專利名稱：掃描光學(xué)設(shè)備和使用其的成像設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及掃描光學(xué)設(shè)備和使用其的成像設(shè)備，其適于諸如彩色激光束打印機、 彩色數(shù)字復(fù)印機或彩色多功能打印機的使用電子照相過程的成像設(shè)備。
背景技術(shù)：
諸如彩色激光打印機的彩色成像設(shè)備近年來要求滿足對于低成本、高速度及高圖 像質(zhì)量的高要求。作為實現(xiàn)彩色成像設(shè)備的高速度的一種方法，廣泛知道的是級聯(lián)方法，在 該級聯(lián)方法中，對于每種顏色分離設(shè)置的圖像承載部件由光束掃描，從而形成用于每種顏 色的圖像，并且隨后，將多個圖像層疊在轉(zhuǎn)印介質(zhì)上以便形成彩色圖像。另外，為了實現(xiàn)高速打印，可以使用發(fā)射多個光束的光源。在這種情況下，如果光 束的偏振方向不一致，則對于透射或反射到達作為圖像承載部件的感光部件之前的光束的 光學(xué)元件的P偏振分量與S偏振分量之間的比(偏振分量比)在所述光束之間是不同的。 作為結(jié)果，在待掃描表面上的每個圖像高度處的光量(照度分布)在所述光束之間是不同 的。為了解決這個問題，已知有一種掃描光學(xué)設(shè)備，在這種掃描光學(xué)設(shè)備中，P偏振反 射和S偏振反射被設(shè)置成對于透射或反射光束的光學(xué)元件是大體相同的。因而，即使在偏 振分量比從設(shè)計值變化的情況下，在待掃描表面上的照度分布的不均勻性也減小。例如，日本專利申請公開Νο.Η11_3^807公開了一個例子，在該例子中，調(diào)整激 光的線性偏振方向以校正圖像承載部件上的明暗度(照度分布)。日本專利申請公開 No. 2001-337285公開了一個例子，在該例子中，對于S-偏振光和P-偏振光的反射率被設(shè)置 成大體彼此相同，以使得照度分布變得均勻。然而，在以上在日本專利申請公開Νο.Η11-3^807中描述的常規(guī)技術(shù)中，為了校 正照度分布，必須在檢查照度分布的同時調(diào)整每一個激光的偏振方向。因此，隨著光源數(shù)量 的增加，調(diào)整時的組裝成本增加。另外，在以上在日本專利申請公開No. 2001-337285中描 述的常規(guī)技術(shù)中，難以對于S-偏振光和對于P-偏振光設(shè)置完全相同的反射率。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是提供掃描光學(xué)設(shè)備和包括該掃描光學(xué)設(shè)備的成像設(shè)備，該 掃描光學(xué)設(shè)備可使在光路之間的照度分布均勻而無需調(diào)整，并且具有簡單結(jié)構(gòu)。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種掃描光學(xué)設(shè)備，其包括第一掃描單元；第二 掃描單元；以及偏轉(zhuǎn)單元，其偏轉(zhuǎn)光束以掃描，并且由所述第一掃描單元和所述第二掃描單 元共享，其中所述第一掃描單元包括第一光源單元、第一入射光學(xué)系統(tǒng)以及第一成像光學(xué) 系統(tǒng)，該第一入射光學(xué)系統(tǒng)將從所述第一光源單元發(fā)射的光束引導(dǎo)到所述偏轉(zhuǎn)單元的第一 偏轉(zhuǎn)表面，該第一成像光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置在從所述第一光源單元發(fā)射的并且由所述偏轉(zhuǎn)單元偏 轉(zhuǎn)的所述光束的光路中并且包括至少一個成像光學(xué)元件，該至少一個成像光學(xué)元件用于將 