專利名稱：遮光片陣列、遮光片陣列制造方法及鏡頭模組陣列的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)元件，尤其涉及一種晶圓級(jí)(wafer level)遮光片陣列、遮光 片陣列的制造方法及具有該遮光片陣列的鏡頭模組陣列。
背景技術(shù)：
一般的鏡頭模組主要包括鏡片組、容納鏡片組的鏡筒、影像感測(cè)器和鏡座，影像感 測(cè)器設(shè)置在鏡座內(nèi)，鏡座容納可旋轉(zhuǎn)的鏡筒。但是，該鏡頭模組一般體積較大。隨著攝像技術(shù)的發(fā)展，鏡頭模組與各種便攜式電子裝置如手機(jī)、攝像機(jī)、電腦等的 結(jié)合，更是得到眾多消費(fèi)者的青睞，所以市場(chǎng)對(duì)小型化鏡頭模組的需求增加。目前小型化鏡頭模組多采用晶圓級(jí)鏡片，其一般是利用精密模具制造出微型鏡片 陣列，然后與硅晶圓制成的影像感測(cè)器電連接、封裝，然后切割，得到的每一小單元都是一 個(gè)晶圓級(jí)的相機(jī)模組。然而，部分入射光線并非直接通過(guò)折射后進(jìn)入影像感測(cè)器，而是在各 晶圓級(jí)鏡片的表面經(jīng)過(guò)多次反射后進(jìn)入影像感測(cè)器，從而形成眩光，造成影像模糊，眩光的 存在嚴(yán)重影響了所拍攝影像的品質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種能減少/消除眩光的遮光片陣列、一種制造該遮光片 陣列的方法及具有該鏡頭模組陣列。一種遮光片陣列包括一塊透光平板。該透光平板具有多個(gè)間隔分布的透光區(qū)及在 該透光區(qū)周圍的粗糙區(qū)。該透光區(qū)為實(shí)心透光體，其具有兩個(gè)相對(duì)且平行的表面。該遮光 片陣列還包括設(shè)于該粗糙區(qū)的遮光層?！N遮光片陣列的制造方法包括以下步驟提供一塊透光平板；于該透光平板的 表面設(shè)置光阻層；對(duì)該光阻層曝光顯影，以保留該光阻層的多個(gè)間隔分布的預(yù)留部分；對(duì) 該光阻層的預(yù)留部分周圍的透光平板的表面進(jìn)行粗糙化處理，以使其成為粗糙面；于該粗 糙面形成遮光層；去除該預(yù)留部分，使透光平板相應(yīng)于原預(yù)留部分的表面曝露于外，以形成 具有多個(gè)間隔分布的透光區(qū)的遮光片陣列。一種鏡頭模組陣列包括一個(gè)鏡片陣列及與該鏡片陣列疊合在一起的遮光片陣列。 該鏡片陣列包括多個(gè)鏡片。該遮光片陣列包括一塊透光平板。該透光平板具有多個(gè)間隔分 布的透光區(qū)及在該透光區(qū)周圍的粗糙區(qū)。該透光區(qū)為實(shí)心透光體，其具有兩個(gè)相對(duì)且平行 的表面。該遮光片陣列還包括設(shè)于該粗糙區(qū)的遮光層。該透光區(qū)的中心軸與該鏡片的中心
軸重合。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的遮光片陣列的遮光層設(shè)于遮光片陣列的粗糙面， 可有效的減少/消除眩光現(xiàn)象一方面該遮光層本身可以吸收光線，另一方面，即使有部分 未被遮光層吸收的光線還可由該遮光層與粗糙面之間的粗糙介面而產(chǎn)生漫反射，從而更有 效地防止散雜光進(jìn)入鏡片陣列，減少/消除眩光。


圖1是本發(fā)明第一實(shí)施例的遮光片陣列的制造方法的流程圖，該遮光片陣列包括 一塊透光平板。圖2是提供的透光平板及設(shè)于該透光平板表面的光阻層的示意圖。圖3是對(duì)圖2中的光阻層曝光、顯影后留下的多個(gè)間隔分布的預(yù)留部分的示意圖。圖4是對(duì)該預(yù)留部分周圍的透光平板的表面進(jìn)行粗糙化處理后的示意圖。圖5是形成遮光層于該粗糙表面及預(yù)留部分表面的示意圖。圖6是去除該預(yù)留部分，以形成具有多個(gè)透光區(qū)的遮光片陣列的示意圖。圖7是形成濾光層于該透光區(qū)的表面的示意圖。圖8是形成對(duì)位孔于該遮光片陣列的示意圖。圖9是本發(fā)明第二實(shí)施例提供的遮光片陣列的示意圖。圖10是本發(fā)明第三實(shí)施例提供的鏡頭模組陣列的示意圖。
