專(zhuān)利名稱(chēng)：用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及大規(guī)模集成電路制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其一種用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置。
背景技術(shù)：
TFT是Thin Film Transistor (薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管)的簡(jiǎn)稱(chēng)，是一種采用新材料和新工藝的大規(guī)模半導(dǎo)體全集成電路制造技術(shù)。TFT是在玻璃或塑料基板等非單晶片上(當(dāng)然也可以在晶片上)通過(guò)濺射、化學(xué)沉積工藝形成制造電路必需的各種膜，通過(guò)對(duì)膜的加工制作大規(guī)模半導(dǎo)體集成電路(LSIC)。隨著相關(guān)電子消費(fèi)類(lèi)產(chǎn)品的發(fā)展，對(duì)TFT的尺寸要求越來(lái)越大，集成的單元越來(lái)越多，單一的照明系統(tǒng)很難滿(mǎn)足TFT光刻的需求。通常使用在集成電路制造、封裝等步進(jìn)光刻設(shè)備的最大的照明視場(chǎng)一般為8英寸，掃描光刻也只是在掃描方向有更大的視場(chǎng)，一般也不超過(guò)10英寸。但是現(xiàn)在五代以上的TFT曝光視場(chǎng)都在17 英寸以上，所以單一鏡頭的照明視場(chǎng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿(mǎn)足大視場(chǎng)光刻的要求。采用多個(gè)照明系統(tǒng)拼接掃描是實(shí)現(xiàn)大視場(chǎng)TFT光刻的解決方案之一。在TFT光刻的現(xiàn)有技術(shù)中，美國(guó)專(zhuān)利US6480262采用7個(gè)鏡頭拼接的方式實(shí)現(xiàn)了大視場(chǎng)曝光，該拼接方法的難點(diǎn)之一在于如何將汞燈光源出射的光平均有效的分到各個(gè)單元照明視場(chǎng)。為了解決該問(wèn)題，該專(zhuān)利中提供了兩種技術(shù)方案。第一種技術(shù)方案如附圖Ia和附圖Ib所示，采用了光纖分光方式實(shí)現(xiàn)多拼接鏡頭的均勻性要求，一個(gè)燈室對(duì)多個(gè)照明或多個(gè)燈室對(duì)應(yīng)多個(gè)照明。第一種技術(shù)方案如附圖加和附圖2b所示，采用分光鏡分光的方式。上述兩種技術(shù)方案雖然都能一定程度上解決多拼接鏡頭的均勻照明問(wèn)題，但是它們的共同缺點(diǎn)是每一路照明系統(tǒng)中沒(méi)有照明均勻性調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。美國(guó)專(zhuān)利US5579147可以調(diào)節(jié)每一路之間的均勻性，如圖3所示。這種調(diào)節(jié)的前提是每一路本身的均勻性已經(jīng)達(dá)到要求。即便是分光之后有石英棒和微透鏡陣列進(jìn)行勻光， 根據(jù)實(shí)際裝調(diào)經(jīng)驗(yàn)，也不能保證所有的單元照明視場(chǎng)均勻性同時(shí)達(dá)到要求。因此，提供一種可以實(shí)現(xiàn)每一路單獨(dú)的均勻性調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)是大視場(chǎng)拼接照明均勻性補(bǔ)償技術(shù)中迫切需要解決的技術(shù)問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，使每一個(gè)照明單元的視場(chǎng)都具有較好的照明均勻性。