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平面電機(jī)及應(yīng)用其的掩模臺(tái)系統(tǒng)的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2759598

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本發(fā)明涉及一種承版臺(tái)驅(qū)動(dòng)技術(shù),且特別涉及一種平面電機(jī)及應(yīng)用其的掩模臺(tái)系統(tǒng)。背景技術(shù)光刻設(shè)備是一種將掩模圖案曝光成像到硅片上的設(shè)備。已知的光刻設(shè)備包括步進(jìn)重復(fù)式和步進(jìn)掃描式。在上述的光刻設(shè)備中,需具有相應(yīng)的裝置作為掩模版和硅片的載體, 裝載有掩模版/硅片的載體產(chǎn)生精確的相互運(yùn)動(dòng)來(lái)滿(mǎn)足光刻需要。上述掩模版的載體被稱(chēng)之為承版臺(tái),硅片的載體被稱(chēng)之為承片臺(tái)。承版臺(tái)和承片臺(tái)分別位于光刻設(shè)備的掩模臺(tái)分系統(tǒng)和工件臺(tái)分系統(tǒng)中,承版臺(tái)和承片臺(tái)為上述分系統(tǒng)的核心模塊。為了保證掩...
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