專利名稱:多光束曝光掃描方法和設(shè)備,以及用于制造印刷版的方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種多光束曝光掃描方法和設(shè)備。更加具體地,本發(fā)明涉及一種適用于例如柔性版的印刷版的制造的多光束曝光技術(shù),并且涉及一種向其應(yīng)用多光束曝光技術(shù)的印刷版的制造技術(shù)。
背景技術(shù):
傳統(tǒng)上,已經(jīng)公開(kāi)了通過(guò)使用能夠同時(shí)地照射多個(gè)激光束的多光束頭而在板材的表面中雕刻凹進(jìn)形狀的技術(shù)(專利文獻(xiàn)1)。當(dāng)利用這種多光束曝光技術(shù)對(duì)板進(jìn)行雕刻時(shí), 因?yàn)橛捎谙噜徆馐鸬臒岬挠绊?,非常難以穩(wěn)定地形成諸如小點(diǎn)和細(xì)線的精細(xì)形狀。為了解決這種問(wèn)題,專利文獻(xiàn)1提出一種構(gòu)造,其執(zhí)行所謂的交錯(cuò)曝光以減輕在板材的表面上形成的光束點(diǎn)陣列中的相鄰光束點(diǎn)之間的相互熱效應(yīng)。即,專利文獻(xiàn)1采用如下一種方法,該方法以相應(yīng)于雕刻密度的雕刻節(jié)距的兩倍或者更多倍的間隔在板材的表面中形成多個(gè)激光點(diǎn),從而在于第一曝光掃描中形成的掃描線之間提供間隔,并且該方法在第二和隨后的掃描中曝光在第一曝光掃描中形成的掃描線之間的掃描線。引用列表專利文獻(xiàn)PTLl 日本專利申請(qǐng)?zhí)亻_(kāi)No. 09-85927
發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問(wèn)題然而,在于專利文獻(xiàn)1中描述的方法中,為了完全地減輕相鄰光束的影響,在光束位置之間的間隔需要被設(shè)為足夠地大于在板材的表面上的光束直徑,并且在實(shí)踐中,在掃描線之間的間隔需要被設(shè)為對(duì)應(yīng)于幾個(gè)像素(幾條線)。因此,在圖像形成光學(xué)系統(tǒng)中使用的透鏡的像差成為問(wèn)題,這引起很多實(shí)際限制,如使得難以形成具有精確的掃描線間隔的光束陣列,以及使得光學(xué)系統(tǒng)變得復(fù)雜。已經(jīng)鑒于上述情況而做出本發(fā)明。本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種多光束曝光掃描方法和設(shè)備,該方法和設(shè)備能夠有效地減輕由與多光束曝光相關(guān)聯(lián)的由相鄰光束產(chǎn)生的熱的影響,并且能夠高度精確地形成例如精細(xì)形狀的期望望的形狀;和提供一種向其應(yīng)用該多光束曝光掃描方法和設(shè)備的印刷版的制造方法。問(wèn)題解決方案為了實(shí)現(xiàn)上述目的,根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面的一種多光束曝光掃描方法,其通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而多次曝光和掃描相同掃描線以雕刻對(duì)象物的表面,其特征在于包括利用第一光束組形成第一形狀的第一曝光掃描過(guò)程,其中,該第一形狀限定將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀和圍繞目標(biāo)平坦形狀的傾斜部的輪廓形狀;和通過(guò)利用第二光束組來(lái)曝光和掃描與在第一曝光掃描過(guò)程中曝光和掃描的那些相同的掃描線,從而形成第二形狀的第二曝光掃描過(guò)程,其中,該第二形狀限定目標(biāo)平坦形狀和圍繞目標(biāo)平坦形狀的傾斜部的最終形狀。在本發(fā)明中,“對(duì)象物”可以是一種記錄介質(zhì)。在本發(fā)明中,優(yōu)選的是,在最終形狀的附近照射到對(duì)象物(記錄介質(zhì))的第二光束組的能量低于照射到記錄介質(zhì)的第一光束組的能量。為此目的,第二光束組的輸出功率受到控制,以變得低于第一光束組的輸出功率。此外,根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面的一種多光束曝光掃描方法,其通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而多次曝光和掃描相同掃描線以雕刻對(duì)象物的表面,其特征在于包括在將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀的邊緣部中,利用第一光束組形成沿著第一方向和不同于第一方向的第二方向中的一個(gè)方向的第一邊緣部的第一曝光掃描過(guò)程;以及,在第一曝光掃描過(guò)程之后,利用第二光束組形成沿著與第一方向和第二方向中的所述一個(gè)方向不同的另一個(gè)方向的第二邊緣部的第二曝光掃描過(guò)程。此外,根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面的一種多光束曝光掃描方法,其通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而多次曝光和掃描相同掃描線以雕刻對(duì)象物的表面,其特征在于包括利用第一光束組繪制和雕刻將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀的邊緣部的線圖,從而僅僅形成邊緣部的第一曝光掃描過(guò)程;和在第一曝光掃描過(guò)程之后,通過(guò)利用第二光束組來(lái)曝光和掃描線圖的外側(cè)區(qū)域而形成圍繞目標(biāo)平坦形狀的傾斜部的第二曝光掃描過(guò)程。此外,根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面的一種多光束曝光掃描方法,其通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而多次曝光和掃描相同掃描線以雕刻對(duì)象物的表面,其特征在于當(dāng)將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀區(qū)域和目標(biāo)平坦形狀區(qū)域的周邊區(qū)域被設(shè)為第一區(qū)域,并且所述第一區(qū)域外側(cè)的區(qū)域被設(shè)為第二區(qū)域時(shí),第一區(qū)域經(jīng)受交錯(cuò)曝光,在交錯(cuò)曝光中使用具有被設(shè)為掃描線間隔的N倍(N是2或者更大的整數(shù))的相鄰光束間隔的光束組,并且在交錯(cuò)曝光中在使得待被曝光的掃描線不同的情況下,通過(guò)多次執(zhí)行掃描而連續(xù)地曝光在曝光的掃描線之間的未曝光掃描線;并且第二區(qū)域經(jīng)受非交錯(cuò)曝光,非交錯(cuò)曝光利用具有等于掃描線間隔的相鄰光束間隔的光束組來(lái)執(zhí)行雕刻。本發(fā)明的有利效果根據(jù)本發(fā)明,通過(guò)將雕刻的任務(wù)由多次執(zhí)行的掃描曝光操作中的各個(gè)操作分擔(dān), 并且在各個(gè)曝光掃描過(guò)程中執(zhí)行光束功率控制、曝光位置控制等的方式,可以減小在將被保留的表面形狀附近的熱的影響。由此,可以以高精度形成期望表面形狀和傾斜部(斜坡)。附圖簡(jiǎn)要說(shuō)明
圖1示出向其應(yīng)用根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的多光束曝光掃描設(shè)備的制版設(shè)備的構(gòu)造;圖2示出被布置在曝光頭中的光纖陣列部的構(gòu)造;圖3是光纖陣列部的放大視圖;圖4是光纖陣列部的圖像形成光學(xué)系統(tǒng)的示意圖;圖5是示出在光纖陣列部中的光纖的布置的實(shí)例和在光纖與掃描線之間的關(guān)系的圖示;圖6是示出在根據(jù)本實(shí)施例的制版設(shè)備中的掃描曝光系統(tǒng)的概要的平面視圖7是示出根據(jù)本實(shí)施例的制版設(shè)備的控制系統(tǒng)的構(gòu)造的框圖;圖8A到8D是用于解釋在第一實(shí)施例中的曝光的掃描序列的圖示;圖9A和9B是在利用第一實(shí)施例在板材的表面中雕刻精細(xì)矩形形狀的情形中的圖示;圖10是示出在第一實(shí)施例中激光輸出控制的實(shí)例的圖;圖IlA和IlB是在利用第二實(shí)施例在板材的表面中雕刻精細(xì)矩形形狀的情形中的圖示;圖12是示出在第二實(shí)施例中激光輸出控制的實(shí)例的圖;圖13A和1 是在利用第三實(shí)施例在板材的表面中雕刻精細(xì)矩形形狀的情形中的圖示;圖14是示出根據(jù)第四實(shí)施例適用于螺旋曝光的光纖的布置形式和在光纖與掃描線之間的關(guān)系的示意圖;圖15A和15B是示出根據(jù)第五實(shí)施例的掃描曝光系統(tǒng)的概要的示意圖;圖16是示出在第五實(shí)施例中,在將在板材的表面上保留的區(qū)域、掃描線和光束位置(通道)之間的關(guān)系的示意圖;圖17是示出根據(jù)第五實(shí)施例由第一掃描操作曝光的區(qū)域的圖示;圖18是示出根據(jù)第五實(shí)施例由第二掃描操作曝光的區(qū)域的圖示;圖19是示出在第五實(shí)施例中由各掃描操作形成的形狀的圖示;圖20是示出根據(jù)第六實(shí)施例的掃描曝光系統(tǒng)的概要的示意圖;圖21是示出根據(jù)第六實(shí)施例由第一掃描操作曝光的區(qū)域的圖示;圖22是示出根據(jù)第六實(shí)施例由第二掃描操作曝光的區(qū)域的圖示;圖23是示出根據(jù)第六實(shí)施例由第三掃描操作曝光的區(qū)域的圖示;圖M是示出在第六實(shí)施例中由各掃描操作形成的形狀的圖示;并且圖25A到25C是示出柔性版的制版過(guò)程的概要的圖示。
具體實(shí)施例方式在下文中,將參考附圖詳細(xì)描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例。<多光束曝光掃描設(shè)備的構(gòu)造實(shí)例>圖1示出向其應(yīng)用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的多光束曝光掃描設(shè)備的制版設(shè)備的構(gòu)造。 圖1所示制版設(shè)備11被構(gòu)造為以如下的方式以高速在片狀板材(相應(yīng)于“記錄介質(zhì)”)的表面中雕刻(記錄)二維圖像,使得板材F被固定在具有筒形形狀的滾筒50的外周表面上; 使得滾筒50沿著在圖1中的箭頭R方向(主掃描方向)旋轉(zhuǎn);使得相應(yīng)于將在板材F中雕刻(記錄)的圖像的圖像數(shù)據(jù)的多個(gè)激光束被從激光記錄設(shè)備10的曝光頭30朝向板材F 照射;并且使得曝光頭30以預(yù)定節(jié)距沿著垂直于主掃描方向的副掃描方向(在圖1中的箭頭S方向)進(jìn)行掃描。這里,將橡膠板或者樹(shù)脂板被用于柔版印刷的情形描述作為實(shí)例。通過(guò)包括產(chǎn)生多個(gè)激光束的光源單元20、將由光源單元20產(chǎn)生的多個(gè)激光束照射到板材F上的曝光頭30、和沿著副掃描方向移動(dòng)曝光頭30的曝光頭運(yùn)動(dòng)部40,構(gòu)造在根據(jù)本實(shí)施例的制版設(shè)備11中使用的激光記錄設(shè)備10。光源單元20包括多個(gè)半導(dǎo)體激光器21A和21B (這里總共64件),并且各個(gè)半導(dǎo)