本發(fā)明提供一種用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，沿光線(xiàn)傳播的方向，依次包括光源、出光口至少為兩路的分光結(jié)構(gòu)及與所述分光結(jié)構(gòu)出光口數(shù)目一致的中繼透鏡，其特征在于所述均勻性補(bǔ)償裝置還包括勻光光學(xué)元件，及反饋控制器；所述光源發(fā)出的光線(xiàn)經(jīng)勻光光學(xué)元件、分光結(jié)構(gòu)及中繼透鏡后，在基板上獲得均勻照明視場(chǎng)；所述反饋控制器根據(jù)基板均勻性信號(hào)調(diào)節(jié)汞燈的位置和/或角度。更進(jìn)一步地，所述勻光光學(xué)元件包括微透鏡陣列和石英棒，所述微透鏡陣列和石英棒依次位于所述光源和分光結(jié)構(gòu)之間。更進(jìn)一步地，所述均勻性補(bǔ)償裝置還包括調(diào)節(jié)檔片陣列。更進(jìn)一步地，所述調(diào)節(jié)檔片陣列位于所述石英棒與所述分光結(jié)構(gòu)之間。更進(jìn)一步地，所述反饋控制器根據(jù)基板均勻性信號(hào)調(diào)節(jié)所述調(diào)節(jié)檔片陣列的位置和/或角度。更進(jìn)一步地，所述均勻性補(bǔ)償裝置還包括與所述分光結(jié)構(gòu)出光口數(shù)目一致的均勻單元，所述均勻單元位于所述分光結(jié)構(gòu)的出光口，所述均勻單元的出光口設(shè)置有所述調(diào)節(jié)檔片陣列。更進(jìn)一步地，所述勻光光學(xué)元件為均勻單元和調(diào)節(jié)檔片陣列，所述均勻單元和調(diào)節(jié)檔片陣列的數(shù)目分別與所述分光結(jié)構(gòu)出光口數(shù)目一致。更進(jìn)一步地，所述均勻性補(bǔ)償裝置還包括橢球反射鏡，所述光源放置在所述橢球反射鏡的內(nèi)焦點(diǎn)處。更進(jìn)一步地，所述中繼透鏡包括8片透鏡。所述中繼透鏡包括前組透鏡、光闌和后組透鏡。更進(jìn)一步地，所述分光結(jié)構(gòu)為光纖。所述分光光纖有若干纖芯組成，所述分光光纖的入光口徑為20mm，所述分光光纖的出光口徑為5-10mm，所述每根纖芯直徑為 0. 02-0. 07mm。本發(fā)明提供一種在汞燈照明的掃描式大視場(chǎng)拼接曝光系統(tǒng)中，對(duì)照明視場(chǎng)中的每一個(gè)單元拼接視場(chǎng)的均勻性進(jìn)行調(diào)節(jié)的裝置，該裝置可以使每一個(gè)照明單元的視場(chǎng)都具有較好的照明均勻性。與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本發(fā)明所提供的裝置可以使大視場(chǎng)掃描拼接的照明視場(chǎng)具有更好的照明均勻性，可以通過(guò)簡(jiǎn)單有效的調(diào)節(jié)方式在光源穩(wěn)定性、鍍膜不均勻性、光學(xué)裝調(diào)等因素使每一個(gè)單元照明視場(chǎng)的照明均勻性下降的情況下，還能在掩膜板上得到較高的照明均勻性。


關(guān)于本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)與精神可以通過(guò)以下的發(fā)明詳述及所附圖式得到進(jìn)一步的了解。圖Ia至圖Ib是現(xiàn)有技術(shù)中實(shí)現(xiàn)大視場(chǎng)均勻曝光的方法之一；圖加至圖2b是現(xiàn)有技術(shù)中實(shí)現(xiàn)大視場(chǎng)均勻曝光的方法之二 ；圖3是現(xiàn)有技術(shù)中實(shí)現(xiàn)大視場(chǎng)均勻曝光的方法之三；圖4是本發(fā)明所提供的大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置的第一實(shí)施方式；圖5是本發(fā)明所提供的大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置的第二實(shí)施方式；圖6是本發(fā)明所涉及的調(diào)節(jié)擋片的結(jié)構(gòu)示意圖；圖7是本發(fā)明所提供的大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置的第三實(shí)施方式；圖8是本發(fā)明所提供的大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置的第四實(shí)施方式；圖9是本發(fā)明所涉及的中繼透鏡的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的具體實(shí)施例。
