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光波導(dǎo)和光波導(dǎo)形成用部材的制作方法

文檔序號(hào):2751791閱讀:192來(lái)源:國(guó)知局

專(zhuān)利名稱(chēng)::光波導(dǎo)和光波導(dǎo)形成用部材的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
:本發(fā)明涉及光波導(dǎo)和光波導(dǎo)形成用部材。
背景技術(shù)
:近年來(lái),通過(guò)使用光傳輸波移送數(shù)據(jù)的光通信變得越來(lái)越重要。在這種光通信中,采用光波導(dǎo)作為用于使光傳輸波從一個(gè)地點(diǎn)傳向另外地點(diǎn)的裝置。該光波導(dǎo),例如具有長(zhǎng)條狀的芯部和以包圍該芯部的方式設(shè)置的包覆部。芯部是以相對(duì)于光傳輸波的光在實(shí)質(zhì)上透明的材料來(lái)構(gòu)成;包覆部是以折射率低于芯部的材料來(lái)構(gòu)成。上述光波導(dǎo),通常設(shè)置于布線(xiàn)基板的表面上。并且,在該布線(xiàn)基板上,搭載有發(fā)光元件、受光元件,并且從發(fā)光元件射出的光信號(hào),經(jīng)過(guò)光波導(dǎo)傳輸而由受光元件予以接收。在近年來(lái),從布線(xiàn)基板的薄型化、低成本化等觀(guān)點(diǎn)出發(fā),在發(fā)光元件、受光元件中,表面安裝型元件在增加。在表面安裝型發(fā)光元件中,多數(shù)是發(fā)出垂直于布線(xiàn)基板的方向上進(jìn)行傳輸?shù)墓獾念?lèi)型的元件。因此,為了使光向沿著布線(xiàn)基板而設(shè)置的光波導(dǎo)入射,有必要使從發(fā)光元件射出的光的光路轉(zhuǎn)變90°。另一方面,在表面安裝型受光元件中,多數(shù)是對(duì)垂直于布線(xiàn)基板的方向上進(jìn)行傳輸?shù)墓膺M(jìn)行接收的類(lèi)型的元件,因此為了使從光波導(dǎo)射出的光向受光元件導(dǎo)入,有必要再次使從光波導(dǎo)射出的光的光路轉(zhuǎn)變90°。從上述要求出發(fā),已提出了一種光波導(dǎo),其在以往的光波導(dǎo)的中途,采用激光照射以在斜向上橫切芯部的方式開(kāi)孔,并且將相對(duì)于光波導(dǎo)面45°傾斜的孔的壁面作為微鏡(例如,參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。S卩,專(zhuān)利文獻(xiàn)1中所述的光波導(dǎo),具有以橫切芯部和包覆部的局部的方式進(jìn)行激光加工而成的孔,并且在該孔的壁面上露出的芯部和包覆部的切斷面成為微鏡。近年來(lái),從提高光通信品質(zhì)的觀(guān)點(diǎn)出發(fā),要求進(jìn)一步提高這種微鏡的面精度?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1日本特開(kāi)2005-284248號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于,提供一種具有光學(xué)性能高的鏡并且可進(jìn)行高品質(zhì)光通信的光波導(dǎo),以及用于形成所述光波導(dǎo)并且具有可容易形成光學(xué)性能高的鏡的鏡形成部的光波導(dǎo)形成用部材。另外,在采用激光加工來(lái)形成鏡的情況下,在加工鏡的加工面時(shí),能夠使加工速度比較均勻,因此能夠進(jìn)一步提高鏡的面精度。為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種光波導(dǎo),其具有長(zhǎng)條狀的芯部、以與該芯部相鄰接的方式設(shè)置的包覆部、以及4由對(duì)前述芯部的光軸的延長(zhǎng)線(xiàn)進(jìn)行斜向橫切的加工面構(gòu)成的鏡,其特征在于,前述鏡設(shè)置于前述芯部的延長(zhǎng)線(xiàn)上,并且在前述加工面上,只露出構(gòu)成前述芯部的材料以外的材料。基于上述本發(fā)明,具有由可均勻且高精度加工的材料露出的加工面構(gòu)成的鏡,能夠提供具有面精度和光學(xué)性能高的鏡的光波導(dǎo)。另外,在構(gòu)成包覆部的材料在鏡的加工面上露出的情形,構(gòu)成包覆部的材料,通常在材料選擇上自由度高,并且,在多數(shù)情況下是比構(gòu)成芯部的材料的耐熱性高的材料(或化學(xué)結(jié)構(gòu))。因此,通過(guò)在鏡的加工面上露出構(gòu)成包覆部的材料,能夠提高鏡的耐熱性。其結(jié)果是,能夠提供對(duì)焊錫回流等熱處理具有充分耐熱性的光波導(dǎo)。