專利名稱：基于數(shù)字平面全息的集成平面光學(xué)器件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在通過(guò)數(shù)字平面全息圖互連的多個(gè)重復(fù)的標(biāo)準(zhǔn)元件(諸如激光器、放大器、檢測(cè)器及快速飽和吸收器)所構(gòu)成的平面集成回路中的光波或其它波的處理。更具體地，本發(fā)明涉及以數(shù)字方式處理光波的方法及以數(shù)字平面全息術(shù)的原理工作的集成平面光學(xué)器件。
背景技術(shù)：
利用光來(lái)處理和傳輸信息需要制造集成光學(xué)回路。眾所周知，使用光的集成回路沒(méi)有復(fù)制電子集成電路的成功，但是像激光器、放大器、檢測(cè)器及快速飽和吸收器等大多數(shù)重要的有源非線性光學(xué)元件通常通過(guò)微光刻法被制作在平面波導(dǎo)中，然后被劃片(dice) 并與光纖連接。這與發(fā)明電子集成電路之前的晶體管的使用非常相似。主要原因之一是互連的問(wèn)題。電流容易隨導(dǎo)體的彎曲而流動(dòng)，從而有助于多個(gè)層之間的互連。而光趨于直線傳播；因此，多個(gè)層之間的互連很困難。有時(shí)，有源元件在單一波導(dǎo)中通過(guò)脊形波導(dǎo)互連，但該方法因單一層中的脊形波導(dǎo)的交叉而受限。因此，非常需要在單一波導(dǎo)中互連許多光學(xué)元件。目前為止，已經(jīng)嘗試通過(guò)在單一襯底上互連許多光學(xué)器件而提供平面光學(xué)器件。 例如，2007年公開(kāi)的美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第20070034730號(hào)(發(fā)明人T. Mossberg等)公開(kāi)了一種多模平面波導(dǎo)光譜濾波器，其包括具有至少一組衍射元件的平面光波導(dǎo)。上述波導(dǎo)在一個(gè)橫向維度上限制以兩個(gè)其它維度在其中傳播的光信號(hào)。上述波導(dǎo)支持多個(gè)橫模。每一組衍射元件在輸入和輸出端口之間路由(route)光信號(hào)的一個(gè)被衍射部分，該光信號(hào)是在平面波導(dǎo)中傳播并被衍射元件衍射的光信號(hào)。光信號(hào)的被衍射部分以多個(gè)橫模的疊加的形式到達(dá)輸出端口。多模光源可通過(guò)對(duì)應(yīng)的輸入光學(xué)端口將光信號(hào)作為多個(gè)橫模的疊加而發(fā)射到平面波導(dǎo)中。多模輸出波導(dǎo)可通過(guò)輸出端口接收光信號(hào)的被衍射部分。多組衍射元件可在一個(gè)或多個(gè)對(duì)應(yīng)的輸入及輸出端口之間路由光信號(hào)的對(duì)應(yīng)的被衍射部分。上述器件涉及折射率調(diào)制的原理。2006年公開(kāi)的美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第20060233493號(hào)(發(fā)明人T. Mossberg等)公開(kāi)了一種全息光譜濾波器。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，上述發(fā)明的器件包括適合于包含經(jīng)編排的平面全息光譜濾波器件的平面波導(dǎo)。輸入及輸出信號(hào)在平面全息襯底內(nèi)在χ-y平面內(nèi)傳播。 上述平面全息襯底或平板(slab)通常由在器件的預(yù)定工作波長(zhǎng)處足夠透明的材料構(gòu)成， 從而信號(hào)在傳播通過(guò)上述經(jīng)編排的全息器件時(shí)不會(huì)由于吸收而產(chǎn)生不可接受的損耗。通常的襯底材料包括二氧化硅(SiO2)、聚合物及硅，其中，二氧化硅在許多可見(jiàn)光及近紅外光譜區(qū)中是透明的。優(yōu)選地，上述平面襯底的厚度被設(shè)置為足夠低的值，以保證只允許較少數(shù)量的橫(ζ)模，或更具體而言，以保證所允許的橫(ζ)模在通過(guò)上述經(jīng)編排的全息器件時(shí)不會(huì)經(jīng)歷顯著的模式色散。