具體實(shí)施例方式請(qǐng)參閱圖1，其為本發(fā)明第一實(shí)施例中遮光片陣列的制造方法的流程圖。該方法包 括以下步驟提供一塊透光平板；于該透光平板的表面設(shè)置光阻層；對(duì)該光阻層曝光、顯影，以保留該光阻層的多個(gè)間隔分布的預(yù)留部分；對(duì)該光阻層的預(yù)留部分周圍的透光平板的表面進(jìn)行粗糙化處理，以使其成為粗糙于該粗糙面形成遮光層；去除該預(yù)留部分，使透光平板相應(yīng)于原預(yù)留部分的表面曝露于外，以形成具有多 個(gè)間隔分布的透光區(qū)的遮光片陣列。下面將以制造遮光片陣列20為例對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中遮光片陣列的制造方法進(jìn)行 詳細(xì)說(shuō)明。請(qǐng)參閱圖2，首先提供一塊透光平板10。于該透光平板10的表面設(shè)置光阻層102。 本實(shí)施例中，該透光平板10由玻璃制成，采用旋涂方法在該透光平板10的表面設(shè)置負(fù)光阻 層102。當(dāng)然，該透光平板10也可以由塑料等透光材料制成。當(dāng)然，也可以采用噴涂方法在 該透光平板10的表面設(shè)置正光阻層。請(qǐng)參閱圖3，對(duì)該光阻層102曝光、顯影，以保留該光阻層102的多個(gè)間隔分布的預(yù) 留部分103。優(yōu)選地，本實(shí)施例中，該預(yù)留部分103呈圓柱狀，且該多個(gè)預(yù)留部分103呈陣 列式排布。當(dāng)然，該預(yù)留部分103的形狀應(yīng)根據(jù)實(shí)際情況來(lái)確定，不限于本實(shí)施例中的圓柱 狀。請(qǐng)參閱圖4，對(duì)該光阻層102的預(yù)留部分103周圍的透光平板10的表面進(jìn)行粗糙 化處理，以使其成為粗糙面104。本實(shí)施例中，采用干蝕刻方法對(duì)該預(yù)留部分103周圍的透 光平板10的表面進(jìn)行粗糙化處理。當(dāng)然，也可以采用濕蝕刻或研磨等其它方法以使該預(yù)留 部分103周圍的透光平板10的表面粗糙。請(qǐng)參閱圖5，于該粗糙面104形成遮光層105。本實(shí)施例中，采用濺鍍的方法于該粗
4糙面104及該預(yù)留部分103的表面形成該遮光層105，且該遮光層105的材料為鉻。當(dāng)然， 也可以采用蒸鍍等其它鍍膜方法來(lái)形成遮光層105，當(dāng)然，該遮光層105的材料也可以氮化 鈦等其它可以吸收光線的材料。請(qǐng)參閱圖6，去除該預(yù)留部分103，使透光平板10相應(yīng)于原預(yù)留部分103的表面曝 露于外，以形成具有多個(gè)間隔分布的透光區(qū)106的遮光片陣列20。該透光區(qū)106為實(shí)心透 光體，其具有兩個(gè)相對(duì)且平行的表面。該遮光片陣列20的透光平板10具有多個(gè)透光區(qū)106 及在該透光區(qū)106周圍的粗糙區(qū)107。該粗糙區(qū)107具有上述的粗糙面104。請(qǐng)參閱圖7，于該透光區(qū)106的表面形成濾光層108，以免影像感測(cè)器(圖未示) 產(chǎn)生雜訊。濾光層108可采用不同的設(shè)計(jì)用以實(shí)現(xiàn)過(guò)濾不同波長(zhǎng)的光線，在本實(shí)施例中，該 濾光層108可以是紅外光截止濾光膜、低通濾光膜、紫外截止濾光膜等其它類型濾光膜。請(qǐng)參閱圖8，于該遮光片陣列20的粗糙區(qū)107形成至少兩個(gè)貫穿該透光平板10及 該遮光層105的對(duì)位孔109。該對(duì)位孔109用來(lái)與鏡片陣列(圖未示)進(jìn)行對(duì)位，以使該透 光區(qū)106的中心軸與該鏡片陣列的鏡片的中心軸對(duì)準(zhǔn)。本實(shí)施例中，該對(duì)位孔109為圓形 通孑L。