另外,在本發(fā)明的光波導(dǎo)中,優(yōu)選為在前述加工面上,只露出構(gòu)成前述包覆部中的至少一部分的材料。為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種光波導(dǎo),其具有含有長(zhǎng)條狀的芯部和以與該芯部的側(cè)面相鄰接的方式設(shè)置的側(cè)面包覆部的芯層、以?shī)A住該芯層的方式層疊的兩個(gè)包覆層、以及由對(duì)前述芯部的光軸的延長(zhǎng)線(xiàn)進(jìn)行斜向橫切的加工面構(gòu)成的鏡,其特征在于,前述鏡設(shè)置于前述芯部的延長(zhǎng)線(xiàn)上,并且在前述加工面的對(duì)應(yīng)于前述芯層的加工面上,只露出構(gòu)成前述側(cè)面包覆部的材料。另外,在本發(fā)明的光波導(dǎo)中,優(yōu)選為在前述加工面上,只露出構(gòu)成前述側(cè)面包覆部的材料和構(gòu)成前述兩個(gè)包覆層的材料。另外,在本發(fā)明的光波導(dǎo)中,優(yōu)選為構(gòu)成前述側(cè)面包覆部的材料,與構(gòu)成前述兩個(gè)包覆層的材料相同。另外,在本發(fā)明的光波導(dǎo)中,優(yōu)選為前述鏡和與前述鏡相鄰的前述芯部之間相離的距離,在前述芯部的光軸的延長(zhǎng)線(xiàn)上是5250μm。另外,在本發(fā)明的光波導(dǎo)中,優(yōu)選前述加工面通過(guò)激光加工來(lái)形成。另外,在本發(fā)明的光波導(dǎo)中,優(yōu)選前述光波導(dǎo)的前述芯部以降冰片烯類(lèi)聚合物作為主要材料來(lái)構(gòu)成。為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種光波導(dǎo)形成用部材,其用于形成光波導(dǎo),并且具有長(zhǎng)條狀的芯部、以與該芯部相鄰接的方式設(shè)置的包覆部、以及提供給用于形成鏡的加工的鏡形成部,其特征在于,前述鏡形成部,設(shè)置于前述芯部的延長(zhǎng)線(xiàn)上,并且是只由構(gòu)成前述芯部的材料以外的材料構(gòu)成的部位?;谏鲜霰景l(fā)明,能夠提供一種光波導(dǎo)形成用部材,所述光波導(dǎo)形成用部材具有由可均勻且高精度加工的材料露出的加工面構(gòu)成的鏡,因此,可容易地形成具有面精度和光學(xué)性能高的鏡的光波導(dǎo)。另外,在本發(fā)明的光波導(dǎo)形成用部材中,優(yōu)選為前述鏡形成部是只由構(gòu)成前述包覆部中的至少一部分的材料構(gòu)成的部位。為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種光波導(dǎo)形成用部材,其用于形成光波導(dǎo),并且具有含有長(zhǎng)條狀的芯部和以與該芯部的側(cè)面相鄰接的方式設(shè)置的側(cè)面包覆部的芯層、以?shī)A住該芯層的方式層疊的兩個(gè)包覆層、以及提供給用于形成鏡的加工的鏡形成部,其特征在于,前述鏡形成部是設(shè)置于前述芯部的延長(zhǎng)線(xiàn)上的部位,并且,在前述鏡形成部的對(duì)應(yīng)于所述芯層的部分,是只由構(gòu)成前述側(cè)面包覆部的材料構(gòu)成。另外,在本發(fā)明的光波導(dǎo)形成用部材中,優(yōu)選前述鏡形成部是只由構(gòu)成前述側(cè)面包覆部的材料和構(gòu)成前述兩個(gè)包覆層的材料構(gòu)成的部位。另外,在本發(fā)明的光波導(dǎo)形成用部材中,優(yōu)選前述用于形成鏡的加工是去除前述鏡形成部的一部分的加工。圖1是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的實(shí)施方式的(局部透視)立體圖。圖2是表示從上方觀(guān)察圖1的光波導(dǎo)時(shí)的平面圖。圖3是表示圖2所示的光波導(dǎo)的A-A線(xiàn)剖面圖。圖4是示意性表示圖1所示的光波導(dǎo)的制造方法的工序示例的剖面圖。圖5是示意性表示圖1所示的光波導(dǎo)的制造方法的工序示例的剖面圖。圖6是示意性表示圖1所示的光波導(dǎo)的制造方法的工序示例的剖面圖。圖7是示意性表示圖1所示的光波導(dǎo)的制造方法的工序示例的剖面圖。圖8是示意性表示圖1所示的光波導(dǎo)的制造方法的工序示例的剖面圖。圖9是表示從其它角度觀(guān)察圖8所示的光波導(dǎo)形成用部材的立體圖(局部透視)。圖10是示意性表示圖1所示的光波導(dǎo)的制造方法的工序示例的剖面圖。圖11是表示以往的光波導(dǎo)的(局部透視)立體圖。圖12是表示從上方觀(guān)察圖11的光波導(dǎo)時(shí)的平面圖。圖13是表示圖12所示的光波導(dǎo)的X-X線(xiàn)剖面圖。圖14是針對(duì)實(shí)施例和各比較例所獲得的試樣,以鏡的角度為橫軸并且以求出的插入損耗為縱軸時(shí)的散布圖。