專利名稱：光罩及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于光罩以及光罩的制造方法。
背景技術(shù)：
例如在制造半導體組件或液晶顯示組件等時，使用的投影曝光裝置是將光罩(光 柵、光屏蔽(photomask)等)圖案經(jīng)由投影光學系統(tǒng)而投影于涂布有抗蝕(resist)劑的感 光板(plate)(玻璃板或半導體晶圓等)上。先前多使用的投影曝光裝置(stepper，步進 機)是以步進重復(st印and repeat)的方式，將各個光柵圖案于感光板上的各曝光照射 (shot)區(qū)域一并曝光。近年來，提出一種步進掃描(st印and scan)方式的投影曝光裝置， 其并非使用1個較大的投影光學系統(tǒng)，取而代之是將具有等倍的倍率的較小的多個部分投 影光學系統(tǒng)沿著掃描方向以特定間隔而配置成多列，一邊掃描光罩及感光板，一邊利用各 部分投影光學系統(tǒng)，將各個光罩圖案于感光板上曝光(參照日本專利申請平成5-161588號 公報)。
發(fā)明內(nèi)容
然而近年來，感光板日益大型化，已開始使用超過2m見方的感光板。因此，當使用 上述步進掃描方式的曝光裝置而于大型感光板上進行曝光時，由于部分投影光學系統(tǒng)具有 等倍的倍率，因而光罩亦需大型化。又因必須維持光罩基板的平面性，所以光罩愈大型化， 則成本愈高。而且，為了形成通常的TFT (Thin Film Transistor，薄膜晶體管)部，必須具 有4 5層的光罩，因此需要很大的成本。本發(fā)明的目的在于提供一種包括具有放大倍率的投影光學系統(tǒng)的曝光裝置中所 使用的光罩及其制造方法。根據(jù)本發(fā)明的實施例之一，提供一種具有圖案區(qū)域的光罩，其特征在于，圖案區(qū)域 包括沿著第1方向而配置于奇數(shù)號的多個奇數(shù)列圖案區(qū)域，以及沿著第1方向而配置于偶 數(shù)號的多個偶數(shù)列圖案區(qū)域，至少一對鄰接的奇數(shù)列圖案區(qū)域與偶數(shù)列圖案區(qū)域在第1方 向的端部具有共通區(qū)域，該共通區(qū)域中具有相同圖案。圖案區(qū)域還包括第1基準標記及第 2基準標記；第1基準標記與至少1個奇數(shù)列圖案區(qū)域或至少1個偶數(shù)列圖案區(qū)域具有第1 位置關(guān)系；第2基準標記與至少1個奇數(shù)列圖案區(qū)域或至少1個偶數(shù)列圖案區(qū)域具有第2 位置關(guān)系。又，根據(jù)本發(fā)明的實施例之一，提供一種光罩的制造方法，其特征在于，包括下述 步驟將與形成于上述光罩上的所有圖案對應(yīng)的所有圖案數(shù)據(jù)在第1方向上進行分割的步 驟；在分割后的至少1個圖案數(shù)據(jù)的第1方向的端部，添加與共通區(qū)域?qū)?yīng)的圖案數(shù)據(jù)，制 作多個與分割后的各圖案數(shù)據(jù)對應(yīng)的描繪數(shù)據(jù)的步驟；使用上述多個描繪數(shù)據(jù)，于上述光
4罩上描繪圖案的步驟；以及制作基準標記，使該基準標記與所描繪的各圖案的至少1個圖 案具有特定的位置關(guān)系的步驟。
圖1是第1實施例的投影光學系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。圖2是第2實施例的投影光學系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。圖3是第3實施例的投影光學系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。圖4是第4實施例的曝光裝置的結(jié)構(gòu)圖。圖5是第4實施例的曝光裝置的投影光學系統(tǒng)的配置圖。圖6是用以說明一種曝光方法，該曝光方法使用了第4實施例的曝光裝置。圖7是用以說明一種曝光方法，該曝光方法使用了第4實施例的曝光裝置。圖8是用以說明一種曝光方法，該曝光方法使用了第4實施例的曝光裝置。圖9是用以說明一種曝光方法，該曝光方法使用了第4實施例的曝光裝置。圖10是用以說明一種光罩的結(jié)構(gòu)，該光罩使用于實施例的包括形成正立像的投 影光學系統(tǒng)的曝光裝置中。圖11是用以說明一種光罩的結(jié)構(gòu)，該光罩使用于實施例的包括形成倒立像的投 影光學系統(tǒng)的曝光裝置中。圖12表示將實施例的光罩的圖案曝光轉(zhuǎn)印于感光板上的狀態(tài)圖。圖13是用以說明一種光罩的結(jié)構(gòu)，該光罩使用于實施例的包括形成正立像的投 影光學系統(tǒng)的曝光裝置中。圖14是用以說明一種光罩的結(jié)構(gòu)，該光罩使用于實施例的包括形成倒立像的投 影光學系統(tǒng)的曝光裝置中。圖15是用以說明一種光罩的結(jié)構(gòu)，該光罩使用于實施例的包括形成正立像的投 影光學系統(tǒng)的曝光裝置中。圖16是用以說明一種光罩的結(jié)構(gòu)，該光罩使用于實施例的包括形成倒立像的投 影光學系統(tǒng)的曝光裝置中。圖17是表示實施例的基準標記的形狀。圖18是用以說明實施例的光罩的制造方法。圖19是用以說明實施例的光罩的制造方法。圖20是用以說明實施例的光罩的制造方法。圖21是表示本發(fā)明的實施例的作為微型裝置的液晶顯示組件的制造方法的流程 圖。P、P1、P2、P3、P10 感光板PL、PL1、PL2、PL3、PL10、PL11、PL12、PL31、PL32 投影光學系統(tǒng)M1、M2、M3、M10、M11、M12 光罩CCM1、CCM2、CCM31、CCM32 凹面反射鏡PGl 1、PGl2、PGl3、PG21、PG22、PG23、PG31、PG32、PG33、PG43、PG53、PG63 透鏡群FM11、FM12、FM13、FM21、FM22、FM23、FM33、FM43 光路偏轉(zhuǎn)面L101、L202、L203 正彎月透鏡
L102、L132、L151、L152、L153、L161、L163、L171、L173、L193、L212 負彎月透鏡Llll、L112、L113、L172、L181、L192 雙凹透鏡L121、L122、L123、L141、L143、L162、L182、L191、L222 雙凸透鏡L103、L131、L142、L183、L201、L211 平凸透鏡FS 視場光圈IL:照明光學系統(tǒng)MST 光罩平臺M 第1物體PlOl 已對奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl進行轉(zhuǎn)印曝光的區(qū)域P102 已對偶數(shù)列圖案區(qū)域M102進行轉(zhuǎn)印曝光的區(qū)域Pll P15 已對共通區(qū)域Cl C5進行轉(zhuǎn)印曝光的區(qū)域PST 感光板平臺CONT 控制部PLP 投影光學系統(tǒng)之間在Y軸方向的間隔距離EW:實效曝光寬度M1A、M2A、M3A、M1B、M2B、M3B、M1C、M2C、M3C、M1D、M2D、M3D 照明區(qū)域EA1、EA2、EA3、P1A、P2A、P3A、P1B、P2B、P3B、PIC、P2C、P3C、P1D、P2D、P3D 曝光區(qū)
