專利名稱：平面電機及應用其的掩模臺系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及一種承版臺驅(qū)動技術(shù)，且特別涉及一種平面電機及應用其的掩模臺系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
光刻設備是一種將掩模圖案曝光成像到硅片上的設備。已知的光刻設備包括步進重復式和步進掃描式。在上述的光刻設備中，需具有相應的裝置作為掩模版和硅片的載體， 裝載有掩模版/硅片的載體產(chǎn)生精確的相互運動來滿足光刻需要。上述掩模版的載體被稱之為承版臺，硅片的載體被稱之為承片臺。承版臺和承片臺分別位于光刻設備的掩模臺分系統(tǒng)和工件臺分系統(tǒng)中，承版臺和承片臺為上述分系統(tǒng)的核心模塊。為了保證掩模和硅片的精確對準，承版臺和承片臺需要有六自由度的微動功能，調(diào)節(jié)量很小，一般小于5mm，以便彌補加工和安裝誤差。對于高端光刻機，傳統(tǒng)的承版臺驅(qū)動方式通常是采用兩個Y向和一個X向電機來實現(xiàn)X、Y自由度，然后通過兩個Y向電機的差向運動實現(xiàn)RZ自由度。在Χ、Υ 向電機的定子內(nèi)，往往只有一組或兩組線圈，線圈受力方向也只有正反向。美國專利公開號US20050(^9981中承版臺的驅(qū)動方式即采用兩個Y向電機和一個 X向電機，請參照圖1。圖1中，承版臺110用于承載掩模版112，承版臺110通過一系列電機定位于機臺205上。其中，兩個Y向電機分別包括了 Y向定子212和Y向動子222，X向電機包括了 X向定子214和X向動子224。另外，通過三個氣浮裝置210，220可實現(xiàn)Y向電機和X向電機定子和動子分離。然而，上述承版臺的驅(qū)動結(jié)構(gòu)過于復雜。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種平面電機及應用其的掩模臺系統(tǒng)，能夠解決上述問題。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是本發(fā)明提供一種平面電機，驅(qū)動承版臺在平面內(nèi)運動。平面電機包括定子與動子。 定子具有框架、線圈組以及金屬板，線圈組用以接收電流且具有多個受力邊。動子連接承版臺且設置于定子的一側(cè)。動子包括至少一個第一磁鐵與至少兩個第二磁鐵。第一磁鐵位于第二磁鐵之間且堆疊于第二磁鐵上。第一磁鐵、第二磁鐵以及金屬板形成磁場回路，線圈組位于動子與金屬板之間。第二磁鐵在定子上的投影覆蓋受力邊的一部分。當改變通入線圈組的電流方向或電流大小時，動子驅(qū)動承版臺在平面內(nèi)作不同方向的運動。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，線圈組包括多個線圈，每一個線圈具有四個受力邊。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，每一個線圈的截面為空心狀的正方形。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，每一個第二磁鐵在定子上的投影覆蓋至少部分線圈相鄰的兩個受力邊。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，第一磁鐵的尺寸小于第二磁鐵的尺寸。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，定子還包括蓋板，框架與蓋板形成容置空間，線圈組與金屬板位于容置空間內(nèi)。
根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，框架具有冷卻液進口與冷卻液出口。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，第一磁鐵的數(shù)目與第二磁鐵的數(shù)目皆為四個，四個第二磁鐵間隔設置，且相鄰的兩個第二磁鐵的磁極設置方向相反，四個第一磁鐵分別位于相鄰的兩個第二磁鐵之間且堆疊于第二磁鐵上。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，動子還包括基座，第一磁鐵與第二磁鐵分別鑲嵌于基座的兩側(cè)。本發(fā)明還提供一種掩模臺系統(tǒng)，包括承版臺與平面電機，平面電機驅(qū)動承版臺在平面內(nèi)運動。