8體激光器21A和21B的光束分別地經(jīng)由光纖22A、22B、70A和70B而被獨(dú)立地傳輸?shù)狡毓忸^ 30的光纖陣列部300。在本實(shí)施例中,寬面積半導(dǎo)體激光器(例如,波長(zhǎng)915nm)被用作半導(dǎo)體激光器 21A和21B,并且半導(dǎo)體激光器21A和21B在光源基板24A和24B上被并排地布置。各個(gè)半導(dǎo)體激光器21A和21B被獨(dú)立地耦接到各根光纖22A和22B的一個(gè)端部, 并且各根光纖22A和22B的另一端被連接到各個(gè)SC式光學(xué)連接器25A和25B的適配器。支撐SC式光學(xué)連接器25A和25B的適配器基板23A和2 被分別垂直地聯(lián)結(jié)到光源基板24A和MB的一個(gè)端部。此外,在其每一個(gè)之上安裝用于驅(qū)動(dòng)半導(dǎo)體激光器21A 和21B的LD驅(qū)動(dòng)器電路(在圖1中未示出,并且在圖7中由參考數(shù)字沈表示)的LD驅(qū)動(dòng)器基板27A和27B被聯(lián)結(jié)到光源基板24A和MB的另一個(gè)端部。半導(dǎo)體激光器21A和21B 經(jīng)由獨(dú)立的布線部件29A和29B而分別被連接到相應(yīng)的LD驅(qū)動(dòng)器電路,從而各個(gè)半導(dǎo)體激光器2IA和2IB被獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)。注意在本實(shí)施例中,具有較大芯直徑的多模態(tài)光纖被應(yīng)用于光纖70A和70B,從而增加激光束的輸出。具體地,在本實(shí)施例中使用具有105μπι的芯直徑的光纖。此外,具有大約IOW的最大輸出的半導(dǎo)體激光器被用于半導(dǎo)體激光器21Α和21Β。具體地,采用例如由JDS Uniphase Company銷售并且具有105 μ m的芯直徑和IOW的輸出的半導(dǎo)體激光器 (6398-L4)等是可能的。在另一方面,曝光頭30包括收集并且發(fā)射從多個(gè)半導(dǎo)體激光器21A和21B發(fā)射的各個(gè)激光束的光纖陣列部300。光纖陣列部300的光發(fā)射部(在圖1中未示出,并且在圖2 中由參考數(shù)字280表示)具有如下的構(gòu)造,在其中,從相應(yīng)的半導(dǎo)體激光器21A和21B引出的64根光纖70A和70B的發(fā)射端被并排地布置在各具有32個(gè)發(fā)射端的兩列中(見(jiàn)圖3)。此外,在曝光頭30中,從光纖陣列部300的光發(fā)射部一側(cè)按照如下順序并排地設(shè)置準(zhǔn)直透鏡32、開(kāi)口部件33和圖像形成透鏡34。通過(guò)組合準(zhǔn)直透鏡32和圖像形成透鏡34 而構(gòu)造圖像形成光學(xué)系統(tǒng)。開(kāi)口部件33布置為使得當(dāng)從光纖陣列部300 —側(cè)觀察時(shí),它的開(kāi)口位于遠(yuǎn)場(chǎng)位置處。由此,能夠給予從光纖陣列部300發(fā)射的所有的激光束相同的光量限制效果。曝光頭運(yùn)動(dòng)部40包括其縱向方向被沿著副掃描方向布置的滾珠螺桿41和兩個(gè)導(dǎo)軌42。因此,當(dāng)用于驅(qū)動(dòng)和旋轉(zhuǎn)滾珠螺桿41的副掃描馬達(dá)(在圖1中未示出,并且在圖7 中由參考數(shù)字43表示)被操作時(shí),被布置于滾珠螺桿41上的曝光頭30能夠在被導(dǎo)軌42 引導(dǎo)的狀態(tài)中被沿著副掃描方向移動(dòng)。此外,當(dāng)主掃描馬達(dá)(在圖1中未示出,并且在圖7 中由參考數(shù)字51表示)被操作時(shí),滾筒50能夠沿著在圖1中的箭頭R方向旋轉(zhuǎn),并且由此主掃描得以執(zhí)行。圖2示出光纖陣列部300的構(gòu)造,并且圖3是光纖陣列部300的光發(fā)射部觀0的放大視圖(在圖2中的視圖A)。如在圖3中所示,光纖陣列部300的光發(fā)射部觀0由在上和下兩個(gè)級(jí)中組合的光纖陣列單元300A和300B來(lái)構(gòu)造,并且其被構(gòu)造為使得由引用字符 70A和70B標(biāo)識(shí)的、32根光纖的兩列分別地被并排地布置在上和下級(jí)中,其中,每一根光纖具有105 μ m的相同芯直徑。光纖陣列部300具有兩個(gè)基部(V凹槽基板)302A和302B。在各個(gè)基部302A和 302B的一個(gè)表面中,與半導(dǎo)體激光器21A和21B相同數(shù)目的V形凹槽和^2B,S卩,32個(gè)V形凹槽被分別地形成,以便以預(yù)定的間隔彼此鄰近。此外,基部302A和302B被布置為使得V形凹槽2微和面對(duì)彼此。作為各根光纖70A的另一個(gè)端部的光纖端部7IA被裝配到基部302A的各個(gè)V形凹槽2狐中。類似地,作為各根光纖70B的另一個(gè)端部的光纖端部71B被裝配到基部302B 的各個(gè)V形凹槽中。即,根據(jù)本實(shí)施例的光纖陣列部300被以如下方式構(gòu)造,使得分別地通過(guò)沿著預(yù)定方向線性地布置多個(gè)光纖端部71A和71B (在本實(shí)施例中總共64件=32 件乂 2、而構(gòu)造的光纖端部組301A和301B被與垂直于預(yù)定方向的方向平行地設(shè)置在兩列中。因此,多個(gè)(32X》激光束被從光纖陣列部300的光發(fā)射部觀0同時(shí)地發(fā)射。圖4是光纖陣列部300的圖像形成系統(tǒng)的示意圖。如在圖4中所示,通過(guò)由準(zhǔn)直透鏡32和圖像形成透鏡34構(gòu)造的圖像形成裝置,以預(yù)定的圖像形成放大率在板材F的曝光表面(表面)FA的附近形成光纖陣列部300的光發(fā)射部觀0的圖像。在本實(shí)施例中,圖像形成放大率被設(shè)為1/3。由此,從具有105 μ m的芯直徑的光纖端部71A和71B發(fā)射的激光束LA的光斑直徑被設(shè)為Φ 35 μ m。在具有這種圖像形成系統(tǒng)的曝光頭30中,當(dāng)在參考圖3描述的光纖陣列單元300A 和300B的上和下級(jí)之間的間隔(在圖3中的Li)、沿著列方向在相鄰光纖之間的相對(duì)位置 (在圖3中的L2)、在該列中的相鄰光纖之間的間隔(在圖3中的L3),和在固定光纖陣列部300時(shí)光纖端部組301A和301B的布置方向(陣列方向)的傾斜角度(在圖5中的角度 θ )被適當(dāng)?shù)卦O(shè)計(jì)時(shí),在通過(guò)從布置在陣列上級(jí)(光纖端部組301Α)和陣列下級(jí)(光纖端部組301Β)的各列中的相鄰位置處的光纖端部71Α和71Β發(fā)射的激光束而曝光的掃描線(記錄線)Κ之間的間隔Ρ1,和在通過(guò)在陣列上級(jí)的右端處的光纖端部71ΑΤ和在陣列下級(jí)的左端處的光纖端部71ΒΤ曝光的掃描線K之間的間隔Ρ2,能夠分別同樣地設(shè)為10. 58 μ m(相應(yīng)于沿著副掃描方向的MOOdpi的分辨率),如在圖5中所示。注意在圖5中,出于示意方便的目的,減少了光纖的數(shù)目。即,能夠基于光纖陣列部300的這種設(shè)計(jì),在64個(gè)通道中實(shí)現(xiàn)相應(yīng)于MOOdpi的副掃描方向分辨率的掃描線間隔(PI = P2 10. 6 μ m)。當(dāng)使用具有上述構(gòu)造的曝光頭30時(shí),可以利用光纖陣列部300的兩列光纖端部組 301A和301B同時(shí)地掃描和曝光64條線的范圍(一個(gè)行跡(swath))。圖6是示出在圖1所示制版設(shè)備11中的掃描曝光系統(tǒng)的概要的平面視圖。曝光頭30包括焦點(diǎn)位置改變機(jī)構(gòu)60和沿著副掃描方向執(zhí)行進(jìn)給的間歇進(jìn)給機(jī)構(gòu)90。焦點(diǎn)位置改變機(jī)構(gòu)60具有相對(duì)于滾筒50的表面前后地移動(dòng)曝光頭30的馬達(dá) 61和滾珠螺桿62,并且其能夠通過(guò)馬達(dá)61的控制在大約0. 1秒中將焦點(diǎn)位置移動(dòng)大約 300 μ m。間歇進(jìn)給機(jī)構(gòu)90構(gòu)造參考圖1描述的曝光頭運(yùn)動(dòng)部40,并且具有滾珠螺桿41和用于如在圖6中所示地對(duì)滾珠螺桿41進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的副掃描馬達(dá)43。曝光頭30被固定到在滾珠螺桿41上的平臺(tái)(Stage)44上,并且能夠通過(guò)副掃描馬達(dá)43的控制在大約0. 1秒內(nèi)沿著滾筒50的軸線52方向間歇地進(jìn)給一個(gè)行跡(640 μ m),從而達(dá)到相鄰行跡。注意在圖6中,參考數(shù)字46和47表示以可旋轉(zhuǎn)方式支撐滾珠螺桿41的軸承。參考數(shù)字55表示用于在滾筒50上卡緊板材F的夾具部件。夾具部件55的位置被設(shè)于在其中曝光頭30不執(zhí)行曝光(記錄)的非記錄區(qū)域中。在滾筒旋轉(zhuǎn)時(shí),64個(gè)通道的激光束被從曝光頭30照射到旋轉(zhuǎn)滾筒50上的板材F上。由此,相應(yīng)于64個(gè)通道(一個(gè)行跡)的曝光范圍92得以無(wú)間隙地曝光,從而板材F的表面被以一個(gè)行跡寬度來(lái)進(jìn)行雕刻(圖像記錄)。然后當(dāng)通過(guò)滾筒50的旋轉(zhuǎn)而使得(在板材F的非記錄區(qū)域中)夾具部件55穿過(guò)曝光頭30的前部時(shí),曝光頭30被沿著副掃描方向間歇地進(jìn)給,從而下一個(gè)行跡得以曝光。通過(guò)重復(fù)基于上述沿著副掃描方向的間歇進(jìn)給的曝光和掃描,在板材F的整個(gè)表面上形成期望圖像。在本實(shí)施例中,使用片狀板材F,但是還能夠使用筒形記錄介質(zhì)(套筒類型)。<控制系統(tǒng)的構(gòu)造>圖7是示出制版設(shè)備11的控制系統(tǒng)的構(gòu)造的框圖。如在圖7中所示,制版設(shè)備11 包括根據(jù)將被雕刻的二維圖像數(shù)據(jù)來(lái)驅(qū)動(dòng)相應(yīng)的半導(dǎo)體激光器21A和21B的LD驅(qū)動(dòng)器電路沈、旋轉(zhuǎn)滾筒50的主掃描馬達(dá)51、驅(qū)動(dòng)主掃描馬達(dá)51的主掃描馬達(dá)驅(qū)動(dòng)電路81、驅(qū)動(dòng)副掃描馬達(dá)43的副掃描馬達(dá)驅(qū)動(dòng)電路82和控制電路80??刂齐娐?0控制LD驅(qū)動(dòng)器電路 26和各個(gè)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)電路(81,82)。代表將在板材F中雕刻(記錄)的圖像的圖像數(shù)據(jù)被供應(yīng)到控制電路80?;趫D像數(shù)據(jù),控制電路80控制主掃描馬達(dá)51和副掃描馬達(dá)43的驅(qū)動(dòng),并且獨(dú)立地控制各個(gè)半導(dǎo)體激光器21A和21B的輸出(執(zhí)行激光束功率控制)。注意,用于控制激光束的輸出的裝置不限于控制從半導(dǎo)體激光器21A和21B發(fā)射的光量的模式。替代該模式地,或者與該模式組合地,還可以使用光學(xué)調(diào)制裝置,例如聲光調(diào)制器(AOM)模塊。