST2的位置測(cè)量相同的順序進(jìn)行。在該左側(cè)急停位置，晶圓載臺(tái)WSTl與晶圓載臺(tái)WST2也成為前述的急停狀態(tài)，與此同時(shí)，微動(dòng)載臺(tái)WFSl與粗動(dòng)載臺(tái)WCSl也成為急停狀態(tài)，粗動(dòng)載臺(tái)WCS2與微動(dòng)載臺(tái)WFS2也成為急停狀態(tài)。而后，通過(guò)微動(dòng)載臺(tái)WFS1、粗動(dòng)載臺(tái)WCSl的連結(jié)構(gòu)件92b、粗動(dòng)載臺(tái)WCS2 的連結(jié)構(gòu)件92b及微動(dòng)載臺(tái)WFS2的上表面形成外觀上為一體的全平面的表面。主控制裝置20在保持上述三個(gè)急停狀態(tài)下，將晶圓載臺(tái)WST1、WST2沿與之前相反的+X方向驅(qū)動(dòng)。同時(shí)，形成于頂端透鏡191與微動(dòng)載臺(tái)WFS2之間的浸液區(qū)域(液體Lq)與之前相反地向微動(dòng)載臺(tái)WFS2、粗動(dòng)載臺(tái)WCS2的連結(jié)構(gòu)件92b、粗動(dòng)載臺(tái)WCSl的連結(jié)構(gòu)件 92b、微動(dòng)載臺(tái)WFSl上依序移動(dòng)。當(dāng)然保持急停狀態(tài)而移動(dòng)時(shí)，亦與之前同樣地，進(jìn)行晶圓載臺(tái)WST1、WST2的位置測(cè)量。浸液區(qū)域(液體Lq)的移動(dòng)完成時(shí)，主控制裝置20按照與前述同樣的順序開(kāi)始對(duì)晶圓載臺(tái)WSTl上的晶圓W進(jìn)行曝光。與該曝光動(dòng)作同時(shí)，主控制裝置 20與前述同樣地將晶圓載臺(tái)WST2向第二加載位置驅(qū)動(dòng)，而將晶圓載臺(tái)WST2上的曝光后的晶圓W更換成新的晶圓W，并對(duì)新的晶圓W執(zhí)行晶圓對(duì)準(zhǔn)。以后，主控制裝置20反復(fù)執(zhí)行上述的使用晶圓載臺(tái)WST1，WST2的并行處理動(dòng)作。如以上的說(shuō)明，本實(shí)施例的曝光裝置100在曝光動(dòng)作時(shí)及晶圓對(duì)準(zhǔn)時(shí)(主要是對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的測(cè)量時(shí))，在測(cè)量保持晶圓W的微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)的位置信息(XY平面內(nèi)的位置信息及面位置信息)時(shí)，分別使用固定于測(cè)量桿71的第一測(cè)量頭群72及第二測(cè)量頭群73。而后，由于構(gòu)成第一測(cè)量頭群72的編碼器頭75x、75ya、75yb及Z頭76a 76c，以及構(gòu)成第二測(cè)量頭群73的編碼器頭77x、77ya、77yb及Z頭78a 78c，可分別對(duì)布置于微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)的底面的光柵RG，從正下方以最短距離照射測(cè)量光束，因此，因晶圓載臺(tái)WST1，WST2的周邊環(huán)境氣體的溫度變動(dòng)，例如因空氣變動(dòng)造成的測(cè)量誤差小，可精確測(cè)量微動(dòng)載臺(tái)WFS的位置信息。此外，第一測(cè)量頭群72在實(shí)質(zhì)地與晶圓W上的曝光區(qū)域IA中心的曝光位置一致的點(diǎn)測(cè)量微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)在XY平面的位置信息及面位置信息，第二測(cè)量頭群73 在實(shí)質(zhì)地與主要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl的檢測(cè)區(qū)域中心一致的點(diǎn)測(cè)量微動(dòng)載臺(tái)WFS2(或WFS1)在XY 平面內(nèi)的位置信息及面位置信息。因此，可抑制因測(cè)量點(diǎn)與曝光位置在XY平面內(nèi)的位置誤差而產(chǎn)生阿貝誤差，基于這一點(diǎn)，亦可精確獲得微動(dòng)載臺(tái)WFSl或WFS2的位置信息。此外，具有第一測(cè)量頭群72及第二測(cè)量頭群73的測(cè)量桿71，由于在垂掛狀態(tài)下固定于固定有鏡筒40的主框架BD，因此，可將保持于鏡筒40的投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸作為基準(zhǔn)，實(shí)施晶圓載臺(tái)WSTl (或WST2)的精確位置控制。此外，由于測(cè)量桿71與除主框架BD 以外的構(gòu)件(例如平臺(tái)14A、14B、底座12等)機(jī)械性非接觸狀態(tài)，因此不致傳導(dǎo)平臺(tái)14A、 14B、晶圓載臺(tái)WST1、WST2等被驅(qū)動(dòng)時(shí)的振動(dòng)等。因此，通過(guò)使用第一測(cè)量頭群72及第二測(cè)量頭群73可精確測(cè)量晶圓載臺(tái)WSTl (或WST2)的位置信息。