具體實(shí)施例方式下面,針對(duì)本發(fā)明的光波導(dǎo)和光波導(dǎo)形成用部材,基于附圖所示的適宜的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。圖1是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的實(shí)施方式(局部透視)的立體圖,圖2是從上方觀(guān)察圖1的光波導(dǎo)時(shí)的平面圖,圖3是圖2所示的光波導(dǎo)的A-A線(xiàn)剖面圖。此外,在本說(shuō)明書(shū)中,稱(chēng)圖1、3中的上側(cè)為“上”、稱(chēng)下側(cè)為“下”。圖1所示的光波導(dǎo)10,是從圖1中的下側(cè)出發(fā)依次將包覆層11、芯層13和包覆層12進(jìn)行層疊而成的。另外,在光波導(dǎo)10的一側(cè)端部附近設(shè)置有鏡形成部155,所述鏡形成部155中形成有鏡17。此外,在本實(shí)施方式中,該鏡形成部155是由包覆層11的一部分、側(cè)面包覆部15的一部分和包覆層12的一部分的層疊體來(lái)構(gòu)成。下面,針對(duì)芯層13和各包覆層11、12進(jìn)行詳述。在芯層13中,形成有長(zhǎng)條狀的芯部14和以覆蓋該芯部14的側(cè)面以及一側(cè)端部的方式與芯部14相鄰接的側(cè)面包覆部15。S卩,芯部14,是由包覆部16所覆蓋,所述包覆部16由位于芯部14下方的包覆層11、位于芯部14上方的包覆層12和位于芯部14側(cè)邊的側(cè)面包覆部15構(gòu)成。此外,在圖13中,只在芯層13中帶有點(diǎn),其中,在芯部14中帶有相對(duì)密的點(diǎn)而在側(cè)面包覆部15中則帶有相對(duì)疏的點(diǎn)。另外,在圖1、2中,通過(guò)透過(guò)包覆層12的方式來(lái)進(jìn)行表示。為了在芯部14與包覆部16的界面上發(fā)生全反射,有必要在界面上存在折射率差。芯部14的折射率高于包覆部16的折射率,并且對(duì)其差沒(méi)有特別限定,但優(yōu)選為0.5%以上,更優(yōu)選為0.8%以上。此外,折射率差的上限值,并沒(méi)有特別設(shè)定,但優(yōu)選為5.5%左右。若折射率差低于前述下限值,則有時(shí)光傳輸?shù)男Ч档?;另外,若超過(guò)前述上限值,則不能期望光的傳輸效果會(huì)比上述有進(jìn)一步的增大。此外,當(dāng)設(shè)定芯部14的折射率為A、包覆部16的折射率為B時(shí),前述折射率差由下式表不。折射率差(%)=(A/B-l)X100另外,在圖1所示的構(gòu)成中,芯部14在俯視下形成為直線(xiàn)狀,但可以在途中發(fā)生彎曲、分叉等,其形狀為任意。另外,芯部14所形成的橫剖面形狀是諸如正方形或矩形(長(zhǎng)方形)等的四方形。對(duì)于芯部14的寬度和高度并沒(méi)有特別限定,但分別優(yōu)選為1200μm左右,更優(yōu)選為5100μm左右,進(jìn)一步優(yōu)選為1060μm左右。對(duì)于上述芯部14和包覆部16的各構(gòu)成材料,只要是分別可產(chǎn)生上述折射率差的材料就沒(méi)有特別限定,但具體而言,能夠使用丙烯酸類(lèi)樹(shù)脂、甲基丙烯酸類(lèi)樹(shù)脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、環(huán)氧樹(shù)脂、聚酰胺、聚酰亞胺、聚苯并噁唑、聚硅烷、聚硅氮烷、以及苯并環(huán)丁烯類(lèi)樹(shù)脂、降冰片烯類(lèi)樹(shù)脂等環(huán)狀烯烴類(lèi)樹(shù)脂等的各種樹(shù)脂材料;除此之外,還有諸如石英玻璃、硼硅酸玻璃等玻璃材料等。在本實(shí)施方式中,對(duì)芯層13而言,芯部14和側(cè)面包覆部15是由相同的基質(zhì)材料(基本成分)來(lái)構(gòu)成,并且芯部14與側(cè)面包覆部15的折射率差,是根據(jù)各構(gòu)成材料的化學(xué)結(jié)構(gòu)的差異來(lái)體現(xiàn)。為了通過(guò)化學(xué)結(jié)構(gòu)的差異來(lái)體現(xiàn)折射率差,作為芯部14和側(cè)面包覆部15的各構(gòu)成材料,優(yōu)選使用折射率在諸如紫外線(xiàn)、電子射線(xiàn)等活性能量線(xiàn)的照射(或通過(guò)進(jìn)一步加熱)下而發(fā)生變化的材料。作為如此的折射率產(chǎn)生變化的材料,例如,可以舉出基于活性能量線(xiàn)的照射或加熱,使至少一部分鍵切斷,或者使至少一部分官能團(tuán)脫離等,可使化學(xué)結(jié)構(gòu)發(fā)生變化的材料。