專利名稱：：光學膜、偏振片和圖像顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種光學膜、使用該光學膜的偏振片和使用該光學膜或該偏振片的圖像顯示裝置。
背景技術(shù)：
：光學膜，尤其是防反射膜，一般設置在諸如陰極射線管(CRT)顯示裝置、等離子體顯示面板(PDP)、電致發(fā)光顯示器(ELD)和液晶顯示裝置(LCD)等顯示裝置的最外表面，用于防止從顯示表面的外來光反射和圖像顯示裝置中的環(huán)境光反射引起的對比度降低。因此，防反射膜不僅要求具有高防反射能力，而且要求高透過率、高物理強度(例如，高耐擦傷性)、耐化學品性和耐候性(包括耐濕性、耐熱性和耐光性)。防反射膜通過利用作為厚度200nm以下的薄膜并且至少設置在最外表面的低折射率層的光學干涉來防止反射。然而，在單層薄膜干涉型的情況下，其通過由一層形成的最簡單結(jié)構(gòu)的低折射率層抑制反射，尚未發(fā)現(xiàn)適于實用的任何低折射率材料，其可以滿足0.5%以下的5。鏡面反射因子(specularreflectionfactor)并具有中性顏色、高耐擦傷性、耐化學品性和耐候性。另一方面，已知可以通過多層光學干涉防止反射的多層薄膜干涉型的防反射膜能夠確保0.5%以下的5。鏡面反射因子，這類防反射膜的例子包括其中高折射率層形成在透明支持體和低折射率層之間的雙層薄膜干涉型的防反射膜以及其中中折射率層和高折射率層依序形成在透明支持體和低折射率層之間的三層薄膜干涉型的防反射膜。當在寬波長范圍防止反射并且在降低反射色的同時需要實現(xiàn)低反射率的情況下，三層薄膜干涉型的防反射膜是特別有利的。作為多層薄膜干涉型的防反射膜中使用的薄膜層(例如，高折射率層、中折射率層、低折射率層)，至今廣泛采用通過疊置金屬氧化物的透明薄膜層形成的多層膜。通常通過化學氣相沉積(CVD)法、物理氣相沉積(PVD)法、真空蒸發(fā)法或濺射法形成金屬氧化物的透明薄膜。然而，通過氣相沉積或濺射形成金屬氧化物的透明薄膜的方法生產(chǎn)率低，不適于大量生產(chǎn)。因此，提出采用生產(chǎn)率高的濕膜形成法，尤其是通過涂布方式形成膜的方法。另一方面，為了降低外來光從顯示表面的反射和在顯示裝置中的熒光燈等反射引起的可視性下降，使用具有凹凸表面形狀的防眩層。例如，通過用含有諸如氧化硅等無機氧化物微粒的樹脂或有機樹脂珠涂布透明支持體的表面，形成具有凹凸表面形狀的防眩層。當在亮室觀察顯示裝置時，通過使用防眩層可以降低顯示裝置中的環(huán)境光反射，但是由于外來光的表面散射的原因會發(fā)生黑顯示模式時本來黑的屏幕看起來發(fā)白的現(xiàn)象，并且對比度下降(下面稱作黑稠密性(densenessofblack)劣化)。因此，目標是通過在防眩層上設置一層防反射層同時實現(xiàn)反射降低和保留高的黑稠密性。對于反射和黑稠密性的進一步改進，有利的是在防眩層上形成雙層或三層薄膜干涉型的防反射層。然而，當試圖用防反射層以納米級涂布防眩層的凹凸表面時，可能出現(xiàn)防眩層的凹凸表面導致防反射層的不均勻涂布和排斥的情況，從而防反射層的厚度隨著在防眩層上的位置不同而變動，不可能實現(xiàn)最優(yōu)的光學干涉；結(jié)果，反射率不能充分下降。因此，難于同時實現(xiàn)低反射和高防眩性能。為了改進防眩層的凹凸表面上發(fā)生的不均勻涂布和排斥，公開了在防眩層的表面處理之后進行老化處理(JP-A-2006-145737)和在防眩層和防反射層之間設置中間層(JP-A-2006-145587)。此外，試圖使低折射率層中的中空球形氧化硅微粒在防眩層凹凸表面的凹部中比在凸部中的量更大(JP-A-2006國146027)。然而，至今提出的這些光學膜降低反射率不充分。此外，因為當前使用的防眩膜在表面上具有微細凹凸，所以與具有平坦表面的透明膜相比它們存在從表面的光散射使黑稠密性惡化的問題。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種其中環(huán)境光反射降低并且還確保高黑稠密性的光學膜。本發(fā)明的另一目的是提供一種當由涂布組合物形成干涉層時可以具有高均勻厚度、極低反射率和高黑稠密性的光學膜。本發(fā)明的再一目的是提供一種使用上述光學膜的偏振片和圖像形成裝置。針對上述問題進行了廣泛研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)下述的方面(1)(11)可以解決這些問題并實現(xiàn)這些目的，從而完成了本發(fā)明。更具體而言，通過以下各方面實現(xiàn)了本發(fā)明的目的。(1)一種光學膜，其包含支持體；和具有凹凸表面的至少一層防眩層，其中所述至少一層防眩層含有按所述防眩層的總固體含量計其量為0.01~1質(zhì)量°/。的包括第一透光性粒子的至少一種透光性粒子，所述第一透光性粒子的平均粒度比所述防眩層的平均厚度大0.1~4.0Hm，并且所述防眩層表面上的凹凸的傾斜角e在0°<0<0.5°范圍內(nèi)的區(qū)域0(0.5)占所述防眩層表面的40°/。~98%。(2)如上項(l)所述的光學膜，其中所述第一透光性粒子按所述防眩層的單位面積計的數(shù)量為10~1,500個/mm2。(3)如上項(1)或(2)所述的光學膜，其中所述第一透光性粒子的平均粒度為3nm15pm。(4)如上項(1)(3)中任一項所述的光學膜，其中所述防眩層表面的算術(shù)平均粗糙度Ra為0.03|um<Ra<0.4^im，凹凸的平均間隔Sm為80|am<Sm<700|Lim。(5)如上項(1)(4)中任一項所述的光學膜，其中所述第一透光性粒子是樹脂粒子，和所述樹脂粒子中的聚甲基丙烯酸甲酯含量為40質(zhì)量~100質(zhì)量％。(6)如上項(1)(5)中任一項所述的光學膜，其中所述防眩層還含有平均粒度小于所述防眩層的平均厚度并包括聚甲基丙烯酸甲酯的第二透光性粒子。(7)如上6少一層低折射率層。(8)如上項(7)所述的光學膜，其中按所述低折射率層的總固體含量計，無機微粒的含量為20~70質(zhì)(9)如上項(7)或(8)所述的光學膜，其中所述防眩層和所述低折射率層之間的折射率差為0.05以上。(10)—種偏振片，其包含保護膜；和設在所述保護膜之間的偏振膜，其中所述保護膜中的至少一個如上項(1)(9)中任一項所述的光學膜。(11)一種圖像顯示裝置，其包含顯示裝置，其具有如上項(1)(9)中任一項所述的光學膜或如上項(10)所述的偏振片。圖1A是具有目前使用的防眩層和低折射率層的光學膜的示意圖。圖1B是根據(jù)本發(fā)明實施方式的光學膜的示意圖，其中設置滿足本發(fā)明要求的防眩層和低折射率層。圖2A2C是解釋用于測量傾斜角方法的概要的示意圖。具體實施例方式下面詳細說明根據(jù)本發(fā)明的光學膜。此外，當本說明書中由數(shù)值表示物理值、特性值等時，術(shù)語"(數(shù)值1)~(數(shù)值2)"指從至少數(shù)值1到至多數(shù)值2范圍的值。此外，本說明書中使用的術(shù)語"(甲基)丙烯酸酯"指"丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯中的至少一種"。術(shù)語"(甲基)丙烯酸"等具有相似含義。(光學膜的結(jié)構(gòu))考慮到折射率、膜厚、構(gòu)成層數(shù)、構(gòu)成層的排列順序等，根據(jù)本發(fā)明的光學膜(防反射膜)具有在透明支持體(下面簡稱作"支持體")上疊置的至少一層防反射層。通過組合折射率比支持體高的中折射率層和/或高折射率層與折射率比支持體低的低折射率層構(gòu)成根據(jù)本發(fā)明的光學膜的防反射層。防反射層的結(jié)構(gòu)的例子包括由從支持體側(cè)觀察時依序排列的高折射率層和低折射率層構(gòu)成的兩層結(jié)構(gòu)以及由折射率不同的三層構(gòu)成的三層結(jié)構(gòu)，如由從支持體側(cè)觀察時依序疊置的中折射率層(折射率比支持體和硬涂層高且折射率比高折射率層低)、高折射率層和低折射率層構(gòu)成的結(jié)構(gòu)。此外，提出了各自具有多個防反射層的疊層的光學膜。在這些提議中，從耐久性、光學特性、成本、生產(chǎn)率等的觀點來看，用防眩層、中折射率層、高折射率層和低折射率層依序涂布具有硬涂層的支持體是優(yōu)選的。可選擇地，還有利的是賦予防眩層以硬涂性并將防眩層轉(zhuǎn)化為防眩硬涂層。下面示出適于本發(fā)明光學膜的層結(jié)構(gòu)的例子。在以下各結(jié)構(gòu)中，基膜用作支持體。此外，在以下結(jié)構(gòu)中術(shù)語"(抗靜電層)"指相關(guān)層除了其自身功能之外還具有作為抗靜電層的功能。通過賦予抗靜電層除了抗靜電功能之外的功能，可以減少形成的層數(shù)，并且得到的層結(jié)構(gòu)有利于提高生產(chǎn)率。層結(jié)構(gòu)(1)支持體/防眩層/高折射率層/低折射率層(2)支持體/防眩層/中折射率層/高折射率層/低折射率層(3)支持體/防眩層/高折射率層/低折射率層/高折射率層/低折射率層(4)支持體/硬涂層/防眩層/高折射率層/低折射率層(5)支持體/硬涂層/防眩層/中折射率層/高折射率層/低折射率層(6)支持體/防眩層/高折射率層(抗靜電層)/低折射率層(7)支持體/防眩層沖折射率層(抗靜電層)/高折射率層/低折射率層(8)支持體/抗靜電層/防眩層/中折射率層/高折射率層/低折射率層(9)抗靜電層/支持體/防眩層沖折射率層/高折射率層/低折射率層任何層結(jié)構(gòu)均可用于本發(fā)明，并不特別限制于上述，只要它們能夠確保通過光學干涉降低反射。本發(fā)明的光學膜是一種在支持體上具有至少一層凹凸表面的防眩層的光學膜，其中防眩層含有按防眩層的總固體含量計其量為0.01-1質(zhì)量％的至少一種透光性粒子，透光性粒子的平均粒度比防眩層的平均厚度大0.1~4.0pm，并且防眩層表面上的凹凸的傾斜角e在0°<9<0.5°范圍內(nèi)的區(qū)域(e(0.5))占防眩層表面的40%~98%。本發(fā)明的光學膜如圖1A和圖1B所示，但是其樣態(tài)不限于圖1A和圖1B。作為本發(fā)明的光學膜的例子，圖1A和圖1B示出防眩層2和低折射率層3設置在支持體1上的樣態(tài)。圖1A示出具有常規(guī)使用的防眩層的光學膜。在圖1A所示的光學膜中，干涉層(低折射率層3)沿著防眩層的凹凸表面形成，因而存在不均勻涂布和排斥，導致具有不均勻厚度。換句話說，在干涉層中同時產(chǎn)生厚部和薄部。結(jié)果，干涉層不能具有均勻厚度，在這種干涉層中難于引起最優(yōu)光學干涉。然而，在具有本發(fā)明特征的防眩層的光學膜中，如圖1B所示，防眩層的相對平坦表面區(qū)域占防眩層的測量面積的40%~98%。因此，在干涉層中存在具有均勻厚度的更多部分，從而導致發(fā)生最優(yōu)光學干涉。因此，光學膜中的環(huán)境光反射降低，確保了高黑稠密性。