2007年公開(kāi)的美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第20070053635號(hào)(發(fā)明人D. Iazikov等) 公開(kāi)了一種通過(guò)計(jì)算模擬的光信號(hào)之間的干涉而設(shè)計(jì)的、并通過(guò)縮版光刻(reductionlithography)制造而成的透射光柵。更具體而言，上述方法包括如下步驟計(jì)算模擬設(shè)計(jì)輸入光信號(hào)和模擬設(shè)計(jì)輸出光信號(hào)之間的干涉圖案；基于計(jì)算出的干涉圖案，計(jì)算性地推導(dǎo)出至少一組衍射元件的布置。所述干涉圖案在透射光柵區(qū)域中被計(jì)算，其中輸入和輸出光信號(hào)都作為基本不受限制的光束傳播通過(guò)透射光柵區(qū)域。所述一組衍射元件的布置被計(jì)算性地推導(dǎo)，從而當(dāng)這組如此布置的衍射元件被形成在透射光柵中或透射光柵上時(shí)，每組衍射元件在對(duì)應(yīng)的輸入和輸出光學(xué)端口之間路由輸入光信號(hào)的一個(gè)對(duì)應(yīng)的被衍射部分，該信號(hào)是入射到透射光柵上并被其透射的信號(hào)。上述方法還可包括根據(jù)推導(dǎo)出的布置，在透射光柵內(nèi)或其上形成一組衍射元件。2006年公開(kāi)的美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第20060U6992號(hào)(發(fā)明人T. Hashimoto等) 公開(kāi)了一種包括輸入端口和輸出端口的波傳輸介質(zhì)。第一及第二場(chǎng)分布通過(guò)數(shù)值計(jì)算而獲得。第一場(chǎng)分布是入射到輸入端口中的前向傳播光的分布。第二場(chǎng)分布是在光信號(hào)入射到輸入端口中時(shí)從輸出端口發(fā)送的輸出場(chǎng)從輸出端口側(cè)反向傳輸所得到的反向傳播光的分布。以兩個(gè)場(chǎng)分布為基礎(chǔ)計(jì)算空間折射率分布，從而在介質(zhì)中的個(gè)別點(diǎn)(X，ζ)處消除上述傳播光和上述反向傳播光之間的相位差。這些系統(tǒng)的元件也安裝在平面襯底上。2004年公開(kāi)的美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第20040036993號(hào)(發(fā)明人V. Yankov等)公開(kāi)了一種平面全息復(fù)用器/解復(fù)用器，其特征在于，低的制造成本、減少的信號(hào)失真、高的波長(zhǎng)選擇性、高的光效率、減少的串?dāng)_、以及以較低制造成本與其它平面器件進(jìn)行容易的集成。上述器件的平面波導(dǎo)包括用于分離及組合預(yù)定的(預(yù)選的)光波長(zhǎng)的全息元件。上述全息元件包括多個(gè)全息圖，其將來(lái)自入射光束的各個(gè)預(yù)定光波長(zhǎng)反射到多個(gè)不同的焦點(diǎn)， 各個(gè)預(yù)定波長(zhǎng)分別表示不同信道的中心波長(zhǎng)。有利地，多個(gè)重疊的全息圖可由多個(gè)結(jié)構(gòu)形成，各個(gè)全息圖分別反射代表不同信道的不同中心波長(zhǎng)，從而提供離散的色散。在用作解復(fù)用器時(shí)，上述全息元件在空間上分離不同波長(zhǎng)的光，而在光傳播的方向反轉(zhuǎn)時(shí)，上述全息元件可用作復(fù)用器，其將具有不同波長(zhǎng)的若干個(gè)光束聚集為包含所有各個(gè)不同波長(zhǎng)的單一光束ο但是，在上述所有現(xiàn)有技術(shù)的器件中，為了將輸入光束轉(zhuǎn)換為輸出光束，發(fā)明人使用的是具有由光柵的參數(shù)和幾何結(jié)構(gòu)確定的已知功能性質(zhì)的全息光柵。