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液晶顯示裝置的制作方法

文檔序號(hào):2744254閱讀:131來(lái)源:國(guó)知局
專(zhuān)利名稱(chēng):液晶顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示裝置,尤其涉及在形成于顯示區(qū)域的周?chē)母鱾€(gè)虛設(shè)像素中
形成有多個(gè)靜電保護(hù)用的開(kāi)關(guān)元件的液晶顯示裝置。
背景技術(shù)
液晶顯示裝置一般存在薄輕輕量、低功耗的特征,尤其是采用了薄膜晶體管 TFT(Thin Film Transistor)作為開(kāi)關(guān)元件的有源矩陣型的液晶顯示裝置,已廣泛用于從 移動(dòng)電話機(jī)、便攜終端乃至于大型電視機(jī)??墒牵壕э@示裝置,在制造工序中、使用中等, 若靜電侵入顯示區(qū)域內(nèi),則會(huì)在能夠形成為液晶顯示裝置、完成了的階段,產(chǎn)生顯示缺陷。 尤其是在中小型機(jī)種中,隨著高精細(xì)化的進(jìn)展,迄今為止,變得容易發(fā)生以上靜電不良。靜 電,既在制造工序中、也在運(yùn)送面板時(shí),僅因與其他物體接觸而產(chǎn)生。并且,在取向膜的研磨 時(shí),由于摩擦最易產(chǎn)生靜電。從而,在液晶顯示裝置的制造技術(shù)領(lǐng)域,要求不產(chǎn)生由靜電引 起的顯示缺陷。 為了防止由這樣的靜電引起的像素缺陷的產(chǎn)生,在下述專(zhuān)利文獻(xiàn)l中,公開(kāi)了這 樣的液晶顯示裝置的發(fā)明該液晶顯示裝置在顯示區(qū)域的周邊部分形成有虛設(shè)像素,并在 該虛設(shè)像素內(nèi)形成有靜電保護(hù)用的多個(gè)微小的虛設(shè)像素電極和開(kāi)關(guān)元件。在此,對(duì)于在下 述專(zhuān)利文獻(xiàn)1中公開(kāi)的液晶顯示裝置的虛設(shè)像素部分的結(jié)構(gòu),使用圖12 圖14進(jìn)行說(shuō)明。
圖12是在下述專(zhuān)利文獻(xiàn)1中公開(kāi)的陣列基板的虛設(shè)像素區(qū)域的俯視放大圖。圖 13是圖12的IX部分的俯視放大圖。圖14是圖13的X-X線的剖面圖。
以往例的液晶顯示裝置50,是半透射型液晶顯示裝置,在其第1透光性基板51上 設(shè)置有隔著柵絕緣膜而設(shè)置為矩陣狀的多條掃描線及信號(hào)線。還有,在圖12中,作為掃描 線僅示出了掃描線Xn-2、Xn-l、Xn、Xn+l、Xn+2的部分,作為信號(hào)線僅示出了 Y1、Y2. . . Ym的 部分。其中,由多條掃描線X1、X2. . . Xn及信號(hào)線Y1、Y2. . . Ym包圍的區(qū)域是顯示區(qū)域,由多 條掃描線Xn、 Xn+l、Xn+2及信號(hào)線Yl、 Y2. . . Ym包圍的區(qū)域成為非顯示區(qū)域。
在該顯示區(qū)域中,在由各掃描線及信號(hào)線包圍的每一區(qū)域,設(shè)置有作用于顯示的 像素電極52及反射板65。并且,在TFT54中,其源電極S連接至信號(hào)線Yl、 Y2. . . Ym,柵電 極G連接至掃描線XI、 X2. . . Xn,進(jìn)而,漏電極D經(jīng)由接觸孔(未圖示)電連接至像素電極 52及反射板65。并且,在漏電極D的下部,設(shè)置有輔助電容電極53。這樣的結(jié)構(gòu)的液晶顯 示裝置50的工作原理,因?yàn)橐咽枪?,所以省略其詳?xì)的說(shuō)明。 另一方面,在液晶顯示裝置50的顯示區(qū)域的周?chē)?,形成有由掃描線Xn、Xn+l、Xn+2 及信號(hào)線Y1、Y2. . . Ym包圍的非顯示區(qū)域,在該非顯示區(qū)域,在各個(gè)信號(hào)線Y1、Y2. . . Ym上設(shè) 置有多個(gè)虛設(shè)像素,該虛設(shè)像素具有TFT66及并不作用于顯示的虛設(shè)像素電極67。該虛設(shè) 像素的TFT66的源電極S,并聯(lián)連接至各信號(hào)線Yl、Y2. . . Ym,柵電極G并聯(lián)連接至各掃描線 Xn+l、Xn+2,進(jìn)而,漏電極D,如圖14所示,經(jīng)由接觸孔68連接至設(shè)置于層間膜69上的虛設(shè) 像素電極67。而且,該虛設(shè)像素的TFT66,比連接在作用于顯示的像素電極52上的TFT54 的溝道寬度及溝道長(zhǎng)度要小,由此,與連接在作用于顯示的像素電極52上的TFT54相比,更優(yōu)先地被靜電擊穿。 虛設(shè)像素電極67的面積,比顯示區(qū)域中的1個(gè)像素量的、作用于顯示的像素電極52及反射板65的面積的合計(jì)要小。