<防眩層>本發(fā)明中使用的防眩層被調(diào)節(jié)具有40%~98%比例的0(0.5)區(qū)域(其是其中防眩層上的凹凸的傾斜角e為0°<6<0.5°并且涂布表面相對平坦的區(qū)域)。通過這種調(diào)節(jié)，能夠獲得可以降低過量外來光從膜表面散射而減小模糊現(xiàn)象并可以確保高的黑稠密性的表面涂布的膜，通過至今已知的防眩層這被認為是難于實現(xiàn)的。此外，當設置防反射層時，可以降低層厚度的不均勻，并可能夠同時實現(xiàn)充分的防眩性能和低反射率。換句話說，在本發(fā)明中，由于防眩層具有大量平坦部的結(jié)構(gòu)(l)降低了過量外來光的散射并確保了高的黑稠密性，和(2)設置在防眩層上的防反射層的厚度變得均勻，從而實現(xiàn)反射率下降。在本發(fā)明中，其中凹凸的傾斜角e在0°<6<0.5°范圍內(nèi)的區(qū)域(9(0.5))的比例要求為40%~98%，但優(yōu)選為50%~98%，更優(yōu)選60%~98%，特別優(yōu)選70%~98%。當e(0.5)區(qū)域的比例不低于40%時，根據(jù)凹凸的薄膜層厚度的不均勻性未引起干涉能力降低和模糊現(xiàn)象；當該比例不超過98%時，防眩能力變得充分，并且在得到的膜中出現(xiàn)觀察者被熒光燈等物體的反射眩暈的情形更少。(傾斜角e)在本發(fā)明中，通過以下方法確定傾斜角e的分布。具體而言，假設面積為0.5~2nm2的三角形的頂點在透明膜支持體面上，將通過從這些頂點垂直向上延伸的三條垂直線的三個交點形成的三角形面的法線與從支持體垂直向上延伸的垂直線之間的角度定義作膜表面的傾斜角e。將支持體上250，000pm2(0.25mn^)的面積分割成假設的三角形，對所有分割的三角形測量傾斜角，從而確定所有測量點的傾斜角分布。參考圖2A2C詳細說明測量傾斜角的方法。如圖2A所示，膜被分割成面積0.52^im2的網(wǎng)格。圖2B是從分割的網(wǎng)格中取出三個點的示圖。垂直線從支持體上的三個點垂直向上延伸，這三條垂直線和膜表面的交點標記為A，B和C。三角形ABC面的法線DD'與從支持體垂直向上延伸的垂直線OO'之間的角度e定義為傾斜角。圖2C是在含有點O'DD'的平面P切出的膜的剖視圖。線段EF是三角形ABC和平面P之間的交線。支持體上的測量面積優(yōu)選為250，000pm2(0.25mm勺以上，在支持體上將該面積分割成三角形，并測量求得傾斜角。盡管傾斜角的測量裝置沒有限制，只要能夠進行測量，但下面描述一個例子。具體而言，下面說明使用MicromapCorporation(USA)制造的SXM520-AS150型作為測量裝置的情況。例如，當所用物鏡的放大倍率為IO倍時，傾斜角的測量單位是0.8imi2，測量范圍為500，000pm"0.5mm2)。當物鏡的放大倍率增大時，測量單位和測量范圍成比例地變小。使用軟件如MAT-LAB分析測量數(shù)據(jù)，由此可以計算出傾斜角分布。從這樣算出的傾斜角分布，求得從0。0.5。入射的傾斜角e(0.5)。在5個不同點進行這種測量，并求出e(o.5)的平均值。在本發(fā)明的光學膜中，優(yōu)選的是，防眩層的算術(shù)平均粗糙度Ra為0.03^im<Ra<0.4^im。當使用平均粒度大于防眩層的平均厚度的透光性粒子以賦予防眩性能時，從賦予防眩性能并防止外來光反射造成的膜表面閃光或白化的觀點來看，有利的是，算術(shù)平均粗糙度Ra為0.05nm<Ra<0.3(^m，優(yōu)選0.05^im<Ra<0.25|im，特別優(yōu)選0.05nm<Ra<0.15|am。當光學膜中的防眩層表面的算術(shù)平均粗糙度Ra不為0.03pm以下時，可以得到充分的防眩能力，因為表面上沒有過小的凹凸；當Ra不為0.4nm以上時，不會發(fā)生因外來光反射造成的閃光或表面白化現(xiàn)象以及因具有根據(jù)凹凸的不均勻厚度的防反射層而導致得到的光學膜其干涉能力下降的問題。防眩層表面的凹凸的適合平均間隔Sm優(yōu)選為80|Lim<Sm<700^im，更優(yōu)選150jim<Sm<700}im，特別優(yōu)選200^im<Sm<600pm。有利地將Sm值設置在上述范圍內(nèi)，因為這種設置允許增大層表面的平坦部比例，從而防反射層可以均勻地疊置在防眩層表面上。當凹凸的平均間隔Sm不為80|im以下時，得到的防眩層具有凹凸表面的平坦部大的結(jié)構(gòu)。因此，當薄膜層涂布在這種防眩層上時，幾乎不存在由于涂布的薄膜層不均勻厚度造成干涉能力降低或者在最上表面具有這種薄膜層的顯示裝置的黑顯示模式中發(fā)生模糊現(xiàn)象的情況。當凹凸的平均間隔Sm不為700pm以上時，得到的防眩層不具有在表面平坦部太多的結(jié)構(gòu)，可以獲得充分的防眩能力。在本發(fā)明中，優(yōu)選的是，防眩層的算術(shù)平均粗糙度Ra為0.03pm<Ra<0.4^im，防眩層表面上的凹凸的平均間隔Sm為80nm<Sm<700pm。通過調(diào)節(jié)Ra和Sm值在它們的各自上述范圍內(nèi)，得到的防眩層可以確保高防眩能力，防止閃光現(xiàn)象和高黑稠密性，并且由于可以減小疊置在其上的防反射層的厚度變動，因而具有實現(xiàn)低反射率的效果。從使凹凸的密度變稀和增加表面上的平坦部比例的觀點來看，按防眩層的總固體含量計，平均粒度大于防眩層的平均厚度的透光性粒子的適合加入量為0.011質(zhì)量％，從而允許防反射層均勻地疊置在防眩層上。這種粒子的加入量優(yōu)選為0.1~1質(zhì)量％，更優(yōu)選0.1-0.7質(zhì)量％，特別優(yōu)選0.1-0.45質(zhì)量％。與當前使用的防眩層相比，本發(fā)明中使用的防眩層通過含有平均粒度比防眩層的平均厚度大0.14.0pm的粒子而可以具有防眩能力，盡管粒子的含量在O.Ol質(zhì)量％~1質(zhì)量％的極低范圍。因此，本發(fā)明中的防眩層具有表面平坦部多的結(jié)構(gòu)，并可以確保極高黑稠密性。此外，在防眩層上疊置多個薄膜層使得疊層的總厚度因防眩層上的凹凸難于變得不均勻，從而允許實現(xiàn)低反射率。此外，即使防眩層的平坦部多，其防眩能力也不會受損，因為粒子從防眩層表面突出至少0.1~4.(^m的高度。按單位面積(mr^)計，防眩層中所含的平均粒度大于防眩層的平均厚度的透光性粒子數(shù)量優(yōu)選為10-1,500個，更優(yōu)選10-400個，再更優(yōu)選10~250個，特別優(yōu)選10150個。通過使用光學顯微鏡觀察500nmx50(Hmi范圍內(nèi)的10個視野，計數(shù)每個視野中的粒子，再取得計數(shù)的平均值，從而算出透光性粒子數(shù)量。在本發(fā)明的光學膜中，形成防眩層，用于通過表面散射賦予膜以防眩能力，優(yōu)選進一步用作增強膜的耐擦傷性的硬涂層。因此，優(yōu)選的是，本發(fā)明中使用的防眩層含有能夠賦予該層以硬涂性能的粘結(jié)劑。(透光性粒子)在本發(fā)明的優(yōu)選實施方式中，防眩層含有至少一種上述透光性粒子，以獲得防眩性能，有利的是，透光性粒子的平均粒度比防眩層的平均厚度大0.14.(Him，以對防眩性能作貢獻。為進一步實現(xiàn)防眩性能和通過提高防眩層表面的平坦部比例而疊置均勻防反射層的相容性，適宜的是，平均粒度比防眩層的平均厚度優(yōu)選大0.13.(^m，更優(yōu)選大0.52.5(am，特別優(yōu)選大1.0~2.0nm?？梢酝ㄟ^用電子顯微鏡觀察光學膜的截面并在隨機選取的30個點處測量層厚度，取這些測量值的平均值來算出防眩層的平均厚度。優(yōu)選的是，防眩層上的凹凸的一個凸部基本上由5個以下的透光性粒子形成，特別優(yōu)選由1個透光性粒子形成。本發(fā)明中使用的術(shù)語"基本上"指凸部的90%以上滿足上述優(yōu)選實施方式的要求。作為透光性粒子，優(yōu)選使用滿足上述粒度要求并且確保后述的防眩層中內(nèi)部霧度^:的那些。由于優(yōu)選的是凹凸的一個凸部基本上由1個透光性粒子形成，因而優(yōu)選的是選擇具有良好分散性的粒子。在本發(fā)明中，透光性樹脂粒子如聚甲基丙烯酸甲酯粒子或聚甲基丙烯酸甲酯和聚苯乙烯的共聚物的粒子可以優(yōu)選用作具有良好分散性的粒子。從分散性的觀點來看，共聚物粒子中的聚甲基丙烯酸甲酯比例優(yōu)選為40100質(zhì)量％，更優(yōu)選50~100質(zhì)量％，特別優(yōu)選75-100質(zhì)量％。在使用前述透光性粒子的情況中，可以加入分散劑，如尺寸不會使可見光散射的無機填料(如氧化硅)或有機化合物(可以是單體或聚合物)，用于賦予粘結(jié)劑或涂布組合物中的粒子以分散穩(wěn)定性并防止粒子沉淀。然而，優(yōu)選的是，每個凸部基本上由聚甲基丙烯酸甲酯的一個或多個粒子形成。作為透光性微粒，可以使用樹脂粒子巿售產(chǎn)品，其例子包括SokenChemical&EngineeringCo.,Ltd.的產(chǎn)品ChemisnowMX300,MX600,MX675,RX0855,MX800，MXIOOO，SX713L和MX1500H或者SekisuiPlasticsCo.,Ltd.的產(chǎn)品TechpolymerSSX108HXE，SSX108LXE,SSX-106TN，SSX-106FB和XX120S。在加入無機填料的情況下，填料的加入量越大，加入的填料防止透光性粒子沉淀越有效。然而，適宜的是，無機填料的加入量使得對得到的涂層的透明度沒有不利影響。因此，優(yōu)選的是，粒度0.5|im以下無機填料的加入量使得不會造成得到的涂層的透明度損害，具體而言，按100質(zhì)量份粘結(jié)劑計，其量為0.1質(zhì)量份。另一方面，按100質(zhì)量份透光性粒子計，用作分散劑的有機化合物等的優(yōu)選用量為0.120質(zhì)量份。分散劑如有機化合物的加入量優(yōu)選為0.115質(zhì)量份，特別優(yōu)選0.510質(zhì)量份。上面規(guī)定的加入量范圍是優(yōu)選的，因為加入量為0.1質(zhì)量份以上具有分散穩(wěn)定性的效果，加入量為20質(zhì)量份以下不會產(chǎn)生對分散穩(wěn)定性沒有貢獻的成分增加帶來的諸如滲出等問題。此外或可選擇地，可對透光性粒子進行表面處理，從而獲得用于形成防眩層的粘結(jié)劑或涂布組合物中的分散穩(wěn)定性和防止沉淀。用于此的表面處理劑種類可以根據(jù)組合使用的粘結(jié)劑和溶劑適宜地選擇。按100質(zhì)量份透光性粒子計，表面處理劑的適合加入量為0.1~30質(zhì)量份，優(yōu)選1~25質(zhì)量份，特別優(yōu)選320質(zhì)量份。這種加入量的范圍是優(yōu)選的，因為只要表面處理劑的加入量為0.1質(zhì)量份以上，不會發(fā)生對于分散穩(wěn)定性的表面處理量不足，并且只要表面處理劑的加入量為30質(zhì)量份以下，不會發(fā)生對分散穩(wěn)定性沒有貢獻的成分增加帶來的諸如滲出等問題。