此外，由于本實(shí)施例的晶圓載臺(tái)WSTl、WST2在微動(dòng)載臺(tái)WFSl (或WFS2)的周圍布置粗動(dòng)載臺(tái)WCSl (或WCS2)，因此相比于在粗動(dòng)載臺(tái)上搭載微動(dòng)載臺(tái)的粗微動(dòng)結(jié)構(gòu)的晶圓載臺(tái)，可縮小晶圓載臺(tái)WST1、WST2的高度方向(Z軸方向)的尺寸。因而，可縮短構(gòu)成粗動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)62A，62B的平面馬達(dá)的推力的作用點(diǎn)(亦即粗動(dòng)載臺(tái)WCSl (或WCS2)的底面與平臺(tái)14A、14B上表面之間)，與晶圓載臺(tái)WST1、WST2的重心在Z軸方向的距離，可減低驅(qū)動(dòng)晶圓載臺(tái)WST1、WST2時(shí)的俯仰力矩(或傾覆力矩)。因此晶圓載臺(tái)WST1、WST2的動(dòng)作穩(wěn)定。此外，在本實(shí)施例的曝光裝置100中，形成晶圓載臺(tái)WSTl、WST2沿著XY平面移動(dòng)時(shí)使用的引導(dǎo)面的平臺(tái)，由二個(gè)平臺(tái)14A、14B構(gòu)成以對(duì)應(yīng)于二個(gè)晶圓載臺(tái)WST1、WST2。由于在通過(guò)平面馬達(dá)(粗動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)62A，62B)驅(qū)動(dòng)晶圓載臺(tái)WST1、WST2時(shí)，這二個(gè)平臺(tái) 14AU4B獨(dú)立發(fā)揮反作用物的功能，因此，即使例如將晶圓載臺(tái)WSTl與晶圓載臺(tái)WST2在平臺(tái)14A、14B上分別于Y軸方向上彼此相反的方向驅(qū)動(dòng)，仍可分別地消除平臺(tái)14A、14B分別作用的反作用力。
另外，在上述實(shí)施例中，盡管就使用由在平臺(tái)上的指定范圍內(nèi)沿XY 二維方向移動(dòng)的粗動(dòng)載臺(tái)與在粗動(dòng)載臺(tái)上微小驅(qū)動(dòng)的微動(dòng)載臺(tái)而構(gòu)成的粗微動(dòng)載臺(tái)作為晶圓載臺(tái)的情況作了說(shuō)明，不過(guò)不限于此，晶圓載臺(tái)的結(jié)構(gòu)可作各種變形。第十二(A)圖顯示上述實(shí)施例的晶圓載臺(tái)的一個(gè)變形例的平面圖，第十二(B)圖顯示第十二(A)圖沿B-B線的剖面圖。 在第十二(A)圖所示的變形例的晶圓載臺(tái)WST3中，對(duì)應(yīng)于上述實(shí)施例的微動(dòng)載臺(tái)的構(gòu)件 180(在上面保持晶圓W、并在下面具有光柵RG的平板狀的構(gòu)件)和對(duì)應(yīng)于粗動(dòng)載臺(tái)的從平面觀察為矩形框狀的構(gòu)件190 —體地固定，而整體形狀形成平板狀。晶圓載臺(tái)WST3分別在 +Υ、_Υ側(cè)的端部具有磁鐵單元196a、196b。晶圓載臺(tái)WST3通過(guò)由磁鐵單元196a、196b與平臺(tái)的線圈單元(省略圖標(biāo))而構(gòu)成的可在六個(gè)自由度方向產(chǎn)生推力的平面馬達(dá)，在平臺(tái)上沿著XY平面驅(qū)動(dòng)(亦即，平面馬達(dá)發(fā)揮粗微動(dòng)兼用的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的功能)。另外，此時(shí)平面馬達(dá)亦可為動(dòng)磁式，亦可為動(dòng)圈式，任何一種均可適用。此外，盡管上述實(shí)施例的曝光裝置具有對(duì)應(yīng)于二個(gè)晶圓載臺(tái)的二個(gè)平臺(tái)，不過(guò)平臺(tái)數(shù)量不限于此，例如亦可為一個(gè)或三個(gè)以上。此外，晶圓載臺(tái)的數(shù)量亦不限于二個(gè)，亦可為一個(gè)或三個(gè)以上。例如亦可將美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2007/0201010號(hào)說(shuō)明書(shū)所揭示的具有空間影像測(cè)量器、照度不均勻測(cè)量器、照度監(jiān)視器、波面像差測(cè)量器等的測(cè)量載臺(tái)布置于平臺(tái)上。此外，使平臺(tái)或基座構(gòu)件分離為多個(gè)部分的邊界線的位置，并非限于上述實(shí)施例的位置。在上述實(shí)施例中，邊界線設(shè)定于包括基準(zhǔn)軸LV而與光軸AX相交的線，不過(guò)，例如曝光站中有邊界時(shí)，其部分的平面馬達(dá)的推力減弱情況下，亦可將邊界線設(shè)定于別處。此外，例如亦可通過(guò)美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2007/0201010號(hào)說(shuō)明書(shū)所揭示的自重消除器可以在底座上支撐測(cè)量桿71長(zhǎng)度方向的中間部分(亦可在多個(gè)位置)。