下面,將描述利用多光束曝光系統(tǒng)在制造印刷版時(shí)的曝光掃描過(guò)程。<第一實(shí)施例>在使用對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描的多光束曝光系統(tǒng)的第一方法中,利用第一光束組形成將在記錄介質(zhì)的表面上保留的平坦形狀的輪廓和平坦形狀的傾斜部的輪廓(粗糙雕刻過(guò)程),并且在粗糙雕刻過(guò)程中增加的板材F的溫度降低至預(yù)定溫度之后,利用第二光束組曝光和掃描相同的掃描線,從而通過(guò)精細(xì)雕刻(精細(xì)雕刻過(guò)程)來(lái)精確地形成(目標(biāo)表面形狀及其傾斜部的)最終形狀。這里,優(yōu)選的是,被照射到最終形狀附近的記錄介質(zhì)的第二光束組的能量低于被照射到記錄介質(zhì)的第一光束組的能量。為此目的,第二光束組的輸出功率被控制為變得低于第一光束組的輸出功率。以此方式,采用了在對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次掃描和曝光時(shí)雕刻(粗糙雕刻和精細(xì)雕刻)的任務(wù)由各個(gè)光束組分擔(dān)的多次掃描曝光系統(tǒng)。將參考圖8A到8D描述曝光掃描序列。首先,在滾筒50以不變速度旋轉(zhuǎn)時(shí),通過(guò)利用從曝光頭30發(fā)射的第一光束組(64 個(gè)通道)曝光和掃描板材F而雕刻第一形狀(圖8A)。利用第一光束組的第一掃描曝光過(guò)程是粗糙雕刻過(guò)程,并不形成最終作為凸形平坦部和凸形平坦部的傾斜部而保留的表面形狀。當(dāng)滾筒50被旋轉(zhuǎn)一次時(shí),利用64個(gè)通道的寬度執(zhí)行粗糙雕刻。然后,在相同的副掃描位置(在不移動(dòng)曝光頭30的情況下)處,通過(guò)使用具有較低功率的第二光束組(與第一光束組相同的通道)而在滾筒50的第二次旋轉(zhuǎn)期間,在相同的位置處在相同的線上執(zhí)行掃描和曝光,從而最終形狀(第二形狀)得以形成(圖8B)。在通過(guò)滾筒50的兩次旋轉(zhuǎn)而完成一個(gè)行跡的雕刻之后,當(dāng)作為非記錄區(qū)域的夾具部件55經(jīng)過(guò)曝光頭30的前部時(shí),曝光頭30被沿著副掃描方向(在圖8A到8D中沿著向左方向)間歇地進(jìn)給,從而被移動(dòng)到用于執(zhí)行下個(gè)相鄰的一個(gè)行跡的雕刻的位置。然后,類似于圖8A,在這個(gè)位置處執(zhí)行使用第一光束組的粗糙雕刻(圖8C)。然后,通過(guò)在相同的位置處在相同的線上掃描的第二光束組(與第一光束組相同的通道)再次執(zhí)行精細(xì)雕刻的掃描和曝光,從而最終形狀得以形成(圖8D)。此后,重復(fù)上述過(guò)程,從而板材F的整個(gè)表面得以曝光。圖9A和9B是在于板材F的表面中雕刻精細(xì)矩形形狀的情形中的圖示。圖9A示出通過(guò)利用第一光束組進(jìn)行粗糙雕刻獲得的形狀(第一形狀)110。圖9B示出通過(guò)利用第二光束組進(jìn)行精細(xì)雕刻獲得的最終形狀(第二形狀)120。如在圖9B中所示,假設(shè)通過(guò)以如下的方式來(lái)雕刻板材F的表面而形成目標(biāo)最終形狀120,即,通過(guò)在表面上保留精細(xì)矩形平坦部121 (在本文中,為具有大約四個(gè)像素的一邊的正方形),并且形成圍繞矩形平坦部121 的傾斜部122和進(jìn)一步的圍繞傾斜部122的平坦底部124。如在圖9A中所示,曝光頭30的相應(yīng)的通道的激光功率首先受到控制,從而通過(guò)利用第一光束組進(jìn)行曝光掃描來(lái)保留稍微粗糙的、幾乎為矩形的表面部111。在圖9A中的橫向方向代表沿著副掃描方向的位置。相應(yīng)于表面部111的位置的通道的激光輸出被關(guān)斷, 并且相應(yīng)于傾斜部112和底部114的通道的激光輸出被設(shè)為相應(yīng)于將被雕刻的深度的功率。接著,第一形狀110的表面被第二光束組曝光和掃描。在第二曝光中,相應(yīng)的通道的激光輸出功率被設(shè)為低于在第一曝光中的激光輸出功率,從而第一形狀110的表面部 111和傾斜部112被稍微地去除,如在圖9B中所示。直到利用第一光束組的第一雕刻時(shí)增加的溫度被降低為預(yù)定的溫度才進(jìn)行第二掃描曝光,并且此后利用第二光束組在低功率下執(zhí)行精細(xì)雕刻。因此,抑制將被保留的表面部的溫度升高是可能的。由此,熱的影響得以降低,從而能夠獲得精確的矩形形狀(矩形平坦部121)并且能夠形成銳利(陡峭)的傾斜部122。此外,在傾斜部122外側(cè)的底部IM利用與在第一雕刻時(shí)的相同的功率來(lái)進(jìn)行雕刻,從而由此被深雕刻至大約為第一底部114的深度的兩倍的深度。通常,在高度精確的柔性版中,具有大約500μπι的深度(凹進(jìn)部的深度)的深雕刻是優(yōu)選的。根據(jù)本實(shí)施例,能夠在其中對(duì)相同的掃描線進(jìn)行多次的曝光和掃描的構(gòu)造中執(zhí)行這種深雕刻。圖10是例示了在圖9Α中沿著線B-B(沿著主掃描方向在位置y = yB處)在第一曝光和第二曝光時(shí)的激光輸出的曲線圖。在圖10中,橫坐標(biāo)代表在光纖陣列部300中的光纖的通道位置(沿著副掃描方向的位置),并且縱坐標(biāo)代表激光輸出(W)。細(xì)線(參考數(shù)字 [1])代表第一光束組的激光輸出,并且粗線(參考數(shù)字[2])代表第二光束組的激光輸出。 這里,為了說(shuō)明簡(jiǎn)短起見(jiàn),示意了通道chl到chM的范圍,并且最大功率被設(shè)為10W。然而, 根據(jù)將被雕刻的圖像數(shù)據(jù),將被使用的通道是不同的,并且依賴于設(shè)備構(gòu)造等,輸出也是不同的。在圖10中,第一光束組的通道chl到ch5和chl8到的輸出被設(shè)為10W,并且利用這些通道雕刻在圖9A中的底部114。此外,第一光束組的通道(Λ9到chl4的輸出被設(shè)為OW (關(guān)斷),并且這些通道對(duì)應(yīng)于在圖9A中的表面部111的位置。相應(yīng)于傾斜部112的通道ch6到ch8和chl5到chl7的輸出被設(shè)于IW或者更大至小于IOW的范圍中,并且對(duì)應(yīng)于通道位置而逐漸地增加或者降低。利用各個(gè)通道的這種功率控制(參考數(shù)字[1])獲得了參考圖9A描述的第一形狀110。在第二曝光時(shí)的第二光束組中,如在圖10中由參考數(shù)字[2]標(biāo)注地,通道ch5到 ch9和chl4到chl8的輸出被設(shè)為1W,并且通道chlO到chl3的輸出被設(shè)為OW (關(guān)斷)。由此,能夠高度精確地形成參考圖9B描述的矩形平坦部121的形狀,并且能夠形成陡峭的傾斜部122。當(dāng)假設(shè)在利用第一光束組進(jìn)行第一掃描曝光時(shí)的激光輸出(光束光量)被表達(dá)為作為各個(gè)通道(ch)的編號(hào)i和曝光頭30的副掃描方向位置χ的函數(shù)的PWl (i,x),并且在利用用于在與被第一光束組曝光的那些相同的位置處對(duì)相同的線進(jìn)行曝光的第二光束組的第二掃描曝光時(shí)的激光輸出被表達(dá)為PW2(i,χ)時(shí),在被用于雕刻將最終保留作為表面形狀的區(qū)域(在圖9Β中的矩形平坦部121)的邊界的通道(在圖10的情形中cti9和chl4) 的外部附近的通道(在圖10中的ch5到ch8和chl5到chl8)中的第二光束組的激光輸出 PW2(i,x)的功率被設(shè)為低于第一光束組的激光輸出PWl (i,x)的功率(PW2(i,x) ^PffKi, x)) ο然而,在參考圖1描述的實(shí)施例中,編號(hào)被設(shè)為i = 1到64,并且能夠基于對(duì)應(yīng)于作為單位的行跡節(jié)距sp的副掃描進(jìn)給量,通過(guò)間歇進(jìn)給的進(jìn)給步的數(shù)目(χ = 0,1,2...)來(lái)表達(dá)位置Xo此外,通過(guò)多次掃描曝光過(guò)程,被用于雕刻將被保留作為最終表面形狀的區(qū)域 (在圖9B中的矩形平坦部121)的邊界的通道(在圖10的情形中cti9和chl4)被設(shè)為最小輸出(在圖10中1W)。能夠通過(guò)這種功率控制來(lái)抑制在最終形狀的表面部中的溫度升高,從而能夠高度精確地形成表面平坦部,并且還能夠使得邊緣部陡峭。應(yīng)注意,根據(jù)將被使用的板材(柔性敏化材料)的敏感性(對(duì)光的反應(yīng)性),功率控制的具體模式是不同的。適當(dāng)?shù)妮敵鰲l件是根據(jù)板材的種類等而被以試驗(yàn)方式來(lái)確定的。<第二實(shí)施例>在使用對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描的多光束曝光系統(tǒng)的第二方法中,在將在記錄介質(zhì)的曝光表面上保留的最終形狀的邊緣部中,沿著主掃描方向的邊緣部或者沿著副掃描方向的邊緣部是利用第一光束組形成的(第一方向邊緣形成過(guò)程),并且在通過(guò)第一方向邊緣形成過(guò)程增加的溫度被降低為預(yù)定的溫度之后,利用第二光束組形成垂直于第一方向邊緣的邊緣部(第二方向邊緣形成過(guò)程),從而獲得了期望最終形狀(表面形狀和傾斜部)。以此方式,采用了在其中雕刻任務(wù)(形成沿著第一方向的邊緣部和沿著第二方向的邊緣部的任務(wù))在多次掃描和曝光中由相應(yīng)的光束組分擔(dān)的多次掃描曝光系統(tǒng)。難以同時(shí)地以高精度沿著主掃描方向和副掃描方向這兩個(gè)方向形成邊緣,并且因此通過(guò)將邊緣形成過(guò)程劃分成多個(gè)曝光過(guò)程而形成沿著各個(gè)方向的邊緣。即,當(dāng)角部的兩個(gè)垂直邊緣將由一個(gè)曝光過(guò)程形成時(shí),由于相鄰光束產(chǎn)生的熱的影響,難以很好地再現(xiàn)邊緣。然而,當(dāng)沿著各個(gè)方向形成邊緣的過(guò)程被劃分成利用第一光束組的曝光過(guò)程和利用第二光束組的曝光過(guò)程,從而使其如在上述第二方法中那樣得以分擔(dān)時(shí),在將被保留的表面部中抑制溫度升高是可能的。由此,具有期望形狀的表面平坦部能夠得以保留,并且還能夠使得邊緣陡峭。圖IlA并且IlB是在利用第二方法在板材F的表面中雕刻精細(xì)矩形形狀的情形中的圖示。圖IlA示出利用第一光束組獲得的形狀(第一形狀)210。圖IlB示出利用第二光束組獲得的最終形狀(第二形狀)220。這里,相應(yīng)的通道的激光輸出受到控制,從而在第一掃描曝光時(shí)利用第一光束組形成沿著主掃描方向的線性邊緣(在圖IlA中的表面部211的右和左邊緣)215和216。用于沿著副掃描方向的上側(cè)和下側(cè)的激光輸出在充分地位于最終目標(biāo)表面形狀(在圖IlB中的參考數(shù)字221)的邊緣227和228的位置外側(cè)的主掃描方向位置處被關(guān)閉。以此方式,獲得了圖IlA所示第一形狀210。接著,利用第二光束組曝光和掃描第一形狀210的表面。在第二曝光中,相應(yīng)的通道的激光輸出受到控制,從而沿著副掃描方向的線性邊緣(在圖IlB中的矩形平坦部221 的上和下邊緣)227和2 得以形成,如在圖IlB中所示。應(yīng)注意,沿著主掃描方向的線性邊緣215和216是在第一掃描曝光時(shí)利用第一光束組形成的,并且因此,在第二光束組中,從在邊緣215和216的位置外側(cè)的副掃描方向位置處的通道關(guān)斷激光輸出。