專利名稱：用于成像裝置的部件、成像裝置以及用于成像裝置的單元的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于成像裝置的部件、成像裝置以及用于成像裝置的單元。
背景技術(shù)：
在諸如復(fù)印機(jī)、打印機(jī)、傳真機(jī)以及電子照相設(shè)備等成像裝置中，使用了用于成像 裝置的部件，如由旋轉(zhuǎn)體(其由金屬、塑料、橡膠等制成)形成的定影帶或中間轉(zhuǎn)印帶、以及 定影輥或中間轉(zhuǎn)印輥，其用于通過加熱、靜電力等方式將未定影或未轉(zhuǎn)印的圖像(例如，調(diào) 色劑圖像)定影或轉(zhuǎn)印至記錄部件(例如，記錄紙)上。例如，定影輥或中間轉(zhuǎn)印輥具有這樣的構(gòu)造，其中具有彈性的彈性層、具有防粘性 的表面層等在由鋁、鐵、不銹鋼等制成的支撐體上堆疊并形成定影輥或中間轉(zhuǎn)印帶。此處， 硅橡膠等材料被用于彈性層，并且氟橡膠、氟樹脂等(從防粘性方面考慮，尤其是氟樹脂) 通常被用于表面層。隨著目前成像裝置尺寸的減小以及性能的增強(qiáng)，有時(shí)上述的旋轉(zhuǎn)體優(yōu)選為是可變 形的，并且將由塑料制的厚的膜形成的無(wú)縫環(huán)狀帶用作這種旋轉(zhuǎn)體。關(guān)于用于這種環(huán)狀帶 的材料，從強(qiáng)度、尺寸穩(wěn)定性、耐熱性等方面考慮，聚酰亞胺樹脂是適合使用的(在下文中， 有時(shí)將聚酰亞胺簡(jiǎn)稱為“PI，，)。關(guān)于使用上述輥或環(huán)狀帶的定影裝置，已經(jīng)提出(例如)帶咬合(beltnip)系統(tǒng) (例如，參見日本專利文獻(xiàn)JP-A-8-262903，術(shù)語(yǔ)“JP-A”是指“未審查的日本專利申請(qǐng)公 開”)。該定影裝置主要包括可旋轉(zhuǎn)的定影輥以及環(huán)狀帶，該環(huán)狀帶被設(shè)置為與定影輥接觸、 并且隨著定影輥而轉(zhuǎn)動(dòng)。利用具有這種構(gòu)造的定影裝置通過以下方式進(jìn)行定影操作使其 上形成有調(diào)色劑圖像的記錄部件(如記錄紙)通過定影輥(定影輥的表面被加熱)與環(huán)狀 帶之間的接觸部分，從而對(duì)位于記錄紙表面上的調(diào)色劑圖像進(jìn)行加熱定影。為了使環(huán)狀帶 與定影輥在接觸部位(咬合區(qū)域)發(fā)生擠壓接觸，在環(huán)狀帶的內(nèi)周表面上設(shè)置有壓力墊和 支撐體(如滑動(dòng)板)。作為定影輥的表面層(防粘層)，主要采用PFA樹脂(四氟乙烯-全氟烷基乙烯基 醚共聚物)，并且根據(jù)情況的不同，可使用其中分散有碳以增強(qiáng)導(dǎo)電性的樹脂、其中混合有 無(wú)機(jī)填料(如SiO2和BaSO4)以增強(qiáng)耐久性的樹脂等。關(guān)于不使用PFA樹脂作為表面層(防粘層)的方法，已提出(例如)使用氟化 聚酰亞胺的方法(例如，參見日本專利文獻(xiàn)3，069，041、JP-A-2000-137396以及日本專利 4，142，465)。由含氟樹脂構(gòu)成的表面層(防粘層)不會(huì)直接粘附于由硅樹脂構(gòu)成的彈性層上， 因此采用了這樣一種方法在利用準(zhǔn)分子激光進(jìn)行表面處理后，設(shè)置諸如硅烷偶聯(lián)劑等粘
結(jié)劑層。另一方面，已經(jīng)研究用完全氟化的聚酰亞胺樹脂來(lái)代替常規(guī)使用的部分氟化的聚 酰亞胺而作為光通信用材料，并且對(duì)利用通信波帶內(nèi)的光透明度的波導(dǎo)應(yīng)用進(jìn)行了研發(fā)和 研究(例如，參見日本專利2，737，871和日本專利3，085，666)。
關(guān)于(例如，日本專利文獻(xiàn)JP-A-61-273919和JP-A-2002-091027中所述的)由 PI樹脂制成的環(huán)狀帶的制造方法，存在這樣一種方法通過浸涂法在芯體(基材層)表面 上涂敷PI前體溶液，在熱空氣干燥爐等內(nèi)將該涂層干燥，并在加熱至預(yù)定溫度的條件下對(duì) 涂層進(jìn)行燒制，從而在芯體的外表面上形成PI樹脂膜。同時(shí)，在電子照相裝置內(nèi)使用環(huán)狀帶的情況中，利用了這樣一種由PI樹脂制得的 環(huán)狀帶，該環(huán)狀帶由多個(gè)層構(gòu)成，并且在其表面上具有防粘層(表面層)(例如，參見日本專 利文獻(xiàn) JP-A-2000-351466)。作為環(huán)狀帶的防粘層，主要采用PFA樹脂(四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚 物)，并且根據(jù)應(yīng)用情況的不同，可使用其中分散有碳以增強(qiáng)導(dǎo)電性的樹脂、其中混合有無(wú) 機(jī)填料(如SiO2和BaSO4)以增強(qiáng)耐久性的樹脂等。在電子照相裝置內(nèi)使用環(huán)狀帶的情況中，根據(jù)使用環(huán)狀帶時(shí)的具體用途，有時(shí)需 要降低被設(shè)置為與環(huán)狀帶的內(nèi)周表面相接觸的滑動(dòng)板(支撐體)的滑動(dòng)阻力(sliding resistance)，或者需要抑制環(huán)狀帶轉(zhuǎn)動(dòng)所產(chǎn)生的滑動(dòng)噪音。另外，在有些情況下，需要外周 表面與內(nèi)周表面之間的表面粗糙度不同的環(huán)狀帶，使得從圖像品質(zhì)的角度考慮，外周表面 為平滑表面，而從帶的運(yùn)轉(zhuǎn)性能的角度考慮，內(nèi)周表面為粗糙表面。關(guān)于不將PFA樹脂用作防粘層的方法，在(例如)日本專利文獻(xiàn) JP-A-2000-137396、日本專利3，069，041以及日本專利4，215，492中描述了使用主鏈中不 含有醚基團(tuán)的氟化聚酰亞胺的方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種用于成像裝置的部件，與由主鏈中不含有醚基團(tuán)的氟化 聚酰亞胺構(gòu)成的部件相比，該部件在長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)具有防粘性。