從霧度值和分散性的控制以及確保涂布的表面狀態(tài)的均勻性的觀點來看，關(guān)于粒度分布，第二透光性粒子優(yōu)選是單分散性粒子。換句話說，它們優(yōu)選是均勻粒度的粒子。表示粒度均勻性的CV值優(yōu)選為0~10%，更優(yōu)選08%，再更優(yōu)選05°/。。此外，當粒度比平均粒度大至少20%的粒子被定義作粗大粒子時，適宜的是，粗大粒子在全部粒子數(shù)中占至多1%，優(yōu)選至多0.1%，更優(yōu)選至多0.01%。制備具有這種粒度分布的粒子的有效方法的例子是制備或合成反應后進行分級，并且當分級次數(shù)增加或者增強分級程度時，可以獲得具有所需粒度分布的粒子。對于分級，優(yōu)選使用風力分級法、離心分級法、沉淀分級法、過濾分級法和靜電分級法等。通過在光學顯微鏡下觀察透光性粒子并取100個觀察粒子的平均粒徑，從而求得透光性粒子的平均粒度。(第二透光性粒子)為了獲得必要的光散射能力，透光性粒子可以和平均粒度與透光性粒子不同的第二透光性粒子混合使用?？梢詮耐腹庑粤Ｗ荧@得防眩能力并且從第二透光性粒子獲得其他光學性能。例如，當防眩性防反射膜貼在象素量為133ppi以上的高精細度顯示裝置上時，可能會發(fā)生所謂的"閃光現(xiàn)象"，這是圖像顯示質(zhì)量的問題。本發(fā)明中使用的術(shù)語"閃光現(xiàn)象"指以下現(xiàn)象，不論裝置中有無電燈等照明的反射的閃光，這是關(guān)于防眩能力所討論的主題，通過防眩性防反射膜表面上存在的凹凸產(chǎn)生的透鏡作用，圖片元素由于擴大或縮小而失去亮度均勻性；結(jié)果，R，G和B看起來對人眼閃光。通過將賦予防眩能力的透光性粒子和粒度更小且折射率不同于粘結(jié)劑的其他透光性粒子組合使用可以改善這種"閃光現(xiàn)象"。優(yōu)選的是，第二透光性粒子的平均粒度小于防眩層的平均厚度。更具體而言，有利的是，第二透光性粒子的平均粒度等于防眩層平均厚度的10%~90%，優(yōu)選20%80%。這是因為，這種第二粒子可以賦予內(nèi)部散射能力，而不使層表面不均勻，并幾乎不會使層表面的平坦部減少。作為第二透光性粒子，具有良好分散性的那些是適合的。具有良好分散性的粒子優(yōu)選是透光性有機樹脂粒子，如聚甲基丙烯酸甲酯粒子或聚甲基丙烯酸甲酯和聚苯乙烯的共聚物粒子。從分散性的觀點來看，共聚物粒子中聚甲基丙烯酸甲酯比例優(yōu)選為40~100質(zhì)量％，更優(yōu)選50100質(zhì)量％，特別優(yōu)選75-100質(zhì)量％。作為本發(fā)明中的第二透光性粒子，還可以優(yōu)選使用芯殼型粒子，在芯中含有折射率不同于粘結(jié)劑并表現(xiàn)光散射性的材料，在殼中含有對粘結(jié)劑具有高親和性且分散性優(yōu)異的材料。能夠表現(xiàn)光散射性的材料的例子包括聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸和苯乙烯的交聯(lián)共聚物、三聚氰胺樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、交聯(lián)的聚苯乙烯、聚氯乙烯和苯基胍胺-三聚氰胺甲醛。分散性優(yōu)異的材料的例子包括聚甲基丙烯酸甲酯等。適宜的是，第二透光性粒子具有良好分散性。當?shù)诙腹庑粤Ｗ拥姆稚⑿圆顣r，形成大的聚集體，并賦予防眩層表面粗糙結(jié)構(gòu)。在防眩層上設置由兩層以上的高折射率層和低折射率層構(gòu)成的防反射層時，存在防反射層厚度的均勻性惡化并形成具有低反射率的光學膜的情況。即使當使用的第二透光性粒子分散性差時，也可避免這些問題，只要通過使用分散劑等來增強分散性。從賦予內(nèi)部散射能力和改善閃光現(xiàn)象的觀點來看，按總固體含量計，第二透光性粒子的混合比優(yōu)選為0.01~30質(zhì)量％，更優(yōu)選0.01~25質(zhì)量％。(粘結(jié)劑)通過硬化熱固性樹脂或電離射線固化性化合物中的至少一種形成本發(fā)明中使用的防眩層的粘結(jié)劑。通過電離射線固化性化合物的交聯(lián)反應和/或聚合反應形成防眩層中優(yōu)選使用的粘結(jié)劑。具體而言，優(yōu)選的是，通過用含有電離射線固化性多官能團單體或低聚物作為粘結(jié)劑形成材料的防眩層形成用涂布組合物涂布支持體，然后使多官能團單體或低聚物發(fā)生交聯(lián)反應或聚合反應，從而形成防眩層。作為電離射線固化性多官能團單體或低聚物的官能團，能夠在接觸光(紫外線)、電子束或射線下發(fā)生聚合的基團是適合的。在這些基團中，光聚合性官能團是優(yōu)選的。光聚合性官能團的例子包括聚合性不飽和官能團，如(甲基)丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基和烯丙基。在這些基團中，(甲基)丙烯?；莾?yōu)選的。作為粘結(jié)劑形成材料的適合例子，可以使用以下部分<低折射率層>中的標題"具有聚合性不飽和鍵的化合物"中所述的化合物。向粘結(jié)劑形成材料中，可以加入具有高折射率的單體或不會引起可見光散射的無機粒子，即平均粒度100nm以下的無機粒子，如Zr02、Ti02或Si02粒子，或者同時加入二者，以便調(diào)節(jié)防眩層的折射率。除了調(diào)節(jié)折射率的效果之外，無機粒子還具有抑制交聯(lián)反應造成的硬化收縮的效果。在本發(fā)明中，在形成防眩層后，通過聚合諸如多官能團單體和/或具有高折射率的單體等具有聚合性不飽和鍵的化合物制備的聚合物以及分散在聚合物中的無機粒子一起稱作粘結(jié)劑。從即使當賦予內(nèi)部散射的透光性粒子組合使用時保持層表面的平坦部比例的觀點來看，按防眩層的全部固體含量為100質(zhì)量份計，防眩層中的粘結(jié)劑含量優(yōu)選為50~99質(zhì)量份，更優(yōu)選70~99質(zhì)量份。根據(jù)鉛筆硬度試驗測定，防眩層的強度優(yōu)選為H以上，更優(yōu)選2H以上，特別優(yōu)選3H以上。從實現(xiàn)硬度和巻曲之間的相容性的觀點來看，防眩層優(yōu)選被調(diào)節(jié)為其平均厚度為2.9~14.9|im，更優(yōu)選310nm，特別優(yōu)選48pm。平均粒度大于防眩層厚度的透光性粒子的平均粒度優(yōu)選為3^im15pm，更優(yōu)選5)am~10|im，特別優(yōu)選6pm8j^m。防眩層優(yōu)選被調(diào)節(jié)為其在波長550nm下的折射率為1.481.70，更優(yōu)選1.481.60。本發(fā)明中所有的折射率數(shù)據(jù)是在波長550nm下測得的折射率值。<低折射率層>本發(fā)明中使用的低折射率層可以設置作為最外層，用于增強防反射能力。低折射率層的折射率盡管沒有特別限制，只要其小于防眩層的折射率，但優(yōu)選為1.25-1.48，更優(yōu)選1.30~1.40，特別優(yōu)選1.30~1.37。當通過在本發(fā)明中使用的防眩層上設置單層低折射率層進行防反射時，防眩層和低折射率層之間的折射率差越大，防眩層的表面形狀對反射率降低的效果越大。折射率差優(yōu)選為0.05以上，更優(yōu)選0.10以上，特別優(yōu)選0.15以上。低折射率層的厚度優(yōu)選為30nrn200nm，更優(yōu)選70nrn150nm。低折射率層的霧度優(yōu)選為3%以下，更優(yōu)選2%以下，特別優(yōu)選1%以下。根據(jù)鉛筆硬度試驗在負荷500g下測定，低折射率層的強度優(yōu)選為至少H，更優(yōu)選至少2H，特別優(yōu)選至少3H。此外，為改善光學膜的防污性，有利的是，膜表面與水的接觸角為90。以上，優(yōu)選95。以上，特別優(yōu)選100。以上。低折射率層優(yōu)選形成為含有粘結(jié)劑和微粒。下面說明低折射率層中所含的各成分。作為低折射率層中所含的粘結(jié)劑形成材料，可以適宜地使用通過共聚含氟乙烯基單體和另一種共聚性成分制備的含氟共聚物。含氟乙烯基單體的例子包括氟烯烴類(例如，氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯和六氟丙烯)、部分或完全氟化的(甲基)丙烯酸的烷酯衍生物(例如，Biscoat6FM，OsakaOrganicChemicalIndustryLtd.的產(chǎn)品，R-2020,DaikinIndustries,Ltd.的產(chǎn)品)以及部分或完全氟化的乙烯基醚類。在這些單體中，全氟烯烴類是優(yōu)選的，并且考慮到折射率、溶解度、透明度和獲得性等，六氟丙烯是特別優(yōu)選的。當增加由于共聚的組合物中的所述含氟乙烯基單體的比例時，盡管可以降低折射率，但是膜強度降低了。因此在本發(fā)明中，優(yōu)選的是將含氟乙烯基單體引入含氟共聚物中，使得含氟共聚物中的氟含量為20~60質(zhì)量％。優(yōu)選25~55質(zhì)量％，特別優(yōu)選30~50質(zhì)量％。作為可以與含氟乙烯基單體共聚的另一種成分的例子，例如屬于以下組(a)、(b)和(c)的單體有利地被使用以賦予得到的共聚物以交聯(lián)反應性。(a):分子內(nèi)己具有自交聯(lián)性官能團的單體，如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯和縮水甘油基乙烯基醚。(b):具有羧基、羥基、氨基、和/或磺基等的單體(例如，(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羥甲酯、(甲基)丙烯酸羥烷酯、丙烯酸烯丙酯、羥乙基乙烯基醚、羥丁基乙烯基醚、馬來酸和巴豆酸)(c):具有能夠與單體(a)和(b)中所含的任一官能團反應的基團和另一種交聯(lián)性官能團的單體(例如，通過羥基與氯丙烯酸的反應可以合成的單體)。單體(c)中的交聯(lián)性官能團優(yōu)選是光聚合性基團。光聚合性基團的例子包括(甲基)丙烯?；⑾┗?、肉桂?；?、亞肉桂基乙?；?、苯亞甲基苯乙酮基、苯乙烯基吡啶基、a-苯基馬來酰亞胺基、苯基疊氮基、磺酰基疊氮基、羰基疊氮基、二偶氮基、鄰苯醌疊氮基、呋喃基丙烯?；⑾愣顾鼗?、吡喃酮基、蒽基、二苯甲酮基、二苯乙烯基、二硫代氨基甲酸酯基團、黃原酸酯基團、1,2，3-噻二唑基團、環(huán)丙烯基團和氮雜二氧雜雙環(huán)基團。在單體(c)中，這些基團可以單獨含有或者組合兩種以上含有。在這些基團中，特別優(yōu)選的基團是(甲基)丙烯酰基和肉桂酰基，尤其是(甲基)丙烯?；?。制備不僅含有氟原子而且含有光聚合性基團的共聚物的方法的例子包括以下方法，但不限于此。a.通過與(甲基)氯丙烯酸反應來酯化不僅含有交聯(lián)性官能團而且含有羥基的共聚物的方法。b.