因此，輸入及輸出光束的位置和光學(xué)參數(shù)嚴(yán)格取決于光柵的幾何結(jié)構(gòu)，這嚴(yán)重限制了光學(xué)結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)。上述已知的平面全息器件的另一缺點(diǎn)是，因?yàn)槊總€(gè)全息圖案元件只用于一個(gè)或兩個(gè)信道，因此光傳輸信道的數(shù)量有限。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種新的集成平面光學(xué)器件，其基于數(shù)字平面全息術(shù)，并且適合用微光刻法簡(jiǎn)單制造。本發(fā)明的另一目的在于，提供一種以數(shù)字方式處理通過(guò)數(shù)字平面全息結(jié)構(gòu)的光波的方法。本發(fā)明的又一目的在于，提供一種通過(guò)創(chuàng)建多個(gè)光學(xué)全息圖案元件而形成的數(shù)字平面全息結(jié)構(gòu)，所述光學(xué)全息圖案元件控制光束的方向和性質(zhì)， 并針對(duì)給定的輸入和輸出端口位置被優(yōu)化，而與光柵的幾何結(jié)構(gòu)無(wú)關(guān)。本發(fā)明的再一目的在于，提供一種能夠與大量光傳輸信道一起工作的平面全息器件。本發(fā)明的以數(shù)字方式處理通過(guò)數(shù)字平面全息結(jié)構(gòu)的光波的方法包括在單一芯片上制作數(shù)字和模擬光處理器，該單一芯片由其中若干種標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)元件被重復(fù)許多次的平面波導(dǎo)構(gòu)成。根據(jù)本發(fā)明，可以有通過(guò)微光刻法在平面半導(dǎo)體波導(dǎo)中制造的并通過(guò)寫在該相同波導(dǎo)中的無(wú)源數(shù)字平面全息圖而互連的有源非線性元件，例如激光器、放大器、以及快速飽和吸收器。每個(gè)全息圖可提供許多互連。該平面波導(dǎo)可以是單片式的；例如，其核心可由 hPGaAs之類的半導(dǎo)體制作而成。激光器、放大器及快速飽和吸收器之間的差異可由應(yīng)用于這些元件的不同的電壓、不同的幾何結(jié)構(gòu)、或化學(xué)組成而引起。由于半導(dǎo)體全息圖中的光吸收會(huì)導(dǎo)致一定問(wèn)題，可通過(guò)將電壓應(yīng)用到全息圖或制作混合型波導(dǎo)來(lái)減輕該問(wèn)題。即，有源元件可制作在半導(dǎo)體波導(dǎo)中，而互連全息圖可寫在由二氧化硅或其它透明材料制成的附著的透明波導(dǎo)中。全息圖是記錄在透明介質(zhì)上的數(shù)百萬(wàn)個(gè)亞波長(zhǎng)(微米的幾分之一)特征的組合。 全息圖可以是圖像的拷貝或甚至是光學(xué)器件的拷貝。在復(fù)制光學(xué)器件之后，全息圖可代替該器件被使用。直到二十世紀(jì)90年代，模擬全息圖還是用傳統(tǒng)照相材料制作的，其僅僅拷貝已有的物體。當(dāng)微光刻法進(jìn)展到亞微米特征時(shí)，數(shù)字全息術(shù)變?yōu)榭赡?。借助于?jì)算，可以確定全息條紋的位置。若已知平面結(jié)構(gòu)的形狀以及輸入和輸出光束的位置，則全息圖部件坐標(biāo)的定位簡(jiǎn)化為基于已知的函數(shù)fin(x，y，ω)及f。ut(x，y，ω)尋找邊界條件的一部分的逆問(wèn)題的求解，它們的結(jié)構(gòu)、形狀及位置已被計(jì)算出，它們未曾作為光學(xué)物體實(shí)際存在，而然后以實(shí)際平面物體的形式通過(guò)微光刻法再現(xiàn)。逆問(wèn)題可定義為這樣一種任務(wù)其中一個(gè)或多個(gè)模型參數(shù)的值必須從觀測(cè)數(shù)據(jù)獲得。特別地，本發(fā)明涉及光的數(shù)字處理，其中激光器、放大器和快速飽和吸收器的串鏈表現(xiàn)出兩個(gè)或更多個(gè)有吸引力的方面。光邏輯門是可用此新技術(shù)制造的器件的一個(gè)示例。本發(fā)明的方法是利用在兩個(gè)元件之間傳播的入射和出射波的傅立葉分量fin(x，y， ω)和f。ut(x，y, ω)來(lái)表征器件，然后使用這些函數(shù)來(lái)計(jì)算所期望的全息圖案。對(duì)于大多數(shù)應(yīng)用，這是如下形式的有效折射率變化Δ η (x, y) =/ fin(x, y, co)f。ut(x，y，ω) ω所提出的發(fā)明有利地結(jié)合了在單一平面波導(dǎo)內(nèi)制造并互連光學(xué)元件的便利性。


