專利名稱：正型感光性組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于形成金屬化合物薄膜圖案的正型感光性組合物。
背景技術(shù)：
作為以ITO等金屬氧化物為代表的金屬化合物薄膜的形成方法，已知將含有金 屬絡(luò)合物的涂布液涂布于基體表面上，然后通過煅燒將金屬絡(luò)合物熱分解，形成金屬氧 化物薄膜的技術(shù)。作為金屬絡(luò)合物的配體，多數(shù)使用乙二胺四乙酸、二乙醇胺、乙酰丙 酮等在分子中具有兩個以上氨基、羥基等取代基的多齒配體。并且，作為提高耐裂縫性 和附著性的其它配體，已知使用具有特定芳香族骨架的多齒配體(參照專利文獻(xiàn)1)。另一方面，如上所述將金屬化合物薄膜圖案化的方法，是在平坦的金屬化合物 薄膜上形成光刻膠圖案，然后通過蝕刻轉(zhuǎn)印光刻膠圖案，在金屬化合物薄膜形成圖案的 方法，但近年來為了縮短該工序，正在研究賦予涂布液本身感光性而直接圖案化的方 法，例如，公開了使用含有螯合物、感光性樹脂和溶劑的感光性透明導(dǎo)電膜形成用涂布 液進(jìn)行直接圖案化的方法，該螯合物是在由含銦和錫的化合物與有機(jī)酸生成的羥基化合 物上配位了有機(jī)配體的螯合物(參照專利文獻(xiàn)2)。專利文獻(xiàn)1 W02008/007751號國際公開小冊子專利文獻(xiàn)2 日本特開2001-143526號公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
專利文獻(xiàn)2所述的涂布液為進(jìn)行圖案化必須含有以往公知的感光性樹脂。但 是，賦予感光性需要一定程度的感光性樹脂量，該樹脂的存在會影響最終金屬化合物薄 膜的形成量。即，僅感光性樹脂量的成分引起金屬含量降低，導(dǎo)致最終的金屬化合物薄 膜的致密性、均勻性變差，從而出現(xiàn)機(jī)械強(qiáng)度、透明性、導(dǎo)電性降低的問題。并且，期望在最終的煅燒工序所分解的膜中完全不存在感光性樹脂。但是，感 光性樹脂在涂布液中作為高分子樹脂存在時(shí)，煅燒后仍有部分樹脂作為有機(jī)物殘?jiān)鴼?留，可能會對膜的物理性質(zhì)產(chǎn)生不良影響。為了完全除去該殘?jiān)挠绊?，?yōu)選在實(shí)質(zhì)上 不含有高分子樹脂的組合物體系中賦予感光性。本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，目的在于提供圖案化的金屬化合物薄膜導(dǎo)電 性優(yōu)異并且有機(jī)物殘?jiān)绊懶〉恼透泄庑越M合物。本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，通過在利用煅燒工序等處理能夠形成金屬化合物薄膜的金屬絡(luò) 合物成分中添加低分子量的感光劑，形成正型感光性組合物，可以使金屬化合物薄膜形 成圖案，從而完成了本發(fā)明。即，本發(fā)明提供含有通過涂布后的處理能夠形成金屬化合物薄膜的金屬絡(luò)合物 成分(A)以及感光劑(B)的正型感光性組合物。根據(jù)本發(fā)明，即使在實(shí)質(zhì)上不含有感光性樹脂的組成體系中也能夠形成圖案化 的金屬化合物薄膜。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明的正型感光性組合物，必須含有通過涂布后的處理能夠形成金屬化合物 薄膜的金屬絡(luò)合物成分(A)(以下也稱作(A)成分)以及感光劑(B)(以下也稱作(B)成 分)，優(yōu)選進(jìn)一步含有溶劑(D)(以下也稱作(D)成分)。以下分別進(jìn)行說明。[金屬絡(luò)合物成分(A)]本發(fā)明的(A)成分是通過涂布后的處理能夠形成金屬化合物薄膜的金屬絡(luò)合物 成分。即，只要是將含有金屬絡(luò)合物的涂布液涂布于基體表面，然后通過煅燒對金屬絡(luò) 合物進(jìn)行熱分解，能夠形成金屬氧化物薄膜的金屬絡(luò)合物成分，則沒有特別限制。具體 而言，可以使用日本特開平09-278489號公報(bào)、日本特開平11-228113號公報(bào)、日本特開 平11-256342號公報(bào)等所記載的金屬絡(luò)合物成分。作為金屬絡(luò)合物的配體，可以使用乙 二胺四乙酸、二乙醇胺、乙酰丙酮、草酸等在分子中具有兩個以上氨基和羥基等取代基 的多齒配體。并且，優(yōu)選的是(A)成分的配體為將芳香族化合物作為骨架的多齒配體。更優(yōu) 選的是，該芳香族化合物為可具有取代基的碳芳香環(huán)化合物、或者可具有取代基的雜芳 香環(huán)化合物；進(jìn)一步優(yōu)選的是，該碳芳香環(huán)化合物或者雜芳香環(huán)化合物為選自五元環(huán)化 合物、六元環(huán)化合物以及它們的稠環(huán)化合物中的一種以上。其中，碳芳香環(huán)化合物是指 僅由碳原子形成的環(huán)所構(gòu)成的環(huán)式化合物，雜芳香環(huán)化合物是指含有碳以外的氧、氮、 硫等雜原子作為環(huán)的構(gòu)成原子的環(huán)式化合物。并且，不僅是單環(huán)式化合物還可以是稠環(huán) 式化合物。稠環(huán)式化合物的環(huán)數(shù)沒有特別限定，但優(yōu)選為雙環(huán)式化合物。并且，可以是 六元環(huán)之間的稠環(huán)，可以是五元環(huán)之間的稠環(huán)，還可以是五元環(huán)和六元環(huán)的稠環(huán)。更具體而言，(A)成分優(yōu)選含有選自下述化學(xué)式1所表示的金屬絡(luò)合物A1、化 學(xué)式2所表示的金屬絡(luò)合物A2、化學(xué)式3所表示的金屬絡(luò)合物A3、化學(xué)式4所表示的金 屬絡(luò)合物A4、以及化學(xué)式5所表示的金屬絡(luò)合物A5中的一種以上。