通過(guò)以此方式來(lái)將形成邊緣的過(guò)程劃分成多個(gè)掃描曝光過(guò)程,從而獨(dú)立地形成沿著各個(gè)方向的各個(gè)邊緣。由此,能夠以高精度形成將被最終保留的表面形狀,并且還能夠使得邊緣陡峭。此外,在第二方法中,還能夠類似于參考圖9描述的第一方法地深度地雕刻凹進(jìn)部。圖12是例示了在圖IlA中沿著線C-C在第一曝光時(shí)的激光輸出的圖示。在圖12 中,橫坐標(biāo)代表在光纖陣列部300中的光纖的通道位置(沿著副掃描方向的位置),并且縱坐標(biāo)代表激光輸出(W)。為了比較,在參考圖10描述的“第一實(shí)施例”中的第一光束組的激光輸出(參考數(shù)字[1])在圖12中由虛線代表。在“第二實(shí)施例”的情形中,如在圖12中由實(shí)線(參考數(shù)字[3])代表的,為了通過(guò)第一曝光完成沿著主掃描方向的具有最終線形的邊緣,被用于雕刻最終線形的邊界的通道cM和chl4的輸出被設(shè)為1W。應(yīng)注意,還能夠采用如下的模式,在其中,沿著副掃描方向的線的邊緣是利用第一光束組形成的,并且在其中,沿著主掃描方向的線的邊緣是利用第二光束組形成的?!吹谌龑?shí)施例〉在使用對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描的多光束曝光系統(tǒng)的第三方法中,通過(guò)如下方式來(lái)形成將在記錄介質(zhì)的曝光表面上保留的最終表面形狀,即,通過(guò)利用具有低功率的第一光束組曝光細(xì)線從而僅僅形成最終表面形狀的邊緣部(輪廓線雕刻過(guò)程),并且在由于輪廓線雕刻過(guò)程增加的溫度被降低至預(yù)定溫度之后,通過(guò)利用第二光束組曝光和掃描細(xì)線(輪廓線)的外側(cè)而形成傾斜部(傾斜部雕刻過(guò)程)。以此方式,采用了一種多次掃描曝光方法,在其中,雕刻的任務(wù)(形成輪廓線和傾斜部的任務(wù))在多次掃描和曝光中由各個(gè)光束組分擔(dān)。由此,在將被保留的表面部上的熱的影響能夠受到抑制,從而表面平坦部的形狀的精度能夠得以改進(jìn),并且還能夠使得邊緣陡峭。圖13A和1 是在利用第三方法在板材F的表面中雕刻精細(xì)矩形形狀的情形中的圖示。圖13A示出利用第一光束組獲得的形狀(第一形狀)310。圖1 示出利用第二光束組獲得的最終形狀(第二形狀)320。在第一掃描曝光時(shí),如在圖13A中所示,利用具有低的激光輸出(例如,1W)的第一光束組僅僅形成用于限定最終矩形平坦部321的輪廓形狀的細(xì)線(凹槽313)。例如,凹槽313的寬度Ws通常被設(shè)為大約10 μ m到30 μ m。此后,在第二掃描曝光時(shí),利用第二光束組雕刻在凹槽313外側(cè)的區(qū)域以達(dá)到凹槽313部分,從而如在圖13B中所示地形成傾斜部322和底部324。能夠采用以此方式形成的形狀作為最終形狀。通過(guò)第三和隨后的掃描曝光過(guò)程, 可以更加陡峭地雕刻傾斜部322或者更加深入地雕刻底部324。<第四實(shí)施例關(guān)于螺旋曝光系統(tǒng)的設(shè)備構(gòu)造>在本發(fā)明的實(shí)踐中,曝光系統(tǒng)不限于如參考圖1到8描述的、基于沿著副掃描方向間歇進(jìn)給的掃描曝光系統(tǒng),并且還可以采用一種通過(guò)在滾筒旋轉(zhuǎn)時(shí)沿著副掃描方向以不變速度移動(dòng)曝光頭30而以螺旋模式來(lái)掃描板材F的表面的螺旋曝光系統(tǒng)。基于螺旋曝光系統(tǒng)的多光束曝光掃描設(shè)備的構(gòu)造基本與參考圖1描述的構(gòu)造相同。通過(guò)使用相同的參考數(shù)字和字符描述了共有構(gòu)件。螺旋曝光系統(tǒng)的設(shè)備與間歇進(jìn)給系統(tǒng)的設(shè)備的主要不同之處在于曝光頭30在滾筒50的一次旋轉(zhuǎn)期間以不變速度沿著副掃描方向移動(dòng)的掃描和驅(qū)動(dòng)方法,以及在光纖陣列部300中的光纖的布置形式。圖14是示出在執(zhí)行螺旋曝光的情形中光纖的適當(dāng)?shù)牟贾眯问胶驮诠饫w與掃描線之間的關(guān)系的示意圖。這里,為了說(shuō)明簡(jiǎn)短起見(jiàn),通道的數(shù)目被降低,并且描述了利用總共八個(gè)通道G線X兩行)的布置形式。在圖14中,由被沿著傾斜方向布置的一組通道chl到ch4構(gòu)造的第一列被用作第一光束組的通道,并且由一組其余的通道ch5到ch8構(gòu)造的第二列被用作第二光束組的通道。在其中與利用前面的第一光束組(chl到ch4)曝光的掃描線相同的掃描線由隨后的第二光束組(ch5到ch8)曝光的多次掃描和曝光,通過(guò)以不變速度旋轉(zhuǎn)滾筒50和以不變速度沿著副掃描方向運(yùn)動(dòng)曝光頭30來(lái)執(zhí)行。在這種螺旋曝光系統(tǒng)的情形中,優(yōu)選的是,對(duì)光束進(jìn)行布置,從而在第一光束組 (chl到ch4)和第二光束組(ch5到ch8)之間提供了具有一個(gè)或者更多像素的間隙。圖14 示出其中沿著副掃描方向在ch4和ch5之間提供了具有4個(gè)像素的間隙的實(shí)例。能夠通過(guò)適當(dāng)?shù)卦O(shè)計(jì)在如參考圖3描述地、在上和下兩個(gè)級(jí)中設(shè)置的光纖陣列單元300A和300B的列之間的距離(Li)來(lái)實(shí)現(xiàn)這種光束布置。通過(guò)以此方式在第一光束組和第二光束組之間提供間隙,可以減小由利用各個(gè)光束組曝光引起的熱的影響(熱干擾)。應(yīng)注意,在如參考圖1描述地設(shè)置有64個(gè)通道的光纖陣列部300的曝光頭30的情形中,采用如下的模式,在其中,通過(guò)在滾筒的一次旋轉(zhuǎn)期間,沿著副掃描方向以32個(gè)通道來(lái)移動(dòng)曝光頭30,從而利用前面的第一列(例如,在圖3中屬于光纖陣列單元300A的上級(jí)的通道組)的光束組執(zhí)行第一掃描曝光;并且在其中利用隨后的第二列(例如,在圖3中屬于光纖陣列單元300B的下級(jí)的通道組)的光束組執(zhí)行第二掃描曝光。并且在其中使用基于螺旋曝光系統(tǒng)的制版設(shè)備的情形中,采用如上所述的第一實(shí)施例到第三實(shí)施例的曝光掃描系統(tǒng)是可能的。<第五實(shí)施例交錯(cuò)曝光(兩次掃描)的實(shí)例>圖15是示出根據(jù)第五實(shí)施例的多次掃描曝光系統(tǒng)的概要的示意圖。假設(shè)在圖15A 中由參考數(shù)字510標(biāo)注的矩形區(qū)域是將在板材F的表面上最終保留的區(qū)域??拷⑶野▍^(qū)域510的周邊區(qū)域(參考數(shù)字512)是通過(guò)在其中掃描線被稀疏化的交錯(cuò)掃描曝光來(lái)雕刻的區(qū)域(在下文中被稱作“交錯(cuò)區(qū)域”)。在交錯(cuò)區(qū)域512外側(cè)的區(qū)域(參考數(shù)字514)是利用非交錯(cuò)掃描曝光(在其中掃描線未被稀疏化的正常掃描曝光)來(lái)雕刻的區(qū)域(在下文中被稱作“非交錯(cuò)區(qū)域”)。在圖15B的放大視圖中,數(shù)字“1”代表在第一掃描中照射的光束組的通道的位置 (掃描線的位置),并且數(shù)字“2”代表在第二掃描中照射的光束組的通道的位置(掃描線的位置)。以此方式,交錯(cuò)區(qū)域512是通過(guò)其中掃描線被以一個(gè)像素間隔稀疏化的兩個(gè)掃描操作來(lái)雕刻的。由此,將被保留的區(qū)域510得以形成。圖16是示出在將被保留的區(qū)域510、掃描線和光束位置(通道)之間的關(guān)系的示意圖。注意在圖16中,為了圖示方便起見(jiàn),僅僅作為ch_k+l到ch_k+5示出了在總共64個(gè)通道中的五個(gè)通道的光束位置。圖17示出被第一掃描操作曝光的區(qū)域,并且圖18示出被第二掃描操作曝光的區(qū)域。如在圖17中所示,在第一掃描操作中,非交錯(cuò)區(qū)域514被利用所有的通道曝光,從而粗糙雕刻得以執(zhí)行。此外,交錯(cuò)區(qū)域512被利用奇數(shù)通道(例如,包括ch_k+l、ch_k+3和 ch_k+5的光束組)曝光。此后,在第二掃描操作中,如在圖18中所示,非交錯(cuò)區(qū)域514通過(guò)被利用所有的通道曝光而被深度地雕刻。此外,交錯(cuò)區(qū)域512被利用偶數(shù)通道(例如,包括ch_k+2和ch_ k+4的光束組)來(lái)曝光。圖19示出在由圖18中的線D-D代表的位置(主掃描方向位置)處的截面形狀。在圖19中,橫坐標(biāo)代表沿著副掃描方向的位置(單位mm),并且縱坐標(biāo)代表高度(單位μπι)。 注意縱坐標(biāo)的高度對(duì)應(yīng)于通過(guò)雕刻而被雕刻的深度,并且其基于最終得以保留而未被雕刻的板材表面的位置(V如在圖19中所示,非交錯(cuò)區(qū)域514被第一掃描操作雕刻至高度(I1 (深度dQ到(I1), 并且交錯(cuò)區(qū)域512被雕刻成基本為梯形形狀,具有在圖19中由參考數(shù)字531標(biāo)注的傾斜部。然后,非交錯(cuò)區(qū)域514被第二掃描操作雕刻至高度d2 (深度Cltl到d2),并且交錯(cuò)區(qū)域512的表面形狀和傾斜部被進(jìn)一步地雕刻,如在圖19中由參考數(shù)字532標(biāo)注地,從而獲得了最終目標(biāo)形狀。根據(jù)這個(gè)模式,由于相鄰光束引起的熱難以造成影響,并且因此獲得良好的目標(biāo)形狀是可能的。<第六實(shí)施例交錯(cuò)曝光(三次掃描)的實(shí)例>參考圖15到圖19,描述了如下的實(shí)施例,在其中利用被劃分成奇數(shù)通道和偶數(shù)通道這兩組的通道,通過(guò)兩個(gè)掃描操作來(lái)曝光交錯(cuò)區(qū)域,但是掃描次數(shù)不限于二次。采用其中通過(guò)將通道數(shù)目稀疏化為1/3而執(zhí)行三次掃描的模式也是可能的。圖20是在通過(guò)三個(gè)掃描操作來(lái)雕刻交錯(cuò)區(qū)域512的情形中的示意圖。在圖20中, 數(shù)字“1”代表在第一掃描操作中照射的光束組的通道位置(掃描線的位置),數(shù)字“2”代表在第二掃描操作中照射的光束組的通道位置(掃描線的位置),并且數(shù)字“3”代表在第三掃描操作中照射的光束組的通道位置(掃描線的位置)。