此外，在底座12上驅(qū)動(dòng)平臺(tái)14A、14B的馬達(dá)不限于電磁力(洛蘭茲力)驅(qū)動(dòng)方式的平面馬達(dá)，例如亦可為可變磁阻驅(qū)動(dòng)方式的平面馬達(dá)(或線性馬達(dá))。此外，馬達(dá)不限于平面馬達(dá)，亦可為包括固定于平臺(tái)的側(cè)面的動(dòng)子與固定于底座的定子的音圈馬達(dá)。此外，平臺(tái)亦可為例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2007/0201010號(hào)說(shuō)明書(shū)等揭示的經(jīng)由自重消除器而在底座上支撐。再者，平臺(tái)的驅(qū)動(dòng)方向不限定于三個(gè)自由度方向，亦可為例如六個(gè)自由度方向、僅Y軸方向或是僅XY兩個(gè)軸方向。此種情況下，亦可通過(guò)氣體靜壓軸承(例如空氣軸承)等使平臺(tái)在底座上浮起。此外，平臺(tái)的移動(dòng)方向僅為Y軸方向即可時(shí)，平臺(tái)亦可例如搭載于在Y軸方向上延伸布置的Y引導(dǎo)構(gòu)件上以在Y軸方向可以移動(dòng)。此外，在上述實(shí)施例中，在微動(dòng)載臺(tái)的下表面，亦即與平臺(tái)的上表面相對(duì)的表面布置光柵，不過(guò)不限于此，亦可將微動(dòng)載臺(tái)的本體部作為光可透過(guò)的實(shí)心構(gòu)件，而將光柵布置于本體部的上表面。該情況下與上述實(shí)施例比較，由于晶圓與光柵的距離接近，因此可縮小因包括曝光點(diǎn)的晶圓的被曝光面與通過(guò)編碼器51、52、53測(cè)量微動(dòng)載臺(tái)的位置的基準(zhǔn)面 (光柵的布置面)在Z軸方向的差異而產(chǎn)生的阿貝(Abbe)誤差。此外，光柵亦可形成于晶圓保持器的背面。該情況下，即使在曝光中晶圓保持器膨脹或安裝位置對(duì)微動(dòng)載臺(tái)有偏差時(shí)，仍可根據(jù)該膨脹或偏差而測(cè)量晶圓保持器(晶圓)的位置。此外，上述實(shí)施例中，就編碼器系統(tǒng)具備X頭與一對(duì)Y頭的情況作了說(shuō)明，不過(guò)不限于此，例如亦可將X軸方向及Y軸方向的二個(gè)方向作為測(cè)量方向的二維頭(2D頭)布置于一個(gè)或二個(gè)測(cè)量桿內(nèi)。設(shè)置二個(gè)2D頭的情況下，這些檢測(cè)點(diǎn)亦可設(shè)置在光柵上以曝光位置為中心而在X軸方向離開(kāi)相同距離的兩點(diǎn)。此外，上述實(shí)施例中每一個(gè)頭群的頭數(shù)分別為一個(gè)X頭、二個(gè)Y頭，不過(guò)亦可進(jìn)一步增加。此外，曝光站200側(cè)的第一測(cè)量頭群72亦可進(jìn)一步具有多個(gè)頭群。例如可在布置于與曝光位置(晶圓W曝光中的照射區(qū)域)對(duì)應(yīng)的位置的頭群各個(gè)周圍(+x、+Y、-X、-Y方向的四個(gè)方向)進(jìn)一步設(shè)頭群。而后，亦可以所謂預(yù)讀測(cè)量前述照射區(qū)域曝光之前的微動(dòng)載臺(tái)(晶圓W)的位置。此外，構(gòu)成微動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)70的編碼器系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)不限于上述實(shí)施例，可為任意結(jié)構(gòu)。例如亦可使用可測(cè)量X軸、 Y軸及Z軸各方向的位置信息的3D頭。此外，上述實(shí)施例從編碼器頭射出的測(cè)量光束、從Z頭射出的測(cè)量光束分別經(jīng)由二個(gè)平臺(tái)間的間隙或者形成于各平臺(tái)的光透過(guò)部而照射于微動(dòng)載臺(tái)的光柵。該情況下，作為光透過(guò)部，亦可例如考慮將平臺(tái)14Α或14Β的移動(dòng)范圍作為反作用物，而將比各測(cè)量光束的光束直徑稍大的孔分別形成于平臺(tái)14Α、14Β，使測(cè)量光束通過(guò)這些多個(gè)開(kāi)口部。此外， 例如亦可使用鉛筆型的頭作為各編碼器頭和各Z頭，而在各平臺(tái)中形成插入這些頭的開(kāi)口部。另外，在上述實(shí)施例中，說(shuō)明了伴隨驅(qū)動(dòng)晶圓載臺(tái)WST1、WST2的粗動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)62Α、62Β采用平面馬達(dá)，而通過(guò)具有平面馬達(dá)的定子部的平臺(tái)14Α、14Β,形成沿著晶圓載臺(tái)WST1、WST2的XY平面而移動(dòng)時(shí)的引導(dǎo)面(產(chǎn)生Z軸方向的力的面)的情況。但是，上述實(shí)施例并非限定于此。此外，上述實(shí)施例在微動(dòng)載臺(tái)WFS1、WFS2上設(shè)測(cè)量面(光柵RG)，并在測(cè)量桿71上設(shè)置由編碼器頭(及Z頭)構(gòu)成的第一測(cè)量頭群72 (及第二測(cè)量頭群73)， 不過(guò)上述實(shí)施例并非限定于此。亦即，亦可與上述相反地，將編碼器頭(及Z頭)設(shè)于微動(dòng)載臺(tái)WFS1，而在測(cè)量桿71側(cè)形成測(cè)量面(光柵RG)。