由于遮光片陣列20的遮光層105設(shè)于遮光片陣列20的粗糙面104，可有效的減 少/消除眩光現(xiàn)象一方面該遮光層105本身可以吸收光線，另一方面，即使有部分未被遮 光層105吸收的光線還可由該遮光層105與粗糙面104之間的粗糙介面而產(chǎn)生漫反射，從 而更有效地防止散雜光進(jìn)入鏡片陣列，減少/消除眩光。請(qǐng)參閱圖9，其為本發(fā)明第二實(shí)施例提供的遮光片陣列20a，其具有一塊透光平板 IOa0該透光平板IOa具有多個(gè)間隔分布的透光區(qū)106a及在該透光區(qū)106a周圍的粗糙區(qū) 107a。該透光區(qū)106a為實(shí)心透光體，其具有兩個(gè)相對(duì)且平行的表面。該粗糙區(qū)107a具有 一個(gè)第一表面108a及與該第一表面108a相對(duì)的第二表面109a。該第一表面108a為粗糙 面。該遮光片陣列20a還具有設(shè)于該第二表面109a的遮光層201a。本實(shí)施例中，該第二表 面109a為光滑面。當(dāng)然，該第二表面109a也可以為粗糙面。光線經(jīng)由該第一表面108a散射后，部分光線穿過(guò)透光平板10a，并被遮光層201a 吸收，從而可以更有效地消除眩光。當(dāng)然，也可以在該第一表面108a及第二表面109a上均設(shè)有遮光層201a。當(dāng)然，于該第二表面109a形成遮光層201a時(shí)，也可以先在該粗糙區(qū)107a的第二 表面109所在的透光平板IOa的表面設(shè)置光阻層，再曝光、顯影，以留下該光阻層的預(yù)留部 分，然后于未被該預(yù)留部分覆蓋的該第二表面109a形成遮光層201a，最后再去除該預(yù)留部 分，便將遮光層201a形成于該第二表面109a。請(qǐng)參閱圖10，其為本發(fā)明第三實(shí)施例提供的鏡頭模組陣列30。該鏡頭模組陣列30 包括一個(gè)鏡片陣列40及一個(gè)與該鏡片陣列40疊合在一起的遮光片陣列50。該鏡片陣列40包括多個(gè)鏡片401及多個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)402。本實(shí)施例中，該多個(gè)對(duì)位 結(jié)構(gòu)402為通孔，且每?jī)蓚€(gè)鏡片401之間有一個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)402。當(dāng)然，該對(duì)位結(jié)構(gòu)402也可 以為凸起。該遮光片陣列50包括一塊透光平板501。該透光平板501具有多個(gè)間隔分布的透 光區(qū)502及在該透光區(qū)502周圍的粗糙區(qū)503。該透光區(qū)502為實(shí)心透光體，其具有兩個(gè)相 對(duì)且平行的表面。該遮光片陣列50還包括設(shè)于該粗糙區(qū)503的表面的遮光層504、至少兩個(gè)位于該粗糙區(qū)503且貫穿該透光平板501及遮光層504的對(duì)位孔505及形成于該透光區(qū) 502的表面的濾光層506。該對(duì)位孔505與對(duì)位結(jié)構(gòu)402相配合，以使該鏡片陣列40與該遮光片陣列50疊 合時(shí)，鏡片401的中心軸與透光區(qū)502的中心軸重合，最后切割成多個(gè)鏡頭模組。由于遮光片陣列50的遮光層504設(shè)于遮光片陣列50的粗糙區(qū)503，可有效的減 少/消除眩光現(xiàn)象一方面該遮光層504本身可以吸收光線，另一方面，即使有部分未被遮 光層504吸收的光線還可由該遮光層504與粗糙區(qū)503之間的粗糙介面而產(chǎn)生漫反射，從 而更有效地防止散雜光進(jìn)入鏡片陣列40，減少/消除眩光，進(jìn)而提高每一鏡頭模組的成像 品質(zhì)。當(dāng)然，也可以在該鏡片陣列40與遮光片陣列50之間設(shè)一個(gè)間隔片陣列(圖未 示)。該間隔片陣列具有多個(gè)間隔分布的通孔，該多個(gè)通孔的中心軸與鏡片401的中心軸及 透光區(qū)502的中心軸重合。當(dāng)然，也可以先將該遮光片陣列50與多個(gè)鏡片陣列疊合在一起，然后與具有多個(gè) 影像感測(cè)器的硅晶圓壓合封裝，最后切割成多個(gè)相機(jī)模組。另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化，當(dāng)然，這些依據(jù)本發(fā)明 精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