平面電機包括定子與動子。定子具有框架、線圈組以及金屬板，線圈組用以接收電流且具有多個受力邊。動子連接承版臺且設置于定子的一側(cè)。動子包括至少一個第一磁鐵與至少兩個第二磁鐵。第一磁鐵位于第二磁鐵之間且堆疊于第二磁鐵上。第一磁鐵、 第二磁鐵以及金屬板形成磁場回路，線圈組位于動子與金屬板之間。第二磁鐵在定子上的投影覆蓋受力邊的一部分。當改變通入線圈組的電流方向或電流大小時，動子驅(qū)動承版臺在平面內(nèi)作不同方向的運動。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，掩模臺系統(tǒng)還包括氣浮裝置，連接于承版臺。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，掩模臺系統(tǒng)還包括柔性件，連接于動子與承版臺之間。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，線圈組包括多個線圈，每一個線圈具有四個受力邊。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，每一個線圈的截面為空心狀的正方形。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，每一個第二磁鐵在定子上的投影覆蓋至少部分線圈相鄰的兩個受力邊。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，第一磁鐵的尺寸小于第二磁鐵的尺寸。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，定子還包括蓋板，框架與蓋板形成容置空間，線圈組與金屬板位于容置空間內(nèi)。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，框架具有冷卻液進口與冷卻液出口。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，第一磁鐵的數(shù)目與第二磁鐵的數(shù)目皆為四個，四個第二磁鐵間隔設置，且相鄰的兩個第二磁鐵的磁極設置方向相反，四個第一磁鐵分別位于相鄰的兩個第二磁鐵之間且堆疊于第二磁鐵上。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施例，動子還包括基座，第一磁鐵與第二磁鐵分別鑲嵌于基座的兩側(cè)。本發(fā)明的有益效果可以是本發(fā)明提供的平面電機中，定子具有線圈組，用于接收電流，且部分線圈組位于磁場回路中。因此，可根據(jù)運動需要，通過改變通入線圈組的電流方向或者電流大小來實現(xiàn)X、 Y自由度和繞Z軸旋轉(zhuǎn)的自由度，從而取代傳統(tǒng)技術(shù)中的兩個Y向電機和一個X向電機。相較于傳統(tǒng)技術(shù)，本發(fā)明可極大地簡化驅(qū)動結(jié)構(gòu)。為讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例， 并配合附圖，作詳細說明如下。


圖1所示為一種傳統(tǒng)的承版臺的驅(qū)動結(jié)構(gòu)示意圖2所示為本發(fā)明較佳實施例的掩模臺系統(tǒng)的示意圖；圖3所示為圖2中柔性件的示意圖；圖4A所示為圖2中動子的示意圖；圖4B所示為圖4A中動子去掉基座后的示意圖；圖5所示為圖2中定子的示意圖；圖6所示為本發(fā)明較佳實施例的磁場回路的形成原理圖；圖7所示為圖5中線圈的截面比例尺寸示意圖；圖8所示為圖7中的線圈在單向磁場中接收電流后各個受力邊的受力方向示意圖；圖9所示為本發(fā)明較佳實施例的第二磁鐵與線圈組的比例示意圖；圖IOA與圖IOB所示為本發(fā)明較佳實施例的線圈的受力變化示意圖。