域MlOl 多個奇數(shù)列圖案區(qū)域M102 多個偶數(shù)列圖案區(qū)域ml01、ml02、ml01a、ml02a 基準標記X1、X2 基準標記與圖案區(qū)域的相隔距離Cl C5:圖案數(shù)據(jù)C11、C12:共通區(qū)域θ 光罩的位置對準方向Ll 奇數(shù)列圖案區(qū)域之間在Y軸方向的配置間隔L2 偶數(shù)列圖案區(qū)域之間在Y軸方向的配置間隔S401 S404 步驟
具體實施例方式以下，參照圖式來說明本發(fā)明的實施例的投影光學系統(tǒng)。圖1是第1實施例的投影 光學系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。以下說明中，設(shè)定各圖中所示的XYZ正交坐標系，并且一邊參照該XYZ 正交坐標系，一邊說明各部件的位置關(guān)系。XYZ正交坐標系中，將X軸及Y軸設(shè)定為與下述 曝光裝置中所使用的感光板P平行，將Z軸設(shè)定在與感光板P正交的方向上。圖中的XYZ 坐標系實際上是將XY平面設(shè)定為與水平面平行的面，將Z軸設(shè)定在鉛垂方向上。又，于下 述曝光裝置中，將使光罩M及感光板P移動的方向(掃描方向)設(shè)定為X軸方向。圖1所示的投影光學系統(tǒng)PLl是將光罩(第1面)Ml的像投影于感光板(第2面) Pl上的反射折射光學系統(tǒng)，該投影光學系統(tǒng)PLl包括凹面反射鏡CCM1、第1透鏡群PG11、第 1光路偏轉(zhuǎn)面FMl 1、第2透鏡群PG21、第2光路偏轉(zhuǎn)面FM21、以及第3透鏡群PG31 ；上述凹面反射鏡CCMl配置于光罩Ml與感光板Pl之間的光路中；上述第1透鏡群PGll配置于光 罩Ml與凹面反射鏡CCMl之間的光路中，且具有正折射力；上述第1光路偏轉(zhuǎn)面FMll以與 光罩Ml面成45°角的方式斜設(shè)于第1透鏡群PGll與凹面反射鏡CCMl之間的光路中，以 使從第1透鏡群PGll向-Z軸方向行進的光于X軸方向反射，由此使光路偏轉(zhuǎn)；上述第2透 鏡群PG21配置于第1光路偏轉(zhuǎn)面FMll與凹面反射鏡CCMl之間的光路中；上述第2光路偏 轉(zhuǎn)面FM21以與光罩Ml面成45°角的方式斜設(shè)于第2透鏡群PG21與感光板Pl之間的光 路中，以使從第2透鏡群PG21向-X軸方向行進的光于-Z軸方向反射，由此使光路偏轉(zhuǎn)；上 述第3透鏡群PG31配置于第2光路偏轉(zhuǎn)面FM21與感光板Pl之間的光路中，且具有正折射 力。投影光學系統(tǒng)PLl的第1透鏡群PGll由在光罩Ml側(cè)朝向凹面的正彎月透鏡 (positive meniscus lens)L101、雙凹透鏡(biconcave lens)L111、雙凸透鏡(biconvex lens)L121、以及在光罩Ml側(cè)朝向平面的平凸透鏡(plane-convex lens)L131所組成。第2 透鏡群PG21由雙凸透鏡L141、在第1光路偏轉(zhuǎn)面FMll側(cè)朝向凹面的負彎月透鏡(negative meniscus lenS)L151、在第1光路偏轉(zhuǎn)面FMll側(cè)朝向凸面的負彎月透鏡L161、以及在第 1光路偏轉(zhuǎn)面FMll側(cè)朝向凹面的負彎月透鏡L171所組成。第3透鏡群PG31由雙凹透鏡 L181、雙凸透鏡L191、在第2光路偏轉(zhuǎn)面FM21側(cè)朝向凸面的平凸透鏡L201、以及在感光板 Pl側(cè)朝向凹面的平凹透鏡L211所組成。其次，參照圖2來說明第2實施例的投影光學系統(tǒng)PL2。圖2是第2實施例的投影 光學系統(tǒng)PL2的結(jié)構(gòu)圖。圖2所示的投影光學系統(tǒng)PL2是將光罩(第1面)M2的像投影于感光板(第2面) P2上的反射折射光學系統(tǒng)，該投影光學系統(tǒng)PL2包括凹面反射鏡CCM2、第1透鏡群PG12、第 1光路偏轉(zhuǎn)面FM12、第2透鏡群PG22、第2光路偏轉(zhuǎn)面FM22、以及第3透鏡群PG32 ；上述凹 面反射鏡CCM2配置于光罩M2與感光板P2之間的光路中；上述第1透鏡群PG12配置于光 罩M2與凹面反射鏡CCM2之間的光路中，且具有正折射力；上述第1光路偏轉(zhuǎn)面FM12以與 光罩M2面成45°角的方式斜設(shè)于第1透鏡群PG12與凹面反射鏡CCM2之間的光路中，以 使從第1透鏡群PG12向-Z軸方向行進的光于X軸方向反射，由此使光路偏轉(zhuǎn)；上述第2透 鏡群PG22配置于第1光路偏轉(zhuǎn)面FM12與凹面反射鏡CCM2之間的光路中；上述第2光路偏 轉(zhuǎn)面FM22以與光罩M2面成45°角的方式斜設(shè)于第2透鏡群PG22與感光板P2之間的光 路中，以使從第2透鏡群PG22向-X軸方向行進的光于-Z軸方向反射，由此使光路偏轉(zhuǎn)；上 述第3透鏡群PG32配置于第2光路偏轉(zhuǎn)面FM22與感光板P2之間的光路中，且具有正折射 力。第1透鏡群PG12由在光罩M2側(cè)朝向凹面的負彎月透鏡L102、雙凹透鏡L112、雙 凸透鏡L122、在光罩M2側(cè)朝向凹面的負彎月透鏡L132、以及在光罩M2側(cè)朝向平面的平凸 透鏡L142所組成。第2透鏡群PG22由在第1光路偏轉(zhuǎn)面FM12側(cè)朝向凸面的負彎月透鏡 L152、雙凸透鏡L162、雙凹透鏡L172、以及雙凸透鏡L182所組成。第3透鏡群PG3由雙凹 透鏡L192、在第2光路偏轉(zhuǎn)面FM22側(cè)朝向凹面的正彎月透鏡L202、在第2光路偏轉(zhuǎn)面FM22 側(cè)朝向凸面的負彎月透鏡L212、以及雙凸透鏡L222所組成。其次，參照圖3來說明第3實施例的投影光學系統(tǒng)PL3。圖3是第3實施例的投影 光學系統(tǒng)PL3的結(jié)構(gòu)圖。
圖3所示的投影光學系統(tǒng)PL3包括用以將光罩(第1面)M3的像投影于感光板 (第2面)P3上的反射折射光學系統(tǒng)PL31以及反射折射光學系統(tǒng)PL32。反射折射光學系 統(tǒng)PL31包括凹面反射鏡CCM31、第1透鏡群PG13、第1光路偏轉(zhuǎn)面FM13、第2透鏡群PG23、 第2光路偏轉(zhuǎn)面FM23、以及第3透鏡群PG33 ；上述凹面反射鏡CCM31配置于光罩M3與視場 光圈(visual field diaphragm) FS之間的光路中；上述第1透鏡群PG13配置于光罩M3與 凹面反射鏡CCM31之間的光路中，且具有正折射力；上述第1光路偏轉(zhuǎn)面FM13以與光罩M3 面成45°角的方式斜設(shè)于第1透鏡群PG13與凹面反射鏡CCM31之間的光路中，以使從第1 透鏡群PG13向-Z軸方向行進的光于X軸方向反射，由此使光路偏轉(zhuǎn)；上述第2透鏡群PG23 配置于第1光路偏轉(zhuǎn)面FM13與凹面反射鏡CCM31之間的光路中；上述第2光路偏轉(zhuǎn)面FM23 以與光罩M3面成45°角的方式斜設(shè)于第2透鏡群PG23與視場光圈FS之間的光路中，以使 從第2透鏡群PG23向-X軸方向行進的光于-Z軸方向反射，由此使光路偏轉(zhuǎn)；上述第3透 鏡群PG33配置于第2光路偏轉(zhuǎn)面FM23與視場光圈FS之間的光路中，且具有正折射力。