圖21示出被第一掃描操作曝光的區(qū)域,并且圖22和圖23示出分別地被第二和第三掃描操作曝光的區(qū)域。在圖21到圖23中,與在圖15到圖19中的那些相同或者類似的構(gòu)件由相同的參考數(shù)字和字符標(biāo)識(shí),并且省略了其解釋。如在圖21中所示,在第一掃描操作中,交錯(cuò)區(qū)域512被具有通道號(hào)為1、4、7...的通道曝光。然后,如在圖22中所示,在第二掃描操作中,交錯(cuò)區(qū)域512被具有通道號(hào)為2、5、 8...的通道曝光。此外,如在圖23中所示,在第三掃描操作中,交錯(cuò)區(qū)域512被具有通道號(hào)為3、6、 9...的通道曝光。圖M示出在由圖23中的線E-E線代表的位置(主掃描方向位置)處的截面形狀。在圖M中,橫坐標(biāo)代表沿著副掃描方向的位置(單位mm),并且縱坐標(biāo)代表高度(單位 μ m) ο如在圖M中所示,非交錯(cuò)區(qū)域514被第一掃描操作雕刻至高度Cl1 (深度Cltl到(I1), 并且交錯(cuò)區(qū)域512被雕刻成基本為梯形形狀,具有在圖M中由參考數(shù)字541標(biāo)識(shí)的傾斜部。然后,非交錯(cuò)區(qū)域514被第二掃描操作雕刻至高度d2 (深度Cltl到d2),并且非交錯(cuò)區(qū)域514被進(jìn)一步雕刻成表面形狀和如在圖M中由參考數(shù)字542標(biāo)識(shí)的傾斜部。然后,非交錯(cuò)區(qū)域514被第三掃描操作雕刻至高度d3 (深度Cltl到d3),并且交錯(cuò)區(qū)域512被進(jìn)一步雕刻成表面形狀和如在圖M中由參考數(shù)字543標(biāo)識(shí)的傾斜部,從而獲得了最終目標(biāo)形狀。根據(jù)這個(gè)模式,由于相鄰光束引起的熱更加難以造成影響,并且因此形成更好的目標(biāo)形狀是可能的。采用類似于基于二次掃描(圖15到19)和三次掃描(圖20到24)的上述方法的方法,例如基于1/4稀疏化的四次掃描方法,和基于1/5稀疏化的五次掃描方法也是可能的。S卩,能夠采用如下的模式,在其中沿著副掃描方向?qū)⑺械耐ǖ谰鶆虻叵∈杌?1/N,從而將其劃分成N個(gè)通道組(N是2或者更大的整數(shù)),并且在其中通過(guò)改變?cè)贜次掃描操作的每一次中使用的通道組而執(zhí)行多次掃描曝光。應(yīng)注意,沿著副掃描方向布置的通道組從布置端部由通道號(hào)j(j = 1,2,3...)標(biāo)識(shí),并且通道組能夠利用通過(guò)將通道號(hào)j除以N而獲得的余數(shù)來(lái)進(jìn)行分組。當(dāng)在相鄰光束之間的間隔增加時(shí),可以獲得降低相鄰光束影響的更加顯著的效果。<第七實(shí)施例交錯(cuò)曝光的另一種模式>在上述第五和第六實(shí)施例中,非交錯(cuò)光束布置是由光纖陣列光源構(gòu)造的。利用這種布置,記錄介質(zhì)(板材F)的非交錯(cuò)區(qū)域514(相應(yīng)于“第二區(qū)域”)經(jīng)受非交錯(cuò)曝光,而交錯(cuò)區(qū)域512(相應(yīng)于“第一區(qū)域”)經(jīng)受利用稀疏化的光束組的偽交錯(cuò)曝光。然而,采用如下實(shí)施例也是可能的,在其中光束布置自身由交錯(cuò)布置形成(例如,每隔一條掃描線),并且在其中第一區(qū)域(交錯(cuò)區(qū)域51 被具有通過(guò)這個(gè)交錯(cuò)布置進(jìn)一步增加的光束間隔的偽交錯(cuò)曝光進(jìn)行曝光。S卩,在如下的情形下其中,沿著副掃描方向在掃描線之間的間隔被設(shè)為Hitl;對(duì)將最終在記錄介質(zhì)的表面上保留的平坦形狀區(qū)域和相應(yīng)于圍繞平坦形狀區(qū)域的區(qū)域的“第一區(qū)域”進(jìn)行曝光的光束組的相鄰光束之間的間隔(沿著副掃描方向)被設(shè)為BPl ;并且對(duì)在第一區(qū)域外側(cè)的“第二區(qū)域”進(jìn)行曝光的光束組的相鄰光束之間的間隔(沿著副掃描方向)被設(shè)為BIV執(zhí)行在曝光各個(gè)區(qū)域時(shí)使用的光束布置的設(shè)計(jì)和通道的控制,使得關(guān)系 PK0 ( BP2 < BP1 成立。例如,采用具有每N條掃描線(N是二或者更大的整數(shù))的交錯(cuò)布置作為光束布置,并且第二區(qū)域經(jīng)受基于該交錯(cuò)布置的交錯(cuò)曝光掃描(BP2 = NXPKtl)t5此外,第一區(qū)域經(jīng)受利用通過(guò)進(jìn)一步均勻地將交錯(cuò)布置稀疏化為1/M(M是二或者更大的整數(shù),BP1 = MXBP2) 而形成的光束組的交錯(cuò)曝光掃描。利用這種實(shí)施例,類似于第五和第六實(shí)施例地形成良好的目標(biāo)形狀也是可能的?!磳?shí)施例的組合〉上述第一到第七實(shí)施例的方法能夠被適當(dāng)?shù)亟M合。[組合實(shí)例1]例如,存在如下的模式,在其中,如在第二實(shí)施例中,通過(guò)被劃分成沿著副掃描方向的邊緣部的形成過(guò)程和沿著主掃描方向的邊緣部的形成過(guò)程,來(lái)執(zhí)行在第一實(shí)施例中的精細(xì)雕刻過(guò)程。[組合實(shí)例2]存在如下的模式,在其中,在第一實(shí)施例中的粗糙雕刻過(guò)程之后,執(zhí)行在第三實(shí)施例中的輪廓線雕刻過(guò)程和傾斜部形成過(guò)程??商娲兀嬖谌缦碌哪J?,在其中,在第三實(shí)施例中的輪廓線雕刻過(guò)程之后,執(zhí)行在第一實(shí)施例中的粗糙雕刻過(guò)程和精細(xì)雕刻過(guò)程。[組合實(shí)例3]能夠采用如下的模式,在其中,在第五到第七實(shí)施例中描述的交錯(cuò)曝光被用作在第一實(shí)施例中的精細(xì)雕刻過(guò)程。[組合實(shí)例4]能夠采用如下的模式,在其中,在第五到第七實(shí)施例中描述的交錯(cuò)曝光被用作在第二實(shí)施例中的、沿著副掃描方向和主掃描方向中的各個(gè)方向的邊緣的形成過(guò)程。[組合實(shí)例5]能夠采用如下的模式,在其中,在第五到第七實(shí)施例中描述的交錯(cuò)曝光被用作第三實(shí)施例中的輪廓線雕刻過(guò)程和傾斜部形成過(guò)程中的至少一個(gè)過(guò)程。此外,除了上述組合實(shí)例1到5之外,能夠采用各種組合模式,并且可以通過(guò)副掃描方向間歇進(jìn)給曝光系統(tǒng)和螺旋曝光系統(tǒng)中的任何一種來(lái)實(shí)現(xiàn)所述模式中的任何一種模式?!慈嵝园娴闹圃爝^(guò)程〉圖25A到25C示出制版過(guò)程的概要。基于激光雕刻的制版中使用的原板700具有在基板702上的雕刻層704 (橡膠層或者樹(shù)脂層),并且具有粘附在雕刻層704上的保護(hù)覆蓋膜706。在制版處理時(shí),如在圖25A中所示,覆蓋膜706被剝離以暴露雕刻層704。然后, 通過(guò)將激光光束照射到雕刻層704上而移除雕刻層704的一部分,從而期望三維形狀得以形成(見(jiàn)圖MB)。已經(jīng)參考圖1到M描述了具體的激光雕刻方法。應(yīng)注意,在激光雕刻期間產(chǎn)生的塵屑被抽吸設(shè)備(未示出)抽吸和回收。
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在雕刻過(guò)程完成之后,如在圖25C中所示利用清洗設(shè)備710執(zhí)行水清洗(清洗過(guò)程),并且然后通過(guò)經(jīng)歷干燥過(guò)程(未示出)而完成柔性版。以此方式利用激光束來(lái)對(duì)板自身直接地進(jìn)行雕刻的制版方法被稱作直接雕刻方法。能夠以比使用CO2激光器的激光雕刻機(jī)器更低的成本實(shí)現(xiàn)向其應(yīng)用根據(jù)本實(shí)施例的多光束曝光掃描設(shè)備的制版設(shè)備。此外,能夠通過(guò)使用多光束曝光系統(tǒng)來(lái)提高處理速度,從而印刷版的生產(chǎn)率能夠得以提高。〈其它應(yīng)用〉本發(fā)明不限于柔性版的制造,并且本發(fā)明還能夠被應(yīng)用于其它凸形印刷版或者凹形印刷版的制造。此外,本發(fā)明不限于印刷版的制造,并且本發(fā)明還能夠被應(yīng)用于用于各種應(yīng)用的繪圖記錄設(shè)備和雕刻設(shè)備。〈附錄〉如根據(jù)關(guān)于以上詳細(xì)地描述的實(shí)施例的說(shuō)明所領(lǐng)會(huì)地,本說(shuō)明書包括各種技術(shù)概念的公開(kāi),其包括如將在下面描述的發(fā)明。在以下發(fā)明中,“對(duì)象物”可以是記錄介質(zhì)。(發(fā)明1)一種通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描從而雕刻對(duì)象物的表面的多光束曝光掃描方法,所述方法的特征在于包括利用第一光束組形成第一形狀的第一曝光掃描過(guò)程,該第一形狀限定將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀和圍繞目標(biāo)平坦形狀的傾斜部的輪廓形狀;以及通過(guò)利用第二光束組曝光和掃描與在第一曝光掃描過(guò)程中曝光和掃描的那些掃描線相同的掃描線從而形成第二形狀的第二曝光掃描過(guò)程,該第二形狀限定目標(biāo)平坦形狀和圍繞目標(biāo)平坦形狀的傾斜部的最終形狀。根據(jù)本發(fā)明,粗糙雕刻是利用第一光束組執(zhí)行的,所述第一光束組的光束被照射使得較大的能量被照射到記錄介質(zhì)上(第一曝光掃描過(guò)程),并且此后利用第二光束組精確地雕刻最終目標(biāo)形狀,所述第二光束組的光束被照射使得較小的能量被照射到記錄介質(zhì)上(第二曝光掃描過(guò)程)。由此,可以減輕在將被保留的表面部上的熱的影響。結(jié)果,可以提高最終形狀的精度,并且還可以增加傾斜部的陡峭度(斜率)。(發(fā)明2)—種通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描從而雕刻對(duì)象物的表面的多光束曝光掃描方法,所述方法的特征在于包括在將在對(duì)象物的曝光表面上保留的平坦形狀的邊緣部中,利用第一光束組形成沿著第一方向和不同于第一方向的第二方向中的一個(gè)方向的第一邊緣部的第一曝光掃描過(guò)程;以及,在第一曝光掃描過(guò)程之后,利用第二光束組形成沿著不同于第一方向和第二方向中的所述一個(gè)方向的另一個(gè)方向的第二邊緣部的第二曝光掃描過(guò)程。根據(jù)本發(fā)明,與其中沿著第一方向的第一邊緣部和沿著第二方向的第二邊緣部被一次(同時(shí)地)形成的情形相比,可以在兩個(gè)邊緣部在此處相互交叉的角部中減輕熱的影響。因此,可以提高在角部處的形狀的精度。例如,存在如下的模式,在其中,第一方向和第二方向之一被設(shè)為主掃描方向,并且在其中另一個(gè)方向被設(shè)為副掃描方向。然而,從減輕在角部處的熱效應(yīng)的觀點(diǎn)來(lái)看,第一方向和第二方向可以并非必然是相互垂直的。(發(fā)明3)—種通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描從而雕刻對(duì)象物的表面的多光束曝光掃描方法,所述方法的特征在于包括第一曝光掃描過(guò)程,用于利用第一光束組繪制和雕刻將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀的邊緣部的線圖,從而僅僅形成邊緣部;以及第二曝光掃描過(guò)程,用于在第一曝光掃描過(guò)程之后,通過(guò)利用第二光束組來(lái)曝光和掃描線圖的外側(cè)區(qū)域,從而形成圍繞目標(biāo)平坦形狀的傾斜部。根據(jù)本發(fā)明,目標(biāo)平坦形狀的輪廓線利用第一光束組而被精確地繪制和雕刻,第一光束組的光束被照射使得較小的能量被照射到記錄介質(zhì)上(第一曝光掃描過(guò)程),并且此后在輪廓線外側(cè)的區(qū)域利用第二光束組而被雕刻,第二光束組的光束被照射使得較大的能量被照射到記錄介質(zhì)上(第二曝光掃描過(guò)程)。由此,在不過(guò)度地加熱將被保留的表面部的情況下執(zhí)行處理是可能的,并且因此高度精確地形成期望形狀是可能的。