具體實施例方式圖2所示為本發(fā)明較佳實施例的掩模臺系統(tǒng)的示意圖。請參考圖2。在本實施例中，掩模臺系統(tǒng)1包括承版臺10、平面電機11、氣浮裝置12以及柔性件13。承版臺10利用平面電機11與氣浮裝置12可實現(xiàn)六自由度的運動，具體包括沿X、Y、Z方向移動的自由度和繞X、Y、Z軸旋轉(zhuǎn)的自由度。具體而言，在本實施例中，平面電機11用于驅(qū)動承版臺10在X-Y平面內(nèi)運動，即， 承版臺10可利用平面電機11實現(xiàn)沿x、Y方向移動的自由度和繞Z軸旋轉(zhuǎn)的自由度。平面電機11包括定子110與動子111。動子111連接承版臺10，且設置于定子110的一側(cè)，以帶動承版臺10在X-Y平面內(nèi)運動。在此，動子111可設置于定子110的上方。然而，本發(fā)明對此不作任何限定。在本實施例中，氣浮裝置12可為三個，其分別連接于承版臺10。承版臺10可利用氣浮裝置12實現(xiàn)沿Z方向移動的自由度和繞Χ、Υ軸旋轉(zhuǎn)的自由度。然而，本發(fā)明對氣浮裝置12的數(shù)目不作任何限定。在其他實施例中，當承版臺10僅需要在X-Y平面內(nèi)運動時，可不設置此氣浮裝置12。在本實施例中，柔性件13連接于動子111與承版臺10之間。在此，柔性件13的數(shù)目可為三個。然而，本發(fā)明對此不作任何限定。使用者可根據(jù)需要自由設定柔性件13的數(shù)目。圖3所示為圖2中柔性件13的示意圖，請參考圖3。柔性件13可隔離動子111因熱產(chǎn)生的變形對承版臺10的影響，從而保護了掩模版(圖未示)。在此，由于動子111與承版臺10沿X方向排列，因此，柔性件13可沿X方向安裝，以確保運動的剛度。然而，本發(fā)明對此不作任何限定。另外，在本實施例中，柔性件13中間柔性區(qū)域的厚度可介于0. 15mm與 0. 3mm之間。在此，可選擇為0. 25mm，然而，本發(fā)明對此不作任何限定。圖4A所示為圖2中動子的示意圖，圖4B所示為圖4A中動子去掉基座后的示意圖。請參考圖4A與圖4B。在本實施例中，動子111可包括至少一個第一磁鐵111a、至少兩個第二磁鐵Illb以及基座111c。在此，第一磁鐵Illa與第二磁鐵Illb的數(shù)目皆為四個。 然而，本發(fā)明對第一磁鐵Illa與第二磁鐵Illb的數(shù)目不作任何限定。在本實施例中，第一磁鐵Illa與第二磁鐵Illb分別鑲嵌于基座Illc的兩側(cè)。具體而言，基座Illc的兩側(cè)表面可各自具有對應的四個凹陷部，以分別容納對應的第一磁鐵 Illa與第二磁鐵111b。在此，第一磁鐵Illa可鑲嵌于基座Illc的上表面，第二磁鐵Illb 可鑲嵌于基座Illc的下表面。然而，本發(fā)明對此不作任何限定。在本實施例中，如圖4B所示，第一磁鐵Illa的尺寸可小于第二磁鐵Illb的尺寸。 例如，第一磁鐵Illa的平面尺寸可為0. 5LXL，第二磁鐵Illb的平面尺寸可為LX L，其中L 可為任意單位尺寸。然而，本發(fā)明對第一磁鐵Illa與第二磁鐵Illb具體的平面尺寸不作任何限定。在本實施例中，四個第二磁鐵11 Ib可間隔設置，例如，其可在X方向和Y方向上分別間隔0. 5L，以在X-Y平面內(nèi)形成一個邊長為2. 5L的正方形。然而，本發(fā)明對此不作任何限定。另外，相鄰的兩個第二磁鐵Illb的磁極設置方向相反，例如，當一個第二磁鐵Illb 的N極向上、S極向下設置時，與其相鄰的另外兩個第二磁鐵Illb可為N極向下、S極向上。 在本實施例中，四個第一磁鐵Illa可分別位于相鄰的兩個第二磁鐵Illb之間。在此，由于第二磁鐵Illb在X方向和Y方向上的間隔距離分別為0. 5L，因此，可將第一磁鐵Illa設置為恰好填補相鄰兩個第二磁鐵Illb之間的空隙，以增強磁場的強度。然而，本發(fā)明對此不作任何限定，使用者可根據(jù)實際需要來設置第一磁鐵Illa與第二磁鐵111b。在本實施例中，由于第一磁鐵Illa鑲嵌于基座Illc的上表面，第二磁鐵Illb鑲嵌于基座Illc的下表面，因此，如圖4B所示，第一磁鐵Illa可堆疊于第二磁鐵Illb上。在本實施例中，第一磁鐵Illa的磁極設置方向垂直于第二磁鐵Illb的磁極設置方向。在此，由于第二磁鐵Illb的兩個磁極呈上下對向設置，即沿著Z方向設置，因此，第一磁鐵Illa的兩個磁極可沿Y方向?qū)ο蛟O置。另外，為確保相鄰的一個第一磁鐵Illa以及兩個第二磁鐵Illb形成連續(xù)的半封閉型磁場回路，第一磁鐵Illa的磁極設置應與其相鄰的第二磁鐵Illb的磁極設置相反。例如，當一個第二磁鐵Illb的N極向上、S極向下設置，另一個第二磁鐵Illb的N極向下、S極向上設置時，這兩個第二磁鐵Illb中間的第一磁鐵Illa的N極應靠近N極向下、S極向上設置的另一個第二磁鐵111b，S極應靠近N極向上、S極向下設置的第二磁鐵111b。圖5所示為圖2中定子的示意圖。請參考圖5。在本實施例中，定子110包括框架1100、蓋板1101、包括多個線圈1102的線圈組以及金屬板1103?？蚣?100與蓋板1101 形成容置空間1104，線圈組與金屬板1103可位于容置空間1104內(nèi)，且線圈組可位于動子 111(參見圖1)與金屬板1103之間。