反射折射光學系統(tǒng)PL32具有與反射折射光學系統(tǒng)PL31相同的結(jié)構(gòu)。亦即，包括 凹面反射鏡CCM32、第4透鏡群PG43、第3光路偏轉(zhuǎn)面FM33、第5透鏡群PG53、第4光路偏 轉(zhuǎn)面FM43、以及第6透鏡群PG63 ；上述凹面反射鏡CCM32配置于視場光圈FS與感光板P3 之間的光路中；上述第4透鏡群PG43配置于視場光圈FS與凹面反射鏡CCM32之間的光路 中，且具有正折射力；上述第3光路偏轉(zhuǎn)面FM33以與光罩M3面成45°角的方式斜設(shè)于第4 透鏡群PG43與凹面反射鏡CCM32之間的光路中，以使從第4透鏡群PG43向-Z軸方向行進 的光于X軸方向反射，由此使光路偏轉(zhuǎn)；上述第5透鏡群PG53配置于第3光路偏轉(zhuǎn)面FM33 與凹面反射鏡CCM32之間的光路中；上述第4光路偏轉(zhuǎn)面FM43以與光罩M3面成45°角的 方式斜設(shè)于第5透鏡群PG53與感光板P3之間的光路中，以使從第5透鏡群PG53向-X軸 方向行進的光于-Z軸方向反射，由此使光路偏轉(zhuǎn)；上述第6透鏡群PG63配置于第4光路偏 轉(zhuǎn)面FM43與感光板P3之間的光路中，且具有正折射力。第1透鏡群PG13由在光罩M3側(cè)朝向平面的平凸透鏡L103、雙凹透鏡L113、以及 雙凸透鏡L123所組成。第2透鏡群PG23由雙凸透鏡L143、在第1光路偏轉(zhuǎn)面FM13側(cè)朝向 凹面的負彎月透鏡L153、在第1光路偏轉(zhuǎn)面FM13側(cè)朝向凸面的負彎月透鏡L163、以及在第 1光路偏轉(zhuǎn)面FM13側(cè)朝向凹面的負彎月透鏡L173所組成。第3透鏡群PG33由在第2光 路偏轉(zhuǎn)面FM23側(cè)朝向凸面的平凸透鏡L183、于第2光路偏轉(zhuǎn)面FM23側(cè)朝向凸面的負彎月 透鏡L193、以及于第2光路偏轉(zhuǎn)面FM23側(cè)朝向凸面的正彎月透鏡L203所組成。再者，第4 透鏡群PG43、第5透鏡群PG53、第6透鏡群PG63分別具有與第1透鏡群PG13、第2透鏡群 PG23、第3透鏡群PG33相同的結(jié)構(gòu)。此處，于上述第1 第3實施例中，當將第1透鏡群PG11、PG12、PG13的焦距設(shè) 為FPG1，且將第3透鏡群PG31、PG32、PG33的焦距設(shè)為FPG3時，滿足條件1 < FPG3/FPG1 < 2. 5。當超過該條件式的下限時，投影倍率會小于1，從而無法構(gòu)成具有放大倍率 的投影光學系統(tǒng)；當超過該條件式的上限時，放大側(cè)之像的高度會增高，從而對像散 (astigmatism)、像面彎曲的修正變得困難。又，第1透鏡群？611、？612、？613及第3透鏡群？631、？632、？633分別具有正折射 力，故由于包括2個正透鏡，因而對球面像差、像面彎曲的修正變得容易。鏡群PG21、PG22、PG23包括至少1個負透鏡及正透鏡，因而能夠于 第2透鏡群PG21、PG22、PG23內(nèi)進行色像差(chromaticaberration)的修正。再者，更佳的 是，使用與第2透鏡群PG21、PG22、PG23內(nèi)的至少1個負透鏡及正透鏡不同種類的光學部 件。較佳的是，除該構(gòu)成之外，亦于第1透鏡群PG11、PG12、PG13及第3透鏡群PG31、PG32、 PG33中分別包括負透鏡以及正透鏡。藉此，能夠于各透鏡群中進行色像差修正，因而即便使 曝光波長寬帶帶化(例如自g線(436nm)起遍及i線(365nm)的波長區(qū)域)，亦可對整個投 影光學系統(tǒng)實現(xiàn)良好的色像差修正。又，于上述第1及第2實施例中，由于第3透鏡群PG31、PG32包括配置于最靠近第 2光路偏轉(zhuǎn)面?zhèn)菷M21、FM22的負透鏡L181、L192，因而，甚至到像(image)高較低的光線為 止亦可進行視場分離，故可確保較寬的曝光區(qū)域。以下，參照圖式來說明本發(fā)明第4實施例的曝光裝置。圖4是第4實施例的曝光 裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。本實施例中，將以一種曝光裝置為例而進行說明，該曝光裝置具有步進 掃描方式，可一邊對光罩(第1物體)M及外徑大于500mm的感光板(第2物體、感光基板) P在投影光學裝置PL上進行相對掃描，一邊將形成于光罩M上的圖案(原始圖案)的像轉(zhuǎn) 印于感光板P上，上述投影光學裝置PL包括上述第1 第3實施例的反射折射型投影光學 系統(tǒng)的任一個所組成的投影光學系統(tǒng)PL10、PL11、PL12。此處所謂外形大于500mm，是指一 邊或?qū)蔷€大于500mm。本實施例的曝光裝置包括用以對光罩M進行均勻照明的照明光學系統(tǒng)IL。照 明光學系統(tǒng)IL包括例如由汞燈或超高壓汞燈形成的光源，并且由光學積分器(optical integrator)、視場光圈、聚光透鏡(condenser lens)等所組成。由光源所射出的曝光光束 通過照明光學系統(tǒng)IL，對設(shè)于光罩M上的圖案進行照明。通過光罩M的光經(jīng)由多個投影光 學系統(tǒng)？1^10、？1^11、？1^12，將光罩11的圖案投影曝光于感光板上的曝光區(qū)域。此處，例如投 影光學系統(tǒng)PLlO相當于第1投影光學系統(tǒng)，投影光學系統(tǒng)PLll相當于第2投影光學系統(tǒng)。又，光罩M保持于光罩平臺(第1平臺)MST上。光罩平臺MST能夠于掃描方向(X 軸方向)上進行長沖程(stroke)移動，且能夠于非掃描方向(Y軸方向)上移動特定量。 又，感光板P保持于感光板平臺(第2平臺)PST上。感光板平臺PST能夠于掃描方向(X 軸方向)上進行長沖程移動，且能夠于非掃描方向(Y軸方向)上移動特定量。再者，光罩 平臺MST及感光板平臺PST的移動藉由控制部CONT而控制。亦即，控制部CONT控制光罩 平臺MST及感光板平臺PST以與投影光學系統(tǒng)PL10、PL11、PL12的放大倍率對應(yīng)的速度比 而沿著掃描方向移動，并且控制光罩平臺MST及感光板平臺PST以與投影光學系統(tǒng)PL10、 PL1UPL12的放大倍率對應(yīng)的移動量比而沿著非掃描方向移動。圖5是表示投影光學系統(tǒng)PL10、PLlU PL12的排列狀態(tài)圖。投影光學系統(tǒng)PL10、 PL11、PL12在與掃描方向正交的非掃描方向(Y軸方向)上分散地排列配置著。投影光學系 統(tǒng)PL10、PL11、PL12的投影倍率分別為2倍。當使利用投影光學系統(tǒng)PL10、PL11、PL12而形 成的曝光區(qū)域分別為EA1、EA2、EA3時，曝光區(qū)域EA1、EA2、EA3會各自相隔特定的距離。此 處，將投影光學系統(tǒng)PL10、PLl 1、PL12的曝光區(qū)域EAl、EA2、EA3在Y軸方向的實效曝光寬 度分別設(shè)為EW。投影光學系統(tǒng)PLlO與投影光學系統(tǒng)PLll在Y軸方向的間隔距離為PLP， 投影光學系統(tǒng)PLll與投影光學系統(tǒng)PL12在Y軸方向的間隔距離亦為PLP。此時，各投影 光學系統(tǒng)PL10、PL11、PL12的實效曝光寬度EW與投影光學系統(tǒng)在Y軸方向的間隔距離PLP