由所述第一偏轉(zhuǎn)表面偏轉(zhuǎn)的光束成像在第一待掃描表面上；所述第二掃描單元包括第二光源單元、第二入射光學(xué)系統(tǒng)以及第二成像光學(xué)系統(tǒng)，該第二入射光學(xué)系統(tǒng)將從所述第二光 源單元發(fā)射的光束引導(dǎo)到所述偏轉(zhuǎn)單元的第二偏轉(zhuǎn)表面，該第二偏轉(zhuǎn)表面與用于偏轉(zhuǎn)來自 所述第一光源單元的光束的所述第一偏轉(zhuǎn)表面不同，該第二成像光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置在從所述第 二光源單元發(fā)射的并且由所述偏轉(zhuǎn)單元偏轉(zhuǎn)的光束的光路中并且包括至少一個成像光學(xué) 元件，該至少一個成像光學(xué)元件用于將由所述第二偏轉(zhuǎn)表面偏轉(zhuǎn)的光束成像在第二待掃描 表面上；在主掃描方向上的彼此相反的方向上通過所述偏轉(zhuǎn)單元的旋轉(zhuǎn)，來自所述第一光 源單元的光束和來自所述第二光源單元的光束掃描所述第一待掃描表面和所述第二待掃 描表面；以及當(dāng)將在所述第一成像光學(xué)系統(tǒng)中包括的所述至少一個成像光學(xué)元件中的在光 軸方向上具有最大的厚度最大值的成像光學(xué)元件定義為第一成像光學(xué)元件、將在所述第二 成像光學(xué)系統(tǒng)中包括的所述至少一個成像光學(xué)元件中的在光軸方向上具有最大的厚度最 大值的成像光學(xué)元件定義為第二成像光學(xué)元件、以及將在所述主掃描方向上的用來自所述 第一光源單元的光束掃描所述第一待掃描表面的方向定義為Y軸的正方向時，滿足如下表 達式在滿足θ Ih(Ylmin) X θ Ir > 0 的情況下，θ 2h(Ylmin) X θ 2r > 0，禾口在滿足θ Ih(Ylmin) X θ Ir < 0 的情況下，θ 2h(Ylmin) X θ 2r < 0,其中θ Ih(y)和θ 2h(y)分別表示在所述第一成像光學(xué)元件和所述第二成像光 學(xué)元件中、當(dāng)將光軸的位置視為Y軸的原點時、在Y軸方向上的位置y處的作為在所述主掃 描方向與慢軸(slow axis)方向之間的角的取向角；θ Ir和θ 2r分別表示在Y軸與到達 所述第一成像光學(xué)元件和所述第二成像光學(xué)元件的光束的偏振方向之間的角；以及Ylmin 表示取向角9 1h(y)成為最小的在Y軸方向上的位置。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了一種掃描光學(xué)設(shè)備，其包括第一掃描單元；第二 掃描單元；以及偏轉(zhuǎn)單元，其偏轉(zhuǎn)光束以掃描，并且由所述第一掃描單元和所述第二掃描單 元共享，其中所述第一掃描單元包括第一光源單元、第一入射光學(xué)系統(tǒng)以及第一成像光學(xué) 系統(tǒng)，該第一入射光學(xué)系統(tǒng)將從所述第一光源單元發(fā)射的光束引導(dǎo)到所述偏轉(zhuǎn)單元的偏轉(zhuǎn) 表面，該第一成像光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置在從所述第一光源單元發(fā)射的并由所述偏轉(zhuǎn)單元偏轉(zhuǎn)的光 束的光路中并且包括至少一個成像光學(xué)元件，該至少一個成像光學(xué)元件用于將由所述偏轉(zhuǎn) 表面偏轉(zhuǎn)的光束成像在第一待掃描表面上；所述第二掃描單元包括第二光源單元、第二入 射光學(xué)系統(tǒng)以及第二成像光學(xué)系統(tǒng)，該第二入射光學(xué)系統(tǒng)將從所述第二光源單元發(fā)射的光 束引導(dǎo)到用于偏轉(zhuǎn)來自所述第一光源單元的光束的所述偏轉(zhuǎn)表面，該第二成像光學(xué)系統(tǒng)設(shè) 