此種相反布置例如可適用于電子束曝光裝置或EUV曝光裝置等采用的在所謂H型載臺(tái)上組合磁浮的載臺(tái)而構(gòu)成的載臺(tái)裝置。由于該載臺(tái)裝置的載臺(tái)通過(guò)引導(dǎo)桿支撐，因此在載臺(tái)的下方布置與載臺(tái)相對(duì)而設(shè)置的標(biāo)尺桿 (Scale bar)(相當(dāng)于在測(cè)量桿的表面形成衍射光柵)，并在與其相對(duì)的載臺(tái)的下面布置編碼器頭的至少一部分(光學(xué)系統(tǒng)等)。該情況下，通過(guò)該引導(dǎo)桿構(gòu)成引導(dǎo)面形成構(gòu)件。當(dāng)然亦可為其它結(jié)構(gòu)。在測(cè)量桿71側(cè)設(shè)置光柵RG的位置，例如亦可為測(cè)量桿71，亦可為設(shè)于平臺(tái)14A(14B)上的整個(gè)表面或至少一個(gè)表面的非磁性材料等的板。另外，上述實(shí)施例由于將測(cè)量桿71—體地固定于主框架BD，因此有可能因內(nèi)部應(yīng)力(包括熱應(yīng)力)而在測(cè)量桿71上產(chǎn)生扭曲等，而使測(cè)量桿71與主框架BD的相對(duì)位置變化。因此，此時(shí)的對(duì)策是測(cè)量測(cè)量桿71的位置(對(duì)主框架BD的相對(duì)位置或?qū)鶞?zhǔn)位置的位置變化)，亦可以通過(guò)致動(dòng)器等微調(diào)整測(cè)量桿71的位置或是修正測(cè)量結(jié)果等。此外，上述實(shí)施例說(shuō)明測(cè)量桿71與主框架BD為一體的情況，不過(guò)不限于此，測(cè)量桿71與主框架BD亦可實(shí)體性分離。此時(shí)可設(shè)置測(cè)量測(cè)量桿71關(guān)于主框架BD(或是基準(zhǔn)位置)的位置(或是位移)的測(cè)量裝置(例如編碼器及/或干涉儀等)，以及調(diào)整測(cè)量桿 71的位置的致動(dòng)器等，主控制裝置20及其它控制裝置依據(jù)測(cè)量裝置的測(cè)量結(jié)果，將主框架 BD (及投影光學(xué)系統(tǒng)PL)與測(cè)量桿71的位置關(guān)系維持在指定的關(guān)系(例如，恒定的關(guān)系)。此外，亦可在測(cè)量桿71中設(shè)置通過(guò)光學(xué)性方法而測(cè)量測(cè)量桿71的變動(dòng)的測(cè)量系統(tǒng)(傳感器)、溫度傳感器、壓力傳感器、振動(dòng)測(cè)量用的加速度傳感器等?；蚴且嗫稍O(shè)置測(cè)量測(cè)量桿71的變動(dòng)的應(yīng)變傳感器(應(yīng)變計(jì))或位移傳感器等。而后，亦可使用這些傳感器獲得的值，來(lái)修正由微動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)70及/或粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)68A、68B所獲得
25的位置信息。此外，在上述實(shí)施例中，說(shuō)明了經(jīng)由各個(gè)粗動(dòng)載臺(tái)WCS1、WCS2具備的連結(jié)構(gòu)件 92b，在微動(dòng)載臺(tái)WFSl與微動(dòng)載臺(tái)WFS2之間過(guò)渡浸液區(qū)域(液體Lq)，將浸液區(qū)域(液體 Lq)始終維持于投影光學(xué)系統(tǒng)PL下方的情況。但是不限于此，亦可使與例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2004/0211920號(hào)說(shuō)明書(shū)的第三種實(shí)施例所揭示的同樣結(jié)構(gòu)的未示出的快門構(gòu)件， 通過(guò)與晶圓載臺(tái)WST1、WST2的更換而移動(dòng)于投影光學(xué)系統(tǒng)PL下方，而將浸液區(qū)域(液體 Lq)始終維持于投影光學(xué)系統(tǒng)PL下方。此外，在上述實(shí)施例中，說(shuō)明了將上述實(shí)施例適用于曝光裝置的載臺(tái)裝置(晶圓載臺(tái))50的情況，不過(guò)并非限定于此者，亦可適用于標(biāo)線片載臺(tái)RST。另外，上述實(shí)施例中，光柵RG亦可通過(guò)保護(hù)構(gòu)件，例如通過(guò)玻璃蓋覆蓋作保護(hù)。玻璃蓋亦可設(shè)成覆蓋本體部80下表面的大致全部，亦可設(shè)成僅覆蓋包括光柵RG的本體部80 下表面的一部分。此外，因?yàn)楸Ｗo(hù)光柵RG需要充分的厚度，應(yīng)采用板狀的保護(hù)構(gòu)件，不過(guò)亦可依素材而使用薄膜狀的保護(hù)構(gòu)件。除此之外，亦可將一個(gè)表面固定或形成光柵RG的透明板的另一表面接觸或接近晶圓保持器的背面而布置，且在其透明板的一個(gè)表面?zhèn)仍O(shè)置保護(hù)構(gòu)件(玻璃蓋)，或是不設(shè)保護(hù)構(gòu)件(玻璃蓋)，而將固定或形成光柵RG的透明板的一個(gè)表面接觸或接近晶圓保持器的背面而布置。特別是前者，亦可取代透明板而改為在陶瓷等不透明的構(gòu)件上固定或形成光柵RG，或是亦可在晶圓保持器的背面固定或形成光柵RG。