9的關(guān)系為PLP = 2 XEW。當將與各投影光學系統(tǒng)PL10、PL11、PL12對應(yīng)的光罩M上的實效曝光寬度設(shè)為MW 時，EW = 2 XMW。其次，參照圖6來說明使用上述實施例的曝光裝置的曝光方法。首先，參照圖6來 說明步驟1。如該圖所示，將利用投影光學系統(tǒng)PL10、PL11、PL12進行投影曝光的感光板P 上的曝光區(qū)域分別設(shè)為P1A、P2A、P3A，將光罩M上的照明區(qū)域分別設(shè)為MIA、M2A、M3A。此 處，例如，照明區(qū)域MlA可視為光罩上的一部分，并且照明區(qū)域M2A可視為光罩上的不同部 分。又，例如，曝光區(qū)域PlA可視為感光板上的第1區(qū)域，并且曝光區(qū)域P2A可視為感光板上 的第2區(qū)域。再者，于本實施例中，光罩上的一部分(例如MlA)與不同的部分(例如M2A) 是一體形成于1個光罩上的，但亦可分別形成于不同的光罩上。例如，亦可一部分(此處為 MlA)形成于第1光罩上，而不同的部分(此處為M2A)形成于第2光罩上。于此情形時，利 用控制部CONT來控制光罩平臺MST，藉此可僅使光罩上的一部分或不同的部分于非掃描方 向上移動。當將掃描方向設(shè)為X軸方向，且將光罩M的掃描速度設(shè)為VM，將感光板P的掃描速 度設(shè)為VP時，滿足如下關(guān)系VP = 2XVM。因此，當將光罩M于X軸方向的曝光區(qū)域的長度設(shè)為MXL，且將感光板P于X軸方 向的曝光區(qū)域的長度設(shè)為PXL時，下式成立PXL = 2 XMXL。其次，參照圖7來說明步驟2。如該圖所示，當步驟1中的感光板P上的曝光長度 為PXL的曝光結(jié)束后，使感光板P于-Y軸方向上移動SPB (距離等于EW)。使光罩M于Y 軸方向上移動SMB (距離等于MW)。其后進行掃描曝光。此時，感光板P上所曝光的區(qū)域為 P1B、P2B、P3B，其中PlB以與先前步驟1中已曝光的鄰接的曝光區(qū)域P1A、P2A在Y軸方向 上部分重疊的方式而曝光。曝光區(qū)域P2B以與先前步驟1中已曝光的鄰接的曝光區(qū)域P2A、 P3A在Y軸方向上部分重疊的方式而曝光。曝光區(qū)域P3B以與先前的步驟1中已曝光的鄰 接的曝光區(qū)域P3A在Y軸方向上部分重疊的方式而曝光。其次，參照圖8來說明步驟3。當步驟2中的感光板P上的曝光長度為PXL的曝 光結(jié)束后，使感光板P于-Y軸方向上移動SPC (距離等于5 X EW)。使光罩M于Y軸方向上 移動SMC (距離等于MW)。其后進行掃描曝光。此時，感光板P上所曝光的區(qū)域為區(qū)域P1C、 P2C、P3C，其中PlC以與先前步驟2中已曝光的鄰接的曝光區(qū)域P3B在Y軸方向上部分重疊 的方式而曝光。其次，參照圖9來說明步驟4。當步驟3中的感光板P上的曝光長度為PXL的曝 光結(jié)束后，使感光板P于-Y軸方向移動SPD (距離等于EW)。使光罩M于Y軸方向只移動 SMD (距離等于MW)。其后進行掃描曝光。此時，感光板P上所曝光的區(qū)域為區(qū)域P1D、P2D、 P3D，其中PlD以與先前步驟3中已曝光的鄰接的曝光區(qū)域P1C、P2C在Y軸方向上部分重疊 的方式而曝光。曝光區(qū)域P2D以與先前步驟3中已曝光的鄰接的曝光區(qū)域P2C、P3C在Y軸 方向上部分重疊的方式而曝光。曝光區(qū)域P3D以與先前步驟3中已曝光的鄰接的曝光區(qū)域P3C在Y軸方向上部分重疊的方式而曝光。由以上步驟1 4可知，光罩M上的區(qū)域面積SM= 12XMWXMXL，而利用本發(fā)明的 曝光裝置于感光板上所曝光的區(qū)域面積SP = 12XEffXPXL0根據(jù)上述關(guān)系式，SM與SP之間的下述關(guān)系式成立SP = 4XSM,因而光罩M的4倍面積的區(qū)域可進行曝光。其次，說明上述實施例的曝光方法中所使用的光罩。圖10是表示例如當上述曝光 裝置中包括的投影光學系統(tǒng)PL10、PL11、PL12是由形成正立像的光學系統(tǒng)所組成時的光罩 之圖。光罩MlO如圖10所示，包括多個奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl (此處為3個圖案區(qū)域)、以及 多個偶數(shù)列圖案區(qū)域M102 (此處為3個圖案區(qū)域)。在此，所謂多個奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl， 是指例如于圖10所示，在Y軸方向(非掃描方向)上自左側(cè)數(shù)起的奇數(shù)號區(qū)域，即第1個、 第3個、第5個圖案區(qū)域，而所謂多個偶數(shù)列圖案區(qū)域M102，同樣是指在Y軸方向(非掃描 方向)上自左側(cè)數(shù)起的偶數(shù)號區(qū)域，即第2個、第4個、第6個圖案區(qū)域。又，至少一對鄰接的奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl與偶數(shù)列圖案區(qū)域M102的Y軸方向(非 掃描方向)的端部具有包括相同圖案的共通區(qū)域。此處，所謂共通區(qū)域，是分別形成于至少 一對鄰接的奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl與偶數(shù)列圖案區(qū)域M102所鄰接的側(cè)。例如于圖10所示， 分別形成有共通區(qū)域Cl、C2、C3、C4、C5。圖11表示例如當上述曝光裝置中所包括的投影光學系統(tǒng)PL10、PLlU PL12是由 形成倒立像的光學系統(tǒng)所組成時的光罩之圖。如圖11所示，光罩包括多個奇數(shù)列圖案區(qū)域 MlOl (此處為3個圖案區(qū)域)、以及多個偶數(shù)列圖案區(qū)域M102 (此處為3個圖案區(qū)域)。此 處，所謂多個奇數(shù)列圖案區(qū)域M101，是指例如于圖11所示，在Y軸方向(非掃描方向)上 自左側(cè)數(shù)起的奇數(shù)號圖案區(qū)域，即第1個、第3個、第5個圖案區(qū)域，而多個偶數(shù)列圖案區(qū)域 M102，同樣是指在Y軸方向(非掃描方向)上自左側(cè)數(shù)起的偶數(shù)號圖案區(qū)域，即第2個、第 4個、第6個圖案區(qū)域。又，至少一對鄰接的奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl與偶數(shù)列圖案區(qū)域M102的Y軸方向(非 掃描方向)的端部形成具有相同圖案的共通區(qū)域。