通過與含有異氰酸酯基團的(甲基)丙烯酸酯反應來氨基甲酸酯化不僅含有交聯(lián)性官能團而且含有羥基的共聚物的方法。c.通過與(甲基)丙烯酸反應來酯化不僅含有交聯(lián)性官能團而且含有環(huán)氧基團的共聚物的方法。d.通過與含有環(huán)氧基的(甲基)丙烯酸酯反應來酯化不僅含有交聯(lián)性官能團而且含有羧基的共聚物的方法。光聚合性基團的引入量可以任意控制，并且從涂層表面狀態(tài)的穩(wěn)定性、無機粒子存在時表面狀態(tài)退化和增強膜強度的觀點來看，有利的是羧基或羥基以一定量殘留。除了衍生于含氟乙烯基單體的重復單元和在側(cè)鏈中具有(甲基)丙烯酰基的重復單元之外，從諸如與支持體的密著性、形成的共聚物的Tg(對膜硬度起作用)、溶劑中的溶解度、透明度、滑動性、防塵性和防污性等各種觀點來看，本發(fā)明中使用的含氟共聚物還可以含有衍生于其他乙烯基單體的重復單元。根據(jù)預期目的，可以引入兩種以上單體的各種組合，在共聚物中引入的單體總比例優(yōu)選為0~65mol%。更優(yōu)選0~40mol%，特別優(yōu)選O30mol0/0。其他共聚性乙烯基單體沒有特別限制，其例子包括烯烴類(例如，乙烯、丙烯、異戊二烯、氯乙烯、偏二氯乙烯)，丙烯酸酯類(例如，丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸2-羥乙基己酯和丙烯酸2-羥基乙酯)、甲基丙烯酸酯類(例如，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯和甲基丙烯酸2-羥乙酯)、苯乙烯衍生物(例如，苯乙烯、p-羥基苯乙烯和p-甲氧基苯乙烯)、乙烯基醚類(例如，甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、環(huán)己基乙烯基醚、羥乙基乙烯基醚和羥丁基乙烯基醚)、乙烯酯類(例如，乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯和琥珀酸乙烯酯)、不飽和羧酸類(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、馬來酸和衣康酸)、丙烯酰胺類(例如，N，N-二甲基丙烯酰胺、N-叔丁基丙烯酰胺、N-環(huán)己基丙烯酰胺)、甲基丙烯酰胺類(例如，N，N-二甲基甲基丙烯酰胺)和丙烯腈。本發(fā)明中特別使用的含氟共聚物是全氟烯烴和乙烯基醚或乙烯基酯的無規(guī)共聚物。在這些共聚物中，具有能夠本身交聯(lián)反應的基團(例如，發(fā)生自由基反應的基團，如(甲基)丙烯?；?，或發(fā)生開環(huán)聚合的基團，如環(huán)氧基團或氧雜環(huán)丁烷基)的那些是優(yōu)選的。優(yōu)選的是，含有能夠發(fā)生交聯(lián)反應的基團的聚合單元在共聚物的總聚合單元中占5~70mol%，特別是30~60mol%。這種共聚物的合適例子包括JP-A-2002-243907、JP-A-2002-372601、JP-A-2003-26732、JP畫A畫2003-222702、JP-A-2003-294911、JP-A-2003-329804、JP-A-2004-4444和JP-A-2004-45462中公開的共聚物。在本發(fā)明使用的含氟共聚物中，優(yōu)選引入聚硅氧垸結(jié)構(gòu)以賦予防污性。盡管對引入聚硅氧垸結(jié)構(gòu)的方法沒有特別限制，但優(yōu)選的是采用以下方法如JP-A-6-93100、JP畫A-11-189621、JP畫A畫11-228631和JP-A-2000-313709中所公開的，使用硅樹脂大分子偶氮引發(fā)劑作為嵌段共聚成分引入聚硅氧烷的方法，或者如JP-A-2-251555和JP-A-2-308806中所公開的，使用硅樹脂大分子單體作為接枝共聚成分引入聚硅氧垸的方法。特別優(yōu)選的化合物的例子包括JP-A-11-189621的實施例1、2和3中公開的聚合物以及JP-A-2-251555中公開的共聚物A-2和A-3。優(yōu)選的是，硅樹脂成分占含氟共聚物的0.5~10質(zhì)量％，特別是1~5質(zhì)量％。本發(fā)明中優(yōu)選使用的含氟共聚物的適宜的重均分子量為5,000以上，優(yōu)選10，000~500，000，特別優(yōu)選15，000~200，000。為改善涂布表面條件和耐擦傷性，還可以組合使用平均分子量不同的含氟共聚物。(具有聚合性不飽和鍵的化合物)對于粘結(jié)劑形成材料，如JP-A-10-25388和JP-A-2000-17028中公開的，含氟共聚物適宜時可以與具有聚合性不飽和鍵的化合物混合使用。此外，還有利的是含氟共聚物與JP-A-2002-145952中公開的具有聚合性不飽和鍵的含氟多官能團化合物組合。具有聚合性不飽和鍵的化合物的例子包括具有聚合性官能團的化合物，如(甲基)丙烯?；?、乙烯基、苯乙烯基和烯丙基。在這些基團中，(甲基)丙烯?；莾?yōu)選的。特別地，可以優(yōu)選使用以下每個分子中具有兩個以上的(甲基)丙烯?；幕衔铩Ｔ诰酆闲圆伙柡突鶊F包含在聚合物本身中的情況下，這些化合物是特別優(yōu)選的，因為它們對耐擦傷性或化學處理后的耐擦傷性的改善具有很大的并用效果。具有聚合性不飽和鍵的化合物的例子包括烷撐二醇的(甲基)丙烯酸二酯，例如新戊二醇丙烯酸酯、1,6-己二醇(甲基)丙烯酸酯和丙二醇二(甲基)丙烯酸酯；聚氧化亞烷基二醇的(甲基)丙烯酸二酯，例如三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯和聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯；多元醇的(甲基)丙烯酸二酯，例如季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯；和環(huán)氧乙烷或環(huán)氧丙烷加成物的(甲基)丙烯酸二酯，例如2,2-二[4-(丙烯酰氧基-二乙氧基)苯基]丙烷和2，2-二[4-(丙烯酰氧基-聚丙氧基)苯基)]丙烷。此外，也優(yōu)選使用環(huán)氧基(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯和聚酯(甲基)丙烯酸酯作為光聚合性多官能團單體。在這些(甲基)丙烯酸酯中，從多元醇和(甲基)丙烯酸制備的酯是優(yōu)選的。在這些酯中，每個分子中具有3個以上的(甲基)丙烯酰基的多官能團單體是更優(yōu)選的。多官能團單體的例子包括季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙垸三(甲基)丙烯酸酯、EO-改性的三羥甲基丙垸三(甲基)丙烯酸酯、PO-改性的三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO-改性的磷酸三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙垸三(甲基)丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,2,3-環(huán)己垸四甲基丙烯酸酯、聚氨酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯和己內(nèi)酯-改性的三(丙烯酰氧基乙基)異氰脲酸酯。本說明書中使用的術(shù)語"(甲基)丙烯酸酯"、"(甲基)丙烯酸"和"(甲基)丙烯?；?分別指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯、丙烯酸或甲基丙烯酸以及丙烯?；蚣谆；嵱玫暮?甲基)丙烯?；亩喙倌軋F丙烯酸酯化合物是多元醇和(甲基)丙烯酸的酯化產(chǎn)物，其例子包括NIPPONKAYAKUCo.Ltd.的產(chǎn)物，如KAYARADDPHA、KAYARADDPHA-2C、KAYARADPET-30、KAYARAD畫TMPTA、KAYARADTPA-320、KAYARADTPA-330、KAYARADRP-1040、KAYARADT-1420、KAYARADD-310、KAYARADDPCA-20、KAYARADDPCA-30、KAYARADDPCA-60和KAYARADGPO-303,和OSAKAORGANICCHEMICALINDUSTRYLTD.的產(chǎn)品，如V#3PA、V#400、V#36095D、V#1000禾QV#1080。除了這些市售產(chǎn)品之外，還可以優(yōu)選使用三官能團以上的氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物，包括Siko系列UV-1400B、UV-1700B、UV-6300B、UV-7550B、UV陽7600B、UV-7605B、UV-7610B、UV-7620EA、UV-7630B、UV-7640B、UV-6630B、UV-7000B、UV-7510B、UV畫7461TE、UV-3000B、UV畫3200B、UV-3210EA、UV-3310EA、UV-3310B、UV-3500BA、UV-3520TL、UV-3700B、UV-6100B、UV-6640B、UV-2000B、UV-2010B、UV-2250EA和UV-2750B(NipponSyntheticChemicalIndustryCo.,Ltd.的產(chǎn)品)、UL-503LN(KYOEISHACHEMICALCo.,Ltd.的產(chǎn)品)、UNIDIC17-806、UNIDIC17-813、UNIDICV-4030和UNIDICV-4000BA(DICCorporation的產(chǎn)品)、EB-1290K、EB-220、EB-5129、EB-1830和EB-4858(DAICELUCB的產(chǎn)品)、Hi-CorpAU-2010和Hi-CorpAU-2020(TOKUSHIKICo"Ltd.的產(chǎn)品)、AronixM-1960(TOAGOSEICO.，LTD的產(chǎn)品.)、ARTRESINUN-3320HA、UN-3320HC、UN-3320HS、UN-904和HDP-4T(NegamiChemicalIndustrialCo.，Ltd.的產(chǎn)品)、三官能團以上的聚酯化合物，包括AronixM-8100、M-8030和M-9050(TOAGOSEICO.，LTD.的產(chǎn)品)和KRM-8307(DAICEL-CYTECCOMPANYLTD.的產(chǎn)品)等。此外，可以使用具有3個以上(甲基)丙烯酰基的樹脂，如相對低分子量聚酯、聚醚、丙烯酸、環(huán)氧、氨基甲酸酯、醇酸、螺縮醛、聚丁二烯和多硫醇多烯樹脂，以及諸如多元醇等多官能團化合物的低聚物或預聚物。此外，以下結(jié)構(gòu)式代表的化合物可以用作二官能團的(甲基)丙烯酸酯。然而，以下化合物不應被解釋為限制本發(fā)明中使用的二官能團的(甲基)丙烯酸酯。