然而，本發(fā)明對此不作任何限定。在本實施例中，框架1100在其底部可具有冷卻液進口 IlOOa與冷卻液出口 1100b， 分別延伸進入容置空間1104，實現(xiàn)對線圈1102的冷卻作用。然而，本發(fā)明對冷卻液進口 IlOOa與冷卻液出口 IlOOb的設置位置不作任何限定。另外，框架1100可為阻磁材料，具有磁屏蔽作用。在本實施例中，蓋板1101可為無磁且通磁材料，以方便磁力線穿越。金屬板1103 可為鐵質(zhì)板，其為無磁導磁材料。由此，如圖6所示，金屬板1103可與動子111的第一磁鐵 11 la、第二磁鐵Illb形成磁場回路。具體而言，在本實施例中，磁場可從動子111的第一個第二磁鐵Illb的N極經(jīng)過金屬板1103回到第二個第二磁鐵Illb的S極，再從第二個第二磁鐵Illb的N極經(jīng)過一個第一磁鐵Illa回到第一個第二磁鐵Illb的S極，從而可形成封閉的磁場回路。
圖7所示為圖5中線圈的截面比例尺寸示意圖，圖8所示為圖7中的線圈在單向磁場中接收電流后各個受力邊的受力方向示意圖。請參考圖7與圖8。在本實施例中，線圈 1102的截面可為空心狀的正方形，對應地具有四個受力邊。然而，本發(fā)明對線圈1102的形狀不作任何限定。在本實施例中，線圈1102的截面尺寸可為0. 75LX0. 75L，中空部分的尺寸可為 0. 25LX0. 25L。即，各個受力邊的寬度可對應地為0. 25L。然而，本發(fā)明對此不作任何限定。 另外，本實施例對線圈1102的高度，即平行于磁場方向上的尺寸不作任何限定。在本實施例中，當各個線圈1102接收電流后，可對應地在其截面上形成逆時針或順時針方向的電流。此時，若整個線圈1102位于單向磁場中，其各個受力邊皆會受到磁力作用。例如，在圖8中，當位于X-Y平面內(nèi)的線圈1102的截面內(nèi)形成順時針方向的電流時， 此時，根據(jù)左手定則，其上側(cè)的受力邊將受到沿Y方向向上的磁力Fa，右側(cè)的受力邊將受到沿X方向向右的磁力冊，下側(cè)的受力邊將受到沿Y方向向下的磁力Fe，左側(cè)的受力邊將受到沿X方向向左的磁力Fd。由于在本實施例中，線圈1102各個受力邊的尺寸相同，因此，圖 8中整個線圈1102可處于受力平衡的狀態(tài)。圖9所示為本發(fā)明較佳實施例的第二磁鐵與線圈組的比例示意圖。請參考圖9。 在本實施例中，為使定子110的線圈組處于受力不平衡的狀態(tài)，從而使得動子111在X-Y平面內(nèi)產(chǎn)生運動，產(chǎn)生垂直于X-Y平面方向的磁場的第二磁鐵Illb在定子110上的投影需僅覆蓋線圈組所有受力邊的一部分。例如，在本實施例中，動子111的四個第二磁鐵Illb在定子Iio上的投影可僅覆蓋部分線圈1102相鄰的兩個受力邊。由此，可使得線圈1102另外兩個相鄰的受力邊位于垂直于X-Y平面方向的磁場中。當線圈1102通入電流后，位于磁場中的另外兩個相鄰的受力邊將分別受到沿X方向和Y方向的磁力。因此，在本實施例中，當改變通入線圈組的電流方向或電流大小時，動子111會驅(qū)動承版臺在X-Y平面內(nèi)作不同方向的運動。換言之，通過各個線圈1102通入不同方向電流的組合或者中斷部分線圈1102的電流，可實現(xiàn)沿X、Y移動方向的自由度和繞Z軸旋轉(zhuǎn)的自由度。圖IOA與圖IOB所示為本發(fā)明較佳實施例的線圈的受力變化示意圖。請參考圖IOA 與圖10Β。圖IOA與圖IOB僅以線圈組中的四個線圈1102與對應的一個第二磁鐵Illb為例來說明線圈的受力變化。線圈組中的其他線圈可依此類推，故在此不再贅述。在圖IOA中，以左側(cè)的兩個線圈1102通入逆時針方向的電流、右側(cè)的兩個線圈 1102通入順時針方向的電流為例進行說明。然而本發(fā)明對此不作任何限定。在此，第二磁鐵Illb的投影僅覆蓋每個線圈1102相鄰的兩個受力邊。因此，每個線圈1102僅有相鄰的另外兩個受力邊會受到磁力作用。此時，根據(jù)左手定則，圖IOA中位于左上方的線圈1102 下側(cè)的受力邊將受到沿Y方向向上的磁力，右側(cè)的受力邊將受到沿X方向向左的磁力；位于右上方的線圈1102下側(cè)的受力邊將受到沿Y方向向下的磁力，左側(cè)的受力邊將受到沿X方向向左的磁力；位于左下方的線圈1102上側(cè)的受力邊將受到沿Y方向向下的磁力，右側(cè)的受力邊將受到沿X方向向左的磁力；右下方的線圈1102上側(cè)的受力邊將受到沿Y方向向上的磁力，左側(cè)的受力邊將受到沿X方向向左的磁力。由于在本實施例中，各個線圈1102的受力邊尺寸皆相同，因此，相反方向的磁力可相互抵消。由此，圖IOA中線圈1102所受的合力F的方向為沿X方向向左。