具體而言,作為聚硅烷(例如聚甲基苯基硅烷)、聚硅氮烷(例如全氫聚硅氮烷)等的硅烷類(lèi)樹(shù)脂、成為諸如前述伴隨著結(jié)構(gòu)變化的材料的基質(zhì)的樹(shù)脂,可以舉出,在分子的側(cè)鏈或末端具有官能團(tuán)的下面的(1)(6)的樹(shù)脂。(1)加成(共)聚合降冰片烯型單體所獲得的降冰片烯型單體的加成(共)聚合物;(降冰片烯型單體與乙烯、α-烯烴類(lèi)的加成共聚物;C3)降冰片烯型單體與非共軛二烯、以及根據(jù)需要的其它單體的加成共聚物;(4)降冰片烯型單體的開(kāi)環(huán)(共)聚合物、以及根據(jù)需要對(duì)該(共)聚合物進(jìn)行氫化的樹(shù)脂;(5)降冰片烯型單體與乙烯、α-烯烴類(lèi)的開(kāi)環(huán)共聚物、以及根據(jù)需要對(duì)該(共)聚合物進(jìn)行氫化的樹(shù)脂;(6)降冰片烯型單體與非共軛二烯、或與其它單體的開(kāi)環(huán)共聚物、以及根據(jù)需要對(duì)該(共)聚合物進(jìn)行氫化的樹(shù)脂等的降冰片烯類(lèi)樹(shù)脂,除此之外,通過(guò)聚合光固化反應(yīng)性單體所獲得的丙烯酸類(lèi)樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂。此外,其中,特別優(yōu)選降冰片烯類(lèi)樹(shù)脂。這些降冰片烯類(lèi)聚合物,例如,能夠采用開(kāi)環(huán)復(fù)分解聚合(ROMP)、ROMP與氫化反應(yīng)的組合、通過(guò)自由基或陽(yáng)離子進(jìn)行的聚合、使用陽(yáng)離子性鈀聚合引發(fā)劑的聚合、使用其它聚合引發(fā)劑(例如,鎳或其它的過(guò)渡金屬的聚合引發(fā)劑)的聚合等的公知的所有聚合方法來(lái)獲得。另一方面,包覆層11和12,分別構(gòu)成位于芯部14的下部和上部的包覆部。基于這種構(gòu)成,芯部14可作為其外周以包覆部16包圍的導(dǎo)光路而發(fā)揮功能。包覆層11、12的平均厚度,優(yōu)選為芯層13的平均厚度(芯部14的平均高度)的0.11.5倍左右,更優(yōu)選為0.21.25倍左右,具體而言,對(duì)于包覆層11、12的平均厚度,并沒(méi)有特別限定,但通常分別優(yōu)選為1200μm左右,更優(yōu)選為5100μm左右,進(jìn)一步優(yōu)選為1060μπι左右。由此,在防止光波導(dǎo)10所不需要的大型化(厚膜化)的同時(shí),適于發(fā)揮作為包覆層的功能。另外,作為包覆層11和12的構(gòu)成材料,例如,能夠使用與前述芯層13的構(gòu)成材料相同的材料,但特別優(yōu)選為降冰片烯類(lèi)聚合物。此外,在本實(shí)施方式中,在芯層13的構(gòu)成材料與包覆層11、12的構(gòu)成材料之間,可考慮兩者間的折射率差而適當(dāng)?shù)剡x擇使用不同材料。因此,可選擇能夠產(chǎn)生在芯層13與包覆層11、12之間的邊界上確實(shí)地使光進(jìn)行全反射所需的足夠的折射率差的材料。由此,在光波導(dǎo)10的厚度方向上可獲得足夠的折射率差,能夠抑制光由芯部14向包覆層11、12漏出。其結(jié)果是,能夠抑制傳輸在芯部14的光的衰減。此外,從抑制光的衰減的觀(guān)點(diǎn)出發(fā),優(yōu)選芯層13與包覆層11、12之間的粘附性高。因此,對(duì)于包覆層11、12的構(gòu)成材料而言,只要是滿(mǎn)足折射率低于芯層13的構(gòu)成材料且與芯層13的構(gòu)成材料的粘附性高的條件即可,可以采用任意材料。例如,作為具有較低折射率的降冰片烯類(lèi)聚合物,優(yōu)選含有具有在末端包含環(huán)氧結(jié)構(gòu)的取代基的降冰片烯的重復(fù)單元的降冰片烯類(lèi)聚合物。這樣的降冰片烯類(lèi)聚合物,特別是,具有低的折射率并且粘附性良好。此外,優(yōu)選降冰片烯類(lèi)聚合物,含有烷基降冰片烯的重復(fù)單元。含有烷基降冰片烯的重復(fù)單元的降冰片烯類(lèi)聚合物的柔軟性高,因此,通過(guò)使用這樣的降冰片烯類(lèi)聚合物,可賦予光波導(dǎo)10高柔軟性(撓性)。作為烷基降冰片烯的重復(fù)單元所具有的烷基,例如,可以舉出丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基等,但特別優(yōu)選為己基。此外,這些烷基,可以是直鏈狀或支鏈狀。通過(guò)含有己基降冰片烯的重復(fù)單元,能夠防止降冰片烯類(lèi)聚合物的整體的折射率的上升。并且,具有己基降冰片烯的重復(fù)單元的降冰片烯類(lèi)聚合物,對(duì)前述波長(zhǎng)區(qū)域(特別是,850nm附近的波長(zhǎng)區(qū)域)的光的透過(guò)率優(yōu)良,因而優(yōu)選。