此外，還可以使用例如在JP-A-2005-76005和JP-A-2005-36105中公開的樹型化合物和例如在JP-A-2005-60425在中公開的含有降冰片烯環(huán)的單體，此外，也可以使用在JP-A-2002-105141中化學式(2)代表的含氟多官能團(甲基)丙烯酸酯。上述多官能團單體可以兩種以上組合使用。這些具有烯鍵式不飽和基團的單體的聚合可以在光自由基引發(fā)劑或熱自由基引發(fā)劑存在下通過電離射線照射或通過加熱進行。在光聚合性多官能團單體的聚合反應中，優(yōu)選使用光聚合引發(fā)劑。作為光聚合引發(fā)劑，自由基光聚合引發(fā)劑和陽離子光聚合引發(fā)劑是適合的。其中，特別優(yōu)選的是自由基光聚合引發(fā)劑。(含氟聚合性化合物)在本發(fā)明中，還可以優(yōu)選使用作為下式(1)或(2)代表的含氟化合物的含氟多官能團單體，其中含有至少三個聚合性基團，按分子量計氟含量至少35.0質(zhì)量°/。，并且當聚合性基團被聚合時整個鏈間交聯(lián)分子量的計算值為300以下。式(1)Rf-{CHrOC(0)CH=CH2}n式(2)Rf-{OC(0)CH=CH2}n在這些式中，Rf代表至少含有碳和氟原子并且還可以含有氧和/或氫原子的直鏈或環(huán)狀n價氟碳基團，n代表3以上的整數(shù)。優(yōu)選的是，Rf基本上僅含有碳和氟原子，或僅含有碳、氟和氧原子。整個鏈間交聯(lián)分子量的計算值指當含氟多官能團單體中的所有聚合性基團發(fā)生聚合形成聚合物時夾在(a)和(a)之間、(b)和(b)之間、或(a)和(b)之間的所有原子團的總原子量，其中(a)是具有選自碳、硅和氧原子的組合的總計至少3個原子作為取代基的碳原子，(b)是具有選自碳和氧原子的組合的總計至少3個原子作為取代基的硅原子。當整個鏈間交聯(lián)分子量的計算值大于300時，在一些情況下，涂膜的硬度降低。具體而言，還可以優(yōu)選使用下示的不僅JP-A-2006-28409，段號中公開的化合物X-2X-4、X-6、X-8~X-14和X-21~X-32而且有化合物X-33。(b6cOCH=CH2X-3CH2=CHCOO-CH2CHCH2(CF2)4CH2CHCH2—OCOCH=CH2CH2=CHCOOOCOCH=CH2CH2=CHCOO-CH2CHCH2(CF2)6CH2CHCH2-OCOCH=CH2CH2=CHCOOOCOCH=CH2X《CH2=CHCOO-CH2CHCH2(CF2)4CH2CH—OCOCH=CH2CH2=CHCOOCH2OHX4CH2=CHCOO-CH2CHCH2OCH2(CF20)2CF2CH2OtpHCH2—OCOCH=CH2CH2=CHC。6OCOCH=CH2X-9CH2=CHCOO-CH2CHCH2OCH2(CF20)4CF2CH2OCHCH2—OCOCH=CH2CH2=CHCOOicOCH=CH2X-10CH2-CHC00-CH2CHCH20CH2CF20(C2F4O)2(CF2O)2CF2CH2OCH2CHCH2-0C0CH-CH2CH2=CHC00OCOCH=CH2CH2=CHCOOCH2CH2OCOCH=CH2X-11CH2=CHCOO-CH2C(CF2)6CCH2——OCOCH=CH2CH2=CHCO。iH2CH2OCOCH=CH2CH2=CHCOOCH2CH2OCOCH=CH2OCOCH=CH2X-12CH2=CHCOO-CH2C(CF2)BCCH2-CH2=CHCO。iH2ilH2OCOCH=CH2CH2=CHCOOCH2CH2OCOCH=CH2-OCOCH=CH2X-13CH2=CHCOO-CH2C(CF2)10CCH2-CH2=CHCOO^H2iH2OCOCH=CH2X-14CH2=CHCOOCH2C(CH3)COOCHCH2(CF2)4FIICH2=CHCOOCH2OCOCH=CH2<formula>formulaseeoriginaldocumentpage25</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula>。s,、fF《''O-OOX-32o<pF2—0_CF2CF2CH20-i!-CH=CH2:3C-CF2—0~CF2CF2CH20—C—CH=CH2OCF2—0—CF2CF2CH20-C—CH=CH2X-33此外，還可以優(yōu)選使用JP-A-2006-284761，段號中公開的下示化合物M-1~M16。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage28</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage29</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage30</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage31</formula>此外，還可以優(yōu)選使用下示化合物MA1M20'<formula>formulaseeoriginaldocumentpage32</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage33</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage34</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage35</formula>A1—0—(R，O)n-CH2CH2—(OR,p—0—A4A2—0—(R2O)m-CH》C一CH廣O—CH2—C「CH2—(0R、一O—A5(I)A3—0—(R30〉0—CH2CH2—(OR、一0—A6在式(I)中，每個A]~A6獨立地代表丙烯?；?、甲基丙烯酰基、oc-氟丙烯酰基或三氟甲基丙烯?；?，每個n、m、o、p、q和r獨立地代表02的整數(shù)，每個A^A^蟲立地代表具有13個碳原子的亞烷基或具有1~3個碳原子和取代至少一個氫原子的至少一個氟原子的氟亞垸基。A"—0—(R"0)s-CH2CH2—(OR13)u-0—A13X叨在式(II)中，每個A"A14獨立地代表丙烯?；?、甲基丙烯?；?、a-氟丙烯?；蛉谆；?，每個s、t、u和v獨立地代表02的整數(shù)，每個A"A"獨立地代表具有13個碳原子的亞烷基或具有1~3個碳原子和取代至少一個氫原子的至少一個氟原子的氟亞垸基。此外，還可以優(yōu)選使用JP-A-2006-291077，段號中公開的化合物。(無機微粒)在本發(fā)明中，為了進行折射率調(diào)節(jié)和改善諸如硬度和耐擦傷性等物理特性、在防眩層上形成的涂層厚度的均勻性、排斥和諸如反射率和散射性等光學特性，各種無機微?？梢杂迷诘驼凵渎蕦又?。作為無機微粒，具有低折射率的那些是優(yōu)選的，多孔或中空的是特別優(yōu)選的。無機微粒的例子包括氧化硅或中空氧化硅的微粒。無機微粒加到低折射率層中的量優(yōu)選為低折射率層中固體含量的20質(zhì)量％70質(zhì)量％，更優(yōu)選30質(zhì)量％60質(zhì)量％，特別優(yōu)選40質(zhì)量％~60質(zhì)量%。當粒子的加入量小于20質(zhì)量％時，可能會發(fā)生得到的耐擦傷性不足和在防眩層上形成的涂層傾向于排斥且不均勻厚度的情況。兩種以上的無機微?？梢曰旌鲜褂谩６嗫谆蛑锌瘴⒘５目紫堵蕛?yōu)選為10%~80%，更優(yōu)選20%~60%，特別優(yōu)選30%~60%。從折射率降低和耐久性保持的觀點來看，有利的是，中空微粒的孔隙率在上述范圍內(nèi)。當多孔或中空粒子是氧化硅粒子時，微粒的折射率優(yōu)選為1.10~1.40，更優(yōu)選1.15~1.35，特別優(yōu)選1.15-1.30。這里所用的術(shù)語"折射率"代表粒子整體的折射率，而不是僅指氧化硅外殼的折射率。多孔或中空氧化硅的制造方法記載在例如JP-A-2001-233611和JP-A-2002-79616中。特別優(yōu)選的粒子是在殼的內(nèi)部具有空洞的那些，殼的細孔被閉塞(stoppedup)?？梢酝ㄟ^JP-A-2002-79616中記載的方法計算這些中空氧化硅粒子的折射率。多孔或中空氧化硅的涂布量優(yōu)選是1~100mg/m2，更優(yōu)選5~80mg/m2，再更優(yōu)選10~60mg/m2。涂布氧化硅過小量造成降低折射率或提高耐擦傷性的效果不足，涂布過大量導致低折射率層表面上形成微細凹凸形狀，并且外觀(如黑稠密性)和積分反射率(integmtedreflectance)變差的可能性增加。多孔或中空氧化硅的平均粒度優(yōu)選是低折射率層厚度的30%~100%，更優(yōu)選35%~80%，再更優(yōu)選40%~65%。更具體而言，當?shù)驼凵渎蕦拥暮穸仁?00nm時，中空氧化硅的平均粒度優(yōu)選是30nrn100nm，更優(yōu)選35nm80nm，再更優(yōu)選40~65nm。在本發(fā)明中，內(nèi)部中空的微?？梢跃哂辛６确植?，其變動系數(shù)優(yōu)選為60%~5%，更優(yōu)選50%~10%。此外，可以使用平均粒度不同的兩種以上粒子的混合物。氧化硅微粒的粒度過小時，中空部分的比例變小，從而不能降低折射率；而當粒度過大時，在低折射率層表面上形成微細凹凸，導致外觀(如黑稠密性)和積分反射率變差。氧化硅微?？梢允墙Y(jié)晶或無定形的，優(yōu)選由單分散粒子構(gòu)成。其最佳形狀是球形，但可以是不定形的。平均粒度不同的兩種以上的中空氧化硅可以組合使用。這里，可以通過電子顯微照片測定中空氧化硅的平均粒度。本發(fā)明中使用的中空氧化硅的比表面積優(yōu)選為20m2/g~300m2/g，更優(yōu)在本發(fā)明中，中空氧化硅可以與沒有空腔的氧化硅混合使用。沒有空腔的氧化硅的適合粒度為10nm100nm，優(yōu)選10nm60nm，特別優(yōu)選20nm~50nm。(無機微粒的表面處理方法)下面說明處理無機微粒表面的方法，其中多孔或中空無機微粒被作為無機微粒的例子。為了改善在用于形成低折射率層的涂布組合物中的分散性，適宜的是用有機硅烷的水解產(chǎn)物和/或其部分縮合物處理無機微粒的表面。在處理中，優(yōu)選的是使用酸催化劑或金屬螯合物之一或二者同時使用。所用的有機硅垸盡管沒有特別限制其結(jié)構(gòu)，但優(yōu)選是具有(甲基)丙烯?；鳛槎嘶挠袡C硅垸。(有機硅垸化合物)關(guān)于構(gòu)成本發(fā)明光學膜的至少一層，其中包括防眩層、低折射率層、中折射率層和高折射率層，從耐擦傷性的觀點來看，有利的是，形成該層的涂布組合物含有有機硅烷化合物的水解產(chǎn)物和/或其部分縮合物中的至少一種成分，或者所謂的溶膠成分(下面有時使用該術(shù)語)。特別地，為了在防反射膜中獲得防反射性和耐擦傷性之間的相容性，有利的是，低折射率層含有溶膠成分。