專利名稱：X光光柵光譜型Wolter鏡成像裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于用于對(duì)X光成像技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種X光光柵光譜型Wolter 鏡成像裝置。
背景技術(shù)：
X光由于較高的能量和較短的波長(zhǎng)，因此普通光學(xué)元器件對(duì)χ光失去了意義。X光 現(xiàn)在主要應(yīng)用在臨床醫(yī)學(xué)、科學(xué)研究和工業(yè)上的無(wú)損傷檢測(cè)等等多個(gè)方面，它的成像技術(shù) 一直是人們的主要追求，一系列專門針對(duì)X光的元器件被研究出來(lái)，Wolter鏡就是其中之Wolter鏡基本都由拋物柱面和一段雙曲線柱面連接而成。它通過(guò)在反射面對(duì)掠入 射X光 反射以會(huì)聚X光，達(dá)到提高X光成像效率和質(zhì)量的目的。但是，普通型的Wolter鏡 對(duì)X光的會(huì)聚要求掠入射光在1°以下，會(huì)聚作用不強(qiáng)，而且由于對(duì)反射表面要求較高，工 藝加工有一定難度。現(xiàn)代薄膜技術(shù)的發(fā)展，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了多層膜、多層光柵膜和薄膜的制備。這些薄膜可 以極大提高X光反射的入射角度要求、反射率和單色性。但是，在拋物柱面和雙曲線柱面進(jìn) 行光柵制作特別困難。
發(fā)明內(nèi)容為了提高普通Wolter鏡對(duì)X光會(huì)聚成像和分辨能力，本實(shí)用新型提供一種X光光 柵光譜型Wolter鏡成像裝置。本實(shí)用新型的X光光柵光譜型Wolter鏡成像裝置，所述裝置含有X光源、光柵光 譜型Wolter鏡I和光柵光譜型Wolter鏡II、X光光闌I和X光光闌II、樣品架和X光成像 (XD。所述的成像裝置的X光源、光柵光譜型Wolter鏡I、X光光闌I、樣品架、X光光闌II、 光柵光譜型Wolter鏡II、X光成像CXD依次設(shè)置在同一光軸上；所述光柵光譜型Wolter鏡 I和光柵光譜型Wolter鏡II分別由Wolter鏡與Wolter鏡反射面上的X光反射光柵薄膜 構(gòu)成。本實(shí)用新型X光光柵光譜型Wolter鏡成像裝置用于X光成像技術(shù)范疇，可應(yīng)用于 臨床醫(yī)學(xué)、科學(xué)研究和工業(yè)無(wú)損傷檢測(cè)。本實(shí)用新型所述的X光光柵光譜型Wolter鏡成像裝置，可以極大提高X光會(huì)聚能 力、單色性，提高成像系統(tǒng)的像質(zhì)量，使X光成像更清晰，分辨率更高。

圖1為本實(shí)用新型的X光光柵光譜型Wolter鏡成像裝置結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型中的光柵光譜型Wolter鏡局部剖面示意圖。圖中，1.X光光源 2.光柵光譜型Wolter鏡I 3.X光光闌I 4.樣品架5.X光 光闌II 6.光柵光譜型Wolter鏡II 7. X光成像CXD 8. X光反射光柵薄膜具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作具體描述。 圖1中，本實(shí)用新型的X光光柵光譜型Wolter鏡成像裝置，包括一個(gè)X光光源1、 兩個(gè)光柵光譜型Wolter鏡(即光柵光譜型Wolter鏡I 2和光柵光譜型Wolter鏡II 6)、 兩個(gè)X光光闌(即X光光闌I 3和X光光闌II 5)、一個(gè)樣品架4和一個(gè)X光成像CXD 7， 所述的成像裝置的X光源1、光柵光譜型Wolter鏡I 2、X光光闌I 3、樣品架4、X光光闌 II 5、光柵光譜型Wolter鏡II 6、X光成像(XD7依次設(shè)置在同一光軸上；所述光柵光譜型 Wolter鏡I 2和光柵光譜型Wolter鏡II 6分別由普通型Wolter鏡與Wolter鏡反射面上 的反射型的X光反射光柵薄膜構(gòu)成。圖2為本實(shí)用新型的光柵光譜型Wolter鏡局部剖面示意圖，圖中顯示X光的光柵 光譜型Wolter鏡I 2由普通型Wolter鏡與Wolter鏡反射面上的X光反射光柵薄膜8構(gòu) 成。光柵光譜型Wolter鏡II 6的結(jié)構(gòu)與光柵光譜型Wolter鏡I 2相同。本實(shí)用新型的工作原理如下，從一點(diǎn)X光光源1發(fā)出的X光，經(jīng)第一個(gè)光柵光譜型 Wolter鏡I 2上的X光反射光柵薄膜8會(huì)聚和穿過(guò)第一個(gè)X光光闌I 3后，會(huì)聚在樣品架 4的樣品上；經(jīng)過(guò)樣品的帶有樣品信息的X光，再經(jīng)過(guò)第二個(gè)X光光闌II 5和第二個(gè)光柵 光譜型Wolter鏡II 6上的X光反射光柵薄膜的會(huì)聚，在X光成像CXD 7上成像，圖像由計(jì) 算機(jī)獲取和處理。
權(quán)利要求一種X光光柵光譜型Wolter鏡成像裝置，其特征在于所述的成像裝置的X光源(1)、光柵光譜型Wolter鏡I(2)、X光光闌I(3)、樣品架(4)、X光光闌II(5)、光柵光譜型Wolter鏡II(6)、X光成像CCD(7)依次設(shè)置在同一光軸上；所述光柵光譜型Wolter鏡I(2)和光柵光譜型Wolter鏡II(6)分別由Wolter鏡與Wolter鏡反射面上的X光反射光柵薄膜構(gòu)成。
專利摘要本實(shí)用新型提供了一種X光光柵光譜型Wolter鏡成像裝置。所述成像裝置中的X光光源、光柵光譜型Wolter鏡、X光光闌、樣品架和X光成像CCD設(shè)置在同一光軸上。光柵光譜型Wolter鏡由Wolter鏡與其反射面上的X光反射光柵薄膜構(gòu)成。本實(shí)用新型采用光柵光譜型Wolter鏡提高了對(duì)x光的收集能力和單色能力，提高成像系統(tǒng)的像質(zhì)量和像的分辨能力。本實(shí)用新型的成像裝置可用于科學(xué)研究、臨床醫(yī)學(xué)和工業(yè)無(wú)損檢測(cè)等多個(gè)方面。
文檔編號(hào)G03B42/02GK201594172SQ200920316930
公開日2010年9月29日 申請(qǐng)日期2009年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月10日
發(fā)明者唐永建, 王衍斌, 陳志梅 申請(qǐng)人:中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心