一種遮光片陣列，其包括一塊透光平板，其特征在于，該透光平板具有多個(gè)間隔分布的透光區(qū)及在該透光區(qū)周圍的粗糙區(qū)，該透光區(qū)為實(shí)心透光體，其具有兩個(gè)相對(duì)且平行的表面，該遮光片陣列還包括設(shè)于該粗糙區(qū)的遮光層。
2.如權(quán)利要求1所述的遮光片陣列，其特征在于該粗糙區(qū)具有相對(duì)的第一表面和第 二表面，該第一表面為粗糙面，該遮光層至少設(shè)于該第一表面與該第二表面中的一個(gè)面。
3.如權(quán)利要求1所述的遮光片陣列，其特征在于該多個(gè)透光區(qū)呈陣列式排布。
4.如權(quán)利要求1所述的遮光片陣列，其特征在于該粗糙區(qū)設(shè)有至少兩個(gè)貫穿該透光 平板及該遮光層的對(duì)位孔。
5.如權(quán)利要求1所述的遮光片陣列，其特征在于該遮光片陣列進(jìn)一步包括設(shè)于該透 光區(qū)的表面的濾光層。
6.一種遮光片陣列的制造方法，其包括以下步驟提供一塊透光平板；于該透光平板的表面設(shè)置光阻層；對(duì)該光阻層曝光顯影，以保留該光阻層的多個(gè)間隔分布的預(yù)留部分；對(duì)該光阻層的預(yù)留部分周圍的透光平板的表面進(jìn)行粗糙化處理，以使其成為粗糙面；于該粗糙面形成遮光層；去除該預(yù)留部分，使透光平板相應(yīng)于原預(yù)留部分的表面曝露于外，以形成具有多個(gè)間 隔分布的透光區(qū)的遮光片陣列。
7.如權(quán)利要求6所述的遮光片陣列的制造方法，其特征在于該遮光片陣列的制造方 法進(jìn)一步包括形成至少兩個(gè)對(duì)位孔，該對(duì)位孔貫穿該透光平板及該遮光層。
8.如權(quán)利要求6所述的遮光片陣列的制造方法，其特征在于該遮光片陣列的制造方 法進(jìn)一步包括形成濾光層于該透光區(qū)的表面。
9.一種鏡頭模組陣列，其包括一個(gè)鏡片陣列，該鏡片陣列包括多個(gè)鏡片；一個(gè)與該鏡片陣列疊合在一起的遮光片陣列，該遮光片陣列包括一塊透光平板，該透 光平板具有多個(gè)間隔分布的透光區(qū)及在該透光區(qū)周圍的粗糙區(qū)，該透光區(qū)為實(shí)心透光體， 其具有兩個(gè)相對(duì)且平行的表面，該遮光片陣列還包括設(shè)于該粗糙區(qū)的遮光層，該透光區(qū)的 中心軸與該鏡片的中心軸重合。
10.如權(quán)利要求9所述的鏡頭模組陣列，其特征在于其特征在于，該粗糙區(qū)具有相對(duì) 的第一表面及第二表面，該第一表面為粗糙面，該遮光層至少設(shè)于該第一表面與第二表面 中的一個(gè)面。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種遮光片陣列，其包括一塊透光平板。該透光平板具有多個(gè)間隔分布的透光區(qū)及在該透光區(qū)周圍的粗糙區(qū)。該透光區(qū)為實(shí)心體結(jié)構(gòu)。該遮光片陣列還包括設(shè)于該粗糙區(qū)的遮光層。該遮光片陣列可減少/消除眩光。本發(fā)明還涉及一種制造該遮光片陣列的方法及一種具有該遮光片陣列的鏡頭模組陣列。
文檔編號(hào)G03F7/00GK101872033SQ200910301809
公開日2010年10月27日 申請(qǐng)日期2009年4月24日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月24日
發(fā)明者洪新欽 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司