圖1是例示出具有數(shù)字平面光學(xué)全息圖案的本發(fā)明的平面結(jié)構(gòu)或全息芯片的示意圖。圖2是用在圖1的全息芯片中的激光二極管的縱向剖面圖。圖3是用在圖1的全息芯片中的平面半導(dǎo)體放大器的縱向剖面圖。圖4是平面半導(dǎo)體光束接收器的縱軸方向上貫穿所述芯片的剖面圖。
具體實(shí)施例方式該新的平面幾何結(jié)構(gòu)的想法是使光能夠在數(shù)千個(gè)波長(zhǎng)上在全息圖內(nèi)傳播，從而大大提升處理光的可能性。數(shù)字平面全息術(shù)有利地結(jié)合了在全息圖內(nèi)寫入具有長(zhǎng)光路的任意全息圖的可能性。最終的技術(shù)障礙是良好質(zhì)量的空白平面波導(dǎo)。該波導(dǎo)必須約1微米厚、透明、并且非常均勻，以便無(wú)失真地傳輸光。該最終條件是最大的限制，但這主要通過(guò)光學(xué)產(chǎn)業(yè)制作出陣列波導(dǎo)光柵用作光纖通信器件而得到了解決。在由于現(xiàn)代微光刻法的發(fā)展使得與亞波長(zhǎng)圖案的制作相關(guān)的問(wèn)題得到解決之后，數(shù)字平面全息術(shù)的成功實(shí)現(xiàn)只剩下一個(gè)問(wèn)題，即，確定為了制造所期望的器件所要寫入的圖案。借助于計(jì)算，可以確定全息條紋的位置。若已知平面結(jié)構(gòu)的形狀以及輸入和輸出光束的位置，則全息圖部件坐標(biāo)的定位簡(jiǎn)化為基于已知的函數(shù)fin(x，y，ω)及f。ut(x，y，ω) 尋找邊界條件的一部分的逆問(wèn)題的求解，它們的結(jié)構(gòu)、形狀及位置已被計(jì)算出，它們未曾作為光學(xué)物體而實(shí)際存在，而然后以實(shí)際平面物體的形式通過(guò)微光刻法再現(xiàn)。本發(fā)明的方法是利用入射和出射波的傅立葉分量fin(x，y，ω)和f。ut(x，y，ω)來(lái)表征器件，然后使用這些函數(shù)來(lái)計(jì)算所期望的全息圖案。雖然實(shí)際的器件是三維的，但對(duì)于許多應(yīng)用而言，使用在三維上平均的二維漢密爾頓模型(Hamiltonian model)也應(yīng)當(dāng)是令人滿意的。因?yàn)椴ㄔ诳瞻撞▽?dǎo)中自由傳播，因此，能夠以漢密爾頓模型的形式記錄相互作用。因?yàn)榉蔷€性波散射可被忽略，從而漢密爾頓模型可被表示為波幅的二次方程，我們可假設(shè)有效折射率的變化為線性的。因此，漢密爾頓模型可寫成如下形式Hint = / f (x, y, ω) Δη(χ, y)f (χ, y, ω) dω這里，f (χ，y，ω)是指定頻率的總的波函數(shù)。由于積分符號(hào)下的所有三個(gè)函數(shù)都是振蕩的，因此，相互作用可由諧振來(lái)確定?？梢钥吹?，為了將fin(X，y，ω)轉(zhuǎn)換成f。ut(x， y，ω)，必須形成如下式所示的有效折射率的變化(任意單位)Δ η (x, y) =/ fin(x, y, co)fout(x，y，ω) ω本領(lǐng)域的技術(shù)人員可對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種變化。一些變化包括針對(duì)由全息圖引起的 fin(x，y，ω)和f。ut(X，y，ω)的變化而校正上述公式。為了便于制造，函數(shù)An(x，y)可以用二進(jìn)制(二等級(jí)(two-level))函數(shù)代替，優(yōu)選地是類似或相同元素的復(fù)合。換言之，有必要用An(X，y)的離散函數(shù)來(lái)代替連續(xù)函數(shù)Δη = An(X，y)。該過(guò)程可利用如下公式表示