后者的情況，即使在曝光中晶圓保持器膨脹或安裝位置相對(duì)微動(dòng)載臺(tái)偏差時(shí)，仍可根據(jù)該膨脹或偏差而測(cè)量晶圓保持器 (晶圓)的位置?；蚴且嗫稍谙惹暗奈?dòng)載臺(tái)上僅保持晶圓保持器與光柵RG。此外，亦可通過(guò)實(shí)心的玻璃構(gòu)件形成晶圓保持器，而在該玻璃構(gòu)件的上面(晶圓放置面)布置光柵RG。另外，上述實(shí)施例說(shuō)明了晶圓載臺(tái)組合粗動(dòng)載臺(tái)與微動(dòng)載臺(tái)的粗微動(dòng)載臺(tái)的情況，不過(guò)并非限定于此者。此外，上述實(shí)施例的微動(dòng)載臺(tái)WFS1、WFS2可在全部六個(gè)自由度方向被驅(qū)動(dòng)，不過(guò)不限于此，只須至少可在平行于XY平面的的二維平面內(nèi)移動(dòng)即可。再者，微動(dòng)載臺(tái)WFS1、WFS2亦可由粗動(dòng)載臺(tái)WCSl或WCS2接觸支撐。因此，相對(duì)于粗動(dòng)載臺(tái)WCSl或 WCS2驅(qū)動(dòng)微動(dòng)載臺(tái)WFS1、WFS2的微動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，亦可為例如旋轉(zhuǎn)馬達(dá)與滾珠螺桿(或進(jìn)給螺桿)的組合。另外，亦可以以可在晶圓載臺(tái)的整個(gè)移動(dòng)范圍區(qū)域?qū)嵤┢湮恢脺y(cè)量的方式而構(gòu)成微動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)。該情況下不需要粗動(dòng)載臺(tái)位置測(cè)量系統(tǒng)。另外，上述實(shí)施例的曝光裝置使用的晶圓亦可為450mm晶圓、300mm晶圓等各種尺寸的晶圓的任何一種。另外，上述實(shí)施例說(shuō)明了曝光裝置為浸液型的曝光裝置的情況，不或并非限定于此者，上述實(shí)施例亦可合適地適用于不經(jīng)由液體(水)而進(jìn)行晶圓W的曝光的干式曝光裝置。另外，上述實(shí)施例說(shuō)明了曝光裝置是掃描步進(jìn)機(jī)的情況，不過(guò)不限于此，亦可在步進(jìn)機(jī)等靜止型曝光裝置中適用上述實(shí)施例。即使為步進(jìn)機(jī)等，通過(guò)編碼器測(cè)量搭載曝光對(duì)象的物體的載臺(tái)位置，仍可使因空氣變動(dòng)而發(fā)生的位置測(cè)量誤差幾乎為零。因而，可依據(jù)編碼器的測(cè)量值將載臺(tái)精確地定位，結(jié)果可將精確的標(biāo)線片圖案轉(zhuǎn)印至物體上。此外，上述實(shí)施例亦可適用于合成照射區(qū)域與照射區(qū)域的步進(jìn)及縫合(Step and stitch)方式的縮小投影曝光裝置。此外，上述實(shí)施例的曝光裝置中的投影光學(xué)系統(tǒng)，不僅為縮小系統(tǒng)，亦可為等倍系統(tǒng)或擴(kuò)大系統(tǒng)，投影光學(xué)系統(tǒng)不僅為折射系統(tǒng)，亦可為反射系統(tǒng)或反射折射系統(tǒng)，其投影像亦可為倒立影像或正立影像。此外，照明光IL不限于氟化氬準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)193nm)，亦可為氟化氪(KrF)準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)M8nm)等的紫外光，或是氟(F》激光(波長(zhǎng)157nm)等的真空紫外光。例如美國(guó)專利第7，023，610號(hào)說(shuō)明書(shū)所揭示，亦可使用將真空紫外光為從DFB半導(dǎo)體激光器或光纖激光器振蕩的紅外光帶或可視光帶的單一波長(zhǎng)激光，例如以摻雜鉺(或鉺與鐿兩者) 的光纖放大器放大，并使用非線形光學(xué)結(jié)晶而轉(zhuǎn)換波長(zhǎng)為紫外光的高次諧波。此外，上述實(shí)施例的曝光裝置的照明光IL不限于波長(zhǎng)為IOOnm以上的光，當(dāng)然亦可使用波長(zhǎng)未達(dá)IOOnm的光。例如亦可在使用軟X射線區(qū)域(例如5 15nm的波長(zhǎng)帶) 的EUV(極紫外)光的EUV曝光裝置中適用上述實(shí)施例。另外，上述實(shí)施例亦可適用于使用電子線或離子束等帶電粒子線的曝光裝置。此外，上述的實(shí)施例中，使用在光透過(guò)性的基板上形成指定的遮光圖案(或相位圖案、減光圖案)的光透過(guò)型屏蔽(標(biāo)線片)，不過(guò)亦可取代該標(biāo)線片，而使用例如美國(guó)專利第6，778，257號(hào)說(shuō)明書(shū)所揭示，依據(jù)須曝光的圖案的電子數(shù)據(jù)，形成透過(guò)圖案或反射圖案或是發(fā)光圖案的電子屏蔽(包括可變成形屏蔽、主動(dòng)屏蔽(Active mask)、或是亦稱為影像產(chǎn)生器的例如一種非發(fā)光型影像顯示組件(空間光調(diào)制器)的DMD (數(shù)字微反射鏡裝置) 等)。使用此種可變成形屏蔽的情況下，由于搭載晶圓或玻璃板等的載臺(tái)對(duì)可變成形屏蔽掃描，因此通過(guò)使用編碼器系統(tǒng)測(cè)量該載臺(tái)的位置，可獲得與上述實(shí)施例同等的效果。