還有,在圖12及圖13中,所示出的情況是將虛設(shè)像素電極67的各個(gè)的面積設(shè)定為顯示區(qū)域中的l個(gè)像素量的、作用于顯示的像素電極52及反射板65的面積的1/10,從而在掃描線Xn與Xn+1之間及Xn+1與Xn+2之間分別設(shè)置10個(gè),共計(jì)20個(gè)。 在這樣的結(jié)構(gòu)的液晶顯示裝置50中,若靜電從信號(hào)線用輸入端子62侵入,則最靠近信號(hào)線用輸入端子62的虛設(shè)像素區(qū)域的TFT66工發(fā)生靜電擊穿而釋放靜電。此后,若靜電再度從信號(hào)線用輸入端子62侵入,則最初發(fā)生了靜電擊穿的虛設(shè)像素區(qū)域的TFT66工的相鄰的TFT6^由于靜電擊穿而釋放靜電。因此,在該液晶顯示裝置50的制造工序中,因?yàn)轱@示區(qū)域的薄膜晶體管54能夠容許擊穿這樣的靜電侵入達(dá)20次,所以可得到實(shí)質(zhì)上并不會(huì)產(chǎn)生顯示缺陷的半透射型液晶顯示裝置50。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1特開(kāi)2006-276590號(hào)公報(bào) 可是,在上述專(zhuān)利文獻(xiàn)1所公開(kāi)的液晶顯示裝置50中所示的虛設(shè)像素,俯視形成于顯示區(qū)域的上下側(cè)的非顯示區(qū)域(以下,稱(chēng)為"源虛設(shè)像素區(qū)域")。因此,在源虛設(shè)像素區(qū)域中,因?yàn)樵?個(gè)像素量的區(qū)域內(nèi)形成有多個(gè)虛設(shè)像素,所以能夠應(yīng)對(duì)來(lái)自信號(hào)線側(cè)的多次靜電進(jìn)入。可是,在顯示區(qū)域的俯視左右側(cè)的非顯示區(qū)域(以下,稱(chēng)為"柵虛設(shè)像素區(qū)域")中,因?yàn)樵趌個(gè)像素量的區(qū)域內(nèi)難以形成多個(gè)虛設(shè)像素,所以為了能夠應(yīng)對(duì)來(lái)自掃描線側(cè)的多次靜電進(jìn)入,需要在顯示區(qū)域的俯視左右的兩側(cè),朝向外側(cè)形成多個(gè)虛設(shè)像素。因此,難以使柵虛設(shè)像素區(qū)域的寬度變窄。另外,在上述專(zhuān)利文獻(xiàn)1所公開(kāi)的液晶顯示裝置50中所示的虛設(shè)像素,因?yàn)榫邆銽FT66和虛設(shè)像素電極67,所以結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述的以往技術(shù)的問(wèn)題點(diǎn)而提出的。S卩,本發(fā)明的目的在于提
供在全部的非顯示區(qū)域中都能夠在1個(gè)像素量的區(qū)域內(nèi)形成多個(gè)簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)的靜電保護(hù)
元件,而且能夠不使非顯示區(qū)域的寬度增加地應(yīng)對(duì)多次靜電侵入的液晶顯示裝置。 為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明的液晶顯示裝置,具有夾持液晶層而相對(duì)配置的第1
基板及第2基板,在前述第1基板的液晶層側(cè),形成有配置為矩陣狀的多條掃描線及信號(hào)
線、配置于顯示區(qū)域的前述各掃描線及信號(hào)線的交叉部分附近的開(kāi)關(guān)元件、與前述開(kāi)關(guān)元
件電連接的像素電極,在前述顯示區(qū)域的周?chē)姆秋@示區(qū)域形成有多個(gè)虛設(shè)像素,其中在
多個(gè)前述虛設(shè)像素的各個(gè)中,形成有與前述掃描線或信號(hào)線連接的多個(gè)開(kāi)關(guān)元件,前述多
個(gè)開(kāi)關(guān)元件互相并聯(lián)連接且前述開(kāi)關(guān)元件的電極之一與被供給共用電位的布線連接。 本發(fā)明的液晶顯示裝置,在顯示區(qū)域的周?chē)姆秋@示區(qū)域形成有多個(gè)虛設(shè)像素。
即,本發(fā)明的液晶顯示裝置,既在俯視位于顯示區(qū)域的列方向的兩端側(cè)的作為非顯示區(qū)域
的源虛設(shè)像素區(qū)域、也在俯視位于顯示區(qū)域的行方向的兩端側(cè)的作為非顯示區(qū)域的柵虛設(shè)
像素區(qū)域,形成有虛設(shè)像素區(qū)域。而且,在虛設(shè)像素區(qū)域形成有多個(gè)虛設(shè)像素,在虛設(shè)像素
的各個(gè)中形成有多個(gè)開(kāi)關(guān)元件,前述多個(gè)開(kāi)關(guān)元件互相并聯(lián)連接,前述開(kāi)關(guān)元件的電極之
一與被供給共用電位的布線連接。還有,也可以在虛設(shè)像素區(qū)域形成虛設(shè)像素電極,并可以
使該虛設(shè)像素電極經(jīng)由接觸孔與開(kāi)關(guān)元件的電極連接,且使該虛設(shè)像素電極與被供給共用