權(quán)利要求
1.一種以數(shù)字方式處理通過(guò)平面結(jié)構(gòu)的光波的方法，所述平面結(jié)構(gòu)具有給定的函數(shù) fin(x, y，ω)和f。ut(x，y，ω)，并且由光傳播和分布層、位于所述光傳播和分布層中的全息圖案的多個(gè)互連圖案元件、和在所述光傳播和分布層上以預(yù)定圖案布置的多個(gè)平面光學(xué)元件組成，所述方法包括以下步驟利用解決逆問(wèn)題的方法，基于所述給定函數(shù)fin(x，1，ω)和fout(x，y, ω)來(lái)計(jì)算全息圖案的所述多個(gè)互連圖案元件的位置和形狀，所述互連圖案元件的折射率與所述光傳播和分布層的折射率不同，所述方法包括以下步驟基于所述計(jì)算的結(jié)果來(lái)制造所述全息圖案的所述多個(gè)互連圖案元件；作為分解為傅立葉級(jí)數(shù)的結(jié)果，通過(guò)提供有限數(shù)目(“n”，“m”，“u”，“v”)的值，數(shù)字化上述連續(xù)函數(shù)
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，制造步驟是通過(guò)從微光刻法和納米印刷法中選擇的方法來(lái)實(shí)施的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，計(jì)算步驟包括為了根據(jù)所述全息圖案控制傳播通過(guò)所述平面結(jié)構(gòu)的光束的方向和性質(zhì)，改變所述平面結(jié)構(gòu)的有效折射率Δη(χ，y)，以便使用與光傳播和分布層的有效折射率不同的全息圖案的互連圖案元件的有效折射率。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，對(duì)所述平面結(jié)構(gòu)的有效折射率的改變?chǔ)う?Χ，y) 通過(guò)如下公式進(jìn)行Δ η (x, y) = f fln(x, y, co)fout(x，y, ω) ω其中，fin(x，y，ω)和f。ut(x，y，ω)與上面定義的相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述有效折射率的變化Δη(Χ，Υ)由二等級(jí)的二進(jìn)制函數(shù)來(lái)近似，以簡(jiǎn)化生產(chǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中，所述全息圖案的互連圖案元件被制作為矩形短劃的形式。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中，所述平面光學(xué)元件是從平面激光二極管、平面半導(dǎo)體放大器和平面半導(dǎo)體接收器中選擇的。
8.一種具有基于數(shù)字平面全息術(shù)的全息圖案的集成平面光學(xué)器件，包括半導(dǎo)體襯底；由所述半導(dǎo)體襯底支撐的下部包層；由所述半導(dǎo)體襯底支撐的多個(gè)平面光學(xué)元件；由所述下部包層支撐的光傳播和分布層，所述光傳播和分布層能夠向所述平面光學(xué)元件傳播光或傳播來(lái)自所述平面光學(xué)元件的光；以及位于所述光傳播和分布層中的全息圖案的互連圖案元件，所述互連圖案元件根據(jù)所述全息圖案控制向所述平面光學(xué)元件傳播的光束以及從所述平面光學(xué)元件傳播的光束的性質(zhì)和方向；所述光傳播和分布層具有第一折射率，所述光傳播和分布層具有第二折射率，所述第一折射率與第二折射率不同以便確定所述光束的性質(zhì)和方向。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的集成平面光學(xué)器件，其中，所述平面光學(xué)元件是從平面激光二極管、平面半導(dǎo)體放大器和平面半導(dǎo)體接收器中選擇的。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的集成平面光學(xué)器件，其中，位于所述光傳播和分布層中的全息圖案的互連圖案元件的位置和形狀是利用解決逆問(wèn)題的方法，基于給定的函數(shù)fin(x，y， ω)和f。