此外，例如國(guó)際公開(kāi)第2001/035168號(hào)所揭示，在通過(guò)將干涉條紋形成于晶圓W 上，而在晶圓W上形成線及空間圖案的曝光裝置(微影系統(tǒng))中亦可適用上述實(shí)施例。再者，例如美國(guó)專利第6，611，316號(hào)說(shuō)明書(shū)所揭示，在將二個(gè)標(biāo)線片圖案經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)合成于晶圓上，通過(guò)一次掃描曝光而在晶圓上的一個(gè)照射區(qū)域大致同時(shí)實(shí)施雙重曝光的曝光裝置中，亦可適用上述實(shí)施例。另外，上述實(shí)施例中應(yīng)形成圖案的物體(照射能量光束的曝光對(duì)象的物體)不限于晶圓，亦可為玻璃板、陶瓷基板、薄膜構(gòu)件或是光罩素板等其它物體。曝光裝置的用途不限于用在半導(dǎo)體制造用的曝光裝置，亦可廣泛適用于例如在方形玻璃板上轉(zhuǎn)印液晶顯示組件圖案的液晶用曝光裝置；或用于制造有機(jī)EL、薄膜磁頭、攝像組件(C⑶等)、微型機(jī)器及DNA芯片等的曝光裝置。此外，除了半導(dǎo)體組件等的微型裝置夕卜，為了制造光曝光裝置、EUV曝光裝置、X射線曝光裝置、及電子線曝光裝置等使用的標(biāo)線片或屏蔽，而在玻璃基板或硅晶圓等上轉(zhuǎn)印電路圖案的曝光裝置中，亦可適用上述實(shí)施例。另外，關(guān)于上述說(shuō)明所引用的曝光裝置等的全部公報(bào)、國(guó)際公開(kāi)、美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)說(shuō)明書(shū)及美國(guó)專利說(shuō)明書(shū)的揭示內(nèi)容，以引用的方式納入本文中。半導(dǎo)體組件等的電子裝置經(jīng)過(guò)以下步驟而制造進(jìn)行裝置的功能、性能設(shè)計(jì)的步驟；依據(jù)該設(shè)計(jì)步驟制作標(biāo)線片的步驟；從硅材料制作晶圓的步驟；通過(guò)前述實(shí)施例的曝光裝置(圖案形成裝置)及其曝光方法，將屏蔽(標(biāo)線片)的圖案轉(zhuǎn)印至晶圓的微影步驟； 將曝光的晶圓予以顯像的顯像步驟；通過(guò)蝕刻除去抗蝕劑殘留部分以外的部分的露出構(gòu)件的蝕刻步驟；蝕刻后除去不需要的抗蝕劑的抗蝕劑除去步驟；裝置組合步驟(包括切割制程、接合制程及封裝制程)；以及檢查步驟等。該情況下，由于微影步驟使用上述實(shí)施例的曝光裝置執(zhí)行前述的曝光方法而在晶圓上形成裝置圖案，因此可生產(chǎn)性良好地制造高集成度的裝置。工業(yè)適用性如以上說(shuō)明，本發(fā)明的曝光裝置適合通過(guò)能量光束將物體曝光。此外，本發(fā)明的裝置制造方法適合制造電子裝置。
權(quán)利要求
1.一種曝光裝置，其經(jīng)由被第一支撐構(gòu)件所支撐的光學(xué)系統(tǒng)，通過(guò)能量光束將物體曝光，所述裝置包括移動(dòng)體，其保持所述物體，并可沿著指定的二維平面移動(dòng)；弓丨導(dǎo)面形成構(gòu)件，其形成所述移動(dòng)體沿著所述二維平面移動(dòng)時(shí)的引導(dǎo)面；第一驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)體；第二支撐構(gòu)件，其經(jīng)由所述引導(dǎo)面形成構(gòu)件，從所述引導(dǎo)面形成構(gòu)件離開(kāi)而布置于與所述光學(xué)系統(tǒng)相反的一側(cè)，并固定于所述第一支撐構(gòu)件；及測(cè)量系統(tǒng)，其包括第一測(cè)量構(gòu)件，所述第一測(cè)量構(gòu)件用測(cè)量光束照射與所述二維平面平行的測(cè)量面，并接收來(lái)自所述測(cè)量面的光，并且所述測(cè)量系統(tǒng)依據(jù)該第一測(cè)量構(gòu)件的輸出獲得所述移動(dòng)體至少在所述二維平面內(nèi)的位置信息，所述測(cè)量面設(shè)于所述移動(dòng)體與所述第二支撐構(gòu)件中的一個(gè)處，所述第一測(cè)量構(gòu)件的至少一部分設(shè)于所述移動(dòng)體與所述第二支撐構(gòu)件的另一個(gè)處。
2.根據(jù)權(quán)利要求第1項(xiàng)所述的曝光裝置，其中所述第二支撐構(gòu)件是平行于所述二維平面布置的梁狀構(gòu)件。
3.根據(jù)權(quán)利要求第2項(xiàng)所述的曝光裝置，其中所述梁狀構(gòu)件在其長(zhǎng)度方向的兩端部以垂掛狀態(tài)固定到所述第一支撐構(gòu)件。
4.根據(jù)權(quán)利要求第1 3項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中在所述測(cè)量面上布置其周期方向在平行于所述二維平面的方向上的光柵，所述第一測(cè)量構(gòu)件包括編碼器頭，所述編碼器頭用所述測(cè)量光束照射所述光柵，并接收來(lái)自所述光柵的衍射光。