5電位的布線連接。 另外,多個(gè)開(kāi)關(guān)元件,為了與掃描線或信號(hào)線連接,沿掃描線或信號(hào)線并排形成。而且,因?yàn)槎鄠€(gè)開(kāi)關(guān)元件的電極之一與被供給共用電位的布線連接,所以在靜電進(jìn)入掃描線或信號(hào)線的情況下,從靠近靜電的進(jìn)入處的開(kāi)關(guān)元件開(kāi)始按順序被靜電擊穿,該靜電流至被供給共用電位的布線而放電,所以能夠有效地保護(hù)液晶顯示裝置的顯示區(qū)域。而且,因?yàn)殪o電的進(jìn)入,容許至多個(gè)開(kāi)關(guān)元件全部被靜電擊穿為止,所以通過(guò)增多開(kāi)關(guān)元件的數(shù)量,可得到實(shí)質(zhì)上不會(huì)產(chǎn)生顯示缺陷的液晶顯示裝置。 還有,本發(fā)明,不僅對(duì)于TN(Twisted Nematic,扭曲向列)模式、VA(VerticalAlignment,垂直對(duì)齊)模式、ECB (Electrically ControlledBirefringence,電控雙折射)模式等縱向電場(chǎng)方式的液晶顯示裝置,而且對(duì)于IPS (In-Plane Switching,平面內(nèi)開(kāi)關(guān))模式、FFS(Fringe FieldSwitching,邊緣場(chǎng)開(kāi)關(guān))模式等橫向電場(chǎng)方式的液晶顯示裝置也可以應(yīng)用。并且,作為在本發(fā)明中能夠使用的開(kāi)關(guān)元件,能夠使用薄膜晶體管(TFT:ThinFilm Transistor)、薄膜二極管(Thin Film Diode) 、MIM(MetalInsulator Metal,金屬-絕緣體-金屬)元件等。 并且,在本發(fā)明的液晶顯示裝置中,優(yōu)選形成于前述虛設(shè)像素中的開(kāi)關(guān)元件,沿
前述掃描線形成多個(gè),從前述信號(hào)線直線狀地延伸的布線與前述開(kāi)關(guān)元件連接。 本發(fā)明的液晶顯示裝置,能夠容易地在1個(gè)虛設(shè)像素內(nèi)形成多個(gè)開(kāi)關(guān)元件。因此,
如果采用本發(fā)明的液晶顯示裝置,則因?yàn)榧词共患訉挅盘撛O(shè)像素區(qū)域的寬度也能夠沿掃描
線形成多個(gè)開(kāi)關(guān)元件,所以即使柵虛設(shè)像素區(qū)域的寬度狹窄也能夠有效地保護(hù)液晶顯示裝
置的顯示區(qū)域。 并且,在本發(fā)明的液晶顯示裝置中,優(yōu)選形成于前述虛設(shè)像素中的開(kāi)關(guān)元件,沿
前述信號(hào)線形成多個(gè),從前述掃描線直線狀地延伸的電極與前述開(kāi)關(guān)元件連接。 如果采用本發(fā)明的液晶顯示裝置,則因?yàn)榧词共患訉捲刺撛O(shè)像素區(qū)域的寬度也能
夠沿信號(hào)線形成多個(gè)開(kāi)關(guān)元件,所以即使源虛設(shè)像素區(qū)域的寬度狹窄也能夠有效地保護(hù)液
晶顯示裝置的顯示區(qū)域。 并且,在本發(fā)明的液晶顯示裝置中,優(yōu)選在前述虛設(shè)像素中,在前述掃描線或信號(hào)線上形成有彎曲部,前述多個(gè)開(kāi)關(guān)元件沿前述彎曲部形成。 在該液晶顯示裝置中,因?yàn)樵谔撛O(shè)像素中,在掃描線或信號(hào)線上形成有彎曲部,所
以位于虛設(shè)像素內(nèi)的掃描線或信號(hào)線的長(zhǎng)度變長(zhǎng)。因此,因?yàn)殚_(kāi)關(guān)元件占據(jù)的面積若與1
個(gè)像素量的面積相比則是較小的,所以能夠在虛設(shè)像素內(nèi)形成較多的開(kāi)關(guān)元件。
并且,在本發(fā)明的液晶顯示裝置中,優(yōu)選在前述虛設(shè)像素中,在前述掃描線上形
成有彎曲部,前述信號(hào)線形成有沿前述掃描線的彎曲部的外周延伸的分支信號(hào)線。 在該液晶顯示裝置中,因?yàn)槟軌蚣娱L(zhǎng)虛設(shè)像素中的掃描線的長(zhǎng)度,所以能夠與虛
設(shè)像素中的行方向的寬度無(wú)關(guān)地,容易地在虛設(shè)像素中形成多個(gè)開(kāi)關(guān)元件。因此,如果采用
該液晶顯示裝置,則因?yàn)榧词共惶貏e地加寬顯示區(qū)域的俯視左右側(cè)的非顯示區(qū)域的寬度也
能夠沿掃描線形成較多的開(kāi)關(guān)元件,所以即使顯示區(qū)域的俯視左右側(cè)的非顯示區(qū)域的寬度
狹窄,也能夠有效地保護(hù)液晶顯示裝置的顯示區(qū)域。作為掃描線的彎曲方式,因?yàn)橥ǔo@示
區(qū)域的像素的形狀被形成為掃描線側(cè)為短邊的矩形狀,所以?xún)?yōu)選在顯示區(qū)域的俯視左右
側(cè)的非顯示區(qū)域中的虛設(shè)像素內(nèi)彎曲為凸?fàn)罨虬紶?。如果顯示區(qū)域的像素的形狀為橫長(zhǎng)的