在本實施例中，當圖IOA中線圈1102中通入的電流方向或電流大小改變時，例如， 如圖IOB所示，中斷右上方和左下方的線圈1102的電流，此時，線圈1102所受的合力F的方向?qū)⒆優(yōu)檠刈笊戏降?5度。然而，本發(fā)明對此不作任何限定。在其他實施例中，也可通過改變通入線圈1102的電流方向或者改變通入線圈1102的電流方向與電流大小的組合來得到X-Y平面內(nèi)任意方向的運動力。在本實施例中，由于圖2中的定子110固定不動，因此， 圖2中的動子111可在X-Y平面內(nèi)任意運動，以驅(qū)動圖2中的承版臺10在X-Y平面內(nèi)作對應的運動。綜上所述，本發(fā)明較佳實施例提供的平面電機中，定子具有線圈組，用于接收電流，且部分線圈組位于磁場回路中。因此，可根據(jù)運動需要，通過改變通入線圈組的電流方向或者電流大小來實現(xiàn)X、Y自由度和繞Z軸旋轉(zhuǎn)的自由度，從而取代傳統(tǒng)技術(shù)中的兩個Y 向電機和一個X向電機。相較于傳統(tǒng)技術(shù)，本發(fā)明較佳實施例提供的平面電機可極大地簡化驅(qū)動結(jié)構(gòu)。雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟知此技藝者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當可作些許的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當視權(quán)利要求書所界定者為準。
權(quán)利要求
1.一種平面電機，驅(qū)動承版臺在平面內(nèi)運動，其特征在于，所述平面電機包括定子，具有框架、線圈組以及金屬板，所述線圈組用以接收電流且具有受力邊；以及動子，連接所述承版臺且設置于所述定子的一側(cè)，所述動子包括至少一個第一磁鐵與至少兩個第二磁鐵，所述第一磁鐵位于所述這些第二磁鐵之間且堆疊于所述這些第二磁鐵上，所述第一磁鐵、所述這些第二磁鐵以及所述金屬板形成磁場回路，所述線圈組位于所述動子與所述金屬板之間，所述這些第二磁鐵在所述定子上的投影覆蓋所述多個受力邊的一部分，其中當改變通入所述線圈組的電流方向或電流大小時，所述動子驅(qū)動所述承版臺在所述平面內(nèi)作不同方向的運動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面電機，其特征在于，所述線圈組包括多個線圈，每一個所述線圈具有四個所述受力邊。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的平面電機，其特征在于，每一個所述線圈的截面為空心狀的正方形。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的平面電機，其特征在于，每一個所述第二磁鐵在所述定子上的投影覆蓋至少部分所述線圈相鄰的所述兩個受力邊。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面電機，其特征在于，所述第一磁鐵的尺寸小于所述第二磁鐵的尺寸。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面電機，其特征在于，所述定子還包括蓋板，所述框架與所述蓋板形成容置空間，所述線圈組與所述金屬板位于所述容置空間內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面電機，其特征在于，所述框架具有冷卻液進口與冷卻液出口。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面電機，其特征在于，所述第一磁鐵的數(shù)目與所述第二磁鐵的數(shù)目皆為四個，所述四個第二磁鐵間隔設置，且相鄰的所述兩個第二磁鐵的磁極設置方向相反，所述四個第一磁鐵分別位于相鄰的所述兩個第二磁鐵之間且堆疊于所述這些第二磁鐵上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面電機，其特征在于，所述動子還包括基座，所述第一磁鐵與所述這些第二磁鐵分別鑲嵌于所述基座的兩側(cè)。