5.根據(jù)權(quán)利要求第1 4項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中所述引導(dǎo)面形成構(gòu)件是平臺(tái)，所述平臺(tái)布置在所述第二支撐構(gòu)件的所述光學(xué)系統(tǒng)側(cè)，從而與所述移動(dòng)體相對(duì)，并且， 所述平臺(tái)具有平行于在與所述移動(dòng)體相對(duì)的一側(cè)的一個(gè)表面上形成的所述二維平面的所述引導(dǎo)面。
6.根據(jù)權(quán)利要求第5項(xiàng)所述的曝光裝置，其中所述平臺(tái)具有所述測(cè)量光束能夠通過(guò)的光透過(guò)部。
7.根據(jù)權(quán)利要求第5或6項(xiàng)所述的曝光裝置，其中第一驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)包括平面馬達(dá)，所述平面馬達(dá)具有設(shè)于所述移動(dòng)體的動(dòng)子與設(shè)于所述平臺(tái)的定子，通過(guò)在該定子與所述動(dòng)子之間產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力而驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)體。
8.根據(jù)權(quán)利要求第7項(xiàng)所述的曝光裝置，其中進(jìn)一步具備基座構(gòu)件，所述基座構(gòu)件支撐所述平臺(tái)使得所述平臺(tái)能夠在平行于所述二維平面的平面內(nèi)移動(dòng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求第8項(xiàng)所述的曝光裝置，其中進(jìn)一步具備平臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，所述平臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)包括設(shè)于所述基座構(gòu)件的定子與設(shè)于所述平臺(tái)的動(dòng)子，并且通過(guò)在該動(dòng)子與所述定子之間產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力，而相對(duì)于所述基座構(gòu)件驅(qū)動(dòng)所述平臺(tái)。
10.根據(jù)權(quán)利要求第1 9項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中所述測(cè)量面設(shè)于所述移動(dòng)體上，所述第一測(cè)量構(gòu)件的所述至少一部分布置于所述第二支撐構(gòu)件上。
11.根據(jù)權(quán)利要求第10項(xiàng)所述的曝光裝置，其中所述移動(dòng)體具有第一表面和第二表面，所述第一表面與所述光學(xué)系統(tǒng)相對(duì)且平行于所述二維平面，在所述第一表面上放置所述物體，所述第二表面在與所述第一表面相反的一側(cè)且平行于所述二維平面，在所述第二表面上布置所述測(cè)量面。
12.根據(jù)權(quán)利要求第10或11項(xiàng)所述的曝光裝置，其中所述移動(dòng)體包括第一移動(dòng)構(gòu)件，其通過(guò)所述第一驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)而驅(qū)動(dòng)；及第二移動(dòng)構(gòu)件，其保持所述物體，并由所述第一移動(dòng)構(gòu)件支撐從而能夠相對(duì)于所述第一移動(dòng)構(gòu)件移動(dòng)；所述測(cè)量面布置于所述第二移動(dòng)構(gòu)件。
13.根據(jù)權(quán)利要求第12項(xiàng)所述的曝光裝置，其中進(jìn)一步具備第二驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，所述第二驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)在包括在所述二維平面內(nèi)彼此正交的第一軸方向及第二軸方向的六個(gè)自由度方向上相對(duì)所述第一移動(dòng)構(gòu)件驅(qū)動(dòng)所述第二移動(dòng)構(gòu)件。
14.根據(jù)權(quán)利要求第10 13項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中所述測(cè)量系統(tǒng)具有一個(gè)或二個(gè)或更多個(gè)所述第一測(cè)量構(gòu)件，所述第一測(cè)量構(gòu)件在所述測(cè)量面上實(shí)質(zhì)的測(cè)量軸通過(guò)的測(cè)量中心與作為照射于所述物體的能量光束的照射區(qū)域中心的曝光位置一致。
15.根據(jù)權(quán)利要求第10 14項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中進(jìn)一步包括標(biāo)記測(cè)量系統(tǒng)，所述標(biāo)記測(cè)量系統(tǒng)檢測(cè)布置于所述物體上的標(biāo)記，其中，所述測(cè)量系統(tǒng)進(jìn)一步具有一個(gè)或二個(gè)或更多個(gè)第二測(cè)量構(gòu)件，所述第二測(cè)量構(gòu)件在所述測(cè)量面上實(shí)質(zhì)的測(cè)量軸通過(guò)的測(cè)量中心，與所述標(biāo)記測(cè)量系統(tǒng)的測(cè)量中心一致。