ut(x，y，ω)并通過(guò)下列步驟而計(jì)算出的作為分解為傅立葉級(jí)數(shù)的結(jié)果，通過(guò)提供有限數(shù)目(“n”，“m”，“u”，“v”)的值，根據(jù)下列等式數(shù)字化上述函數(shù)禾口mv其中，kn是入射波的波矢，1^是從入射端口號(hào)U到當(dāng)前點(diǎn)的距離，km是出射波的波矢， rv是從出射端口號(hào)ν到當(dāng)前點(diǎn)的距離。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的集成平面光學(xué)器件，其中，位于所述光傳播和分布層中的全息圖案的互連圖案元件的位置和形狀是利用解決逆問(wèn)題的方法，基于給定的函數(shù)fin(x，y， ω)和f。ut(x，y，ω)并通過(guò)下列步驟而計(jì)算出的作為分解為傅立葉級(jí)數(shù)的結(jié)果，通過(guò)提供有限數(shù)目(“n”，“m”，“u”，“v”)的值，根據(jù)下列等式數(shù)字化上述函數(shù)fm(x}y^) = YiCnu exp(iknru)f(m)π,Μ禾口L· (Α少,似)ξ YiCmv exp{…lkmrv)/(ω)m.v其中，kn是入射波的波矢，1^是從入射端口號(hào)U到當(dāng)前點(diǎn)的距離，km是出射波的波矢， rv是從出射端口號(hào)ν到當(dāng)前點(diǎn)的距離。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的集成平面光學(xué)器件，其中，全息圖案的互連圖案元件是通過(guò)從微光刻法和納米印刷法中選擇的方法來(lái)制造的。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的集成平面光學(xué)器件，其中，全息圖案的互連圖案元件是通過(guò)從微光刻法和納米印刷法中選擇的方法來(lái)制造的。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的集成平面光學(xué)器件，其中，全息圖案的互連圖案元件是通過(guò)從微光刻法和納米印刷法中選擇的方法來(lái)制造的。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的集成平面光學(xué)器件，其中，所述全息圖案的互連圖案元件被制作為矩形短劃的形式。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的集成平面光學(xué)器件，其中，所述全息圖案的互連圖案元件被制作為矩形短劃的形式。
17.根據(jù)權(quán)利要求18所述的集成平面光學(xué)器件，其中，所述全息圖案的互連圖案元件被制作為矩形短劃的形式。
全文摘要
提供具有基于數(shù)字平面全息術(shù)的全息圖案的集成平面光學(xué)器件。所述器件包括支撐多個(gè)平面光學(xué)元件和下部包層的半導(dǎo)體襯底。所述下部包層支撐光傳播和分布層，在所述光傳播和分布層中嵌入有全息圖案的多個(gè)互連圖案元件，所述互連圖案元件用于根據(jù)所述全息圖案控制向所述平面光學(xué)元件傳播的光束及從所述平面光學(xué)元件傳播的光束的性質(zhì)和方向。這是通過(guò)提供具有特定位置、形狀和折射率的圖案元件來(lái)實(shí)現(xiàn)的，其中所述圖案元件的折射率不同于包含這些元件的層的材料的折射率。描述了設(shè)計(jì)和制造所述圖案的方法。
文檔編號(hào)G02B5/32GK102460243SQ200980159652
公開(kāi)日2012年5月16日 申請(qǐng)日期2009年6月2日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月2日
發(fā)明者V·揚(yáng)科夫 申請(qǐng)人:納米光學(xué)設(shè)備有限責(zé)任公司