在施加涂布組合物后的干燥和加熱過程中，該溶膠成分發(fā)生縮合，形成硬化物質(zhì)，并構(gòu)成低折射率層中的粘結(jié)劑的一部分。當硬化物質(zhì)具有聚合性不飽和鍵時，通過活化射線的照射形成具有三維結(jié)構(gòu)的粘結(jié)劑。下式1代表的有機硅烷化合物有利地用于前述目的。式l:(RVSi(XVm在式1中，Ri代表取代或未取代的烷基，或者取代或未取代的芳基。烷基優(yōu)選是具有l(wèi)-30個碳原子的垸基，更優(yōu)選具有116個碳原子的垸基，特別優(yōu)選具有1~6個碳原子的垸基。垸基的例子包括甲基、乙基、丙基、異丙基、己基、癸基和十六烷基。芳基例如是苯基或萘基，優(yōu)選苯基。X代表羥基或可水解基團，其例子包括烷氧基(優(yōu)選具有1~5個碳原子的烷氧基，如甲氧基或乙氧基)、鹵原子(例如，Cl、Br、1)和R力00代表的基團(其中W優(yōu)選為氫原子或具有1~6個碳原子的烷基)，如CH3COO或C2H5COO。在這些基團中，烷氧基尤其是甲氧基或乙氧基是優(yōu)選的。m代表l3的整數(shù)，優(yōu)選1或2。當在式1中存在兩個以上的X時，各個X可以彼此相同或不同。對于R1可以具有的取代基沒有特別限制，這種取代基的例子包括鹵原子(例如，氟、氯、溴)、羥基、巰基、羧基、環(huán)氧基、烷基(例如，甲基、乙基、異丙基、丙基、叔丁基)、芳基(例如，苯基、萘基)、芳香雜環(huán)基(例如，呋喃基、吡唑基、吡啶基)、垸氧基(例如，甲氧基、乙氧基、異丙氧基、己氧基)、芳氧基(例如，苯氧基)、烷硫基(例如，甲硫基、乙硫基)、芳硫基(例如，苯硫基)、烯基(例如，乙烯基、l-丙烯基)、酰氧基(例如，乙酰氧基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基)、烷氧基羰基(例如，甲氧基羰基、乙氧基羰基)、芳氧基羰基(例如，苯氧基羰基)、氨基甲?；?例如，氨基甲酰基、N-甲基氨基甲酰基、N,N-二甲基氨基甲?；?、N-甲基-N-辛基氨基甲酰基)、酰氨基(例如，乙酰氨基、苯甲酰氨基、丙烯酰氨基、甲基丙烯酰氨基)。這些取代基還可以被進一步取代。R1優(yōu)選是取代的垸基或取代的芳基。作為有機硅烷化合物，具有乙烯基聚合性取代基的有機硅烷化合物是適合的，其由以下式2代表，并可以使用式l的化合物作為原料來合成。式2:，R2Y在式2中，R2代表氫原子、甲基、甲氧基、垸氧基羰基、氰基、氟原子或氯原子。垸氧基羰基的例子包括甲氧基羰基和乙氧基羰基。^優(yōu)選為氫原子、甲基、甲氧基、甲氧基羰基、氟原子或氯原子，更優(yōu)選氫原子、甲基、甲氧基羰基、氟原子或氯原子，特別優(yōu)選氫原子或甲基。Y代表單鍵、*-COO-**、*-(30,-**或*-0-**，優(yōu)選為單鍵、*-COO-**或、CONH-^，更優(yōu)選單鍵或*-0)0-**，特別優(yōu)選、COO-"。這里，*指各基團與KXR2)-結(jié)合的位置，**指各基團與L結(jié)合的位置。L代表二價連接基。這種連接基的例子包括取代或未取代的亞烷基、取代或未取代的亞芳基、內(nèi)部具有連接基(例如，醚、酯或酰胺)的取代或未取代的亞烷基和內(nèi)部具有連接基的取代或未取代的亞芳基。在這些基團中，取代或未取代的亞烷基、取代或未取代的亞芳基和內(nèi)部具有連接基的亞垸基是優(yōu)選的，未取代的亞烷基、未取代的亞芳基和內(nèi)部具有醚或酯連接基的亞垸基是更優(yōu)選的，未取代的亞垸基和內(nèi)部具有醚或酯連接基的亞垸基是特別優(yōu)選的。這些基團可以具有的取代基的例子包括鹵原子、羥基、巰基、羧基、環(huán)氧基、垸基和芳基。這些取代基還可以被取代。1是滿足表達式l=100-m的數(shù)值，m是050的數(shù)值，優(yōu)選0~40的數(shù)值，特別優(yōu)選0~30的數(shù)值。每個R3~R5優(yōu)選是鹵原子、羥基、未取代的烷氧基或未取代的烷基，更優(yōu)選氯原子、羥基或具有1~6個碳原子的未取代的烷氧基，更優(yōu)選羥基或具有13個碳原子的垸氧基，特別優(yōu)選羥基或甲氧基。R6代表氫原子或垸基。垸基優(yōu)選是甲基、乙基等。R7優(yōu)選是在式1中定義作W的基團或羥基，更優(yōu)選羥基或未取代的烷基，再優(yōu)選羥基或具有13個碳原子的烷基，特別優(yōu)選羥基或甲基。式1代表的化合物可以兩種以上混合使用。特別地，式2代表的化合物優(yōu)選是通過使用兩種式1代表的化合物作為原料合成的化合物。下面示出式1代表的化合物和式2代表的化合物的原料的例子，但它們不應被解釋為受限于以下例子。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage41</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage42</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage43</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage44</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage45</formula>甲基三甲氧基硅垸為了獲得本發(fā)明中的所需效果，適宜的是，有機硅垸的水解產(chǎn)物和/或其部分縮合物中的含有乙烯基聚合性基團的有機硅烷含量等于有機硅垸的水解產(chǎn)物和/或其部分縮合物總量的30-100質(zhì)量％，優(yōu)選50-100質(zhì)量％，更優(yōu)選70-95質(zhì)量°/0。為了穩(wěn)定涂布質(zhì)量，適宜的是，可以控制有機硅烷的水解產(chǎn)物或其部分縮合物中至少一種的揮發(fā)性。具體而言，105。C下的每小時揮發(fā)量限制為優(yōu)選5質(zhì)量％以下，更優(yōu)選3質(zhì)量％以下，特別優(yōu)選1質(zhì)量％以下。通過使有機硅烷進行水解和/或部分縮合來制備本發(fā)明中使用的溶膠成分。通過每摩爾可水解基團(X)加入0.05-2.0摩爾，優(yōu)選0.1~1.0摩爾的水，然后在本發(fā)明中可用的催化劑存在下于25-100°C攪拌，進行有機硅烷的水解和縮合反應。在有機硅垸的水解產(chǎn)物或其部分縮合物至少之一中，當除去分子量低于300的成分時，含有乙烯基聚合性基團的有機硅烷的水解產(chǎn)物或其部分縮合物的重均分子量優(yōu)選為450~20，000，更優(yōu)選500~10,000，再更優(yōu)選550~5，000，特別優(yōu)選600~3,000。這里，重均分子量和分子量是使用柱TSKgelGMHxL、TSKgelG4000HxL和TSKgelG2000HxL(商品名，TOSOHCORPORATION的產(chǎn)品)和溶劑THF的GPC分析儀通過差示折射計檢測并換算為聚苯乙烯的分子量，含量是分子量300以上的成分的峰面積作為100%在上述分子量范圍內(nèi)的峰的面積％。分散度(重均分子量/數(shù)均分子量)優(yōu)選為3.01.1，更優(yōu)選2.5U，再更優(yōu)選2.0U，特別優(yōu)選1.5~1.1。下面詳細說明本發(fā)明中使用的有機硅垸化合物的水解產(chǎn)物和其部分縮合物。有機硅垸的水解反應和隨后的縮合反應通常在催化劑存在下進行。適用的催化劑的例子包括無機酸，如鹽酸、硫酸和硝酸；有機酸，如草酸、乙酸、丁酸、馬來酸、檸檬酸、甲酸、甲磺酸和甲苯磺酸；無機堿，如氫氧化鈉、氫氧化鉀和氨水；有機堿，如三乙胺和吡啶；金屬醇鹽，如三異丙氧基鋁、四丁氧基鋯、四丁基鈦酸酯和二丁基二月桂酸錫；含有例如Zr、Ti和Al作為各自中心金屬的金屬-螯合物；和含氟化合物，如KF和NH4F。這些催化劑可以單獨使用，或者兩種以上組合使用。有機硅垸的水解和縮合反應可以在存在或不存在溶液中進行，但有利的是，使用有機溶劑以均勻地混合各成分。例如，醇、芳香烴、醚、酮和酯適合作為用于此目的的有機溶劑。優(yōu)選使用能夠同時溶解有機硅烷和催化劑的溶劑。此外，從處理的觀點來看，適宜的是使用有機溶劑作為涂布液或涂布液的一部分。此外，優(yōu)選的是，當與其他材料如含氟聚合物混合時，所用的有機溶劑不會損害其溶解性或分散性。通過向有機硅烷中加入按每摩爾可水解基團計0.052摩爾、優(yōu)選0.1~1摩爾的水，并在上述溶劑存在或不存在下，在催化劑存在下，在25。C100。C下攪拌，從而進行有機硅烷的水解和縮合。除了含有溶膠成分和金屬螯合物的組合物之外，還優(yōu)選向本發(fā)明中使用的涂布液中加入P-二酮化合物或P-酮酯化合物中的至少一種。適宜的是，有機硅垸化合物的水解產(chǎn)物和其部分縮合物在由相對薄的膜形成的防反射層中具有低含量，在厚的膜形成的硬涂層或防眩層中具有高含量?？紤]到表現(xiàn)的效果和折射率、形成的膜形狀和表面條件，其含量優(yōu)選為按含有它們的層(它們所加入的層)的總固體含量計0.1~50質(zhì)量％，更優(yōu)選0.5-30質(zhì)量％，特別優(yōu)選1~15質(zhì)量％。(高折射率層和中折射率層)在本發(fā)明的光學膜具有高折射率層，以增強其防反射性。此外，本發(fā)明的光學膜還可以具有中折射率層。在本發(fā)明中，高折射率層和中折射率層有時統(tǒng)稱為高折射率層。此外，術(shù)語"高折射率層"、"中折射率層"和"低折射率層"中的形容詞"高"、"中"和"低"分別指各層中的折射率相對大小關(guān)系。關(guān)于與透明支持體的折射率關(guān)系，優(yōu)選滿足以下關(guān)系透明支持體>低高折射率層，和高折射率層>透明支持體。在本發(fā)明中，中折射率層是折射率高于防眩層但低于高折射率層的層，并優(yōu)選設置在防眩層和高折射率層之間。因此，當干涉層具有如防眩層/高折射率層/低折射率層構(gòu)成中的兩層結(jié)構(gòu)時，這種構(gòu)成可以表示為防眩層/中折射率層/低折射率層。此外，高折射率層、中折射率層和低折射率層有時統(tǒng)稱為防反射層。當構(gòu)造光學膜，使得在防眩層上形成高折射率層和低折射率層時，高折射率層的折射率可以選自1.53~2.30，其適合的設置為1.55~2.30，優(yōu)選1.55~2.00，更優(yōu)選1.55~1.70。當通過按距支持體距離增大的順序在支持體上設置中折射率層、高折射率層和低折射率層來形成光學膜時，高折射率層的折射率優(yōu)選為1.60~2.30，更優(yōu)選1.65-2.20。中折射率層的折射率被調(diào)節(jié)到低折射率層的折射率和高折射率層的折射率之間的值。中折射率層的折射率優(yōu)選為1.55~1.80，更優(yōu)選1.60-1.75，再更優(yōu)選1.60-1.70。