此處，共通區(qū)域分別形成于至少一對鄰 接的奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl與偶數(shù)列圖案區(qū)域M102所鄰接之側(cè)的相反側(cè)。例如于圖11所 示，分別形成有共通區(qū)域Cl、C2、C3、C4、C5。于圖10所示的光罩MlO及圖11所示的光罩Ml 1中，將共通區(qū)域Cl C5的全部或 者一部分重疊并轉(zhuǎn)印曝光，以使至少一對鄰接的奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl與偶數(shù)列圖案區(qū)域 M102的共通區(qū)域相互重合，而形成作為目標的1個圖案。圖12表示將光罩MlO (Mil)于感 光板上曝光轉(zhuǎn)印后的狀態(tài)之圖。如圖12所示，于感光板PlO上形成有已對奇數(shù)列圖案區(qū)域 MlOl進行轉(zhuǎn)印曝光的區(qū)域P101、已對偶數(shù)列圖案區(qū)域M102進行轉(zhuǎn)印曝光的區(qū)域P102、以 及已對共通區(qū)域Cl C5進行轉(zhuǎn)印曝光的區(qū)域P11、P12、P13、P14、P15。再者，圖中的EA1、 EA2、EA3分別表示投影光學系統(tǒng)PLl、PL2、PL3的曝光區(qū)域，PLP表示鄰接的曝光區(qū)域中心 的間隔。再者，該一對共通區(qū)域Cl C5只要包括相互重合而形成1個圖案的圖案即可， 形成于一對共通區(qū)域Cl C5的圖案無須完全相同。例如，于一對鄰接的奇數(shù)列圖案區(qū)域 MlOl與偶數(shù)列圖案區(qū)域M102的共通區(qū)域中，奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl的共通區(qū)域或者偶數(shù)列圖案區(qū)域M102的共通區(qū)域的任一方，可包括完全不使用的無用圖案。又，如圖10及圖11所示，光罩MlO (Mil)包括形成為與奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl具 有特定位置關(guān)系的多個第1基準標記mioi，以及形成為與偶數(shù)列圖案區(qū)域M102具有特定位 置關(guān)系的多個第2基準標記ml02。此處，第1基準標記mlOl與第2基準標記ml02是用以 使光罩MlO (Mil)位置對準于裝置(例如光罩平臺MST)的對準標記、用以調(diào)整投影光學系 統(tǒng)PL10、PLlU PL12的配置的配置調(diào)整用標記、用以檢測光罩圖案面于Z軸方向的變形的 焦點位置檢測用標記、用以檢測由各個投影光學系統(tǒng)PL10、PL11、PL12所形成的奇數(shù)列圖 案區(qū)域MlOl或偶數(shù)列圖案區(qū)域M102之像的相對位置偏差(連續(xù)誤差)的對準標記等。再 者，第1基準標記可根據(jù)與偶數(shù)列圖案區(qū)域M102的特定的位置關(guān)系而形成于光罩MlO(Mll) 上，第2基準標記可根據(jù)與奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl的特定的位置關(guān)系而形成于光罩MlO (Ml 1) 上。第1基準標記mlOl配置在與奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl為間隔特定距離的位置處(例 如圖10或圖11中，與自左側(cè)起第1個奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl在X軸方向間隔距離為Xl的 第1基準標記mlOl)。同樣地，第2基準標記ml02配置在與偶數(shù)列圖案區(qū)域M102為間隔特 定距離的位置處(例如圖10或圖11中，與自左側(cè)起第6個偶數(shù)列圖案區(qū)域M102在X軸方 向間隔距離為X2的第2基準標記ml02)。再者，第1基準標記mlOl及第2基準標記ml02 亦可配置在奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl與偶數(shù)列圖案區(qū)域M102之間、奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl或偶 數(shù)列圖案區(qū)域M102或者光罩上的其它部分。進一步，圖13表示當投影光學系統(tǒng)PL10、PL11、PL12是由形成正立像的光學系統(tǒng) 所組成時的光罩M10。圖14表示當投影光學系統(tǒng)PL10、PL11、PL12是由形成倒立像的光學 系統(tǒng)所組成時的光罩Mil。如圖13及圖14所示，至少1個第1基準標記mlOl配置于奇數(shù) 列圖案區(qū)域M101(例如，自左側(cè)起第1個奇數(shù)列圖案區(qū)域M101)的有關(guān)Y軸方向的坐標范 圍內(nèi)。同樣地，至少1個第2基準標記ml02配置在與第1基準標記mlOl所配置的奇數(shù)列 圖案區(qū)域MlOl不同的奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl (例如，自左側(cè)起第5個奇數(shù)列圖案區(qū)域M101) 的有關(guān)Y軸方向的坐標范圍內(nèi)。例如當掃描光罩之前進行對準時，無須在對準后使光罩于 Y軸方向移動，即可對光罩進行掃描。再者，第1基準標記或第2基準標記亦可配置于偶數(shù) 列圖案區(qū)域M102的有關(guān)Y軸方向的坐標范圍內(nèi)。例如當將第1基準標記作為對光罩在X及Y方向進行位置對準的對準標記，并且 將第2基準標記作為對光罩在θ方向進行位置對準的對準標記時，較理想的是，將第1基 準標記與第2基準標記在Y軸方向上盡可能地隔開間距而配置。亦即，如圖13及圖14所 示，較理想的是，第1基準標記配置于自左側(cè)起第1個奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl的有關(guān)Y軸方 向的坐標范圍內(nèi)，且第2基準標記配置于自左側(cè)起第5個奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl的有關(guān)Y軸 方向的坐標范圍內(nèi)。此處，所謂θ方向，是指光罩相對于X及Y方向的偏移方向(傾斜方 向)°又，圖15表示當投影光學系統(tǒng)PL10、PL11、PL12是由形成正立像的光學系統(tǒng)所組 成時的光罩Μ10，圖16表示當投影光學系統(tǒng)PL10、PLlU PL12是由形成倒立像的光學系統(tǒng) 所組成時的光罩Mil。如圖15及圖16所示，第1基準標記mlOl較理想的是，配置于奇數(shù) 列圖案區(qū)域MlOl的共通區(qū)域Cll的有關(guān)Y軸方向的坐標范圍內(nèi)。同樣地，第2基準標記 ml02較理想的是，配置于偶數(shù)列圖案區(qū)域M102的共通區(qū)域C12的有關(guān)Y軸方向的坐標范圍