6矩形狀,則優(yōu)選掃描線在顯示區(qū)域的俯視左右側(cè)的非顯示區(qū)域中的虛設(shè)像素內(nèi)"- "字狀地彎曲為鋸齒形。在任何一種情況下,在使掃描線彎曲的情況下,只要信號(hào)線形成沿掃描線的彎曲部的外周延伸的分支信號(hào)線即可。 并且,在本發(fā)明的液晶顯示裝置中,優(yōu)選在前述虛設(shè)像素中,在前述信號(hào)線上形成有彎曲部,前述掃描線形成有以與前述信號(hào)線的彎曲部交叉的方式延伸的分支掃描線。
在該液晶顯示裝置中,因?yàn)槟軌蚣娱L(zhǎng)虛設(shè)像素中的信號(hào)線的長(zhǎng)度,所以即使不如以往例那樣使顯示區(qū)域的俯視上下側(cè)的非顯示區(qū)域的掃描線間距離變窄,也能夠沿信號(hào)線形成多個(gè)開(kāi)關(guān)元件。因此,如果采用該液晶顯示裝置,則因?yàn)榧词共惶貏e地加寬顯示區(qū)域的俯視上下側(cè)的非顯示區(qū)域的寬度也能夠形成較多的開(kāi)關(guān)元件,所以能夠有效地保護(hù)液晶顯示裝置的顯示區(qū)域。還有,作為信號(hào)線的彎曲方式,因?yàn)橥ǔo@示區(qū)域的像素的形狀被形成為信號(hào)線側(cè)為長(zhǎng)邊的矩形狀,所以?xún)?yōu)選在顯示區(qū)域的俯視上下側(cè)的非顯示區(qū)域中的虛設(shè)像素內(nèi)使之"- "字狀地彎曲為鋸齒形。在顯示區(qū)域的像素的形狀為橫長(zhǎng)的矩形狀的情況下,優(yōu)選信號(hào)線在顯示區(qū)域的俯視上下側(cè)的非顯示區(qū)域中的虛設(shè)像素內(nèi)彎曲為凸?fàn)罨虬紶?。在任何一種情況下,只要掃描線形成為以與信號(hào)線的彎曲部交叉的方式延伸為枝狀的方式即可。 在本發(fā)明的液晶顯示裝置中,優(yōu)選形成于前述虛設(shè)像素中的開(kāi)關(guān)元件,大小與形成于前述像素區(qū)域中的開(kāi)關(guān)元件基本相同。 如果形成于虛設(shè)像素中的開(kāi)關(guān)元件與形成于像素區(qū)域中的開(kāi)關(guān)元件為基本相同的大小,則不必特別地生成虛設(shè)像素區(qū)域的開(kāi)關(guān)元件形成用的掩模等,而且,其能夠在形成液晶顯示裝置的開(kāi)關(guān)元件時(shí)同時(shí)形成。因此,本發(fā)明的液晶顯示裝置,雖然在虛設(shè)像素區(qū)域具備多個(gè)開(kāi)關(guān)元件,卻能夠簡(jiǎn)單地制造。還有,本發(fā)明中的所謂"基本相同的大小",按如下意思來(lái)使用雖然可以未必為相同的大小,但是優(yōu)選為相同的大小。 并且,在本發(fā)明的液晶顯示裝置中,優(yōu)選前述開(kāi)關(guān)元件是TFT,形成于前述虛設(shè)像素中的TFT,分別地,其源電極與前述信號(hào)線連接,柵電極與前述掃描線連接,漏電極與前述被供給共用電位的布線連接。 TFT,通常用作為液晶顯示裝置的開(kāi)關(guān)元件。因此,如果采用本發(fā)明的液晶顯示裝置,則因?yàn)轱@示區(qū)域的開(kāi)關(guān)元件及虛設(shè)像素的開(kāi)關(guān)元件一起由TFT構(gòu)成,所以能夠同時(shí)且容易地制造這些開(kāi)關(guān)元件。 進(jìn)而,在本發(fā)明的液晶顯示裝置中,優(yōu)選形成于前述虛設(shè)像素中的TFT的溝道寬度及溝道長(zhǎng)度,分別比形成于前述顯示區(qū)域中的TFT的溝道寬度及溝道長(zhǎng)度小。
若形成于虛設(shè)像素中的TFT的溝道寬度及溝道長(zhǎng)度的各個(gè)比形成于顯示區(qū)域中的TFT的溝道寬度及溝道長(zhǎng)度的各個(gè)小,則其更易被靜電擊穿。因此,如果采用本發(fā)明的液晶顯示裝置,則因?yàn)榧词轨o電從外部侵入也可靠地使形成于虛設(shè)像素中的TFT先被靜電擊
穿,所以靜電難以進(jìn)入顯示區(qū)域內(nèi),從而能夠有效地保護(hù)液晶顯示裝置的顯示區(qū)域。 本發(fā)明的液晶顯示裝置,包括第1基板、第2基板、液晶層、顯示區(qū)域、第1虛設(shè)像
素區(qū)域、第2虛設(shè)像素區(qū)域、第1布線、第2布線和虛設(shè)像素。 第2基板,與第1基板相對(duì)。液晶層,介于第1基板與第2基板之間。在顯示區(qū)域中,能夠顯示圖像。第l虛設(shè)像素區(qū)域,設(shè)置于顯示區(qū)域的外側(cè)。第l虛設(shè)像素區(qū)域,相對(duì)于顯示區(qū)域在第l方向上相鄰。第2虛設(shè)像素區(qū)域,設(shè)置于顯示區(qū)域的外側(cè)。第2虛設(shè)像