本發(fā)明提供一種大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，使每一個(gè)照明單元的視場(chǎng)都具有較好的照明均勻性。為了使每一個(gè)照明視場(chǎng)都具有較好的照明均勻性，本發(fā)明所提供的技術(shù)方案采用在分光之前勻光的方法，即在光源和分光光纖之間進(jìn)行勻光，也就是在光線(xiàn)進(jìn)入分光光纖之前就用積分棒或微透鏡進(jìn)行勻光。具體地，先調(diào)節(jié)汞燈或冷光鏡使分光光纖入口處照明均勻性達(dá)到要求，通過(guò)光纖分光后，每一路照明視場(chǎng)的照明均勻性也能達(dá)到要求。該均勻性補(bǔ)償裝置，沿光線(xiàn)傳播的方向，依次包括光源、出光口至少為2路的分光結(jié)構(gòu)及與所述光纖出光口數(shù)目一致的中繼透鏡，在本發(fā)明中，所述光源采用汞燈，所述分光結(jié)構(gòu)為分光光纖，其特征在于所述均勻性補(bǔ)償裝置還包括勻光光學(xué)元件及反饋控制器； 所述汞燈光源發(fā)出的紫外光經(jīng)勻光光學(xué)元件、光纖及中繼透鏡后，在基板上獲得均勻照明視場(chǎng)；所述反饋控制器根據(jù)基板均勻性信號(hào)調(diào)節(jié)汞燈的位置和/或角度。如圖4所示，是本發(fā)明所提供的大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置的第一實(shí)施方式，利用石英棒或微透鏡陣列在光線(xiàn)進(jìn)入分光光纖之前就進(jìn)行勻光。在本實(shí)施中，汞燈光源 1所發(fā)出的紫外光線(xiàn)依次經(jīng)過(guò)橢球反射鏡2聚光，微透鏡陣列3及石英棒4后被均勻調(diào)制。 經(jīng)均勻調(diào)制后的紫外光線(xiàn)進(jìn)入分光光纖5被至少分為2路。在中繼透鏡7的出光口處放置一探測(cè)器(圖中未示出)用以獲得基板照明均勻性信號(hào)，該信號(hào)傳輸至反饋控制器6，并根據(jù)該信號(hào)調(diào)節(jié)汞燈的位置。該均勻性補(bǔ)償裝置沿光線(xiàn)傳輸?shù)姆较蛞来伟ü療艄庠?、橢球反射鏡2，微透鏡陣列3、石英棒4、分光光纖5、中繼透鏡7。汞燈光源1發(fā)出的光譜主要集中在g、h、i三線(xiàn)，一般TFT光刻用的光譜為i線(xiàn)或ghi三線(xiàn)，需要后續(xù)用濾波片濾出所需波長(zhǎng)，濾波片的選用屬于本領(lǐng)域技術(shù)人員之熟知技藝，因此此處省略。橢球反射鏡2采用金屬材料支撐，可承受大功率汞燈光源1發(fā)出的光和熱，橢球碗內(nèi)表面鍍有紫外介質(zhì)反射膜，可以將大部分的ghi三線(xiàn)波長(zhǎng)的光反射到照明系統(tǒng)中。汞燈光源1放在橢球反射鏡2的內(nèi)焦點(diǎn)處，石英棒4放在橢球碗的外焦點(diǎn)處。緊貼石英棒4入口端放置微透鏡陣列3，可在石英棒出口端得到具有一定視場(chǎng)、一定數(shù)值孔徑的照明像面。分光光纖5緊貼石英棒出口，或者通過(guò)光纖耦合器耦合進(jìn)光纖內(nèi)。分光光纖5是石英光纖，可以保證紫外光在其中傳播具有高透過(guò)率，石英光纖的入光口徑可設(shè)計(jì)為20mm，每根纖芯直徑為0. 02-0. 07mm,較細(xì)的石英纖芯可以保證高填充率。石英光纖出光口可以分為2路、3路……，設(shè)計(jì)口徑可為5-10mm，在保證光纖彎曲半徑的情況下分別導(dǎo)入到后續(xù)的光學(xué)系統(tǒng)中。