置在從所述第二光源單元發(fā)射的并由所述偏轉(zhuǎn)單元偏轉(zhuǎn)的光束的光路中并且包括至少一 個成像光學(xué)元件，該至少一個成像光學(xué)元件用于將由所述偏轉(zhuǎn)表面偏轉(zhuǎn)的光束成像在第二 待掃描表面上；所述第一入射光學(xué)系統(tǒng)和所述第二入射光學(xué)系統(tǒng)分別引導(dǎo)來自所述第一光 源單元的光束和來自所述第二光源單元的光束，以在副掃描方向上傾斜地進入所述偏轉(zhuǎn)單 元的所述偏轉(zhuǎn)表面；以及當(dāng)將在所述第一成像光學(xué)系統(tǒng)中包括的所述至少一個成像光學(xué)元 件中的在光軸方向上具有最大的厚度最大值的成像光學(xué)元件定義為第一成像光學(xué)元件、將 在所述第二成像光學(xué)系統(tǒng)中包括的所述至少一個成像光學(xué)元件中的在光軸方向上具有最 大的厚度最大值的成像光學(xué)元件定義為第二成像光學(xué)元件、在所述第一成像光學(xué)元件和所 述第二成像光學(xué)元件中被定義為在慢軸方向與主掃描方向之間的角的取向角在所述主掃 描方向上在最大值與最小值之間具有15度或更大的差值、以及將在所述主掃描方向上用來自所述第一光源單元的光束掃描所述第一待掃描表面的方向定義為Y軸的正方向時，滿 足如下表達式在滿足θ Ih(Ylmin) X θ Ir > 0 的情況下，θ 2h(Ylmin) X θ 2r > 0，和在滿足θ Ih(Ylmin) X θ Ir < 0 的情況下，θ 2h(Ylmin) X θ 2r < 0,其中θ Ih(y)和θ 2h(y)分別表示在所述第一成像光學(xué)元件和所述第二成像光 學(xué)元件中、當(dāng)將光軸的位置當(dāng)作Y軸的原點時、在Y軸方向上的位置y處的取向角；θ Ir和 θ 2r分別表示在Y軸與到達所述第一成像光學(xué)元件和所述第二成像光學(xué)元件的光束的偏 振方向之間的角；以及Ylmin表示取向角θ Ih(y)成為最小的在Y軸方向上的位置。根據(jù)本發(fā)明，可以提供在多個光路之間具有很小的照度分布不均勻性以使得可形 成高質(zhì)量圖像的掃描光學(xué)設(shè)備和成像設(shè)備。通過參照附圖的示范實施例的如下描述，本發(fā)明的進一步特征將變得顯而易見。


圖1是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的主掃描截面的主要部分的示意圖。圖2是根據(jù)第一實施例的副掃描截面的主要部分的示意圖。圖3是根據(jù)第一實施例的光源單元的主要部分的示意圖。圖4是圖示根據(jù)第一實施例的模制透鏡的取向角的示意圖。圖5A是三維地圖示根據(jù)第一實施例的模制透鏡的取向角的曲線圖。圖5B是用等高線示根據(jù)第一實施例的模制透鏡的取向角的曲線圖。圖6是根據(jù)第一實施例的掃描單元Sl的取向角θ h的曲線圖。圖7A是圖示根據(jù)第一實施例的掃描單元Sl的激光偏振方向的示意圖(在平行于 主掃描方向的情況下)。圖7B是圖示根據(jù)第一實施例的掃描單元Sl的激光偏振方向的示意圖(在對于主 掃描方向傾斜的情況下)。圖8是根據(jù)第一實施例的掃描單元Sl的激光偏振角θ r'的曲線圖。圖9是圖示根據(jù)第一實施例的激光偏轉(zhuǎn)的入射狀態(tài)的示意圖。圖10是根據(jù)第一實施例的掃描單元Sl的(θ h- θ r')的曲線圖。圖11是根據(jù)第一實施例的掃描單元Sl的9h和的曲線圖。圖12A是根據(jù)第一實施例的折回反射鏡的S和P偏振光的反射率的曲線圖(第一 折回反射鏡(16a或16b))。圖12B是根據(jù)第一實施例的折回反射鏡的S和P偏振光的反射率的曲線圖(第二 折回反射鏡(用于Sl的17a))。