7素區(qū)域,相對(duì)于顯示區(qū)域,在與第1方向交叉的第2方向上相鄰。 第1布線,介于第1基板與液晶層之間。第1布線,從第1虛設(shè)像素區(qū)域沿第1方向延伸至顯示區(qū)域內(nèi)。第2布線,介于第1基板與液晶層之間。第2布線,沿第2方向從第2虛設(shè)像素區(qū)域延伸至顯示區(qū)域內(nèi)。在第3布線上,供給共用電位。虛設(shè)像素,設(shè)置于第l虛設(shè)像素區(qū)域及第2虛設(shè)像素區(qū)域的各個(gè)中。 在各虛設(shè)像素中,設(shè)置有多個(gè)開(kāi)關(guān)元件。在各虛設(shè)像素中,多個(gè)開(kāi)關(guān)元件,相互并聯(lián)連接。在第l虛設(shè)像素區(qū)域,各虛設(shè)像素中的多個(gè)開(kāi)關(guān)元件,分別與第l布線連接。并且,在第2虛設(shè)像素區(qū)域,各虛設(shè)像素中的多個(gè)開(kāi)關(guān)元件,分別與第2布線連接。而且,各開(kāi)關(guān)元件,其電極之一與第3布線連接。 在該液晶顯示裝置中,在第l虛設(shè)像素區(qū)域,當(dāng)靜電進(jìn)入第l布線時(shí),靜電,容易從第1布線經(jīng)由開(kāi)關(guān)元件逃逸至第3布線。因此,在第1虛設(shè)像素區(qū)域,容易防止進(jìn)入了第1布線的靜電順著第1布線進(jìn)入顯示區(qū)域內(nèi)。 并且,在第2虛設(shè)像素區(qū)域,當(dāng)靜電進(jìn)入第2布線時(shí),靜電,容易從第2布線經(jīng)由開(kāi)關(guān)元件逃逸至第3布線。因此,在第2虛設(shè)像素區(qū)域,容易防止進(jìn)入了第2布線的靜電順著第2布線進(jìn)入顯示區(qū)域內(nèi)。 其結(jié)果,在該液晶顯示裝置中,能夠容易將靜電順著第l布線、第2布線等進(jìn)入顯示區(qū)域內(nèi)的情況抑制得較少,從而能夠容易保護(hù)顯示區(qū)域免受靜電侵入。


圖1是表示實(shí)施方式的液晶面板的陣列基板的示意俯視 圖2是圖1的II部分的俯視放大 圖3是圖2的顯示區(qū)域的1個(gè)子像素量的俯視放大 圖4是圖3的IV-IV線的剖面圖; 圖5是圖2的柵虛設(shè)像素區(qū)域的1個(gè)虛設(shè)像素量的俯視放大 圖6是圖5的VI-VI線的剖面圖; 圖7是變形例1的柵虛設(shè)像素區(qū)域的1個(gè)虛設(shè)像素量的俯視放大 圖8是變形例2中的相當(dāng)于圖1的II部分的部分的俯視放大 圖9是變形例2的柵虛設(shè)像素區(qū)域的1個(gè)虛設(shè)像素量的俯視放大 圖10是圖9的VII-VII線的剖面圖; 圖11是變形例3的柵虛設(shè)像素區(qū)域的1個(gè)虛設(shè)像素量的俯視放大 圖12是以往例的液晶顯示裝置中的陣列基板的虛設(shè)像素區(qū)域的俯視放大 圖13是圖12的IX部分的俯視放大圖;以及
圖14是圖13的X-X線的剖面圖。
符號(hào)的說(shuō)明 10...液晶顯示裝置,ll...第1基板,12...掃描線,12'...分支掃描線,13...輔助電容線,14...柵絕緣膜,15...半導(dǎo)體層,16...信號(hào)線,16'...分支信號(hào)線,17...鈍化膜,IS...層間膜,19、19'...接觸孔,20...像素電極,21...第2基板,22...濾色器層,23.遮光層,24.頂覆層,25.共用電極,30.保護(hù)TFT, AR.陣列基板,CF.濾色器基板,DA...顯示區(qū)域,ND...非顯示區(qū)域,COM...共用布線,GL...掃描線引繞布線,SL...信號(hào)線引繞布線,DP...虛設(shè)像素區(qū)域,GD...柵虛設(shè)像素區(qū)域,SD...源虛設(shè)像素區(qū) 域,CD...共用虛設(shè)像素區(qū)域。
具體實(shí)施例方式
以下,雖然參照實(shí)施方式及附圖對(duì)用于實(shí)施本發(fā)明的最佳方式進(jìn)行說(shuō)明,但是以
下所示的實(shí)施方式,并不旨在將本發(fā)明限定為所記載的方式,而是本發(fā)明也能夠均等地應(yīng)
用于在不脫離權(quán)利要求書(shū)所示的技術(shù)思想的情況下進(jìn)行各種變形而得到的方式。還有,在
該說(shuō)明書(shū)中的用于說(shuō)明的各附圖中,為了使各層、各部件在附圖上成為可以辨識(shí)的程度的
大小,使比例尺因?qū)?、部件而異?lái)進(jìn)行表示,而未必與實(shí)際的尺寸成比例地表示。 圖1是表示實(shí)施方式的液晶面板的陣列基板的示意俯視圖。圖2是圖1的II部
分的俯視放大圖。圖3是圖2的顯示區(qū)域的1個(gè)子像素量的俯視放大圖。圖4是圖3的
IV-IV線的剖面圖。圖5是圖2的柵虛設(shè)像素區(qū)域的1個(gè)虛設(shè)像素量的俯視放大圖。圖6