16.根據(jù)權(quán)利要求第1 15項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中所述移動(dòng)體通過(guò)所述第一驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)在六個(gè)自由度方向上被驅(qū)動(dòng)。
17.根據(jù)權(quán)利要求第1 16項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中所述測(cè)量系統(tǒng)能夠進(jìn)一步獲得所述移動(dòng)體在與所述二維平面正交的方向上的位置信息。
18.根據(jù)權(quán)利要求第17項(xiàng)所述的曝光裝置，其中所述測(cè)量系統(tǒng)至少在不在同一直線的三處獲得所述移動(dòng)體在與所述二維平面正交的方向上的位置信息。
19.一種曝光裝置，其經(jīng)由被第一支撐構(gòu)件所支撐的光學(xué)系統(tǒng)，而通過(guò)能量光束將物體曝光，所述裝置包括移動(dòng)體，其保持所述物體，并能夠沿著指定的二維平面移動(dòng)；第二支撐構(gòu)件，其固定于所述第一支撐構(gòu)件；第一驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)體；移動(dòng)體支撐構(gòu)件，其布置于所述光學(xué)系統(tǒng)與所述第二支撐構(gòu)件之間以從該第二支撐構(gòu)件離開(kāi)，所述移動(dòng)體沿著所述二維平面移動(dòng)時(shí)，所述移動(dòng)體支撐構(gòu)件以該移動(dòng)體的與所述第二支撐構(gòu)件的長(zhǎng)度方向正交的方向上的至少兩點(diǎn)支撐所述移動(dòng)體；及測(cè)量系統(tǒng)，其包括第一測(cè)量構(gòu)件，所述第一測(cè)量構(gòu)件用測(cè)量光束照射與所述二維平面平行的測(cè)量面，并接收來(lái)自所述測(cè)量面的光，并且所述測(cè)量系統(tǒng)依據(jù)該第一測(cè)量構(gòu)件的輸出獲得所述移動(dòng)體至少在所述二維平面內(nèi)的位置信息，所述測(cè)量面設(shè)于所述移動(dòng)體與所述第二支撐構(gòu)件中的一個(gè)處，所述第一測(cè)量構(gòu)件的至少一部分設(shè)于所述移動(dòng)體與所述第二支撐構(gòu)件的另一個(gè)處。
20.根據(jù)權(quán)利要求第19項(xiàng)所述的曝光裝置，其中所述移動(dòng)體支撐構(gòu)件是平臺(tái)，其布置在所述第二支撐構(gòu)件的所述光學(xué)系統(tǒng)側(cè)從而與所述移動(dòng)體相對(duì)，并且所述平臺(tái)具有平行于在與所述移動(dòng)體相對(duì)的一側(cè)的一個(gè)表面上形成的所述二維平面的所述引導(dǎo)面。
21.根據(jù)權(quán)利要求第1或19項(xiàng)所述的曝光裝置，其中進(jìn)一步包括控制系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)使用由所述測(cè)量系統(tǒng)獲得的測(cè)量信息，經(jīng)由所述第一驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)而控制所述移動(dòng)體的位置。
22. 一種裝置制造方法，其包括使用根據(jù)權(quán)利要求第1 21項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置將物體曝光；及將所曝光的物體顯影。
全文摘要
本發(fā)明使用布置于微動(dòng)載臺(tái)(WFS1，WFS2)下面的光柵，通過(guò)布置于平臺(tái)(14A、14B)下方的測(cè)量桿(71)具有的多個(gè)編碼器頭、Z頭等，在投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)的正下方及主要對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(AL1)的正下方，分別測(cè)量曝光中及對(duì)準(zhǔn)中的晶圓載臺(tái)(WST1和WST2)的各個(gè)位置信息。因此可執(zhí)行晶圓載臺(tái)(WST1，WST2)的位置信息的高精度測(cè)量。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102460305SQ20108002724
公開(kāi)日2012年5月16日 申請(qǐng)日期2010年6月21日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月19日
發(fā)明者一之瀨剛 申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康