專利名稱：光學(xué)掃描裝置和使用其的成像設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)掃描裝置和使用其的成像設(shè)備。本發(fā)明可適合用于具有例如 電子照相方式的成像設(shè)備，如激光束打印機(jī)、數(shù)字復(fù)印機(jī)或多功能打印機(jī)。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)上，在激光束打印機(jī)(LBP)或數(shù)字復(fù)印機(jī)的掃描光學(xué)系統(tǒng)中，已經(jīng)按照圖像 信號調(diào)制的來自光源裝置的光束由包括旋轉(zhuǎn)多面鏡(多角鏡)的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器周期偏轉(zhuǎn)。所 偏轉(zhuǎn)的光束由具有fθ特性的成像光學(xué)系統(tǒng)在感光記錄介質(zhì)(感光鼓)表面上會聚成光 斑，由此光學(xué)掃描該表面以在其上進(jìn)行圖像記錄。近年來，在諸如激光束打印機(jī)、數(shù)字復(fù)印機(jī)和多功能打印機(jī)之類的成像設(shè)備中，一 直期望獲得更高的圖像質(zhì)量。一種可能的影響圖像劣化的因素是對圖像形成不必要的重像 光(反射光)。傳統(tǒng)上，已經(jīng)提出了設(shè)置成除去這種重像光的各種光學(xué)掃描裝置(參見專利文獻(xiàn) 1)。在專利文獻(xiàn)1中，在成像光學(xué)系統(tǒng)中設(shè)置遮光板(遮光構(gòu)件)，以避免從被掃描表 面反射的重像光再次入射到旋轉(zhuǎn)多面鏡(多角鏡)上，其中重像光通過該旋轉(zhuǎn)多面鏡而再 次掃描偏轉(zhuǎn)并再一次入射到被掃描表面上。此遮光板布置在副掃描方向上相對于有效光束通過的副掃描方向上的高度間隔 開預(yù)定距離的位置處，以確保其僅僅阻擋重像光，而不阻擋形成圖像的有效光束(真實光 束)。在專利文獻(xiàn)1中公開的遮光板的形狀是一般的直線形(平面形)或曲線形。在本說明書中，“重像光(ghost light)”指由光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的偏轉(zhuǎn)表面反射、通過成 像光學(xué)系統(tǒng)而不由成像光學(xué)系統(tǒng)的表面或任何其它表面反射、并且入射在被掃描表面上的 光之外的光，并且該重像光入射在被掃描表面的有效掃描區(qū)域上。另外，如果如下面描述的本發(fā)明的第一實施例的

圖1所示使用多個光學(xué)掃描裝 置，重像光可能包括以下光束，所述光束由一個光學(xué)掃描裝置中的成像光學(xué)系統(tǒng)的表面或 任何其它表面反射、進(jìn)入另一光學(xué)掃描裝置并入射在該另一光學(xué)掃描裝置的被掃描表面 上。另外，“有效光束”指以下光束，所述光束由偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面反射、通過成像光 學(xué)系統(tǒng)而不被其表面反射、并入射在被掃描表面的有效掃描區(qū)域上。[專利文獻(xiàn)1]日本專利申請公開No. 2000-193903在專利文獻(xiàn)1中，如果使用其中重像光通過相當(dāng)靠近有效光束的位置的光學(xué)系 統(tǒng)，則無法充分阻擋重像光。原因如下。
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在專利文獻(xiàn)1中，為了使整個系統(tǒng)的尺寸小型化，使待入射到偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表 面上的光束在副掃描截面內(nèi)沿相對于偏轉(zhuǎn)表面的法向的傾斜方向入射(傾斜入射)。由此， 有效光束在通過具有平面形狀的遮光板時的掃描軌跡為彎曲形狀。圖IlA和圖IlB是示出從成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向上看到的用于在遮光板上圖像 形成的有效光束的通過區(qū)域(掃描軌跡)(實線)、重像光的通過區(qū)域(虛線)、以及副掃描 方向上遮光板的端部形狀的圖(示意圖)。