是圖5的VI-VI線的剖面圖。圖7是變形例的柵虛設(shè)像素區(qū)域的1個(gè)虛設(shè)像素量的俯視放大圖。[實(shí)施方式] 使用圖1 圖6說(shuō)明實(shí)施方式的液晶面板10。實(shí)施方式的液晶面板IO,如圖4所 示,將液晶層LC夾持于陣列基板AR及濾色器基板CF之間。液晶層LC的厚度,利用未圖示 的柱狀間隔體均勻地維持。并且,在陣列基板AR的背面及濾色器基板CF的前面,分別形成 有偏振板(圖示省略)。而且,從陣列基板AR的背面?zhèn)?,從背光?圖示省略)照射光。
陣列基板AR,如圖1所示,具備顯示各種圖像的顯示區(qū)域DA和作為其周邊的非顯 示區(qū)域ND,在該非顯示區(qū)域ND的一個(gè)端部側(cè),形成有用于載置驅(qū)動(dòng)器IC的第1端子部Dr 和外部連接用的第2端子部Tp。而且,在非顯示區(qū)域ND,具備向第1端子部Dr引繞顯示區(qū) 域DA的掃描線的掃描線引繞布線GL及向第1端子部Dr引繞信號(hào)線的信號(hào)線引繞布線SL。 并且,在非顯示區(qū)域ND,還形成有用于向第1端子部Dr引繞輔助電容線13(參照?qǐng)D3 圖 5)的共用布線C0M。還有,當(dāng)圖像顯示于顯示區(qū)域DA時(shí),在輔助電容線13上提供共用電位。 也就是說(shuō),當(dāng)圖像顯示于顯示區(qū)域DA時(shí),共用布線COM及輔助電容線13,保持為共用電位。
而且,如圖2所示,在顯示區(qū)域DA與非顯示區(qū)域ND邊界部分,分別形成有由源虛 設(shè)像素區(qū)域SD、柵虛設(shè)像素區(qū)域GD及共用虛設(shè)像素區(qū)域CD構(gòu)成的虛設(shè)像素區(qū)域DP。源虛 設(shè)像素區(qū)域SD,形成于非顯示區(qū)域ND的信號(hào)線引繞布線SL側(cè),其形成針對(duì)從信號(hào)線引繞布 線SL側(cè)進(jìn)入的靜電的靜電保護(hù)單元。并且,柵虛設(shè)像素區(qū)域GD形成于非顯示區(qū)域ND的掃 描線引繞布線GL偵U,其形成針對(duì)從掃描線引繞布線GL側(cè)進(jìn)入的靜電的靜電保護(hù)單元。進(jìn) 而,共用虛設(shè)像素區(qū)域CD,形成于源虛設(shè)像素區(qū)域SD與柵虛設(shè)像素區(qū)域GD之間的角部,其 形成針對(duì)從信號(hào)線引繞布線SL及掃描線引繞布線GL雙側(cè)進(jìn)入的靜電的靜電保護(hù)單元。還 有,關(guān)于這些虛設(shè)像素區(qū)域DP的詳細(xì)的結(jié)構(gòu),在后面描述。 首先,關(guān)于陣列基板AR的結(jié)構(gòu),按照制造工序順序進(jìn)行說(shuō)明。陣列基板AR,如圖 3及圖4所示,在由玻璃、石英、塑料等構(gòu)成的第1基板11的液晶LC側(cè),具有由鋁金屬、鋁 合金、鉬等不透明的金屬構(gòu)成的多條掃描線12、在該掃描線12間平行地形成的輔助電容線 (也包括寬度變寬的、作為輔助電容電極而起作用的部分)13和形成于非顯示區(qū)域ND的共 用布線COM(參照?qǐng)D1)。其中,掃描線12及輔助電容線13,不僅形成于顯示區(qū)域DA,而且也形成于虛設(shè)像素區(qū)域DP。并且,在該掃描線12等的形成時(shí),在非顯示區(qū)域ND的掃描線引繞 布線GL部分上,形成伸向第1端子部Dr的多條柵布線,在信號(hào)線引繞布線SL中也同樣形 成伸向第1端子部Dr的多條柵布線(圖示省略)。 這些掃描線12、輔助電容線13、柵布線及共用布線C0M,通過(guò)以下過(guò)程制作而成 在第1基板11的表面整體形成了鋁金屬、鋁合金、鉬等不透明的金屬層之后,利用旋涂法涂 敷抗蝕劑,并在以成為預(yù)定的圖案的方式進(jìn)行了曝光及顯影處理之后,蝕刻不需要部分。其 后,覆蓋掃描線12、柵布線、輔助電容線13及第1基板11的露出面,形成由氧化硅或氮化硅 等無(wú)機(jī)絕緣膜構(gòu)成的柵絕緣膜14。 接著,在柵絕緣膜14上,形成例如由非晶硅構(gòu)成的半導(dǎo)體層15。該半導(dǎo)體層15, 也通過(guò)以下過(guò)程制作而成在柵絕緣膜14的表面整體形成了非晶硅層之后,利用旋涂法涂 敷抗蝕劑,并在以成為預(yù)定的圖案的方式進(jìn)行了曝光及顯影處理之后,蝕刻不需要部分。該 半導(dǎo)體層15,不僅形成于顯示區(qū)域DA,而且也形成于虛設(shè)像素區(qū)域DP。
接著,在虛設(shè)像素區(qū)域DP的與輔助電容線13相對(duì)的部分,形成第1接觸孔19'(參 照?qǐng)D5及圖6)。其后,以部分搭置于半導(dǎo)體層15上的方式,形成源電極S、漏電極D。在該 實(shí)施方式的液晶顯示裝置10中,半導(dǎo)體層15隔著柵絕緣膜14與掃描線12的寬度部分地 變寬之處相對(duì)配置,其與該掃描線12俯視重疊的部分構(gòu)成TFT的柵電極G。源電極S由從 信號(hào)線16分支而成的部分構(gòu)成。信號(hào)線16及漏電極D,分別由鋁金屬、鋁合金、鉬等不透明 的金屬形成,并且不僅形成于顯示區(qū)域DA而且也形成于虛設(shè)像素區(qū)域DP。因此,形成于虛 設(shè)像素區(qū)域DP的漏電極D部分,成為經(jīng)由接觸孔19'與輔助電容線13電連接的狀態(tài)。