石英光纖要固定連接，光纖移動(dòng)將造成光纖內(nèi)傳輸光能量的變化，導(dǎo)致照明不穩(wěn)定。反饋控制器6接受基板照明均勻性信號(hào)，根據(jù)此信號(hào)調(diào)節(jié)汞燈的位置和/或角度，從而在基板上得到均勻照明視場(chǎng)。中繼透鏡7放置于分光光纖5的出光口及基板之間，分光光纖5的出射光經(jīng)過(guò)中繼透鏡7后，可以有效的在掩膜面上形成需要尺寸的視場(chǎng)。本發(fā)明同時(shí)提供第二種實(shí)施方式，在該實(shí)施例中公開(kāi)了在進(jìn)入分光光纖之前勻光，還可以使用積分棒、微透鏡加均勻性補(bǔ)償裝置的技術(shù)方案。在通常情況下，實(shí)施例一中所提供的技術(shù)方案能夠達(dá)到常規(guī)的均勻性要求。如果經(jīng)汞燈或冷光鏡調(diào)節(jié)后，進(jìn)入分光光纖入口的照明均勻性仍然不能達(dá)到要求，可用均勻性補(bǔ)償裝置在掃描方向上對(duì)較強(qiáng)的積分路線(xiàn)上的照明光強(qiáng)進(jìn)行遮擋，使積分光強(qiáng)在進(jìn)入分光光纖后均勻性達(dá)到要求。如圖5中所示，為了防止經(jīng)過(guò)石英棒勻光后，在基板上仍然得不到均勻的照明視場(chǎng)，在石英棒出端的非掃描方向上放置一排調(diào)節(jié)擋片陣列8。調(diào)節(jié)擋片陣列8的具體設(shè)置方式如圖6中所示，如果石英棒在非掃描方向長(zhǎng)33mm，調(diào)節(jié)擋片的尺寸可設(shè)計(jì)為2mm，這樣在非掃描方向可布置17個(gè)調(diào)節(jié)擋片，可以對(duì)積分均勻性分成17個(gè)部分進(jìn)行調(diào)節(jié)。調(diào)節(jié)檔片Bi、B2、B3……Bi對(duì)應(yīng)的調(diào)節(jié)區(qū)域?yàn)镵l、K2、K3……Ki，當(dāng)在掃描方向進(jìn)行曝光時(shí)，照明視場(chǎng)的均勻性由積分均勻性Σ Ι1、Σ Ι2、Σ 13、……Σ Ii決定。如果調(diào)節(jié)區(qū)域Km光強(qiáng)較大，可以把調(diào)節(jié)擋片to擋住一部分調(diào)節(jié)區(qū)域Km，使得積分光強(qiáng)Σ Lii減小。在本實(shí)施中，汞燈光源1所發(fā)出的紫外光線(xiàn)依次經(jīng)過(guò)橢球反射鏡2聚光，微透鏡陣列3、石英棒4及調(diào)節(jié)檔片陣列8后被均勻調(diào)制。經(jīng)均勻調(diào)制后的紫外光線(xiàn)進(jìn)入分光光纖5被至少分為2路。在中繼透鏡7的的出光口處放置一探測(cè)器(圖中未示出)用以獲得基板照明均勻性信號(hào)，該信號(hào)傳輸至反饋控制器6，并根據(jù)該信號(hào)調(diào)節(jié)汞燈和調(diào)節(jié)擋片陣列8的位置和/或角度。第三個(gè)實(shí)施例是根據(jù)實(shí)施例一和實(shí)施例二在照明系統(tǒng)的不同位置對(duì)單元照明視場(chǎng)進(jìn)行勻光。在光源和分光光纖之間，在分光光纖和單個(gè)照明系統(tǒng)之間都對(duì)每一個(gè)單元照明拼接視場(chǎng)進(jìn)行勻光。在光源和分光光纖之間用積分棒或微透鏡陣列進(jìn)行勻光，保證照明光強(qiáng)在進(jìn)入石英棒之前就具有較好的均勻性。在分光光纖和單個(gè)照明系統(tǒng)之間用均勻性補(bǔ)償裝置進(jìn)行勻光，也就是在單個(gè)照明拼接系統(tǒng)的勻光光路中，比如在單個(gè)照明拼接系統(tǒng)的積分棒出口或微透鏡出口處，用均勻性補(bǔ)償裝置進(jìn)行勻光，保證光強(qiáng)在分光之后照射到掩膜板之前具有較好的照明均勻性。如圖6中所示，該均勻性補(bǔ)償裝置沿光線(xiàn)傳輸?shù)姆较蛞来伟ü療艄庠?