圖12C是根據(jù)第一實施例的折回反射鏡的S和P偏振光的反射率的曲線圖(第二 折回反射鏡(用于S2的17b))。圖13是表示根據(jù)第一實施例的掃描單元Sl的照度分布的曲線圖。圖14是根據(jù)第一實施例的掃描單元S2的取向角θ h的曲線圖。圖15是當(dāng)在第一實施例的裝置結(jié)構(gòu)中掃描單元S2的激光旋轉(zhuǎn)角是-3. 92度的情 況下eh和Θγ'的曲線圖。圖16是表示當(dāng)在第一實施例的裝置結(jié)構(gòu)中掃描單元S2的激光旋轉(zhuǎn)角是-3. 92度的情況下的照度分布的曲線圖。圖17是根據(jù)第一實施例的掃描單元S2的9h和的曲線圖。圖18是表示根據(jù)第一實施例的掃描單元S2的照度分布的曲線圖。圖19是根據(jù)本發(fā)明第二實施例的主掃描截面的主要部分的示意圖。圖20是根據(jù)第二實施例的副掃描截面的主要部分的示意圖。圖21Α是根據(jù)第二實施例的折回反射鏡的對于S和P偏振光的反射率的曲線圖 (第一折回反射鏡(16a))。圖21B是根據(jù)第二實施例的折回反射鏡的對于S和P偏振光的反射率的曲線圖 (第一折回反射鏡(16b))。圖21C是根據(jù)第二實施例的折回反射鏡的對于S和P偏振光的反射率的曲線圖 (第二折回反射鏡(17b))。圖22是根據(jù)第二實施例的掃描單元Sl的9h和的曲線圖。圖23是表示根據(jù)第二實施例的掃描單元Sl的照度分布的曲線圖。圖M是當(dāng)在第二實施例的裝置結(jié)構(gòu)中掃描單元S2的激光旋轉(zhuǎn)角是5. 51度的情 況下eh和Θγ'的曲線圖。圖25是表示當(dāng)在第二實施例的裝置結(jié)構(gòu)中掃描單元S2的激光旋轉(zhuǎn)角是5. 51度 的情況下的照度分布的曲線圖。圖沈是根據(jù)第二實施例的掃描單元S2的9h和的曲線圖。圖27是表示根據(jù)第二實施例的掃描單元S2的照度分布的曲線圖。圖觀是在副掃描方向上主要部分的截面視圖，圖示了本發(fā)明可應(yīng)用于的彩色成 像設(shè)備的實施例。
具體實施例方式下文，參照附圖詳細描述本發(fā)明的優(yōu)選實施例。第一實施例圖1是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的掃描光學(xué)設(shè)備的主要部分在主掃描方向上的截 面視圖(主掃描截面視圖)。根據(jù)第一實施例的掃描光學(xué)設(shè)備包括第一掃描單元Sl和第二掃描單元S2 (下文， 掃描單元也稱作“站”)及偏轉(zhuǎn)單元5，該偏轉(zhuǎn)單元由第一掃描單元Sl和第二掃描單元S2共 享。下文，在第二掃描單元S2的部件之中，與第一掃描單元Sl中的部件相同的部件表示在 括號中。而且，在如下描述中，主掃描方向?qū)?yīng)于垂直于偏轉(zhuǎn)單元的旋轉(zhuǎn)軸和成像光學(xué)系 統(tǒng)的光軸的方向(X方向)，即光束由偏轉(zhuǎn)單元反射和偏轉(zhuǎn)(為了掃描而偏轉(zhuǎn))的方向。將 Y方向設(shè)置為第一掃描單元中的主掃描方向。副掃描方向(Ζ方向)對應(yīng)于平行于偏轉(zhuǎn)單元 的旋轉(zhuǎn)軸的方向。主掃描截面是指包括成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸和主掃描方向的平面，并且副 掃描截面是指包括成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸且垂直于主掃描截面的截面。第一掃描單元Sl (第二掃描單元幻)包括發(fā)射一個或更多個光束的第一光源 Ia (第二光源lb)、和改變?nèi)肷涔馐臅蹱顟B(tài)并發(fā)射它的準直透鏡3a (3b)。