圖IlA是其中遮光板91布置在有效光束的通過 區(qū)域下方(圖中所見的下側(cè))的示意圖。圖IlB是其中遮光板91布置在有效光束的通過 區(qū)域上方(圖中所見的上側(cè))的示意圖。如圖IlA和圖IlB所示，如果重像光通過靠近具有彎曲掃描軌跡的有效光束(通 過區(qū)域)的位置(或者其通過有效光束的通過區(qū)域的一部分)，在專利文獻(xiàn)1中可能出現(xiàn)以 下問題。(1)對于在副掃描方向上具有直線形端部的遮光板91，無論遮光板91在副掃描方 向上的高度如何改變，遮光板91都在其主掃描方向上的端部處阻擋有效光束。(2)其無法阻擋在主掃描方向的中心部分中的重像光。也就是說，如同專利文獻(xiàn)1中的在副掃描方向上具有直線形端部的遮光板91具有 以下問題，即在有效掃描區(qū)域(打印區(qū)域)的整個區(qū)域中，無法在不遮擋有效光束的情況下 充分阻擋重像光。另外，有效光束在通過遮光板91時的彎曲形狀按照其在副掃描截面中的偏轉(zhuǎn)表 面上的傾斜入射角、遮光板91在成像光學(xué)系統(tǒng)中的布置位置、以及布置在遮光板91的偏轉(zhuǎn) 裝置側(cè)的成像光學(xué)元件的表面形狀而變化。但是，專利文獻(xiàn)1未提及如何形成曲線以構(gòu)成 遮光板91在副掃描截面中的形狀。于是，在專利文獻(xiàn)1中，無法確定遮光板的形狀，該遮光板確保充分?jǐn)r截重像光而 在有效掃描區(qū)域的整個區(qū)域中都不遮蔽有效光束。換言之，專利文獻(xiàn)1中所示結(jié)構(gòu)具有以 下問題，即在用于重像光通過相當(dāng)靠近有效光束的位置的光學(xué)系統(tǒng)時，無法充分阻擋重像 光。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種光學(xué)掃描裝置和使用其的成像設(shè)備，通過它們可以確保除去或充 分減少重像光。按照本發(fā)明的一方面，提供了一種光學(xué)掃描裝置，包括光源裝置；具有偏轉(zhuǎn)表面 的偏轉(zhuǎn)裝置；輸入光學(xué)系統(tǒng)，其構(gòu)造成將光束從所述光源裝置引導(dǎo)到所述偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn) 表面；和成像光學(xué)系統(tǒng)，其構(gòu)造成將由所述偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面掃描偏轉(zhuǎn)的光束成像到被 掃描表面上；其中，在副掃描截面中，待入射到所述偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面上的光束相對于 所述成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸從傾斜方向入射到所述偏轉(zhuǎn)表面上，其中構(gòu)造成阻擋重像光的 遮光構(gòu)件布置在所述偏轉(zhuǎn)表面和所述被掃描表面之間的光路上，并且其中，當(dāng)所述成像光 學(xué)系統(tǒng)的光軸與所述遮光構(gòu)件之間的交點表示為Y = 0，所述遮光構(gòu)件上沿主掃描方向的 任意位置表示為Y[mm]，所述遮光構(gòu)件沿副掃描方向的端部與一個平面之間的間距表示為 h(Y) [mm]，所述平面垂直于所述偏轉(zhuǎn)裝置的旋轉(zhuǎn)軸且包含在主掃描方向上的任意位置Y處 入射到所述偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面上的光束的軸向偏轉(zhuǎn)點，在主掃描方向上的位置Y = 0處
0.5 ^ Ah(Y) + Ah(Y) = h (Y) -h (0)