10.一種掩模臺系統(tǒng)，其特征在于，包括 承版臺；以及平面電機，驅(qū)動所述承版臺在平面內(nèi)運動，所述平面電機包括定子，具有框架、線圈組以及金屬板，所述線圈組用以接收電流且具有多個受力邊；以及動子，連接所述承版臺且設置于所述定子的一側(cè)，所述動子包括至少一個第一磁鐵與至少兩個第二磁鐵，所述第一磁鐵位于所述這些第二磁鐵之間且堆疊于所述這些第二磁鐵上，所述第一磁鐵、所述這些第二磁鐵以及所述金屬板形成磁場回路，所述線圈組位于所述動子與所述金屬板之間，所述這些第二磁鐵在所述定子上的投影覆蓋所述多個受力邊的一部分，其中當改變通入所述線圈組的電流方向或電流大小時，所述動子驅(qū)動所述承版臺在所述平面內(nèi)作不同方向的運動。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模臺系統(tǒng)，其特征在于，所述掩模臺系統(tǒng)還包括氣浮裝置，連接于所述承版臺。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模臺系統(tǒng)，其特征在于，所述掩模臺系統(tǒng)還包括柔性件， 連接于所述動子與所述承版臺之間。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模臺系統(tǒng)，其特征在于，所述線圈組包括多個線圈，每一個所述線圈具有四個所述受力邊。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的掩模臺系統(tǒng)，其特征在于，每一個所述線圈的截面為空心狀的正方形。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的掩模臺系統(tǒng)，其特征在于，每一個所述第二磁鐵在所述定子上的投影覆蓋至少部分所述線圈相鄰的所述兩個受力邊。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模臺系統(tǒng)，其特征在于，所述第一磁鐵的尺寸小于所述第二磁鐵的尺寸。
17.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模臺系統(tǒng)，其特征在于，所述定子還包括蓋板，所述框架與所述蓋板形成容置空間，所述線圈組與所述金屬板位于所述容置空間內(nèi)。
18.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模臺系統(tǒng)，其特征在于，所述框架具有冷卻液進口與冷卻液出口。
19.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模臺系統(tǒng)，其特征在于，所述第一磁鐵的數(shù)目與所述第二磁鐵的數(shù)目皆為四個，所述四個第二磁鐵間隔設置，且相鄰的所述兩個第二磁鐵的磁極設置方向相反，所述四個第一磁鐵分別位于相鄰的所述兩個第二磁鐵之間且堆疊于所述這些第二磁鐵上。
20.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模臺系統(tǒng)，其特征在于，所述動子還包括基座，所述第一磁鐵與所述這些第二磁鐵分別鑲嵌于所述基座的兩側(cè)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種平面電機及應用其的掩模臺系統(tǒng)。平面電機驅(qū)動承版臺在平面內(nèi)運動。平面電機包括定子與動子。定子具有框架、線圈組以及金屬板，線圈組用以接收電流且具有多個受力邊。動子連接承版臺且設置于定子的一側(cè)。動子包括至少一個第一磁鐵與至少兩個第二磁鐵。第一磁鐵位于第二磁鐵之間且堆疊于第二磁鐵上。第一磁鐵、第二磁鐵以及金屬板形成磁場回路，線圈組位于動子與金屬板之間。第二磁鐵在定子上的投影覆蓋受力邊的一部分。當改變通入線圈組的電流方向或電流大小時，動子驅(qū)動承版臺在平面內(nèi)作不同方向的運動。本發(fā)明通過改變通入線圈組的電流方向或者電流大小來實現(xiàn)X、Y自由度和繞Z軸旋轉(zhuǎn)的自由度，極大地簡化了驅(qū)動結(jié)構(gòu)。
文檔編號G03F7/20GK102545528SQ201010618358
公開日2012年7月4日 申請日期2010年12月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月30日
發(fā)明者范哲光, 黎剛生 申請人:上海微電子裝備有限公司