第一掃描單元 Sl (第二掃描單元S》還包括僅在副掃描方向上具有折光力的柱面透鏡^iGb)、在主掃描方向上限制光束寬度的孔徑光闌hOb)及作為偏轉(zhuǎn)單元的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器(偏轉(zhuǎn)器)5。而且，第一掃描單元Sl (第二掃描單元S》包括在對應(yīng)的第一待掃描表面8a (第 二待掃描表面8b)上形成來自光學(xué)偏轉(zhuǎn)器5的光束的斑點的第一成像光學(xué)系統(tǒng)15a(第二 成像光學(xué)系統(tǒng)15b)。第一和第二掃描單元Sl和S2共享同一光學(xué)偏轉(zhuǎn)器(偏轉(zhuǎn)單元)5。另外，第一和 第二掃描單元Sl和S2使用由光學(xué)偏轉(zhuǎn)器5的第一偏轉(zhuǎn)表面fe和第二偏轉(zhuǎn)表面恥反射和 偏轉(zhuǎn)(偏轉(zhuǎn)以掃描)的不同光束。另外，構(gòu)成光源Ia(Ib)的“光源單元”發(fā)射用于光學(xué)掃描的光束，并且由半導(dǎo)體激 光器或發(fā)光二極管構(gòu)成。準直透鏡3a(3b)耦合來自光源Ia(Ib)的光束，并且將從光源Ia(Ib)發(fā)射的光束 轉(zhuǎn)換成“平行光束”或“弱會聚光束”或“弱發(fā)散光束”。柱面透鏡^iGb)僅在副掃描方向 上具有折射由準直透鏡3a(3b)耦合的光束以使得光束像在主掃描方向上延長的線那樣會 聚到光學(xué)偏轉(zhuǎn)器5的偏轉(zhuǎn)表面上的能力。注意，光源Ia(Ib)、準直透鏡3a(3b)、柱面透鏡如(4b)、以及其它元件構(gòu)成第一入 射光學(xué)系統(tǒng)(第二入射光學(xué)系統(tǒng))。光學(xué)偏轉(zhuǎn)器5由例如具有六個表面的旋轉(zhuǎn)多面反射鏡(多面反射鏡)構(gòu)成，并且 其外接圓的半徑是40mm。光學(xué)偏轉(zhuǎn)器5由諸如電機(未表示)之類的驅(qū)動單元驅(qū)動，以按 恒定速度旋轉(zhuǎn)。掃描透鏡系統(tǒng)(成像光學(xué)系統(tǒng))15a(15b)的每一個由兩個掃描透鏡(成像透鏡) 構(gòu)成，并且在待掃描表面8a或8b上形成由光學(xué)偏轉(zhuǎn)器5反射和偏轉(zhuǎn)的光束的斑點狀圖像， 這兩個掃描透鏡(成像透鏡)是在光學(xué)偏轉(zhuǎn)器側(cè)上的掃描透鏡6a(6b)和在待掃描表面?zhèn)?上的掃描透鏡7a(7b)。另外，掃描透鏡系統(tǒng)1 和1 具有用于偏轉(zhuǎn)表面fe和恥的光學(xué)面歪斜誤差 (optical face tangle error)校正功能，這通過在副掃描截面中在光學(xué)偏轉(zhuǎn)器5的偏轉(zhuǎn)表 面或其附近與待掃描表面8a或8b或其附近之間建立共軛關(guān)系而實現(xiàn)。掃描透鏡6a、7a、6b及7b中的每一個由塑料透鏡構(gòu)成，該塑料透鏡具有設(shè)計靈活 性高的非球面形狀的表面。在該實施例中，掃描透鏡6和7的形狀可按如下表達。當(dāng)X軸對應(yīng)于成像光學(xué)系 統(tǒng)1 和1 的光軸La和Lb的方向時，Y軸對應(yīng)于主掃描截面中的垂直于光軸La和Lb的 方向，并且Z軸對應(yīng)于副掃描截面中的垂直于光軸La和Lb的方向。在主掃描截面中掃描透鏡6和7的表面形狀按如下表達。
χ = _ /Ry + B4/ + B6V6 + Bsys + Bi0Vw1 +-{I+ Ktv/Κ)'其中，R表示曲率半徑，并且K、B4, B6, B8及Bltl表示非球面系數(shù)。關(guān)于在副掃描截面中的形狀，掃描透鏡6和7的入射表面和出射表面兩者的曲率 在掃描透鏡7的有效部分中連續(xù)地變化。掃描透鏡7的出射表面被配置成在構(gòu)成掃描透鏡系統(tǒng)1 和1 的透鏡表面之中 具有最大折光力(折光力是焦距的倒數(shù))。