上述本發(fā)明的光波導(dǎo)10,根據(jù)芯部14的材料的光學(xué)特性等不同而存在若干差別,并沒(méi)有特別限定,例如,適宜應(yīng)用于采用6001550nm左右的波長(zhǎng)區(qū)域的光的數(shù)據(jù)通信中。在此,如前面所述,在本實(shí)施方式中,鏡形成部155設(shè)定于包覆層11、芯層13和包覆層12的層疊體的一側(cè)端部附近。換言之,如圖2所示,光波導(dǎo)10的一側(cè)端部是由鏡形成部155占有,并且通過(guò)該鏡形成部155遮擋著芯部14。并且,在該鏡形成部155內(nèi)設(shè)置有鏡17。鏡17,是以在厚度方向上貫穿一部分鏡形成部155的方式來(lái)形成V字狀凹部170并由該凹部170的一部分側(cè)面(加工面)所構(gòu)成的鏡。該側(cè)面形成平面狀,相對(duì)于芯部14的軸線(xiàn)M傾斜45°。即,鏡17是以斜向45°橫切芯部14的軸線(xiàn)M的延長(zhǎng)線(xiàn)的方式來(lái)形成。此外,從發(fā)光元件S出發(fā)進(jìn)行觀(guān)察時(shí),鏡形成部155的寬度和長(zhǎng)度以包含凹部170的寬度和長(zhǎng)度的方式來(lái)進(jìn)行設(shè)定。由此,在鏡17上,整個(gè)地,鏡形成部155露出,從而確實(shí)地實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的。另外,在本實(shí)施方式中,凹部170的兩個(gè)側(cè)面中只有一側(cè)(與芯部14相鄰的一側(cè))在作為鏡17發(fā)揮功能,因此可以省略另一側(cè)。在這種光波導(dǎo)10中,如圖3的箭頭所示,從光波導(dǎo)10的下方所設(shè)置的發(fā)光元件S射出的光,在鏡17上發(fā)生反射而能夠向芯部14入射。即,所照射的光經(jīng)過(guò)鏡17使光路轉(zhuǎn)變90°。入射于芯部14中的光,在芯部14與包覆部16的界面上重復(fù)發(fā)生全反射并且向射出側(cè)傳輸。然后,在未圖示的射出端側(cè)對(duì)光進(jìn)行接收,并且基于該光的明滅圖案能夠進(jìn)行光通信。此外,上述光路能夠使光向相反方向傳輸。在圖1所示的鏡17上露出鏡形成部155,更具體而言,從發(fā)光元件S側(cè)出發(fā),構(gòu)成包覆層11的材料的露出面171、構(gòu)成側(cè)面包覆部15的材料的露出面173以及構(gòu)成包覆層12的材料的露出面172,按所述順序進(jìn)行并列(參照?qǐng)D2和圖3)。上述各露出面171、173、172均只露出除構(gòu)成芯部14的材料(芯材料)以外的材料,即,只露出構(gòu)成包覆部16的材料(包覆材料),并且通過(guò)使該材料與外部氣體環(huán)境(空氣)相鄰接,在接觸界面上產(chǎn)生折射率差。在鏡17上,基于該折射率差能夠使光發(fā)生反射。另外,當(dāng)向鏡17照射光時(shí),來(lái)自半導(dǎo)體激光器、發(fā)光二極管等發(fā)光元件S所照射的光的擴(kuò)展?fàn)顟B(tài),通常是以光軸為中心來(lái)均等擴(kuò)展的圓錐狀圖案。因此,有最大的光量照射在位于鏡17厚度方向上的中央部的露出面173上。因而,鏡17的光學(xué)性能受到露出面173的面精度的影響大。在此,針對(duì)以往的光波導(dǎo)進(jìn)行說(shuō)明。圖11是表示以往的光波導(dǎo)(局部透視)的立體圖,圖12是從上方觀(guān)察圖11的光波導(dǎo)時(shí)的平面圖,圖13是圖12所示的光波導(dǎo)的X-X線(xiàn)剖面圖。此外,在本說(shuō)明書(shū)中,將圖11、13中的上側(cè)稱(chēng)為“上”、下側(cè)稱(chēng)為“下”。圖11所示的以往的光波導(dǎo)90,除了芯層93的結(jié)構(gòu)不同以外,與圖1所示的光波導(dǎo)10相同。如圖1113所示,在以往的光波導(dǎo)90中,通常是在芯層93中以露出芯部94的9全部橫剖面和側(cè)面包覆部95(包覆部96)的一部分橫剖面的方式形成鏡97。該鏡97,是通過(guò)對(duì)芯層93以橫切芯部94的全部和包覆部96在寬度方向上的一部分的方式挖掘加工V字狀凹部970,作為凹部970的兩個(gè)側(cè)面中的一個(gè)側(cè)面而形成。此外,在圖1113中,只在芯層93上附有點(diǎn),其中,在芯部94中附有相對(duì)密集的點(diǎn),而在側(cè)面包覆部95和鏡形成部155中附有相對(duì)疏松的點(diǎn)。另外,在圖11、12中,通過(guò)透過(guò)包覆層12的方式來(lái)進(jìn)行表示。然而,在以往的光波導(dǎo)90中,存在所謂鏡97的面精度低的課題。本發(fā)明人發(fā)現(xiàn),關(guān)于該課題的原因在于,在挖掘加工凹部970時(shí),加工芯部94時(shí)的加工速度與加工包覆部96時(shí)的加工速度不同。