本發(fā)明中使用的高折射率層和中折射率層各自可以優(yōu)選含有用于調(diào)節(jié)折射率并且改進在防眩層上涂布性的無機粒子。在形成高折射率層和中折射率層時，優(yōu)選按以下步驟進行在分散介質(zhì)中分散無機粒子得到分散液，優(yōu)選進一步與基質(zhì)形成所需的粘結(jié)劑前體(例如，后述的電離射線固化性多官能團單體或低聚物)、光聚合引發(fā)劑等混合，從而制備形成高折射率層和中折射率層的涂布組合物，然后在透明支持體上涂布這樣制備的涂布組合物，然后通過電離射線固化性化合物(例如，多官能團單體和低聚物)的交聯(lián)反應或聚合反應進行固化。作為高折射率層和中折射率層中使用的粘結(jié)劑前體，上述化合物是適宜的。兩種以上的這些化合物可以混合使用。按該層的涂布組合物的總固體含量計，向高折射率層和中折射率層中加入的粘結(jié)劑前體優(yōu)選加入量為5~80質(zhì)量％。按該層的總固體含量計，高折射率層和中折射率層中的無機微粒含量優(yōu)選為優(yōu)選30~90質(zhì)量％，更優(yōu)選40-80質(zhì)量％，特別優(yōu)選50-75質(zhì)量％。在各層中兩種以上的無機微粒可以混合使用。在高折射率層和中折射率層中，可以優(yōu)選使用通過含有芳香族環(huán)的電離射線固化性化合物、含有除氟原子之外的卣原子(例如，Br、I、Cl)的電離射線固化性化合物、含有S、N和/或P原子的電離射線固化性化合物等的交聯(lián)或聚合反應制備的粘結(jié)劑前體。(無機微粒)為了調(diào)節(jié)折射率、改善在防眩層上形成的涂層的厚度均勻性和排斥并增強諸如硬度等物理特性或諸如反射率和散射性等光學特性，在本發(fā)明中，可以使用各種無機微粒。按各層的總固體含量計，加到高折射率層和中折射率層中的無機微粒量優(yōu)選為至少30質(zhì)量％，更優(yōu)選至少40質(zhì)量％，特別優(yōu)選至少50質(zhì)量％。粒子的加入量小于30質(zhì)量％是不希望的，因為會在防眩層上發(fā)生排斥并且所得的涂層使厚度均勻性變差。無機微粒是選自硅、鋯、鈦、鋁、銦、鋅、錫和銻的至少一種金屬的氧化物的微粒，其例子包括Si02、Zr02、Ti02、AI203、ln203、ZnO、Sn02、Sb203、ITO禾卩ATO。換句話說，在本發(fā)明中，高折射率層和中折射率層優(yōu)選含有選自Si、Al、Ti、Zr、Sb、Zn、Sn和In的至少一種金屬的氧化物微粒。除了這些微粒之外，還可以使用諸如BaS04、CaC03、滑石或高嶺土等其他無機微粒。在形成高折射率層和中折射率層時，優(yōu)選的是，通過在溶劑中與粘結(jié)劑前體、引發(fā)劑和有機取代的硅化合物一起分散具有高折射率的無機微粒制備涂布組合物，然后轉(zhuǎn)化成硬化物質(zhì)。作為分散進涂布組合物中的無機微粒，從折射率的觀點來看，Zr02和Ti02是特別優(yōu)選的。作為Ti02粒子，特別優(yōu)選是含有Ti02作為主要成分并含有選自鈷、鋁或鋯的至少一種元素的無機粒子。這里所用的術(shù)語"主要成分"指在構(gòu)成粒子的全部成分中具有最高含量(質(zhì)量％)的成分。在本發(fā)明中適宜的是，含有Ti02作為主要成分的粒子的折射率為1.90~2.80，更優(yōu)選2.102.80，特別優(yōu)選2.20-2.80。含有Ti02作為主要成分的粒子的適宜晶體結(jié)構(gòu)是其主要成分具有金紅石結(jié)構(gòu)、金紅石/銳鈦礦混晶結(jié)構(gòu)、銳鈦礦結(jié)構(gòu)或非晶結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)，特別優(yōu)選的是，粒子結(jié)構(gòu)的主要成分是金紅石結(jié)構(gòu)。這里所用的術(shù)語"主要成分"指在構(gòu)成粒子的全部結(jié)構(gòu)成分中具有最高含量(質(zhì)量％)的成分。通過將選自Co(鈷)、Al(鋁)或Zr(鋯)的至少一種元素加到含有Ti02作為主要成分的粒子中，可以抑制Ti02的光催化活性，并且可以改善本發(fā)明的膜的耐氣候性。在這些元素中，特別優(yōu)選的元素是Co(鈷)。還優(yōu)選的是混合使用兩種以上的元素。含有Ti02作為主要成分的無機粒子可以按JP-A-2001-166104記載的表面處理而具有芯/殼結(jié)構(gòu)。優(yōu)選的是，本發(fā)明中使用的無機微粒的粒徑在分散介質(zhì)中分散成盡可能小的粒徑，并且適宜的重均粒徑為1~200nm，優(yōu)選5-150nm，更優(yōu)選10100nm，特別優(yōu)選10-80nm。通過細化無機粒子至不大于200nm的粒徑，可以形成沒有透明度損失的膜。可以使用光散射法或電子顯微照片測量無機微粒的粒徑。無機微粒的比表面積優(yōu)選為10400m2/g，更優(yōu)選20200m"g，特別優(yōu)選30~150m2/g。本發(fā)明中使用的無機微粒優(yōu)選分散在分散介質(zhì)中，并加到形成各層的涂布液中。作為無機微粒用的分散介質(zhì)，優(yōu)選使用沸點為60~170°C的液體。分散介質(zhì)的例子包括水、醇類(例如，甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、節(jié)醇)、酮類(例如，丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮)、酯類(例如，乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸丁酯)、脂肪族烴類(例如，己垸、環(huán)己垸)、鹵代烴類(例如，二氯甲烷、氯仿、四氯化碳)、芳香烴類(例如，苯、甲苯、二甲苯)、酰胺類(例如，二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮)、醚類(例如，乙醚、二噁烷、四氫呋喃)和醚醇類(例如，l-甲氧基-2-丙醇)。在這些分散介質(zhì)中，優(yōu)選的是甲苯、二甲苯、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮和丁醇。其中，特別優(yōu)選的分散介質(zhì)是甲基乙基酮、甲基異丁基酮或環(huán)己酮?？梢允褂梅稚C分散無機微粒。分散機的例子包括砂磨機(例如，帶針的砂磨機)、高速葉輪、卵石磨機、磨碎機和膠體磨。在這些分散機中，優(yōu)選砂磨機和高速葉輪。此外，可以進行預分散處理。用于預分散處理的分散機的例子包括球磨機、三輥磨、捏合器和擠出機。(導電性粒子)為了賦予本發(fā)明的光學膜以導電性，可以使用各種導電性粒子。導電性粒子優(yōu)選由金屬氧化物或氮化物形成。金屬氧化物或氮化物的例子包括氧化錫、氧化銦、氧化鋅和氮化鈦。在這些中，氧化錫和氧化銦是優(yōu)選的。導電性無機粒子包括所述金屬氧化物或氮化物作為主要成分，還可以含有其他元素。術(shù)語"主要成分"指在構(gòu)成粒子的全部成分中具有最高含量(質(zhì)量°/。)的成分。其他元素的例子包括Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P、S、B、Nb、In、V和卣原子。為了增強氧化錫和氧化銦的導電性，優(yōu)選加入Sb、Sn、P、B、Nb、In、V或鹵原子。特別地，含有Sb的氧化錫(ATO)和含有Sn的氧化銦(ITO)是優(yōu)選的。ATO中Sb的適宜比例為3~20質(zhì)量°/。，ITO中Sn的適宜比例為5~20質(zhì)量％。導電性無機粒子可以被表面處理。使用無機化合物或有機化合物進行表面處理。表面處理中適用的無機化合物是氧化鋁或氧化硅，氧化硅處理是特別優(yōu)選的。表面處理中適用的有機化合物的例子包括多元醇、烷醇胺、硬脂酸、硅烷偶聯(lián)劑和鈦酸鹽偶聯(lián)劑。在這些化合物中，硅烷偶聯(lián)劑是特別優(yōu)選的?？梢越M合進行兩種以上的表面處理。導電性無機粒子的形狀優(yōu)選為米粒狀、球形狀、立方體狀、紡錘狀或不定形狀。此外，在特定層中或在形成膜中可以混合使用兩種以上的導電性無機粒子。在形成抗靜電層時，可以使用分散體狀態(tài)的導電性無機粒子。在本發(fā)明中，構(gòu)成防反射膜的至少一層薄膜層可以被設計用作導電層。更具體而言，作為薄膜層的低折射率層、中折射率層和高折射率層中的至少任一層可以被賦予導電性，使得該層用作導電層。從加工簡化的觀點來看，該步驟是非常有利的。這里，適宜的是選擇導電層的材料，使得導電層的厚度和折射率滿足中折射率層或高折射率層的要求。從防止膜表面的靜電積聚的觀點來看，由于低折射率層是表面層或防反射膜的接近表面層，因此最適宜的是，賦予低折射率層以導電性。然而，在許多情況下，導電粒子和化合物是具有高折射率的材料，因此存在的問題是，難于得到所需的低折射率。由于導電粒子和化合物是具有高折射率的材料，因而可以容易地賦予中折射率層和高折射率層以導電性。高折射率層和中折射率層的厚度可以根據(jù)用途適宜地選擇。當通過在防眩層上依序形成高折射率層和中折射率層而制造光學膜時，高折射率層的厚度優(yōu)選為30-200nm，更優(yōu)選50170nm，特別優(yōu)選60-150nm。當通過用三個薄膜層，即隨距支持體的距離增大依次為中折射率層、高折射率層和低折射率層，涂布支持體而制造光學膜時，中折射率層的厚度優(yōu)選為30-150nm，更優(yōu)選40-100nm，特別優(yōu)選40~70nm，而高折射率層的厚度優(yōu)選為30200nm，更優(yōu)選50-150nm，特別優(yōu)選90~140nm。當通過利用折射率不同的薄膜疊層的光學干涉實現(xiàn)低反射率時，適宜的是疊置各自厚度為200nm以下的兩個以上的薄膜層。這些薄膜層具有200nm以下的極薄厚度，不同于被稱作例如用于控制防眩層不均勻性的上涂層和表面調(diào)節(jié)層。利用當前使用的防眩層的不均勻表面形狀，在這種不均勻?qū)由贤ㄟ^涂布形成的薄膜層由于不均勻性而具有不均勻厚度，導致不夠的反射率下降。因此，根據(jù)本發(fā)明的防眩層的不均勻表面形狀變得非常重要。關(guān)于高折射率層和中折射率層的霧度值，在不含有賦予防眩功能的粒子的情況下，越低越好。具體而言，霧度值優(yōu)選為5%以下，更優(yōu)選3%以下，特別優(yōu)選1°/。以下。高折射率層和中折射率層優(yōu)選在防眩層上直接或經(jīng)由另一層構(gòu)成。)中，加入3.0質(zhì)量份的二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物(DPHA)、0.1質(zhì)量份的光聚合引發(fā)劑(IRGACURE184，CibaSpecialtyChemicalsInc.制)、0.1質(zhì)量份的SP-13和86.9質(zhì)量份的甲基異丁基酮，并攪拌。