在副掃描截面中掃描透鏡6和7的形狀由如下連續(xù)函數(shù)表達。
權(quán)利要求
1.一種掃描光學(xué)設(shè)備，包括 第一掃描單元；第二掃描單元；以及偏轉(zhuǎn)單元，其偏轉(zhuǎn)光束以掃描，并且該偏轉(zhuǎn)單元由所述第一掃描單元和所述第二掃描 單元共享，其中所述第一掃描單元包括第一光源單元、第一入射光學(xué)系統(tǒng)以及第一成像光學(xué)系統(tǒng)，該 第一入射光學(xué)系統(tǒng)將從所述第一光源單元發(fā)射的光束引導(dǎo)到所述偏轉(zhuǎn)單元的第一偏轉(zhuǎn)表 面，該第一成像光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置在從所述第一光源單元發(fā)射的并且由所述偏轉(zhuǎn)單元偏轉(zhuǎn)的所 述光束的光路中并且包括至少一個成像光學(xué)元件，該至少一個成像光學(xué)元件用于將由所述 第一偏轉(zhuǎn)表面偏轉(zhuǎn)的光束成像在第一待掃描表面上；所述第二掃描單元包括第二光源單元、第二入射光學(xué)系統(tǒng)以及第二成像光學(xué)系統(tǒng)，該 第二入射光學(xué)系統(tǒng)將從所述第二光源單元發(fā)射的光束引導(dǎo)到所述偏轉(zhuǎn)單元的第二偏轉(zhuǎn)表 面，該第二偏轉(zhuǎn)表面與用于偏轉(zhuǎn)來自所述第一光源單元的光束的所述第一偏轉(zhuǎn)表面不同， 該第二成像光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置在從所述第二光源單元發(fā)射的并且由所述偏轉(zhuǎn)單元偏轉(zhuǎn)的光束 的光路中并且包括至少一個成像光學(xué)元件，該至少一個成像光學(xué)元件用于將由所述第二偏 轉(zhuǎn)表面偏轉(zhuǎn)的光束成像在第二待掃描表面上；在主掃描方向上的彼此相反的方向上通過所述偏轉(zhuǎn)單元的旋轉(zhuǎn)，來自所述第一光源單 元的光束和來自所述第二光源單元的光束掃描所述第一待掃描表面和所述第二待掃描表 面；以及當(dāng)將在所述第一成像光學(xué)系統(tǒng)中包括的所述至少一個成像光學(xué)元件中的在光軸方向 上具有最大的厚度最大值的成像光學(xué)元件定義為第一成像光學(xué)元件、將在所述第二成像光 學(xué)系統(tǒng)中包括的所述至少一個成像光學(xué)元件中的在光軸方向上具有最大的厚度最大值的 成像光學(xué)元件定義為第二成像光學(xué)元件、以及將在所述主掃描方向上的用來自所述第一光 源單元的光束掃描所述第一待掃描表面的方向定義為Y軸的正方向時，滿足如下表達式 在滿足 θ Ih(Ylmin) X θ Ir > 0 的情況下，θ 2h(Ylmin) X θ 2r > 0，禾口 在滿足 θ Ih(Ylmin) X θ Ir < 0 的情況下，θ 2h(Ylmin) X θ 2r < 0， 其中θ Ih(y)和θ 2h(y)分別表示在所述第一成像光學(xué)元件和所述第二成像光學(xué)元 件中的、當(dāng)將在Y軸與包括光軸的垂直于Y軸的平面之間的交點當(dāng)作Y軸的原點時、在Y軸 方向上的位置y處的作為在所述主掃描方向與慢軸方向之間的角的取向角；θ Ir和Θ2γ 分別表示在Y軸與到達所述第一成像光學(xué)元件和所述第二成像光學(xué)元件的光束的偏振方 向之間的角；以及Ylmin表示取向角θ Ih(y)成為最小的在Y軸方向上的位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描光學(xué)設(shè)備，其中，所述第一成像光學(xué)元件和所述第二成 