權(quán)利要求
1.一種正型感光性組合物，其含有通過涂布后的處理能夠形成金屬化合物薄膜的金 屬絡(luò)合物成分(A)、以及感光劑(B)。
2.如權(quán)利要求1所述的正型感光性組合物，其中，所述(A)成分的配體是以芳香族化 合物為骨架的多齒配體。
3.如權(quán)利要求2所述的正型感光性組合物，其中，所述芳香族化合物是可具有取代基 的碳芳香環(huán)化合物、或者可具有取代基的雜芳香環(huán)化合物。
4.如權(quán)利要求3所述的正型感光性組合物，其中，所述碳芳香環(huán)化合物或者雜芳香環(huán) 化合物為選自五元環(huán)化合物、六元環(huán)化合物、以及它們的稠環(huán)化合物中的一種以上。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的正型感光性組合物，其中，所述(A)成分含有選 自下述化學(xué)式1所表示的金屬絡(luò)合物Ap化學(xué)式2所表示的金屬絡(luò)合物A2、化學(xué)式3所 表示的金屬絡(luò)合物A3、化學(xué)式4所表示的金屬絡(luò)合物A4、以及化學(xué)式5所表示的金屬絡(luò) 合物A5中的一種以上成分；
6.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的正型感光性組合物，其實(shí)質(zhì)上不含有感光性樹脂。
7.如權(quán)利要求5或6所述的正型感光性組合物，其中，所述M為選自Al、Si、Ti、 V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Zr> Nb、In、Sn、Eu、Ta 以及 Pb 中的一種以上元素。
8.如權(quán)利要求5至7中任一項(xiàng)所述的正型感光性組合物，其中，所述金屬絡(luò)合物A1 為化學(xué)式6 化學(xué)式13所表示的金屬絡(luò)合物中的任一種；或者，所述金屬絡(luò)合物人4為化 學(xué)式14 化學(xué)式21所表示的金屬絡(luò)合物中的任一種。[化6]
9.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的正型感光性組合物，其中，所述(A)成分為堿可 溶性成分。 化學(xué)式17[化 18] 化學(xué)式18
10.如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的正型感光性組合物，其中，所述(B)成分包含 將具有醌二疊氮基的化合物與具有酚羥基的化合物進(jìn)行縮合而成的化合物。
11.如權(quán)利要求10所述的正型感光性組合物，其中，以固體物質(zhì)換算，所述(B)成分 相對于所述(A)成分的比例為40質(zhì)量％以下。
12.如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的正型感光性組合物，其中，所述(B)成分為光 致釋酸劑，進(jìn)一步含有溶解抑制劑作為(C)成分。
13.一種透明導(dǎo)電膜，其使用如權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的正型感光性組合物進(jìn) 行圖案化。
14.一種電子設(shè)備，其將使用如權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的正型感光性組合物進(jìn) 行圖案化的透明導(dǎo)電膜作為構(gòu)成要件。
全文摘要
本發(fā)明提供能夠形成高析像度且有機(jī)物殘?jiān)绊懶〉慕饘倩衔锉∧D案的正型感光性組合物。該正型感光性組合物含有通過涂布后的煅燒處理能夠形成金屬化合物薄膜的金屬絡(luò)合物成分(A)以及感光劑(B)，(A)成分的配體優(yōu)選為以芳香族化合物為骨架的多齒配體。通過具有該組成，即使實(shí)質(zhì)上不含有感光性樹脂的組合物體系，也能夠賦予感光性，能夠容易地形成金屬化合物薄膜圖案。
文檔編號G03F7/004GK102027414SQ20098011837
公開日2011年4月20日 申請日期2009年5月13日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月14日
發(fā)明者久里州多佛·柯多尼爾, 仲村亮正, 志知哲也, 植松照博, 緒方壽幸, 高橋元樹 申請人:東京應(yīng)化工業(yè)株式會社, 東海旅客鐵道株式會社