并且,在該信號(hào)線16及漏電極D的形成時(shí),在非顯示區(qū)域ND的掃描線引繞布線GL 上,形成伸向第1端子部Dr的多條源布線,并且在信號(hào)線引繞布線SL上也同樣形成伸向第 l端子部Dr的源布線(圖示省略)。還有,本發(fā)明中的柵布線及源布線,未必是指連接至液 晶面板的掃描線12或信號(hào)線16的布線,而將與掃描線12同時(shí)形成的布線稱(chēng)為柵布線,將 與信號(hào)線16同時(shí)形成的布線稱(chēng)為源布線。從而,在上述實(shí)施方式的液晶顯示裝置10中,位 于柵絕緣膜14之下的布線部分成為柵布線,位于柵絕緣膜14之上的布線部分成為源布線, 俯視二者間并無(wú)區(qū)別。 然后,以覆蓋半導(dǎo)體層15、源電極S、漏電極D、信號(hào)線16、源布線等及柵絕緣膜14
的露出部分的方式,在顯示區(qū)域DA及非顯示區(qū)域ND,共同形成由氧化硅或氮化硅等無(wú)機(jī)絕
緣膜構(gòu)成的鈍化膜17。進(jìn)而,在顯示區(qū)域DA中,覆蓋鈍化膜17形成由樹(shù)脂材料構(gòu)成的層間
膜18。作為層間膜18,能夠適宜選擇使用透明性良好、電絕緣性?xún)?yōu)異的感光性抗蝕劑材料。
該層間膜18,通過(guò)以下過(guò)程制作而成在鈍化膜17的表面,利用旋涂法涂敷抗蝕劑,并在以
成為預(yù)定的圖案的方式進(jìn)行了曝光及顯影處理之后,蝕刻不需要部分。 接著,以貫通鈍化膜17及層間膜18而達(dá)到漏電極D的方式,形成接觸孔19。進(jìn)
而,以覆蓋層間膜18的方式,在顯示區(qū)域DA的每一像素區(qū)域形成由ITO、IZO等透明導(dǎo)電材
料構(gòu)成的像素電極20。該像素電極20,經(jīng)由接觸孔19與漏電極D電連接。進(jìn)而,以覆蓋像
素電極20的表面的方式形成取向膜(圖示省略),從而得到實(shí)施方式的液晶顯示裝置10中
的陣列基板AR。 接下來(lái),關(guān)于濾色器基板CF進(jìn)行說(shuō)明。濾色器基板CF,具有由玻璃、石英、塑料等 構(gòu)成的第2基板21。在該第2基板21上,在每一子像素中形成有使不同顏色的光(R、G、B
10或者無(wú)色)透射的濾色器層22和遮光層23。以覆蓋濾色器層22和遮光層23的方式形成 頂覆層24,以覆蓋頂覆層24的方式形成由IT0或IZO構(gòu)成的共用電極25。而且,在共用電 極25的表面,形成取向膜(未圖示),從而完成實(shí)施方式的液晶顯示裝置10的濾色器基板。
而且,使如上所述地形成的陣列基板AR與濾色器基板CF相對(duì)配置,利用密封材料 (未圖示)密封其周邊部分,并通過(guò)將液晶LC封固于形成在陣列基板AR與濾色器基板CF 之間的密封區(qū)域內(nèi)而得到實(shí)施方式的液晶裝置10。 接下來(lái),關(guān)于形成于顯示區(qū)域DA的周?chē)奶撛O(shè)像素區(qū)域DP進(jìn)行說(shuō)明。虛設(shè)像素 區(qū)域DP,由源虛設(shè)像素區(qū)域SD、柵虛設(shè)像素區(qū)域GD及共用虛設(shè)像素區(qū)域CD構(gòu)成。雖然在 源虛設(shè)像素區(qū)域SD中,掃描線12的間隔變窄,但是在柵虛設(shè)像素區(qū)域GD中與顯示區(qū)域DA 中的掃描線12的間隔相同。 而且,在虛設(shè)像素區(qū)域DP的各個(gè)虛設(shè)像素中,沿掃描線12形成有多個(gè)、在此是2 個(gè)的、作為靜電保護(hù)元件的TFT(以下,稱(chēng)為"保護(hù)TFT")30。這些保護(hù)TFT30,雖然為了容 易與形成于顯示區(qū)域DA的TFT同時(shí)形成,其尺寸與形成于顯示區(qū)域DA的TFT實(shí)質(zhì)上相同, 但是其溝道寬度及溝道長(zhǎng)度比形成于顯示區(qū)域DA的TFT小。因此,保護(hù)TFT30,因?yàn)榕c形成 于顯示區(qū)域DA的TFT相比,抗靜電弱,所以與形成于顯示區(qū)域DA的TFT相比,先被靜電擊 穿。 如從圖2、圖5及圖6的記載可以看出的,在各個(gè)虛設(shè)像素中,柵電極G形成于同一 條掃描線12上,源電極S電連接至同一條信號(hào)線16,進(jìn)而漏電極D也電連接至在同一個(gè)虛 設(shè)像素內(nèi)形成的輔助電容線13。即,在各個(gè)虛設(shè)像素中,多個(gè)保護(hù)TFT30互相并聯(lián)連接。