像光學(xué)元件由模制過程形成，并且在模制過程中形成的所述第一成像光學(xué)元件和所述第二 成像光學(xué)元件的澆口部分相對于光軸位置的位置是在Y軸方向上以及在所述第一成像光 學(xué)系統(tǒng)和所述第二成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向上的相同位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描光學(xué)設(shè)備，其中，所述第一光源單元和所述第二光源單 元的每一個包括多個發(fā)光點。
4.一種掃描光學(xué)設(shè)備，包括 第一掃描單元；第二掃描單元；以及偏轉(zhuǎn)單元，其偏轉(zhuǎn)光束以掃描，并且該偏轉(zhuǎn)單元由所述第一掃描單元和所述第二掃描 單元共享，其中所述第一掃描單元包括第一光源單元、第一入射光學(xué)系統(tǒng)以及第一成像光學(xué)系統(tǒng)，該 第一入射光學(xué)系統(tǒng)將從所述第一光源單元發(fā)射的光束引導(dǎo)到所述偏轉(zhuǎn)單元的偏轉(zhuǎn)表面，該 第一成像光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置在從所述第一光源單元發(fā)射的并由所述偏轉(zhuǎn)單元偏轉(zhuǎn)的光束的光 路中并且包括至少一個成像光學(xué)元件，該至少一個成像光學(xué)元件用于將由所述偏轉(zhuǎn)表面偏 轉(zhuǎn)的光束成像在第一待掃描表面上；所述第二掃描單元包括第二光源單元、第二入射光學(xué)系統(tǒng)以及第二成像光學(xué)系統(tǒng)，該 第二入射光學(xué)系統(tǒng)將從所述第二光源單元發(fā)射的光束引導(dǎo)到用于偏轉(zhuǎn)來自所述第一光源 單元的光束的所述偏轉(zhuǎn)表面，該第二成像光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置在從所述第二光源單元發(fā)射的并由 所述偏轉(zhuǎn)單元偏轉(zhuǎn)的光束的光路中并且包括至少一個成像光學(xué)元件，該至少一個成像光學(xué) 元件用于將由所述偏轉(zhuǎn)表面偏轉(zhuǎn)的光束成像在第二待掃描表面上；所述第一入射光學(xué)系統(tǒng)和所述第二入射光學(xué)系統(tǒng)分別引導(dǎo)來自所述第一光源單元的 光束和來自所述第二光源單元的光束，以在副掃描方向上傾斜地進入所述偏轉(zhuǎn)單元的所述 偏轉(zhuǎn)表面；以及當(dāng)將在所述第一成像光學(xué)系統(tǒng)中包括的所述至少一個成像光學(xué)元件中的在光軸方向 上具有最大的厚度最大值的成像光學(xué)元件定義為第一成像光學(xué)元件、將在所述第二成像光 學(xué)系統(tǒng)中包括的所述至少一個成像光學(xué)元件中的在光軸方向上具有最大的厚度最大值的 成像光學(xué)元件定義為第二成像光學(xué)元件、在所述第一成像光學(xué)元件和所述第二成像光學(xué)元 件中被定義為在慢軸方向與主掃描方向之間的角的取向角在所述主掃描方向上在最大值 與最小值之間具有15度或更大的差值、以及將在所述主掃描方向上用來自所述第一光源 單元的光束掃描所述第一待掃描表面的方向定義為Y軸的正方向時，滿足如下表達式在滿足 θ Ih(Ylmin) X θ Ir > 0 的情況下，θ 2h (Ylmin) X θ 2r > 0，和在滿足 θ Ih(Ylmin) X θ Ir < 0 的情況下，θ 2h(Ylmin) X θ 2r < 0，其中θ Ih(y)和θ 2h(y)分別表示在所述第一成像光學(xué)元件和所述第二成像光學(xué)元 件中、當(dāng)將在Y軸與包括光軸的垂直于Y軸的平面之間的交點當(dāng)作Y軸的原點時、在Y軸方 