(發(fā)明4)一種通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描從而雕刻對(duì)象物的表面的多光束曝光掃描方法,所述方法的特征在于,當(dāng)將在記錄介質(zhì)的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀區(qū)域和目標(biāo)平坦形狀區(qū)域的周邊區(qū)域被設(shè)為第一區(qū)域,并且第一區(qū)域外側(cè)的區(qū)域被設(shè)為第二區(qū)域時(shí),第一區(qū)域經(jīng)受交錯(cuò)曝光,在交錯(cuò)曝光中使用具有被設(shè)為掃描線間隔的N倍(N是二或者更大的整數(shù))的相鄰光束間隔的光束組, 并且在交錯(cuò)曝光中在使得待被曝光的掃描線是不同的情況下,通過(guò)執(zhí)行掃描多次而順次地曝光在曝光的掃描線之間的未曝光掃描線;并且第二區(qū)域經(jīng)受非交錯(cuò)曝光,非交錯(cuò)曝光利用具有等于掃描線間隔的相鄰光束間隔的光束組來(lái)執(zhí)行雕刻。根據(jù)本發(fā)明,在將被保留的表面形狀的附近(第一區(qū)域),通過(guò)執(zhí)行交錯(cuò)曝光而在相鄰光束之間提供了間隙,從而減輕由于相鄰光束引起的熱的影響(熱干擾)。由此,可以在降低熱積累的同時(shí)執(zhí)行精確雕刻。此外,在進(jìn)一步地在第一區(qū)域外側(cè)的第二區(qū)域中,能夠利用非交錯(cuò)曝光執(zhí)行粗糙雕刻、深雕刻等。(發(fā)明幻根據(jù)本發(fā)明1的多光束曝光掃描方法,其特征在于進(jìn)一步包括第三曝光掃描過(guò)程,用于在將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀的邊緣部中,利用第三光束組形成沿著第一方向和不同于第一方向的第二方向中的一個(gè)方向的第一邊緣部;和第四曝光掃描過(guò)程,用于在第三曝光掃描過(guò)程之后,利用第四光束組形成沿著不同于第一方向和第二方向中的所述一個(gè)方向的另一個(gè)方向的第二邊緣部。例如,能夠采用如下的模式,在其中,在第二曝光掃描過(guò)程中執(zhí)行第三曝光掃描過(guò)程和第四曝光掃描過(guò)程。(發(fā)明6)根據(jù)發(fā)明1、2和5之一的多光束曝光掃描方法,其特征在于進(jìn)一步包括第五曝光掃描過(guò)程,用于利用第五光束組繪制和雕刻將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀的邊緣部的線圖,從而僅僅形成邊緣部;以及第六曝光掃描過(guò)程,用于在第五曝光掃描過(guò)程之后,利用第六光束組曝光和掃描線圖的外側(cè)區(qū)域,以形成圍繞目標(biāo)平坦形狀的傾斜部。例如,能夠采用如下的模式,在其中,在利用第五曝光掃描過(guò)程繪制和雕刻邊緣部的線圖之后,執(zhí)行在發(fā)明1中的第一曝光掃描過(guò)程和第二曝光掃描過(guò)程。(發(fā)明7)根據(jù)發(fā)明1、2、3、5和6之一的多光束曝光掃描方法,其特征在于當(dāng)將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀區(qū)域和目標(biāo)平坦形狀區(qū)域的周邊區(qū)域被設(shè)為第一區(qū)域,并且第一區(qū)域外側(cè)的區(qū)域被設(shè)為第二區(qū)域時(shí),第一區(qū)域經(jīng)受交錯(cuò)曝光,在交錯(cuò)曝光中使用具有被設(shè)為掃描線間隔的N倍(N是二或者更大的整數(shù))的相鄰光束間隔的光束組,并且在交錯(cuò)曝光中在使得待被曝光的掃描線是不同的情況下,通過(guò)執(zhí)行掃描多次而順次地曝光在曝光的掃描線之間的未曝光掃描線;并且第二區(qū)域經(jīng)受非交錯(cuò)曝光,非交錯(cuò)曝光利用具有等于掃描線間隔的相鄰光束間隔的光束組來(lái)執(zhí)行雕刻。例如,存在如下的模式,在其中,在發(fā)明1中的第二曝光掃描過(guò)程中執(zhí)行交錯(cuò)曝光。(發(fā)明8)根據(jù)發(fā)明1到7之一的多光束曝光掃描方法,其特征在于對(duì)象物被保持在滾筒的外周表面上,并且將多個(gè)光束照射到與滾筒一起地旋轉(zhuǎn)的對(duì)象物的表面上的曝光頭被構(gòu)造為沿著滾筒的軸向方向自由地移動(dòng),從而在其中與滾筒的軸向方向平行的副掃描進(jìn)給被設(shè)為間歇進(jìn)給的狀態(tài)中執(zhí)行曝光掃描。當(dāng)滾筒的旋轉(zhuǎn)速度較低時(shí),根據(jù)本發(fā)明的模式的間歇進(jìn)給系統(tǒng)是有效的。(發(fā)明9)根據(jù)發(fā)明1到7之一的多光束曝光掃描方法,其特征在于對(duì)象物被保持在滾筒的外周表面上,并且將多個(gè)光束照射到與滾筒一起地旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)的表面上的曝光頭被構(gòu)造為沿著滾筒的軸向方向自由地移動(dòng),從而在其中與滾筒的軸向方向平行的副掃描進(jìn)給被設(shè)為連續(xù)進(jìn)給的狀態(tài)中執(zhí)行螺旋曝光掃描。當(dāng)滾筒的旋轉(zhuǎn)速度較高時(shí),根據(jù)本發(fā)明的模式的螺旋曝光系統(tǒng)是有效的。(發(fā)明10)根據(jù)發(fā)明9的多光束曝光掃描方法,其特征在于使用一種曝光頭,在所述曝光頭中,光束組布置被設(shè)定為使得在對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光中的之前的第一光束組和隨后的第二光束組之間提供包括至少一個(gè)像素的間隙。在螺旋曝光中使用的曝光頭中,可以通過(guò)在第一光束組和第二光束組之間提供間隙而減少在被同時(shí)地照射的光束組之間的熱干擾。(發(fā)明11)一種多光束曝光掃描設(shè)備,包括被構(gòu)造為通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而雕刻對(duì)象物的表面的曝光頭;掃描裝置,用于將對(duì)象物和曝光頭相對(duì)于彼此移動(dòng),以對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描;利用第一光束組實(shí)現(xiàn)第一曝光掃描操作以形成第一形狀的第一曝光掃描控制裝置,該第一形狀限定將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀和圍繞目標(biāo)平坦形狀的傾斜部的輪廓形狀;以及第二曝光掃描控制裝置,用于通過(guò)利用第二光束組來(lái)曝光和掃描與在第一曝光掃描操作中曝光和掃描的那些掃描線相同的掃描線,從而實(shí)現(xiàn)第二曝光掃描操作以形成第二形狀,該第二形狀是由目標(biāo)平坦形狀和圍繞目標(biāo)平坦形狀的傾斜部形成的最終形狀。根據(jù)本發(fā)明,能夠減少在將被保留的表面部上的熱的影響。由此,可以提高目標(biāo)表面形狀的精度,并且還可以增加傾斜部的陡峭度(斜率)。應(yīng)注意,第一曝光掃描控制裝置和第二曝光掃描控制裝置這兩者均被構(gòu)造為用于控制曝光頭和掃描裝置,并且因此能夠在物理上利用共用的控制電路來(lái)實(shí)現(xiàn)。(發(fā)明12)—種多光束曝光掃描設(shè)備,包括被構(gòu)造為通過(guò)將多個(gè)光束同時(shí)地照射到記錄介質(zhì)而雕刻記錄介質(zhì)的表面的曝光頭;被構(gòu)造為將對(duì)象物和曝光頭相對(duì)于彼此移動(dòng)從而對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描的掃描裝置;第一曝光掃描控制裝置,用于在將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀的邊緣部中,利用第一光束組實(shí)現(xiàn)第一曝光掃描操作以形成沿著第一方向和不同于第一方向的第二方向中的一個(gè)方向的第一邊緣部;以及第二曝光掃描控制裝置,用于在第一曝光掃描操作之后,利用第二光束組實(shí)現(xiàn)第二曝光
21掃描操作以形成沿著不同于第一方向和第二方向中的所述一個(gè)方向的另一個(gè)方向的第二邊緣部。根據(jù)本發(fā)明,能夠以良好的精度雕刻在其中沿著第一方向的第一邊緣部與沿著第二方向的第二邊緣部相交叉的角部的形狀。(發(fā)明13)—種多光束曝光掃描設(shè)備,包括被構(gòu)造為通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而雕刻對(duì)象物的表面的曝光頭;將對(duì)象物和曝光頭相對(duì)于彼此移動(dòng)以對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描的掃描裝置;第一曝光掃描控制裝置,用于實(shí)現(xiàn)第一曝光掃描操作以利用第一光束組繪制和雕刻將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀的邊緣部的線圖,從而僅僅形成邊緣部;以及第二曝光掃描控制裝置,用于在第一曝光掃描操作之后,通過(guò)利用第二光束組來(lái)曝光和掃描線圖的外側(cè)區(qū)域而實(shí)現(xiàn)第二曝光掃描操作,從而形成圍繞目標(biāo)平坦形狀的傾斜部。根據(jù)本發(fā)明,可以抑制在將被保留的表面部的附近的熱影響,并且因此可以以高精度形成期望表面形狀。(發(fā)明14)一種多光束曝光掃描設(shè)備,包括被構(gòu)造為通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而雕刻對(duì)象物的表面的曝光頭;將對(duì)象物和曝光頭相對(duì)于彼此移動(dòng)以對(duì)相同掃描線多次曝光和掃描的掃描裝置;以及曝光掃描控制裝置,該曝光掃描控制裝置以如下方式控制曝光頭和掃描裝置,使得將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀區(qū)域和目標(biāo)平坦形狀區(qū)域的周邊區(qū)域被設(shè)為第一區(qū)域,并且第一區(qū)域外側(cè)的區(qū)域被設(shè)為第二區(qū)域,第一區(qū)域經(jīng)受交錯(cuò)曝光,在交錯(cuò)曝光中使用具有被設(shè)為掃描線間隔的N倍(N是二或者更大的整數(shù))的相鄰光束間隔的光束組,并且在交錯(cuò)曝光中在使得待被曝光的掃描線是不同的情況下,通過(guò)執(zhí)行掃描多次而順次地曝光在曝光的掃描線之間的未曝光掃描線;并且第二區(qū)域經(jīng)受非交錯(cuò)曝光,非交錯(cuò)曝光利用具有等于掃描線間隔的相鄰光束間隔的光束組來(lái)執(zhí)行雕刻。根據(jù)本發(fā)明,當(dāng)將被保留的表面形狀的附近(第一區(qū)域)被雕刻時(shí),執(zhí)行在相鄰光束之間設(shè)置有間隙的交錯(cuò)曝光。因此,減少了由于相鄰光束引起的熱的影響,從而能夠執(zhí)行高度精確的雕刻。(發(fā)明1 根據(jù)發(fā)明11的多光束曝光掃描設(shè)備,進(jìn)一步包括第三曝光掃描控制裝置,用于在將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀的邊緣部中,利用第三光束組實(shí)現(xiàn)第三曝光掃描操作以形成沿著第一方向和不同于第一方向的第二方向中的一個(gè)方向的第一邊緣部;以及第四曝光掃描控制裝置,用于在第三曝光掃描操作之后,利用第四光束組實(shí)現(xiàn)第四曝光掃描操作以形成沿著不同于第一方向和第二方向中的所述一個(gè)方向的另一個(gè)方向的第二邊緣部。