⑵按照本發(fā)明，實現(xiàn)了一種小尺寸的光學(xué)掃描裝置和使用其的成像設(shè)備，通過它們 可以確保除去或充分減少重像光并可以形成高清晰度和高分辨率的圖像。通過結(jié)合附圖考慮本發(fā)明的優(yōu)選實施例的以下說明時，將更加清楚本發(fā)明的這些 和其他目的、特征和優(yōu)點。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)掃描裝置，包括 光源裝置；具有偏轉(zhuǎn)表面的偏轉(zhuǎn)裝置；輸入光學(xué)系統(tǒng)，其構(gòu)造成將光束從所述光源裝置引導(dǎo)到所述偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面；和 成像光學(xué)系統(tǒng)，其構(gòu)造成將由所述偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面掃描地偏轉(zhuǎn)的光束成像到被掃 描表面上；其中，在副掃描截面中，待入射到所述偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面上的光束相對于所述成像 光學(xué)系統(tǒng)的光軸從傾斜方向入射到所述偏轉(zhuǎn)表面上，其中構(gòu)造成阻擋重像光的遮光構(gòu)件布置在所述偏轉(zhuǎn)表面和所述被掃描表面之間的光 路上，其中，所述遮光構(gòu)件的在副掃描方向上的端部形成有彎曲形狀，所述彎曲形狀在副掃 描方向上的高度根據(jù)在主掃描方向上的位置而變化，其中，相對于與所述成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸的交點，所述彎曲形狀彎曲成使得在所述遮 光構(gòu)件在副掃描方向上的端部與垂直于所述偏轉(zhuǎn)裝置的轉(zhuǎn)動軸線且包含入射到所述偏轉(zhuǎn) 裝置的偏轉(zhuǎn)表面上的光束的軸向偏轉(zhuǎn)點的平面之間的間距隨著沿主掃描方向向外遠(yuǎn)離所 述光軸而增大，其中，所述遮光構(gòu)件包括設(shè)有所述端部的上遮光構(gòu)件(IOaU)和在所述遮光構(gòu)件的下 端部處的下遮光構(gòu)件(IOaL)，所述上遮光構(gòu)件(IOaU)和所述下遮光構(gòu)件(IOaL)與用于支 撐所述成像光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)器件盒一體地成型，并且其中，所述上遮光構(gòu)件(IOaU)和所述下遮光構(gòu)件(IOaL)設(shè)置在沿所述成像光學(xué)系統(tǒng) 的光軸方向偏離的相應(yīng)位置處。
2.一種成像設(shè)備，包括如權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描裝置； 布置在被掃描表面處的感光構(gòu)件；顯影裝置，其用于利用由所述光學(xué)掃描裝置掃描地偏轉(zhuǎn)的光束將在所述感光構(gòu)件上形 成的靜電潛像顯影以產(chǎn)生調(diào)色劑圖像；用于將所顯影的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印材料上的轉(zhuǎn)印裝置；和 用于將所轉(zhuǎn)印的調(diào)色劑圖像定影在轉(zhuǎn)印材料上的定影裝置。
全文摘要
一種光學(xué)掃描裝置和使用其的成像設(shè)備，所述光學(xué)掃描裝置構(gòu)造成除去或充分減少重像光，并且包括將光束從光源引導(dǎo)到偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面的輸入光學(xué)系統(tǒng)、和將由偏轉(zhuǎn)表面掃描偏轉(zhuǎn)的光束成像到被掃描表面上的成像光學(xué)系統(tǒng)，其中在副掃描截面中，光束相對于成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸從傾斜方向入射到偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面上，其中阻擋重像光的遮光構(gòu)件布置在偏轉(zhuǎn)表面和被掃描表面之間的光路上，其中遮光構(gòu)件在副掃描方向上的端部形成為在副掃描方向上具有高度的彎曲形狀，所述高度按照在主掃描方向上的位置而變化。
文檔編號G03G15/00GK102062943SQ20101055668
公開日2011年5月18日 申請日期2008年5月4日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月1日
發(fā)明者富岡雄一 申請人:佳能株式會社