(1)根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供一種用于成像裝置的部件，該部件包括表面層，該表面層的至少外表面含有氟化聚酰亞胺樹脂，其中在所述氟化聚酰亞 胺樹脂的主鏈中存在醚基團(tuán)。(2)根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種根據(jù)上文(1)所述的用于成像裝置的部件，其中所述氟化聚酰亞胺樹脂為由氟化聚酰胺酸制得的樹脂，并且所述氟化聚酰胺 酸是使用至少部分氟化的酸酐以及至少部分氟化的二胺而合成得到的。(3)根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供一種根據(jù)上文(2)所述的用于成像裝置的部件，其中所述至少部分氟化的酸酐以及所述至少部分氟化的二胺具有氟基團(tuán)(-F)和 全氟烷基(_CnF2n+1)兩者中的至少一者，其中η為大于或等于1的整數(shù)。(4)根據(jù)本發(fā)明的第四方面，提供一種根據(jù)上文(2)或(3)所述的用于成像裝置的 部件，其中所述至少部分氟化的酸酐選自由下式(1)至(3)所示的化合物所組成的組， 并且所述至少部分氟化的二胺選自由下式(4)所示的二胺所組成的組
權(quán)利要求
一種用于成像裝置的部件，其包括表面層，所述表面層的至少外表面含有氟化聚酰亞胺樹脂，其中在所述氟化聚酰亞胺樹脂的主鏈中存在醚基團(tuán)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于成像裝置的部件，其中所述氟化聚酰亞胺樹脂為由氟化聚酰胺酸制得的樹脂，并且所述氟化聚酰胺酸是使用至少部分氟化的酸酐以及至少部分氟化的二胺而合成得到的。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于成像裝置的部件，其中所述至少部分氟化的酸酐以及所述至少部分氟化的二胺具有氟基團(tuán)(-F)和全氟 燒基(_CnF2n+1)兩者中的至少一者，其中η為大于或等于1的整數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的用于成像裝置的部件，其中所述至少部分氟化的酸酐選自由下式(1)至(3)所示的化合物所組成的組，并且 所述至少部分氟化的二胺選自由下式(4)所示的二胺所組成的組
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于成像裝置的部件，其中所述至少部分氟化的二胺選自由下式(5)至(15)所示的二胺
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于成像裝置的部件， 其中所述表面層由多個(gè)層構(gòu)成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于成像裝置的部件， 其中所述表面層由單層構(gòu)成，并且在由所述表面層的內(nèi)側(cè)至外側(cè)的方向上，所述氟化聚酰亞胺樹脂的含量逐級(jí)增加或梯 度增加。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于成像裝置的部件，還包括 堆疊在所述表面層的背表面上或上方的基層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于成像裝置的部件， 其中所述基層的至少內(nèi)表面由聚酰亞胺或聚酰胺構(gòu)成。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的用于成像裝置的部件，還包括 作為中間層的位于所述表面層和所述基層之間的彈性層。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于成像裝置的部件，其呈環(huán)狀帶的形式。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于成像裝置的部件，其呈輥狀的形式。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于成像裝置的部件，其中所述表面層的表面電阻率為約104Ω/平方單位至1012Ω/平方單位。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于成像裝置的部件，其中所述表面層的表面電阻率為約104Ω/平方單位至106Ω/平方單位。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于成像裝置的部件，其中所述表面層的表面電阻率為約108Ω/平方單位至1012Ω/平方單位。
16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的用于成像裝置的部件，其中，在所述表面層中，最外層的外周表面的表面粗糙度Ra小于最內(nèi)層的內(nèi)周表面的 表面粗糙度Ra。
17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的用于成像裝置的部件， 其中所述表面層的膜厚度為約0. 5 μ m至20 μ m。
18.—種成像裝置，其使用根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于成像裝置的部件。
19.一種用于成像裝置的單元，其使用根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于成像裝置的部件。
全文摘要
本發(fā)明提供一種用于成像裝置的部件，該部件包括表面層，所述表面層的至少外表面含有氟化聚酰亞胺樹脂，其中在所述氟化聚酰亞胺樹脂的主鏈中存在醚基團(tuán)。
文檔編號(hào)G03G15/20GK101943878SQ20101021159
公開日2011年1月12日 申請(qǐng)日期2010年6月18日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月2日
發(fā)明者大津茂實(shí), 林圣悟 申請(qǐng)人:富士施樂株式會(huì)社