向上的位置y處的取向角；θ Ir和θ 2r分別表示在Y軸與到達所述第一成像光學(xué)元件和 所述第二成像光學(xué)元件的光束的偏振方向之間的角；以及Ylmin表示取向角θ Ih (y)成為 最小的在Y軸方向上的位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掃描光學(xué)設(shè)備，其中，所述第一成像光學(xué)元件和所述第二成 像光學(xué)元件由模制過程形成，并且在模制過程中形成的所述第一成像光學(xué)元件和所述第二 成像光學(xué)元件的澆口部分相對于光軸位置的位置是在Y軸方向上以及在所述第一成像光 學(xué)系統(tǒng)和所述第二成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向上的相同位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掃描光學(xué)設(shè)備，其中，所述第一光源單元和所述第二光源單 元的每一個包括多個發(fā)光點。
7.一種成像設(shè)備，包括根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的掃描光學(xué)設(shè)備；和打印機控制器，其將從外部裝置供給的碼數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成圖像信號，該圖像信號被供給到所述掃描光學(xué)設(shè)備。
8.一種彩色成像設(shè)備，包括多個掃描光學(xué)設(shè)備，每個掃描光學(xué)設(shè)備包括根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的掃描 光學(xué)設(shè)備；和多個圖像承載部件，該多個圖像承載部件布置在所述多個掃描光學(xué)設(shè)備的待掃描表面 上，以便形成不同顏色的圖像。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的彩色成像設(shè)備，還包括打印機控制器，該打印機控制器將從 外部裝置供給的顏色信號轉(zhuǎn)換成不同顏色圖像數(shù)據(jù)，該不同顏色圖像數(shù)據(jù)被供給到所述多 個掃描光學(xué)設(shè)備。
全文摘要
本申請涉及掃描光學(xué)設(shè)備和使用其的成像設(shè)備。所述掃描光學(xué)設(shè)備包括掃描單元、偏轉(zhuǎn)器。掃描單元的每一個包括光源、成像光學(xué)系統(tǒng)，該成像光學(xué)系統(tǒng)包括將由偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)的光束成像在掃描表面上的成像光學(xué)元件。用光束在相反方向上對掃描表面進行掃描。當(dāng)?shù)谝粧呙鑶卧闹鲯呙璺较蚴荵正方向時，θ1h(Y1min)×θ1r與θ2h(Y1min)×θ2r之間的符號相同。這里，θ1h(y)、θ2h(y)表示在第一/第二成像光學(xué)元件離光軸的Y方向位置y處在Y軸與慢軸之間的取向角，每個該成像光學(xué)元件是在成像光學(xué)系統(tǒng)的成像光學(xué)元件之中具有最大厚度的成像光學(xué)元件，θ1r和θ2r表示在Y軸與到達成像光學(xué)元件的光束的偏振方向之間的角，及Y1min表示θ1h(y)成為最小的Y位置。
文檔編號G02B26/12GK102053364SQ20101053007
公開日2011年5月11日 申請日期2010年11月2日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月6日
發(fā)明者內(nèi)藤裕太 申請人:佳能株式會社