12內(nèi)。利用該配置，例如第1基準標記mlOl或者第2基準標記ml02不僅具有用以將光罩的 位置對準裝置的對準標記的作用，或者用以調(diào)整投影光學系統(tǒng)的配置的配置調(diào)整用標記的 作用，而且具有作為用以檢測由各個投影光學系統(tǒng)PL10、PL11、PL12而形成的奇數(shù)列圖案 區(qū)域MlOl或偶數(shù)列圖案區(qū)域M102之像的相對位置偏移(連續(xù)誤差)的對準標記的作用。 總之，當連續(xù)曝光時，只要測量第1基準標記mlOl與第2基準標記ml02的相對位置偏移， 即可判斷連續(xù)誤差的良否。圖17表示本實施例中，形成于感光板上的第1基準標記mlOla與第2基準標記 ml02a的一例。例如，將形成于光罩M上的第1基準標記mlOl設(shè)為十字形，將第2基準標記 設(shè)為正方形。當使十字形的第1基準標記mlOl與正方形的第2基準標記ml02于感光板P 上以相互重合的方式進行曝光時，感光板P上會形成如圖17的標記。利用感光板外觀檢查 裝置等來測量形成于感光板P上的第1基準標記mlOla與第2基準標記102a的相對位置 偏移，并判斷連續(xù)誤差的良否。再者，當連續(xù)誤差超過容許值時，不進行蝕刻步驟，而是于抗 蝕劑剝離后，再次將光罩M的圖案于感光板上曝光。藉此，可減少無用的蝕刻步驟。此處， 所謂感光板外觀檢查裝置，是指利用光學顯微鏡來檢測感光板上的圖案的偏移及連續(xù)誤差 等的裝置。于圖15及圖16中，將至少一對奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl中的一個奇數(shù)列圖案區(qū)域 MlOl與另一個奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl在Y軸方向(非掃描方向)的配置間隔設(shè)為第1配置 間隔Li。進一步，將至少一對偶數(shù)列圖案區(qū)域M102中的一個偶數(shù)列圖案區(qū)域M102與另一 個偶數(shù)列圖案區(qū)域M102在Y軸方向(非掃描方向)的配置間隔設(shè)為第2配置間隔L2。此 處，第1配置間隔Ll與第2配置間隔L2大致相等。例如，于圖15或圖16中，將自左側(cè)數(shù) 起的奇數(shù)號即第1個與第3個奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl在Y軸方向的配置間隔Li、與同樣地自 左側(cè)數(shù)起的偶數(shù)號即第2個與第4個偶數(shù)列圖案區(qū)域M102在Y軸方向的配置間隔L2，配置 成大致相等距離。此處，例如圖15或圖16中，所謂第1配置間隔Li，是指自左側(cè)數(shù)起的第 1個奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl的中心位置與第3個奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl的中心位置在Y軸方 向的間隔。同樣地，例如圖15或圖16中，所謂第2配置間隔L2，是指自左側(cè)數(shù)起的第2個 偶數(shù)列圖案區(qū)域M102的中心位置與第4個偶數(shù)列圖案區(qū)域M102的中心位置在Y軸方向的 間隔。再者，例如于圖4所示，當本實施例的光罩上的圖案區(qū)域(奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl 或偶數(shù)列圖案區(qū)域M102)是用以將圖案經(jīng)由具有放大倍率的多個投影光學系統(tǒng)PL10、 PLlU PL12而于感光板上曝光的原始圖案時，較理想的是，第1配置間隔Ll或第2配置間 隔L2與該多個投影光學系統(tǒng)PL10、PL11、PL12的視場區(qū)域在Y軸方向的間隔大致相等。上述本實施例的光罩的說明中，所謂鄰接，是指奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl與偶數(shù)列圖 案區(qū)域M102無須相連，而可間隔特定的距離。當奇數(shù)列圖案區(qū)域彼此鄰接及偶數(shù)列圖案區(qū) 域彼此鄰接時亦同樣地，所謂鄰接，是指奇數(shù)列圖案區(qū)域彼此或偶數(shù)列圖案區(qū)域彼此無須 相連，而可間隔特定的距離。此處，就本實施例中所揭示的光罩圖案區(qū)域的有關(guān)Y軸方向的長度進行說明。例 如，當使用具有可遍及感光板上的整個曝光區(qū)域而獲得均勻曝光量分布的結(jié)構(gòu)的曝光裝置 時，本實施例(圖10、圖11、圖13 圖16)所示的光罩M中，形成于Y軸方向兩端的圖案區(qū) 域(例如指圖10中，自左側(cè)起的第1個奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl以及自左側(cè)起的第6個偶數(shù)
13列圖案區(qū)域M102)的有關(guān)Y軸方向的圖案區(qū)域的長度，可短于其它圖案區(qū)域的有關(guān)Y軸方 向的長度。例如圖10中，使自左側(cè)起的第1個奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl的共通區(qū)域Cl的相反 側(cè)的端部，短于共通區(qū)域Cl的長度。同樣較理想的是，圖10中，使自左側(cè)起的第6個偶數(shù) 列圖案區(qū)域M102的共通區(qū)域C5的相反側(cè)的端部，短于共通區(qū)域C5的長度。又，于本實施例的光罩中，為了防止光罩上的周邊或部分區(qū)域所形成的無用圖案 的曝光，以及自感光板泄漏的光所導致的誤曝光等，亦可于奇數(shù)列圖案區(qū)域、偶數(shù)列圖案區(qū) 域以及共通區(qū)域的周邊或部分區(qū)域，例如由遮光板等形成遮光帶。其次，說明上述光罩的制造方法。首先，對包括形成正立像的投影光學系統(tǒng)的曝光 裝置中所使用的光罩的制造方法進行說明。如圖18所示，首先，在作為非掃描方向的Y方 向上，分割所有與形成于光罩上的所有圖案對應(yīng)的圖案數(shù)據(jù)。亦即，例如，將與所有圖案對 應(yīng)的所有圖案數(shù)據(jù)分割成3個奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl與3個偶數(shù)列圖案區(qū)域M102的6個圖 案數(shù)據(jù)。繼而，如圖19所示，于分割后的圖案數(shù)據(jù)的Y軸方向的端部，附加與共通區(qū)域?qū)?yīng) 的圖案數(shù)據(jù)Cl C5，制作與奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl及偶數(shù)列圖案區(qū)域M102對應(yīng)的描繪數(shù) 據(jù)。再者，于此情形時，共通區(qū)域分別形成于鄰接的奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl與偶數(shù)列圖案區(qū) 域M102所鄰接之側(cè)。