若加工速度不同,例如在嘗試橫切芯部94和包覆部96的一部分來(lái)形成平面狀的鏡97時(shí),則該加工速度差會(huì)對(duì)加工結(jié)果產(chǎn)生影響,不能形成作為目標(biāo)形狀的鏡97。作為產(chǎn)生這種加工速度差的原因之一,可以舉出芯部94的構(gòu)成材料與包覆部96的構(gòu)成材料之間的化學(xué)結(jié)構(gòu)的差異。作為結(jié)果,若以往不進(jìn)行補(bǔ)充加工,則難以獲得面精度和光學(xué)性能高的鏡97。與此相對(duì),如圖1所示,在本發(fā)明中,鏡17形成于只由包覆材料構(gòu)成的鏡形成部155內(nèi)。因此,如前面所述,鏡17由三種材料的露出面171、173、172所構(gòu)成。在上述鏡17中,露出面173上只露出構(gòu)成側(cè)面包覆部15的材料(如圖11所示,以往露出了構(gòu)成芯部94的材料和構(gòu)成包覆部96的材料這兩種),因此,在該露出面173內(nèi)不產(chǎn)生加工速度差。因而,至少在該露出面173內(nèi),能夠容易且均勻地形成作為目標(biāo)形狀的鏡17,而且能夠在不進(jìn)行補(bǔ)充加工的情況下獲得面精度(表面粗糙度、面內(nèi)均勻性等)和光學(xué)性能高的鏡17。其結(jié)果是,獲得由鏡17所引起的損失小且傳輸效率高的高品質(zhì)光波導(dǎo)10。此外,如前面所述,在鏡17中位于厚度方向中央部的露出面173,照射有最大光量并且支配著鏡17的光學(xué)性能,因此,至少在提高露出面173的面精度(表面粗糙度、面內(nèi)均勻性等)時(shí),可以大大提升鏡17整體的光學(xué)性能。另外,在圖1所示的鏡17中,除了構(gòu)成側(cè)面包覆部15的材料之外,還露出了構(gòu)成包覆層11的材料和構(gòu)成包覆層12的材料。若將包覆層11和包覆層12的各構(gòu)成材料和各化學(xué)結(jié)構(gòu),設(shè)定為與側(cè)面包覆部15相同,則不僅在露出面173中而且在鏡17的整個(gè)面中,都不會(huì)在加工時(shí)產(chǎn)生加工速度差,因此,可進(jìn)一步提高鏡17的面精度和光學(xué)性能。此外,即使包覆層11和包覆層12的各構(gòu)成材料和各化學(xué)結(jié)構(gòu)與側(cè)面包覆部15的完全不同,但由于兩者都是包覆部,所以物理性質(zhì)會(huì)比較類(lèi)似。因而,與以往那樣芯材料和包覆材料在鏡上露出的情況相比,不論設(shè)定成何者,都能格外減小加工速度差,并且能夠提高鏡17的面精度和光學(xué)性能。另外,在本實(shí)施方式中,鏡形成部155是由側(cè)面包覆部15的構(gòu)成材料和各包覆部11、12的構(gòu)成材料所構(gòu)成,但這些包覆材料通常多數(shù)情況下材料的選擇自由度高并且是耐熱性高于芯材料的材料(或耐熱性高的化學(xué)結(jié)構(gòu))。因此,包覆材料露出的鏡17,成為耐熱性高于以往的鏡。其結(jié)果是,例如,當(dāng)對(duì)搭載有光波導(dǎo)10的基板施加焊錫回流等熱處理時(shí),能防止因熱的影響而在鏡17上產(chǎn)生變形等缺陷。此外,當(dāng)包覆材料和芯材料是相同材料而只是化學(xué)結(jié)構(gòu)不同時(shí),由于包覆材料的耐熱性高于芯材料,所以從相關(guān)觀(guān)點(diǎn)出發(fā),基于本發(fā)明也能容易獲得耐熱性高的鏡17。另外,如上所述,若在鏡17上露出的材料只是包覆材料,則鏡17的面內(nèi)各部中的熱膨脹特性也成為均勻(或相近的值)。因而,在使光長(zhǎng)時(shí)間地向光波導(dǎo)10內(nèi)入射并且在鏡17上蓄積熱量時(shí),各部的熱膨脹特性均勻(或是相近的值),也能防止鏡17隨著熱膨脹發(fā)生明顯變形。因此,基于本發(fā)明能獲得可抑制光學(xué)性能隨著時(shí)間經(jīng)過(guò)而發(fā)生變化的光波導(dǎo)10。在上述鏡17上,當(dāng)光如圖3中的箭頭所示從光波導(dǎo)10的下方所設(shè)置的發(fā)光元件S向上方照射時(shí),照射光依次透過(guò)包覆層11和側(cè)面包覆部15,然后在鏡17上得到反射。在反射后,該反射光通過(guò)側(cè)面包覆部15(鏡形成部155)與芯部14的界面145而向芯部14入射。在鏡17上得到反射后至界面145為止的距離,若過(guò)長(zhǎng)則光向各包覆層11、12漏出的概率升高,另一方面,若過(guò)短則前述的芯部14對(duì)鏡17產(chǎn)生的影響的概率升高,存在前述的鏡17的加工均勻性和耐熱性降低的顧慮。從上述觀(guān)點(diǎn)出發(fā),在芯部14的軸線(xiàn)M上的鏡17與界面145相離的距離,優(yōu)選為5250μm左右,更優(yōu)選為10200μm左右。