、橢球反射鏡2，微透鏡陣列3、石英棒4、分光光纖5、單元照明視場(chǎng)均勻單元9、單元照明視場(chǎng)調(diào)節(jié)檔片陣列803及中繼透鏡7。反饋控制器6接受基板照明均勻性信號(hào)，根據(jù)此信號(hào)調(diào)節(jié)汞燈的位置，從而在基板上得到均勻照明視場(chǎng)。中繼透鏡7放置于單元照明視場(chǎng)調(diào)節(jié)檔片陣列803的調(diào)節(jié)區(qū)域處，可以有效的在掩膜面上形成需要尺寸的視場(chǎng)。實(shí)施例三在分光后用均與性補(bǔ)償裝置在每一個(gè)單元照明視場(chǎng)的光路中調(diào)節(jié)積分均勻性。這個(gè)方法可以更好的保證每一個(gè)單元視場(chǎng)的積分均勻性。第四個(gè)實(shí)施例也是根據(jù)實(shí)施例一和二在照明系統(tǒng)的不同位置對(duì)單元照明視場(chǎng)進(jìn)行勻光。在分光光纖和單個(gè)照明系統(tǒng)之間對(duì)每一個(gè)照明單元視場(chǎng)進(jìn)行勻光。在單元照明視場(chǎng)的勻光光路中，比如在單個(gè)照明拼接系統(tǒng)的積分棒出口或微透鏡出口處，用均勻性補(bǔ)償裝置進(jìn)行勻光，保證光強(qiáng)在分光之后照射到掩膜板之前具有較好的照明均勻性。第四實(shí)施例為了克服實(shí)施三的成本增加的缺點(diǎn)，在本實(shí)施方式中省略了微透鏡陣列3和石英棒4，僅在分光后的每一路照明系統(tǒng)中用均與性補(bǔ)償裝置調(diào)節(jié)積分均勻性，在分光之前不再用石英棒或微透鏡陣列勻光。這種方法可以減少照明系統(tǒng)的尺寸，降低系統(tǒng)成本。附圖9是本發(fā)明所涉及的中繼透鏡的結(jié)構(gòu)示意圖。其中該圖中示意性地給出了一個(gè)中繼透鏡的結(jié)構(gòu)，但是在實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中，可根據(jù)不用應(yīng)用場(chǎng)合選擇不同種類(lèi)的中繼透鏡。如圖9所示該，該中繼透鏡具有8片鏡片式結(jié)構(gòu)，其中分為前組透鏡和后組透鏡。沿光線(xiàn)傳輸?shù)姆较?，依次是前組透鏡901、光闌902及后組透鏡903。與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本發(fā)明所提供的裝置可以使大視場(chǎng)掃描拼接的照明視場(chǎng)具有更好的照明均勻性，可以通過(guò)簡(jiǎn)單有效的調(diào)節(jié)方式在光源穩(wěn)定性、鍍膜不均勻性、光學(xué)裝調(diào)等因素使每一個(gè)單元照明視場(chǎng)的照明均勻性下降的情況下，還能在掩膜板上得到較高的照明均勻性。
本說(shuō)明書(shū)中所述的只是本發(fā)明的較佳具體實(shí)施例，以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案而非對(duì)本發(fā)明的限制。凡本領(lǐng)域技術(shù)人員依本發(fā)明的構(gòu)思通過(guò)邏輯分析、推理或者有限的實(shí)驗(yàn)可以得到的技術(shù)方案，皆應(yīng)在本發(fā)明的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，沿光線(xiàn)傳播的方向，依次包括光源、 出光口至少為兩路的分光結(jié)構(gòu)及與所述分光結(jié)構(gòu)出光口數(shù)目一致的中繼透鏡，其特征在于所述均勻性補(bǔ)償裝置還包括勻光光學(xué)元件，及反饋控制器；所述光源發(fā)出的光線(xiàn)經(jīng)勻光光學(xué)元件、分光結(jié)構(gòu)及中繼透鏡后，在基板上獲得均勻照明視場(chǎng)；所述反饋控制器根據(jù)基板均勻性信號(hào)調(diào)節(jié)汞燈的位置和/或角度。