其次，根據(jù)所制作的描繪數(shù)據(jù)，使用EB曝光裝置等，于光罩基板(blanks)上的特 定位置，描繪多個奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl及多個偶數(shù)列圖案區(qū)域M102的圖案、以及基準標記 mlOl M104。以此方式而制造包括形成正立像的投影光學系統(tǒng)的曝光裝置中所使用的光 罩MlO (圖10等)。其次，說明包括形成倒立像的投影光學系統(tǒng)的掃描型曝光裝置中所使用的光罩的 制造方法。如圖18所示，首先，于作為非掃描方向的Y方向上分割所有與形成于光罩上的 所有圖案對應(yīng)的圖案數(shù)據(jù)。亦即，例如，將與所有圖案對應(yīng)的所有圖案數(shù)據(jù)分割成3個奇數(shù) 列圖案區(qū)域MlOl與3個偶數(shù)列圖案區(qū)域M102的6個圖案數(shù)據(jù)。其次，使奇數(shù)列圖案區(qū)域 MlOl及偶數(shù)列圖案區(qū)域M102的圖案數(shù)據(jù)于Y軸方向反轉(zhuǎn)，并且如圖20所示，于分割后的圖 案數(shù)據(jù)的Y軸方向的端部，附加與共通區(qū)域?qū)?yīng)的圖案數(shù)據(jù)Cl C5，制作與奇數(shù)列圖案區(qū) 域MlOl及偶數(shù)列圖案區(qū)域M102對應(yīng)的描繪數(shù)據(jù)。再者，于此情形時，共通區(qū)域分別形成于 與鄰接的奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl及偶數(shù)列圖案區(qū)域M102所鄰接之側(cè)的相反側(cè)。隨后，根據(jù)所制作的描繪數(shù)據(jù)，使用EB曝光裝置等，于光罩基板(blanks)上的 特定位置，描繪多個奇數(shù)列圖案區(qū)域MlOl及多個偶數(shù)列圖案區(qū)域M102、以及基準標記 mlOl M104。以此方式而制造包括形成倒立像的投影光學系統(tǒng)的曝光裝置中所使用的光 罩Mll (圖11等)。再者，上述光罩的制造方法是將與所有圖案對應(yīng)的所有圖案數(shù)據(jù)進行分割之后， 附加與共通區(qū)域?qū)?yīng)的圖案數(shù)據(jù)，但是亦可在分割包括與共通區(qū)域?qū)?yīng)的圖案數(shù)據(jù)的所有 圖案數(shù)據(jù)之后，根據(jù)分割后的圖案數(shù)據(jù)，利用EB曝光裝置等將該圖案數(shù)據(jù)描繪于光罩基板 (blanks)上。利用上述實施例的曝光方法，可制造微型裝置(半導體組件、攝像組件、液晶顯示 組件、薄膜磁頭等)。以下，參照圖21的流程圖，說明利用上述實施例的曝光方法在作為感 旋光性基板的感光板等上形成特定的電路圖案，由此而獲得作為微型裝置的液晶顯示組件(flat panel display，平板顯示器)時的方法的一例。圖21中，于圖案形成步驟S401中，使用本實施例的曝光裝置，將光罩圖案于感旋 光性基板(涂布有抗蝕劑的玻璃基板等)上轉(zhuǎn)印曝光，進行所謂光微影蝕刻步驟。利用該 光微影蝕刻步驟，可于感旋光性基板上形成包括多個電極等的特定圖案。其后，所曝光的基 板通過顯影步驟、蝕刻步驟、抗蝕劑剝離步驟等各步驟，而于基板上形成特定圖案，并轉(zhuǎn)向 下一個彩色濾光片形成步驟S402。其次，于彩色濾光片形成步驟S402中，形成將R(Red，紅)、G (Green，綠),B (Blue, 藍)所對應(yīng)的三個點之組多個排列成矩陣狀的彩色濾光片，或者將R、G、B三根條狀濾光片 之組多個排列于水平掃描線方向上的彩色濾光片。繼而，于彩色濾光片形成步驟S402之 后，實施單元(cell)組裝步驟S403。于單元組裝步驟S403中，使用具有圖案形成步驟S401 中所獲得的特定圖案的其板、以及彩色濾光片形成步驟S402中所獲得的彩色濾光片等，來 組裝液晶面板(液晶單元)。于單元組裝步驟S403中，例如，于具有圖案形成步驟S401中 所獲得的特定圖案的基板與彩色濾光片形成步驟S402中所獲得的彩色濾光片之間，注入 液晶，以此制造液晶面板(液晶單元)。其后，于模塊組裝步驟S404中，安裝使已組裝的液晶面板(液晶單元)進行顯示 動作的電路、背光(back light)等各零件，由此完成液晶顯示組件。根據(jù)上述液晶顯示組 件的制造方法，由于是使用較寬的曝光區(qū)域而進行曝光，因而可于高產(chǎn)量的基礎(chǔ)上，獲得作 為平板顯示器的液晶顯示組件。根據(jù)本發(fā)明的投影光學系統(tǒng)，可提供一種具有放大倍率且可進行良好的色像差修 正的投影光學系統(tǒng)。又，根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置，不會伴隨光罩尺寸的大型化，即可具有較寬的曝光區(qū) 域，從而可進行良好的曝光。又，根據(jù)本發(fā)明的曝光方法，不會伴隨光罩尺寸的大型化，即可在較寬的曝光區(qū)域 進行良好的曝光。又，根據(jù)本發(fā)明的顯示器的制造方法，由于是利用本發(fā)明的曝光裝置或本發(fā)明的 曝光方法來進行曝光，故可獲得良好的顯示器。又，根據(jù)本發(fā)明的光罩，即使在大型感光板上轉(zhuǎn)印光罩圖案時，亦可避免光罩的大 型化，故可使光罩的制造成本降低。又，根據(jù)本發(fā)明的光罩的制造方法，可用于包括具有放大倍率的投影光學系統(tǒng)的 曝光裝置中，因而可降低光罩的制造成本。再者，以上所說明的實施例是為了易于理解本發(fā)明而揭示，但并非用以限定本發(fā) 明。因此，實施例所揭示的各要素的主旨亦包含屬于本發(fā)明的技術(shù)范圍的所有設(shè)計變更及 同等物。又，本揭示與2006年2月16日提出的日本專利申請第2006-39446號、以及2007 年1月25日提出的日本專利申請第2007-14631號所包含的主題相關(guān)，且其中所揭示的全 部內(nèi)容作為參考事項而明確地并入本文中。[實施例]以下就實施例1 實施例3進行說明，由于實施例1 實施例3的反射折射光學系 統(tǒng)的結(jié)構(gòu)分別與圖1 圖3所示的第1 第3實施例的反射折射光學系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)相同，因而于實施例1 實施例3的反射折射光學系統(tǒng)的說明中，使用第1 第3實施例的反射折射 光學系統(tǒng)的說明中所使用的符號。又，表1 表3中顯示實施例1 實施例3的反射折射 光學系統(tǒng)PLl PL3的光學部件規(guī)格。表1 表3的光學部件規(guī)格中分別顯示有，第1行 的面編號是沿著來自物體側(cè)的光線行進方向的面的順序，第2行是各面的曲率半徑(mm)， 第3行的面間隔是光軸上的面間隔(mm)，第4行是光學部件的硝材相對于g線的折射率， 第5行是光學部件的硝材相對于h線的折射率，第6行是光學部件的硝材相對于i線的折 射率，第7行是透鏡的名稱。(實施例1)以下顯示實施例1的反射折射光學系統(tǒng)PLl的規(guī)格值。(規(guī)格)物體側(cè)(玻璃基板側(cè))數(shù)值孔徑(NA) 0. 065投影倍率1.5倍條件式的對應(yīng)值第1透鏡群的焦距FPGl = 906. 5mm第3透鏡群的焦距FPG3 = 1429. 8mmFPG3/FPG11 = 1429. 8/906. 5= 1. 6(表1)(光學部件規(guī)格) r