(發(fā)明16)根據(jù)發(fā)明11、12和15之一的多光束曝光掃描設(shè)備,進(jìn)一步包括第五曝光掃描控制裝置,用于實(shí)現(xiàn)第五曝光掃描操作以利用第五光束組來(lái)繪制和雕刻將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀的邊緣部的線圖,從而僅僅形成邊緣部;以及第六曝光掃描控制裝置,用于在第五曝光掃描過(guò)程之后,實(shí)現(xiàn)第六曝光掃描操作以利用第六光束組來(lái)曝光和掃描線圖的外側(cè)區(qū)域,從而形成圍繞目標(biāo)平坦形狀的傾斜部。應(yīng)注意,在發(fā)明15中的第三曝光掃描控制裝置和第四曝光掃描控制裝置,以及在發(fā)明16中的第五曝光掃描控制裝置和第六曝光掃描控制裝置全部被構(gòu)造為用于控制曝光頭和掃描裝置,并且因此能夠在物理上與第一曝光掃描控制裝置和第二曝光掃描控制裝置一起地利用共用控制電路來(lái)實(shí)現(xiàn)。(發(fā)明17)根據(jù)發(fā)明11、12、13、15和16之一的多光束曝光掃描設(shè)備,進(jìn)一步包括曝光掃描控制裝置,該曝光掃描控制裝置以如下方式控制曝光頭和掃描裝置,使得將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀區(qū)域和目標(biāo)平坦形狀區(qū)域的周邊區(qū)域被設(shè)為第一區(qū)域,并且第一區(qū)域外側(cè)的區(qū)域被設(shè)為第二區(qū)域,第一區(qū)域經(jīng)受交錯(cuò)曝光,在交錯(cuò)曝光中使用具有被設(shè)為掃描線間隔的N倍(N是二或者更大的整數(shù))的相鄰光束間隔的光束組,并且在交錯(cuò)曝光中在使得待被曝光的掃描線是不同的情況下,通過(guò)執(zhí)行掃描多次而順次地曝光在曝光的掃描線之間的未曝光掃描線;并且第二區(qū)域經(jīng)受非交錯(cuò)曝光,非交錯(cuò)曝光利用具有等于掃描線間隔的相鄰光束間隔的光束組來(lái)執(zhí)行雕刻。應(yīng)注意,在發(fā)明15中的第三曝光掃描控制裝置和第四曝光掃描控制裝置;和在發(fā)明16中的第五曝光掃描控制裝置和第六曝光掃描控制裝置;以及在發(fā)明17中的曝光掃描控制裝置,全部都被構(gòu)造為用于控制曝光頭和掃描裝置,并且因此能夠在物理上與第一曝光掃描控制裝置和第二曝光掃描控制裝置一起地利用共用控制電路來(lái)實(shí)現(xiàn)。(發(fā)明18)根據(jù)發(fā)明11到17之一的多光束曝光掃描設(shè)備,其特征在于該掃描裝置包括在其外周表面上保持對(duì)象物時(shí)旋轉(zhuǎn)的滾筒,和沿著滾筒的軸向方向移動(dòng)曝光頭的頭移動(dòng)裝置;并且在其中與滾筒的軸向方向平行的副掃描進(jìn)給被設(shè)置為通過(guò)頭移動(dòng)裝置進(jìn)行的間歇進(jìn)給的狀態(tài)中,執(zhí)行曝光掃描。在其中,通過(guò)滾筒的旋轉(zhuǎn)來(lái)執(zhí)行沿著主掃描方向的掃描,并且在其中,通過(guò)曝光頭沿著滾筒的軸向方向的運(yùn)動(dòng)執(zhí)行沿著副掃描方向的掃描的設(shè)備構(gòu)造中,采用其中副掃描進(jìn)給被設(shè)為間歇進(jìn)給的模式是可能的。(發(fā)明19)根據(jù)發(fā)明11到17之一的多光束曝光掃描設(shè)備,其特征在于該掃描裝置包括在其外周表面上保持記錄介質(zhì)時(shí)旋轉(zhuǎn)的滾筒,和沿著滾筒的軸向方向移動(dòng)曝光頭的頭移動(dòng)裝置;并且在其中與滾筒的軸向方向平行的副掃描進(jìn)給被設(shè)為連續(xù)進(jìn)給的狀態(tài)中, 執(zhí)行螺旋曝光掃描。在其中通過(guò)滾筒的旋轉(zhuǎn)來(lái)執(zhí)行沿著主掃描方向的掃描,并且其中通過(guò)曝光頭沿著滾筒的軸向方向的運(yùn)動(dòng)來(lái)執(zhí)行沿著副掃描方向的掃描的設(shè)備構(gòu)造中,采用其中副掃描進(jìn)給被設(shè)為連續(xù)進(jìn)給的模式是可能的。例如,能夠通過(guò)在滾筒以不變速度旋轉(zhuǎn)的同時(shí),以不變速度沿著副掃描方向進(jìn)給曝光頭,從而曝光沿著滾筒的周邊表面的螺旋掃描線。應(yīng)注意,沿著副掃描方向的進(jìn)給速率可以根據(jù)光束組的陣列形式而改變。(發(fā)明20)根據(jù)發(fā)明19的多光束曝光掃描設(shè)備,其特征在于該曝光頭具有如下的光束組布置,所述光束組被設(shè)置為使得在多次曝光相同掃描線中的之前的第一光束組和隨后的第二光束組之間提供了包括至少一個(gè)像素的間隙。根據(jù)這個(gè)模式,可以抑制在光束組之間的熱干擾。(發(fā)明21)—種印刷版的制造方法,其特征在于包括利用根據(jù)發(fā)明1到10中任何一項(xiàng)的多光束曝光掃描方法來(lái)雕刻相應(yīng)于對(duì)象物的板材的表面,以獲得印刷版。根據(jù)本發(fā)明,能夠以高速和高精度來(lái)制造印刷版,從而能夠提高生產(chǎn)率,并且能夠?qū)崿F(xiàn)成本降低。符號(hào)說(shuō)明
10..激光記錄設(shè)備,
11. 制版設(shè)備,
20..光源單元,
21A,21B...半導(dǎo)體激光器,
22A,22B,70A,70B. · ·光纖,
30..曝光頭,
40..曝光頭運(yùn)動(dòng)部,
50. 滾筒,
80. 控制電路,
300..光纖陣列部,
512..交錯(cuò)區(qū)域,
514..非交錯(cuò)區(qū)域,
F..板材,
K..掃描線
說(shuō)明書
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2權(quán)利要求
1.一種通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描以雕刻所述對(duì)象物的表面的多光束曝光掃描方法,所述方法包括利用第一光束組形成第一形狀的第一曝光掃描過(guò)程,所述第一形狀限定將在所述對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀和圍繞所述目標(biāo)平坦形狀的傾斜部的輪廓形狀;以及通過(guò)利用第二光束組曝光和掃描與在所述第一曝光掃描過(guò)程中曝光和掃描的掃描線相同的掃描線,從而形成第二形狀的第二曝光掃描過(guò)程,所述第二形狀限定所述目標(biāo)平坦形狀和圍繞所述目標(biāo)平坦形狀的傾斜部的最終形狀。
2.一種通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描以雕刻所述對(duì)象物的表面的多光束曝光掃描方法,所述方法包括第一曝光掃描過(guò)程,用于在將在所述對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀的邊緣部中,利用第一光束組形成沿著第一方向和不同于所述第一方向的第二方向中的一個(gè)方向的第一邊緣部;以及第二曝光掃描過(guò)程,用于在所述第一曝光掃描過(guò)程之后,利用第二光束組形成沿著不同于所述第一方向和所述第二方向中的所述一個(gè)方向的另一個(gè)方向的第二邊緣部。
3.—種通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描以雕刻所述對(duì)象物的表面的多光束曝光掃描方法,所述方法包括第一曝光掃描過(guò)程,用于利用第一光束組繪制和雕刻將在所述對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀的邊緣部的線圖,從而僅僅形成所述邊緣部;以及第二曝光掃描過(guò)程,用于在所述第一曝光掃描過(guò)程之后,通過(guò)利用第二光束組曝光和掃描所述線圖的外側(cè)區(qū)域而形成圍繞所述目標(biāo)平坦形狀的傾斜部。
4.一種通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描以雕刻所述對(duì)象物的表面的多光束曝光掃描方法,其特征在于當(dāng)將在所述對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀區(qū)域和所述目標(biāo)平坦形狀區(qū)域的周邊區(qū)域被設(shè)為第一區(qū)域,并且所述第一區(qū)域外側(cè)的區(qū)域被設(shè)為第二區(qū)域時(shí),所述第一區(qū)域經(jīng)受交錯(cuò)曝光,在所述交錯(cuò)曝光中使用具有被設(shè)為掃描線間隔的N倍(N 是二或者更大的整數(shù))的相鄰光束間隔的光束組,并且在所述交錯(cuò)曝光中在使得待被曝光的掃描線是不同的情況下,通過(guò)執(zhí)行掃描多次而順次地曝光在曝光的掃描線之間的未曝光掃描線,并且所述第二區(qū)域經(jīng)受非交錯(cuò)曝光,所述非交錯(cuò)曝光利用具有等于掃描線間隔的相鄰光束間隔的光束組來(lái)執(zhí)行雕刻。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的多光束曝光掃描方法,進(jìn)一步包括第三曝光掃描過(guò)程,用于在將在所述對(duì)象物的曝光表面上保留的所述目標(biāo)平坦形狀的邊緣部中,利用第三光束組形成沿著第一方向和不同于所述第一方向的第二方向中的一個(gè)方向的第一邊緣部;以及第四曝光掃描過(guò)程,用于在所述第三曝光掃描過(guò)程之后,利用第四光束組形成沿著不同于所述第一方向和所述第二方向中的所述一個(gè)方向的另一個(gè)方向的第二邊緣部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2和5之一的多光束曝光掃描方法,進(jìn)一步包括第五曝光掃描過(guò)程,用于利用第五光束組來(lái)繪制和雕刻將在所述對(duì)象物的曝光表面上保留的所述目標(biāo)平坦形狀的邊緣部的線圖,從而僅僅形成所述邊緣部;以及第六曝光掃描過(guò)程,用于在所述第五曝光掃描過(guò)程之后,利用第六光束組曝光和掃描所述線圖的外側(cè)區(qū)域,以形成圍繞所述目標(biāo)平坦形狀的傾斜部。
7.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、5和6之一的多光束曝光掃描方法,其特征在于當(dāng)將在所述對(duì)象物的曝光表面上保留的所述目標(biāo)平坦形狀區(qū)域和所述目標(biāo)平坦形狀區(qū)域的周邊區(qū)域被設(shè)為第一區(qū)域,并且所述第一區(qū)域外側(cè)的區(qū)域被設(shè)為第二區(qū)域時(shí),所述第一區(qū)域經(jīng)受交錯(cuò)曝光,在所述交錯(cuò)曝光中使用具有被設(shè)為掃描線間隔的N倍(N 是二或者更大的整數(shù))的相鄰光束間隔的光束組,并且在所述交錯(cuò)曝光中在使得待被曝光的掃描線是不同的情況下,通過(guò)執(zhí)行掃描多次而順次地曝光在曝光的掃描線之間的未曝光掃描線,并且所述第二區(qū)域經(jīng)受非交錯(cuò)曝光,所述非交錯(cuò)曝光利用具有等于掃描線間隔的相鄰光束間隔的光束組來(lái)執(zhí)行雕刻。