另外,根據(jù)需要可在鏡17上形成反射膜。作為該反射膜,例如,可以舉出Au、Ag、Al等的金屬膜或者折射率低于鏡形成部155的折射率的材料的膜等。作為金屬膜的制造方法,例如,可以舉出諸如真空蒸鍍等物理蒸鍍法,諸如CVD(ChemicalVaporDeposition)等化學(xué)氣相沉積法,鍍覆法等。另外,圖13所示的凹部170,是以分別貫穿包覆層12、芯層13和包覆層11的方式來(lái)形成,但只要至少貫穿芯層13即可,可不必貫穿包覆層11。此外,前面記載過(guò)在鏡17上只露出構(gòu)成包覆部16的材料(包覆材料),但對(duì)該要件而言,只要在鏡17內(nèi)相當(dāng)于照射光的有效直徑的區(qū)域(實(shí)質(zhì)上參與光通信的區(qū)域)中滿(mǎn)足即可,即使在有效直徑以外的區(qū)域中存在不滿(mǎn)足上述必要條件的部位,在本發(fā)明發(fā)揮效果方面也沒(méi)有特別妨礙。接著,針對(duì)光波導(dǎo)10的制造方法的一個(gè)示例進(jìn)行說(shuō)明。光波導(dǎo)10是通過(guò)分別制作包覆層11、芯層13和包覆層12并將它們進(jìn)行層疊來(lái)制造的。在上述制造方法中,需要使折射率相異的部位以物理的并且光學(xué)的相接方式進(jìn)行制作。具體而言,需要使側(cè)面包覆部15或各包覆層11、12相對(duì)于芯部14以沒(méi)有間隙介入并且確實(shí)進(jìn)行粘合的方式來(lái)形成。作為芯層13的具體制造方法,只要是可在同一層(芯層13)內(nèi)形成芯部14和側(cè)面包覆部15的方法,就沒(méi)有特別限定。作為該方法,例如,可以舉出光漂白法、光刻法、直接曝光法、納米壓印法、單體擴(kuò)散法等。在此,作為代表,說(shuō)明包括單體擴(kuò)散法的光波導(dǎo)10的制造方法。圖4圖10分別是示意性表示圖1中所示的光波導(dǎo)10的制造方法的工序示例的剖面圖。此外,圖4圖8分別是表示與光波導(dǎo)的芯部的軸線(xiàn)正交的寬度方向上的橫剖面的圖,圖10是表示沿著與光波導(dǎo)的芯部軸線(xiàn)平行的方向上的縱剖面的圖。[1]首先,在支撐基板161上形成層110(參照?qǐng)D4)。層110是通過(guò)涂布芯層形成用材料(清漆)100并使其固化(硬化)的方法而形成。具體而言,層110是通過(guò)下述方法形成在支撐基板161上涂布芯層形成用材料100而形成液狀覆膜,然后將該支撐基板161置于予以通風(fēng)換氣的水平臺(tái)(leveltable)上,使液狀覆膜表面的不均勻部分進(jìn)行水平化,同時(shí)使溶劑蒸發(fā)(脫溶劑)。當(dāng)采用涂布法形成層110時(shí),所述涂布方法,例如,可以舉出,刮涂法、旋涂法、浸涂法、臺(tái)式涂敷法(f一二一卜法)、噴霧法、敷抹器法、簾式涂敷法、模壓涂層(diecoating)法等方法,但并不局限于這些。對(duì)于支撐基板161,例如,可采用硅基板、二氧化硅基板、玻璃基板、石英基板、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜等。芯層形成用材料100,是含有由聚合物115和添加劑120(至少含有單體和催化劑)構(gòu)成的顯影性材料,通過(guò)活性放射線(xiàn)的照射以及加熱而在聚合物115中發(fā)生單體反應(yīng)的材料。并且,在所獲得的層110中,聚合物(基質(zhì))115都在實(shí)質(zhì)上均勻且隨機(jī)地得到分配,添加劑120實(shí)質(zhì)上均勻且隨機(jī)地分散于聚合物115中。由此,添加劑120實(shí)質(zhì)上均勻且隨機(jī)地分散于層110中。這種層110的平均厚度,可根據(jù)要形成的芯層13的厚度進(jìn)行適當(dāng)設(shè)定,并沒(méi)有特別限定,但優(yōu)選為1200μm左右,更優(yōu)選為5IOOym左右,進(jìn)一步優(yōu)選為1060μm左右ο作為聚合物115,優(yōu)選使用透明性足夠高(是無(wú)色透明)并且對(duì)后述單體具有相溶性的聚合物,更優(yōu)選使用在其中如后面所述地單體可進(jìn)行反應(yīng)(聚合反應(yīng)、交聯(lián)反應(yīng))并且即使單體聚合后也具有充分透明性的聚合物。在此,所謂“具有相溶性”,是指至少混和單體后在芯層形成用材料100中、層110中不發(fā)生與聚合物115相分離的情形。作為這種聚合物115,可以舉出前述芯層13的構(gòu)成材料。此外,當(dāng)作為聚合物115使用降冰片烯類(lèi)聚合物時(shí),該聚合物具有高的疏水性,因此能夠獲得難以因吸水導(dǎo)致尺寸變化等的芯層13。