0
1-254.374
2-172.584
3-166.9284 449.499
5511.800
6-352.458
7σο
8-361.804
9OO
16
dη (g)η (h)η (i)97.0321.000001.000001.0000027.2091.480321.482721.48677LlOl13.9351.000001.000001.0000020.0001.466711.469641.47456Llll10.4381.000001.000001.0000035.0001.480321.482721.48677L12110.6491.00000I 000001.0000022.2651.480321.482721.48677L13187.0001.000001.000001.00000-544.308-1.00000-1.000001.00000FMll
權(quán)利要求
一種具有圖案區(qū)域的光罩，其特征在于，上述圖案區(qū)域包括沿著第1方向而配置于奇數(shù)號的多個奇數(shù)列圖案區(qū)域，以及沿著上述第1方向而配置于偶數(shù)號的多個偶數(shù)列圖案區(qū)域，至少一對鄰接的上述奇數(shù)列圖案區(qū)域與上述偶數(shù)列圖案區(qū)域在上述第1方向的端部具有共通區(qū)域，該共通區(qū)域中具有相同圖案，上述圖案區(qū)域還包括第1基準標記及第2基準標記；上述第1基準標記與至少1個上述奇數(shù)列圖案區(qū)域或至少1個上述偶數(shù)列圖案區(qū)域具有第1位置關(guān)系；上述第2基準標記與至少1個上述奇數(shù)列圖案區(qū)域或至少1個上述偶數(shù)列圖案區(qū)域具有第2位置關(guān)系。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有圖案區(qū)域的光罩，其特征在于上述共通區(qū)域分別形成于至少一對鄰接的上述奇數(shù)列圖案區(qū)域與上述偶數(shù)列圖案區(qū) 域的鄰接側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有圖案區(qū)域的光罩，其特征在于上述共通區(qū)域分別形成于至少一對鄰接的上述奇數(shù)列圖案區(qū)域與上述偶數(shù)列圖案區(qū) 域的鄰接側(cè)的相反側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有圖案區(qū)域的光罩，其特征在于所謂上述第1位置關(guān)系，是指將至少1個上述第1基準標記的有關(guān)上述第1方向的坐 標，配置于上述奇數(shù)列圖案區(qū)域的有關(guān)上述第1方向的坐標范圍內(nèi)，所謂上述第2位置關(guān)系，是指將至少1個上述第2基準標記的有關(guān)上述第1方向的坐 標，配置于與上述第1基準標記具有上述第1位置關(guān)系的上述奇數(shù)列圖案區(qū)域不同的上述 奇數(shù)列圖案區(qū)域的有關(guān)上述第1方向的坐標范圍內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有圖案區(qū)域的光罩，其特征在于所謂上述第1位置關(guān)系，是指將至少1個上述第1基準標記的有關(guān)上述第1方向的坐 標，配置于上述奇數(shù)列圖案區(qū)域的上述共通區(qū)域的有關(guān)上述第1方向的坐標范圍內(nèi)，所謂上述第2位置關(guān)系，是指將至少1個上述第2基準標記的有關(guān)上述第1方向的坐 標，配置于上述偶數(shù)列圖案區(qū)域的上述共通區(qū)域的有關(guān)上述第1方向的坐標范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有圖案區(qū)域的光罩，其特征在于至少一對上述奇數(shù)列圖案區(qū)域中的一個上述奇數(shù)列圖案區(qū)域與另一個上述奇數(shù)列圖 案區(qū)域在上述第1方向的第1配置間隔，與至少一對上述偶數(shù)列圖案區(qū)域中的一個上述偶數(shù)列圖案區(qū)域與另一個上述偶數(shù)列 圖案區(qū)域在上述第1方向的第2配置間隔大致相等。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的具有圖案區(qū)域的光罩，其特征在于上述圖案區(qū)域是用以將圖案經(jīng)由具有放大倍率的多個投影光學系統(tǒng)而曝光于基板上 的原始圖案，上述第1配置間隔設(shè)定為與上述多個投影光學系統(tǒng)的光罩側(cè)的視場在上述第1方向上 的間隔相對應(yīng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有圖案區(qū)域的光罩，其特征在于在上述共通區(qū)域與上述圖案區(qū)域的周圍，具有遮光帶。
9.一種光罩的制造方法，是指權(quán)利要求1至8中任一項所述的光罩的制造方法，其特征 在于，包括下述步驟對與形成于上述光罩上的所有圖案對應(yīng)的所有圖案數(shù)據(jù)在上述第1方向上進行分割 的步驟；在分割后的至少1個圖案數(shù)據(jù)的上述第1方向的端部，添加與上述共通區(qū)域?qū)?yīng)的圖 案數(shù)據(jù)，制作多個與分割后的各圖案數(shù)據(jù)對應(yīng)的描繪數(shù)據(jù)的步驟； 基于上述多個描繪數(shù)據(jù)，于上述光罩描繪圖案的步驟；以及制作基準標記，使該基準標記與所描繪的各圖案的至少1個圖案具有特定的位置關(guān)系 的步驟。
全文摘要
一種具有圖案區(qū)域的光罩(M10)，其特征在于，圖案區(qū)域包括沿著第1方向而配置于奇數(shù)號的多個奇數(shù)列圖案區(qū)域(M101)，以及沿著第1方向而配置于偶數(shù)號的多個偶數(shù)列圖案區(qū)域(M102)，至少一對鄰接的奇數(shù)列圖案區(qū)域(M101)與偶數(shù)列圖案區(qū)域(M102)在第1方向的端部具有共通區(qū)域(C1～C5)，該共通區(qū)域(C1～C5)中具有相同圖案。圖案區(qū)域還包括第1基準標記(m101)及第2基準標記(m102)；第1基準標記(m101)與至少1個奇數(shù)列圖案區(qū)域(M101)或至少1個偶數(shù)列圖案區(qū)域(M102)具有第1位置關(guān)系；第2基準標記(m102)與至少1個奇數(shù)列圖案區(qū)域(M101)或至少1個偶數(shù)列圖案區(qū)域(M102)具有第2位置關(guān)系。
文檔編號G03F1/00GK101976018SQ20101052249
公開日2011年2月16日 申請日期2007年2月6日 優(yōu)先權(quán)日2006年2月16日
發(fā)明者熊澤雅人, 福井達雄 申請人:株式會社尼康