2.如權(quán)利要求1所述的用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述勻光光學(xué)元件包括微透鏡陣列和石英棒，所述微透鏡陣列和石英棒依次位于所述光源和分光結(jié)構(gòu)之間。
3.如權(quán)利要求2所述的用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述均勻性補(bǔ)償裝置還包括調(diào)節(jié)檔片陣列。
4.如權(quán)利要求3所述的用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)檔片陣列位于所述石英棒與所述分光結(jié)構(gòu)之間。
5.如權(quán)利要求3所述的用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述反饋控制器根據(jù)基板均勻性信號(hào)調(diào)節(jié)所述調(diào)節(jié)檔片陣列的位置和/或角度。
6.如權(quán)利要求3所述的用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述均勻性補(bǔ)償裝置還包括與所述分光結(jié)構(gòu)出光口數(shù)目一致的均勻單元，所述均勻單元位于所述分光結(jié)構(gòu)的出光口，所述均勻單元的出光口設(shè)置有所述調(diào)節(jié)檔片陣列。
7.如權(quán)利要求1所述的用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述勻光光學(xué)元件為均勻單元和調(diào)節(jié)檔片陣列，所述均勻單元和調(diào)節(jié)檔片陣列的數(shù)目分別與所述分光結(jié)構(gòu)出光口數(shù)目一致。
8.如權(quán)利要求1所述的用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述均勻性補(bǔ)償裝置還包括橢球反射鏡，所述光源放置在所述橢球反射鏡的內(nèi)焦點(diǎn)處。
9.如權(quán)利要求1所述的用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述中繼透鏡包括8片透鏡。
10.如權(quán)利要求1所述的用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述中繼透鏡包括前組透鏡、光闌和后組透鏡。
11.如權(quán)利要求1所述的用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述分光結(jié)構(gòu)為分光光纖。
12.如權(quán)利要求11所述的用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述分光光纖有若干纖芯組成，所述分光光纖的入光口徑為20mm，所述分光光纖的出光口徑為 5-10mm，所述每根纖芯直徑為0. 02-0. 07mm。
全文摘要
本發(fā)明提供一種用于大視場(chǎng)拼接照明的均勻性補(bǔ)償裝置，沿光線(xiàn)傳播的方向，依次包括光源、出光口至少為兩路的分光結(jié)構(gòu)及與所述光纖出光口數(shù)目一致的中繼透鏡，其特征在于所述均勻性補(bǔ)償裝置還包括勻光光學(xué)元件及反饋控制器；所述光源發(fā)出的光線(xiàn)經(jīng)勻光光學(xué)元件、分光結(jié)構(gòu)及中繼透鏡后，在基板上獲得均勻照明視場(chǎng)；所述反饋控制器根據(jù)基板均勻性信號(hào)調(diào)節(jié)汞燈的位置和/或角度。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102540736SQ20101058221
公開(kāi)日2012年7月4日 申請(qǐng)日期2010年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月10日
發(fā)明者張祥翔 申請(qǐng)人:上海微電子裝備有限公司