8.根據(jù)權(quán)利要求1到7之一的多光束曝光掃描方法,其特征在于所述對(duì)象物被保持在滾筒的外周表面上,并且將多個(gè)光束照射到與所述滾筒一起地旋轉(zhuǎn)的所述對(duì)象物的表面上的曝光頭被構(gòu)造為沿著所述滾筒的軸向方向自由地移動(dòng),從而在其中與所述滾筒的軸向方向平行的副掃描進(jìn)給被設(shè)為間歇進(jìn)給的狀態(tài)中來(lái)執(zhí)行曝光掃描。
9.根據(jù)權(quán)利要求1到7之一的多光束曝光掃描方法,其特征在于所述對(duì)象物被保持在滾筒的外周表面上,并且將多個(gè)光束照射到與所述滾筒一起地旋轉(zhuǎn)的所述對(duì)象物的表面上的曝光頭被構(gòu)造為沿著所述滾筒的軸向方向自由地移動(dòng),從而在其中與所述滾筒的軸向方向平行的副掃描進(jìn)給被設(shè)為連續(xù)進(jìn)給的狀態(tài)中來(lái)執(zhí)行螺旋曝光掃描。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的多光束曝光掃描方法,其特征在于使用一種曝光頭,在所述曝光頭中,所述光束組布置被設(shè)定為使得在對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光中的之前的第一光束組和隨后的第二光束組之間提供包括至少一個(gè)像素的間隙。
11.一種多光束曝光掃描設(shè)備,包括被構(gòu)造為通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而雕刻所述對(duì)象物的表面的曝光頭;掃描裝置,用于將所述對(duì)象物和所述曝光頭相對(duì)于彼此進(jìn)行移動(dòng),以對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描;利用第一光束組來(lái)實(shí)現(xiàn)第一曝光掃描操作以形成第一形狀的第一曝光掃描控制裝置, 所述第一形狀是由將在所述對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀和圍繞所述目標(biāo)平坦形狀的傾斜部所形成的輪廓形狀;以及第二曝光掃描控制裝置,用于通過(guò)利用第二光束組來(lái)曝光和掃描與在所述第一曝光掃描操作中曝光和掃描的掃描線相同的掃描線而實(shí)現(xiàn)第二曝光掃描操作以形成第二形狀,所述第二形狀限定所述目標(biāo)平坦形狀和圍繞所述目標(biāo)平坦形狀的傾斜部的最終形狀。
12.—種多光束曝光掃描設(shè)備,包括被構(gòu)造為通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而雕刻所述對(duì)象物的表面的曝光頭;掃描裝置,用于將所述對(duì)象物和所述曝光頭相對(duì)于彼此進(jìn)行移動(dòng),以對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描;第一曝光掃描控制裝置,用于在將在所述對(duì)象物的曝光表面上保留的平坦形狀的邊緣部中,利用第一光束組來(lái)實(shí)現(xiàn)第一曝光掃描操作,以形成沿著第一方向和不同于所述第一方向的第二方向中的一個(gè)方向的第一邊緣部;和第二曝光掃描控制裝置,用于在所述第一曝光掃描操作之后,利用第二光束組來(lái)實(shí)現(xiàn)第二曝光掃描操作,以形成沿著不同于所述第一方向和所述第二方向中的所述一個(gè)方向的另一個(gè)方向的第二邊緣部。
13.一種多光束曝光掃描設(shè)備,包括被構(gòu)造為通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而雕刻對(duì)象物的表面的曝光頭;掃描裝置,用于將所述對(duì)象物和所述曝光頭相對(duì)于彼此進(jìn)行移動(dòng),以對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描;第一曝光掃描控制裝置,用于實(shí)現(xiàn)第一曝光掃描操作,以利用第一光束組來(lái)繪制和雕刻將在所述對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀的邊緣部的線圖,從而僅僅形成所述邊緣部;以及第二曝光掃描控制裝置,用于在所述第一曝光掃描操作之后,通過(guò)利用第二光束組來(lái)曝光和掃描所述線圖的外側(cè)區(qū)域而實(shí)現(xiàn)第二曝光掃描操作,以形成圍繞所述目標(biāo)平坦形狀的傾斜部。
14.一種多光束曝光掃描設(shè)備,包括被構(gòu)造為通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而雕刻所述對(duì)象物的表面的曝光頭;掃描裝置,用于將所述對(duì)象物和所述曝光頭相對(duì)于彼此進(jìn)行移動(dòng),以對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描;和曝光掃描控制裝置,所述曝光掃描控制裝置以如下的方式控制所述曝光頭和所述掃描裝置,使得將在所述對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀區(qū)域和所述目標(biāo)平坦形狀區(qū)域的周邊區(qū)域被設(shè)為第一區(qū)域,并且所述第一區(qū)域外側(cè)的區(qū)域被設(shè)為第二區(qū)域,所述第一區(qū)域經(jīng)受交錯(cuò)曝光,在所述交錯(cuò)曝光中使用具有被設(shè)為掃描線間隔的N倍(N是二或者更大的整數(shù))的相鄰光束間隔的光束組,并且在所述交錯(cuò)曝光中在使得待被曝光的掃描線是不同的情況下,通過(guò)執(zhí)行掃描多次而順次地曝光在曝光的掃描線之間的未曝光掃描線;并且所述第二區(qū)域經(jīng)受非交錯(cuò)曝光,所述非交錯(cuò)曝光利用具有等于掃描線間隔的相鄰光束間隔的光束組來(lái)執(zhí)行雕刻。
15.根據(jù)權(quán)利要求11的多光束曝光掃描設(shè)備,進(jìn)一步包括第三曝光掃描控制裝置,用于在將在所述對(duì)象物的曝光表面上保留的所述平坦形狀的邊緣部中,利用第三光束組來(lái)實(shí)現(xiàn)第三曝光掃描操作,以形成沿著第一方向和不同于所述第一方向的第二方向中的一個(gè)方向的第一邊緣部;以及第四曝光掃描控制裝置,用于在所述第三曝光掃描操作之后,利用第四光束組來(lái)實(shí)現(xiàn)第四曝光掃描操作,以形成沿著不同于所述第一方向和所述第二方向中的所述一個(gè)方向的另一個(gè)方向的第二邊緣部。
16.根據(jù)權(quán)利要求11、12和15之一的多光束曝光掃描設(shè)備,進(jìn)一步包括第五曝光掃描控制裝置,用于利用第五光束組實(shí)現(xiàn)第五曝光掃描操作來(lái)繪制和雕刻將在所述對(duì)象物的曝光表面上保留的所述目標(biāo)平坦形狀的邊緣部的線圖,從而僅僅形成所述邊緣部;和第六曝光掃描控制裝置,用于在所述第五曝光掃描操作之后,利用第六光束組實(shí)現(xiàn)第六曝光掃描操作以曝光和掃描所述線圖的外側(cè)區(qū)域,以形成圍繞所述目標(biāo)平坦形狀的傾斜部。
17.根據(jù)權(quán)利要求11、12、13、15和16之一的多光束曝光掃描設(shè)備,進(jìn)一步包括曝光掃描控制裝置,所述曝光掃描控制裝置以如下方式控制所述曝光頭和所述掃描裝置,使得將在所述對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀區(qū)域和所述目標(biāo)平坦形狀區(qū)域的周邊區(qū)域被設(shè)為第一區(qū)域,并且所述第一區(qū)域外側(cè)的區(qū)域被設(shè)為第二區(qū)域,所述第一區(qū)域經(jīng)受交錯(cuò)曝光,在所述交錯(cuò)曝光中使用具有被設(shè)為掃描線間隔的N倍(N是二或者更大的整數(shù))的相鄰光束間隔的光束組,并且在所述交錯(cuò)曝光中在使得待被曝光的掃描線是不同的情況下,通過(guò)執(zhí)行掃描多次而順次地曝光在曝光的掃描線之間的未曝光掃描線;并且所述第二區(qū)域經(jīng)受非交錯(cuò)曝光,所述非交錯(cuò)曝光利用具有等于掃描線間隔的相鄰光束間隔的光束組來(lái)執(zhí)行雕刻。
18.根據(jù)權(quán)利要求11到17之一的多光束曝光掃描設(shè)備,其特征在于所述掃描裝置包括在其外周表面上保持所述對(duì)象物的同時(shí)旋轉(zhuǎn)的滾筒,和沿著所述滾筒的軸向方向移動(dòng)所述曝光頭的頭移動(dòng)裝置,并且在其中與所述滾筒的軸向方向平行的副掃描進(jìn)給被設(shè)為通過(guò)所述頭移動(dòng)裝置進(jìn)行的間歇進(jìn)給的狀態(tài)中來(lái)執(zhí)行曝光掃描。
19.根據(jù)權(quán)利要求11到17之一的多光束曝光掃描設(shè)備,其特征在于所述掃描裝置包括在其外周表面上保持所述對(duì)象物的同時(shí)旋轉(zhuǎn)的滾筒,和沿著所述滾筒的軸向方向移動(dòng)所述曝光頭的頭移動(dòng)裝置,并且在其中與所述滾筒的軸向方向平行的副掃描進(jìn)給被設(shè)為連續(xù)進(jìn)給的狀態(tài)中來(lái)執(zhí)行螺旋曝光掃描。
20.根據(jù)權(quán)利要求19的多光束曝光掃描設(shè)備,其特征在于所述曝光頭具有光束組布置,所述光束組布置被設(shè)置為使得在對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光中的之前的第一光束組和隨后的第二光束組之間提供了包括至少一個(gè)像素的間隙。
21.—種印刷版的制造方法,其特征在于包括利用根據(jù)權(quán)利要求1到10中任一項(xiàng)的多光束曝光掃描方法來(lái)雕刻相應(yīng)于所述對(duì)象物的板材的表面,以獲得印刷版。
全文摘要
本發(fā)明的一個(gè)方面提供一種通過(guò)利用多個(gè)光束同時(shí)地照射對(duì)象物而對(duì)相同掃描線進(jìn)行多次曝光和掃描以雕刻對(duì)象物的表面的多光束曝光掃描方法。所述方法包括利用第一光束組形成第一形狀(110)的第一曝光掃描過(guò)程,所述第一形狀限定將在對(duì)象物的曝光表面上保留的目標(biāo)平坦形狀(121)和圍繞目標(biāo)平坦形狀(121)的傾斜部(122)的輪廓形狀;以及第二曝光掃描過(guò)程,用于通過(guò)利用第二光束組來(lái)曝光和掃描與在第一曝光掃描過(guò)程中曝光和掃描的掃描線相同的掃描線而形成第二形狀(120),所述第二形狀限定目標(biāo)平坦形狀(121)和圍繞目標(biāo)平坦形狀(121)的傾斜部(122)的最終形狀。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102239449SQ200980148960
公開(kāi)日2011年11月9日 申請(qǐng)日期2009年12月3日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月5日
發(fā)明者宮川一郎 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社