另外,作為降冰片烯類(lèi)聚合物,可以是具有單獨(dú)的重復(fù)單元的聚合物(均聚物)、具有兩個(gè)以上的降冰片烯類(lèi)重復(fù)單元的聚合物(共聚物)的任意種。其中,作為共聚物的示例之一,優(yōu)選使用具有下式(1)所示的重復(fù)單元的化合物。權(quán)利要求1.一種光波導(dǎo),其具有長(zhǎng)條狀的芯部、以與該芯部相鄰接的方式設(shè)置的包覆部、以及由對(duì)所述芯部的光軸的延長(zhǎng)線(xiàn)進(jìn)行斜向橫切的加工面構(gòu)成的鏡,其特征在于,所述鏡設(shè)置于所述芯部的延長(zhǎng)線(xiàn)上,并且,在所述加工面上,只露出構(gòu)成所述芯部的材料以外的材料。2.如權(quán)利要求1所述的光波導(dǎo),其中,在所述加工面上,只露出構(gòu)成所述包覆部中的至少一部分的材料。3.一種光波導(dǎo),其具有含有長(zhǎng)條狀的芯部和以與該芯部的側(cè)面相鄰接的方式設(shè)置的側(cè)面包覆部的芯層、以?shī)A住該芯層的方式層疊的兩個(gè)包覆層、以及由對(duì)所述芯部的光軸的延長(zhǎng)線(xiàn)進(jìn)行斜向橫切的加工面構(gòu)成的鏡,其特征在于,所述鏡設(shè)置于所述芯部的延長(zhǎng)線(xiàn)上,并且,在所述加工面的對(duì)應(yīng)于所述芯層的加工面上,只露出構(gòu)成所述側(cè)面包覆部的材料。4.如權(quán)利要求3所述的光波導(dǎo),其中,在所述加工面上,只露出構(gòu)成所述側(cè)面包覆部的材料和構(gòu)成所述兩個(gè)包覆層的材料。5.如權(quán)利要求3所述的光波導(dǎo),其中,構(gòu)成所述側(cè)面包覆部的材料,與構(gòu)成所述兩個(gè)包覆層的材料相同。6.如權(quán)利要求5所述的光波導(dǎo),其中,所述鏡和與所述鏡相鄰的所述芯部之間相離的距離,在所述芯部的光軸的延長(zhǎng)線(xiàn)上是5250μm。7.如權(quán)利要求6所述的光波導(dǎo),其中,所述加工面通過(guò)激光加工來(lái)形成。8.如權(quán)利要求7所述的光波導(dǎo),其中,所述光波導(dǎo)的所述芯部,以降冰片烯類(lèi)聚合物作為主要材料來(lái)構(gòu)成。9.一種光波導(dǎo)形成用部材,其用于形成光波導(dǎo),并且具有長(zhǎng)條狀的芯部、以與該芯部相鄰接的方式設(shè)置的包覆部、以及提供給用于形成鏡的加工的鏡形成部,其特征在于,所述鏡形成部,設(shè)置于所述芯部的延長(zhǎng)線(xiàn)上,并且,是只由構(gòu)成所述芯部的材料以外的材料構(gòu)成的部位。10.如權(quán)利要求9所述的光波導(dǎo)形成用部材,其中,所述鏡形成部,是只由構(gòu)成所述包覆部中的至少一部分的材料構(gòu)成的部位。11.一種光波導(dǎo)形成用部材,其用于形成光波導(dǎo),并且具有含有長(zhǎng)條狀的芯部和以與該芯部的側(cè)面相鄰接的方式設(shè)置的側(cè)面包覆部的芯層、以?shī)A住該芯層的方式層疊的兩個(gè)包覆層、以及提供給用于形成鏡的加工的鏡形成部,其特征在于,所述鏡形成部是設(shè)置于所述芯部的延長(zhǎng)線(xiàn)上的部位,并且,在所述鏡形成部的對(duì)應(yīng)于所述芯層的部分,是只由構(gòu)成所述側(cè)面包覆部的材料構(gòu)成。12.如權(quán)利要求11所述的光波導(dǎo)形成用部材,其中,所述鏡形成部,是只由構(gòu)成所述側(cè)面包覆部的材料和構(gòu)成所述兩個(gè)包覆層的材料構(gòu)成的部位。13.如權(quán)利要求9所述的光波導(dǎo)形成用部材,其中,所述用于形成鏡的加工,是去除所述鏡形成部的一部分的加工。全文摘要本發(fā)明的光波導(dǎo)是從下側(cè)開(kāi)始按順序?qū)盈B有包覆層、芯層和包覆層而成,并且在芯層中形成有芯部和以從側(cè)面夾住該芯部的方式與該芯部相鄰接的兩個(gè)側(cè)面包覆部。另外,芯部左側(cè)的端部由側(cè)面包覆部的一部分遮擋,并且通過(guò)由該側(cè)面包覆部的一部分和位于其上下的各包覆層的一部分所形成的部分來(lái)構(gòu)成鏡形成部。在該鏡形成部上施行挖掘加工而形成凹部,并且該凹部的內(nèi)面成為鏡。在該鏡上露出構(gòu)成芯部的材料之外的材料,即,露出各包覆層的材料和側(cè)面包覆部的材料。文檔編號(hào)G02B6/122GK102239435SQ20098014877公開(kāi)日2011年11月9日申請(qǐng)日期2009年12月1日優(yōu)先權(quán)日2008年12月4日發(fā)明者宮尾憲治,松山睦宏,白土洋次,藤原誠(chéng),長(zhǎng)木浩司申請(qǐng)人:住友電木株式會(huì)社
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