充分攪拌后，得到的混合物用孔徑為0.4的聚丙烯過濾器過濾，制得中折射率層用的涂布液A。(制備高折射率層用的涂布液A)向15.0質(zhì)量份的含有Zr02微粒的形成硬涂層用的化學試劑(DeSoliteZ7404[折射率1.72，固形物濃度60質(zhì)量％，氧化鋯微粒含量70質(zhì)量%(按固形物計)，氧化鋯微粒的平均粒徑約20nm，溶劑組成MIBK/MEK-9/1，JSRCorporation制])中，加入0.1質(zhì)量份的SP-13和85.0質(zhì)量份的甲基異丁基酮，并攪拌。得到的混合物用孔徑為0.4pm的聚丙烯過濾器過濾，制得高折射率層用的涂布液A。(制備低折射率層用的涂布液A)<制備含有中空氧化硅微粒的分散液>向500質(zhì)量份的中空氧化硅微粒溶膠(異丙醇氧化硅溶膠，CS60-IPA，JGCC&C制，平均粒徑60nm，殼厚度10nm，氧化硅濃度20%，氧化硅粒子的折射率1.31)中，加入20質(zhì)量份的丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅垸和1.5質(zhì)量份的乙基乙酸二異丙氧基鋁，并混合。向其中加入9質(zhì)量份的離子交換水。反應混合物在60。C下反應8小時，然后冷卻至室溫，再與1.8質(zhì)量份的乙?；旌希瑥亩玫椒稚⒁?。然后，通過在30Torr的低壓下進行蒸餾置換溶劑，同時加入環(huán)己酮以使氧化硅含量幾乎保持不變，最后進行濃度調(diào)節(jié)，從而得到固形物濃度為18.2%的分散液。通過氣相色譜分析得到的分散液中殘余的IPA量，為至多0.5%。使用由此得到的中空氧化硅粒子分散液，制備以下組成的低折射率層用的涂布液A。低折射率層用的涂布液A的組成DPHA1.0質(zhì)量份P-l1.6質(zhì)量份中空氧化硅粒子分散液(18.2%)26.4質(zhì)量份RMS-0330.4質(zhì)量份IRGACURE9070.3質(zhì)量份M-l1.9質(zhì)量份MEK168.4質(zhì)量份P-l:JP-A-2004-45462中記載的含氟共聚物P-3(重均分子量約50,000)DPHA:二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物(NIPPONKAYAKUCo"Ltd.制)Irgacure907:聚合弓I發(fā)劑(NihonCiba-GeigyK.K.制)M-l:上面示出的含氟多官能團丙烯酸酯RMS-033:甲基丙烯酰氧基-改性的硅樹脂Gelest,Inc.制)使用具有節(jié)流口模的涂布器在各防眩層上直接擠出中折射率層的涂布液、高折射率層的涂布液和低折射率層的涂布液，并使得具有表6所示的結(jié)構(gòu)。關(guān)于形成各層的涂布液用量，為了在PET膜上得到所需厚度，使用的涂布液所需量如同在各個防眩層上涂布涂布液時一樣。PET膜上的厚度作為各防眩層上的實際厚度并在表6中表示。使用反射厚度計FE-3000(OTSUKAELECTRONICSCO.，LTD.制)測量PET上的厚度。此外，在玻璃板上涂布各涂布液至形成各層厚度約4nm后，使用阿貝折射計(ATAGOCO.，LTD.制)測量折射率。中折射率層的干燥條件是90°C和30秒，紫外線固化條件在用氮氣沖洗使得氣氛中的氧濃度為1.0vol。/。以下的同時，使用180W/cm氣冷金屬鹵化物燈(EyeGraphicsCo.,Ltd.制)以照度400mW/cm2和照射量60mJ/cm2進行照射。高折射率層的干燥條件是90°C和30秒，紫外線固化條件在用氮氣沖洗使得氣氛中的氧濃度為1.0vom以下的同時，使用240W/cm氣冷金屬鹵化物燈(EyeGraphicsCo.,Ltd.制)以照度400mW/cn^和照射量240mJ/cm2進行照射。低折射率層的干燥條件是60。C和60秒，紫外線固化條件在用氮氣沖洗使得氣氛中的氧濃度為0.1volo/。以下的同時，使用240W/cm氣冷金屬鹵化物燈(EyeGraphicsCo.,Ltd.制)以照度600mW/cn^和照射量600mJ/cm2進行照射。<table>tableseeoriginaldocumentpage80</column></row><table>(光學膜的評價)根據(jù)與實施例1中相同方法對各光學膜進行各種性能評價。結(jié)果示于表7。此時，在使液晶顯示裝置處于1,000lux亮室中的黑顯示模式的條件下，通過目視觀察對黑顯示模式時的黑稠密性(顯示性能)進行評價。顯示性能分成1至10分(IO分最好)。評價標準如下10分代表顯示屏幕根本沒有被外來光遮蔽感覺的狀態(tài)，黑顯示模式的亮度低并且在明室中對比度非常令人滿意地高。另一方面，3分以下代表顯示屏幕具有被外來光遮蔽的很強感覺的狀態(tài)，其黑顯示模式不是在可接受的水平(NG)并且在亮室中對比度低。<table>tableseeoriginaldocumentpage82</column></row><table>從上述結(jié)果可以看出，具有凹凸的以平坦部多為特征的防眩層對極高的黑稠密性起貢獻。以上數(shù)據(jù)表明，當在這種特征的防眩層上涂布光學干涉層時，可以均勻狀態(tài)形成，因為各防眩層具有平坦部多的表面結(jié)構(gòu)，這是由于粒度比防眩層的厚度大0.1~4.0{im的稀疏分布的透光性粒子形成凹凸的原因；結(jié)果，得到反射率充分下降并且不僅具有防止反射而且可提供高黑稠密性的光學膜。實施例3制備用于形成低折射率層的具有以下組成的涂布液B。低折射率層用的涂布液B的組成DPHA1.0質(zhì)量份MEK-ST-L26.4質(zhì)量份RMS-0330.4質(zhì)量份IRGACURE9070.3質(zhì)量份M-l1.9質(zhì)量份MEK170.0質(zhì)量份MEK-ST-L:平均粒度約50nm的膠體氧化硅，NISSANCHEMICALINDUSTRIES,LTD.制。按與實施例2相同方式制備表8所示樣品24和25，除了通過涂布上述組合物形成低折射率層。表8<table>tableseeoriginaldocumentpage83</column></row><table>(光學膜的評價)根據(jù)與實施例1中相同方法對各光學膜進行各種性能評價。結(jié)果示于表9。此時，在使液晶顯示裝置處于6001ux亮室中的黑顯示模式的條件下，通過目視觀察對黑顯示模式時的黑稠密性(顯示性能)進行評價。顯示性能分成1至10分(IO分最好)。評價標準如下10分代表顯示屏幕根本沒有被外來光遮蔽感覺的狀態(tài)，黑顯示模式的亮度低并且在明室中對比度非常令人滿意地高。另一方面，3分以下代表顯示屏幕具有被外來光遮蔽的很強感覺的狀態(tài)，其黑顯示模式不是在可接受的水平(NG)并且在亮室中對比度低。表9<table>tableseeoriginaldocumentpage84</column></row><table>從以上結(jié)果可以看出，當使用根據(jù)本發(fā)明的防眩層減小防反射層的厚度變化時，有利的是使低折射率層和防眩層之間的折射率差為0.05以上，因為這有助于反射率更大降低和黑稠密性大幅改善。實施例4通過從低折射率層形成用的涂布液A除去中空氧化硅的分散液來制備涂布液。在與實施例1中涂布低折射率層相同的條件下，分別將該涂布液涂布在防眩層101和103上。然而，觀察到形成的各涂層發(fā)生排斥和不均勻并且表面條件變差。在根據(jù)本發(fā)明的光學膜中，環(huán)境光反射降低，并且確保高黑稠密性。此外，由于防反射層的厚度變動隨著在設有防反射層的光學膜上的位置變小，因而可以同時實現(xiàn)極低反射率和防眩性能之間的相容。更具體地，通過將至少一種透光性粒子加到本發(fā)明的防眩層中并分別調(diào)節(jié)透光性粒子在防眩層的總固體含量中的比例和其平均粒度在特定范圍內(nèi)，進一步調(diào)節(jié)防眩層表面上凹凸的傾斜角e在0°<9<0.5°范圍內(nèi)的區(qū)域(e(o.5))至特定范圍內(nèi)的值，本發(fā)明可以提供環(huán)境光反射降低和黑稠密性高的光學膜。在本申請中已經(jīng)要求的外國優(yōu)先權(quán)的每個外國專利申請的全部內(nèi)容以引用的方式加入本文，如同在本文完全公開一樣。權(quán)利要求1.光學膜，其包含支持體；和具有凹凸表面的至少一層防眩層，其中所述至少一層防眩層含有按所述防眩層的總固體含量計其量為0.01～1質(zhì)量％的至少包括第一透光性粒子的透光性粒子，所述第一透光性粒子的平均粒度比所述防眩層的平均厚度大0.1～4.0μm，并且所述防眩層表面上的凹凸的傾斜角θ在0°＜θ＜0.5°范圍內(nèi)的區(qū)域θ(0.5)占所述防眩層表面的40％～98％。2.如權(quán)利要求1所述的光學膜，其中所述第一透光性粒子以所述防眩層的單位面積計的數(shù)量為10~1,500個/mm2。3.如權(quán)利要求1或2所述的光學膜，其中所述第一透光性粒子的平均粒度為3pm~15pm。4.如權(quán)利要求1所述的光學膜，其中所述防眩層表面的算術(shù)平均粗糙度Ra為0.03]Lim<Ra<0.4|um，凹凸的平均間隔Sm為80nm<Sm<700(im。5.如權(quán)利要求1所述的光學膜，其中所述第一透光性粒子是樹脂粒子，和所述樹脂粒子中的聚甲基丙烯酸甲酯含量為40質(zhì)量~100質(zhì)量％。6.如權(quán)利要求1所述的光學膜，其中所述防眩層還含有平均粒度小于所述防眩層的平均厚度并包括聚甲基丙烯酸甲酯的第二透光性粒子。7.如權(quán)利要求1所述的光學膜，其還包含直接地或經(jīng)由另一層在所述防眩層上設置折射率比所述防眩層低的至少一層低折射率層。8.如權(quán)利要求7所述的光學膜，其中所述低折射率層包含按所述低折射率層的總固體含量計含量為20~70質(zhì)量％的無機微粒。9.如權(quán)利要求7所述的光學膜，其中所述防眩層和所述低折射率層之間的折射率差為0.05以上。10.偏振片，其包含保護膜；和設在所述保護膜之間的偏振膜，其中所述保護膜中的至少一個如權(quán)利要求1所述的光學膜。11.圖像顯示裝置，其包含顯示裝置，其具有如權(quán)利要求1所述的光學膜或如權(quán)利要求IO所述的偏振片o全文摘要本發(fā)明提供一種光學膜，其包含支持體；和具有凹凸表面的至少一層防眩層，其中所述至少一層防眩層含有按所述防眩層的總固體含量計其量為0.01～1質(zhì)量％的包括第一透光性粒子的至少一種透光性粒子，所述第一透光性粒子的平均粒度比所述防眩層的平均厚度大0.1～4.0μm，并且所述防眩層表面上的凹凸的傾斜角θ在0°＜θ＜0.5°范圍內(nèi)的區(qū)域θ(0.5)占所述防眩層表面的40％～98％。文檔編號G02F1/1335GK101685177SQ20091020442公開日2010年3月31日申請日期2009年9月25日優(yōu)先權(quán)日2008年9月26日發(fā)明者朝倉徹也,脅阪大樹,鈴木貴登申請人:富士膠片株式會社