如果采用這樣的結(jié)構(gòu)的虛設(shè)像素,則例如,在靜電從第1端子部Dr或第2端子部 Tp經(jīng)由信號(hào)線引線布線SL(參照?qǐng)D1)沿信號(hào)線16進(jìn)入的情況下,最初最靠近第l端子部 Dr或第2端子部Tp的位置的、連接至信號(hào)線16的保護(hù)TFT30將被靜電擊穿,從而靜電經(jīng)由 接觸孔19',從漏電極D流至輔助電容線13而放電。 同樣地,在靜電從第1端子部Dr或第2端子部Tp經(jīng)由掃描線引線布線GL沿掃描 線12進(jìn)入的情況下,也是最初最靠近第1端子部Dr或第2端子部Tp的位置的、連接至掃 描線12的保護(hù)TFT30將被靜電擊穿,從而靜電經(jīng)由接觸孔19',從漏電極D流至輔助電容線 13而放電。 因此,如果采用本發(fā)明的液晶顯示裝置IO,則即使靜電從信號(hào)線16側(cè)或掃描線12 側(cè)進(jìn)入,也由于最靠近靜電進(jìn)入側(cè)的保護(hù)TFT被靜電擊穿,而使其他的保護(hù)TFT30及顯示 區(qū)域DA的TFT受到保護(hù)。這樣的保護(hù)工作,因?yàn)槟軌虺掷m(xù)直至最靠近顯示區(qū)域DA的保護(hù) TFT30被靜電擊穿為止,所以通過(guò)使與每1條掃描線或每1條信號(hào)線連接的保護(hù)TFT30的數(shù) 量增加,能夠耐更多的靜電進(jìn)入。 還有,雖然在上述實(shí)施方式的液晶顯示裝置10中,示出的是在柵虛設(shè)像素區(qū)域GD 中,在1個(gè)虛設(shè)像素量的面積內(nèi)僅形成有2個(gè)保護(hù)TFT30的例子,但是如果就這樣,則在沿 掃描線12存在第3次靜電進(jìn)入的情況下,顯示區(qū)域DA的TFT有時(shí)將被靜電擊穿。因此,可 以在柵虛設(shè)像素區(qū)域GD,并列形成多個(gè)從而每1條掃描線連接更多的保護(hù)TFT30。
還有,在本實(shí)施方式中,掃描線12及信號(hào)線16的任意一方對(duì)應(yīng)于第1布線,掃描 線12及信號(hào)線16的另一方對(duì)應(yīng)于第2布線,輔助電容線13對(duì)應(yīng)于第3布線。并且,柵虛 設(shè)像素區(qū)域GD及源虛設(shè)像素區(qū)域SD的任意一方對(duì)應(yīng)于第1虛設(shè)像素區(qū)域,柵虛設(shè)像素區(qū)
11域GD及源虛設(shè)像素區(qū)域SD的另一方對(duì)應(yīng)于第2虛設(shè)像素區(qū)域。
[變形例1] 在上述實(shí)施方式的液晶顯示裝置10中,示出了每1個(gè)虛設(shè)像素形成有2個(gè)保護(hù) TFT30的例子。該能夠在每1個(gè)虛設(shè)像素中形成的保護(hù)TFT30的數(shù)量,由每1個(gè)虛設(shè)像素 的、與掃描線12平行的部分的寬度而定。近年來(lái)的液晶顯示裝置,因?yàn)楦呔?xì)化而像素尺 寸變小,而且由于顯示區(qū)域的l個(gè)像點(diǎn)(l個(gè)像素)成為正方形,所以l個(gè)子像素的形狀成 為長(zhǎng)方形,所以每1個(gè)虛設(shè)像素的、與掃描線12平行的部分的寬度變得非常窄。
因此,如果上述的實(shí)施方式的液晶顯示裝置10的結(jié)構(gòu)原樣不變,則為了使柵虛設(shè) 像素區(qū)域GD的保護(hù)TFT30的數(shù)量增加,需要增加?xùn)盘撛O(shè)像素區(qū)域GD的寬度。還有,在源虛 設(shè)像素區(qū)域SD中,如圖2所示,因?yàn)槟軌蚴箳呙杈€12間距離變窄,所以即使不使源虛設(shè)像 素區(qū)域SD的寬度增加,也可以形成多個(gè)保護(hù)TFT30。 于是,作為變形例1的虛設(shè)像素,如圖7所示,在1個(gè)虛設(shè)像素內(nèi),形成使掃描線12 分支為枝狀而得到的分支掃描線12',從而每1個(gè)虛設(shè)像素形成了更多的、在圖7所示的例 子中是8個(gè)的保護(hù)TFT。若采用這樣的結(jié)構(gòu),則即使不特別地使柵虛設(shè)像素區(qū)域GD的面積 增加,也能夠形成多個(gè)保護(hù)TFT30。 還有,在該變形例1的虛設(shè)像素中,因?yàn)闊o(wú)法為了不使制造工時(shí)增加而將輔助電 容線13整面狀地配置于虛設(shè)像素內(nèi),所以可以適宜利用柵布線及源布線而將各個(gè)保護(hù) TFT30的漏電極D電連接至輔助電容線13。進(jìn)而,也可以與顯示區(qū)域的像素電極20的情況 同樣地,在虛設(shè)像素區(qū)域形成層間膜18及虛設(shè)像素電極,并使該虛設(shè)像素電極在顯示區(qū)域 外連接至共用布線COM,并使虛設(shè)像素電極經(jīng)由形成于層間膜18及鈍化膜17中的接觸孔與 保護(hù)TFT30的漏電極D電連接。 并且,該變形例1的虛設(shè)像素,不僅在柵虛設(shè)像素區(qū)域GD、而且在源虛設(shè)像素區(qū)域 SD及共用虛設(shè)像素區(qū)域CD中也能夠采用。還有,在該變形例的虛設(shè)像素中,從掃描線12分 支的分支掃描線12'的寬度,為了降低阻抗、使全部的保護(hù)TFT30有效地工作,盡可能粗些 為佳。[變形例2] 在上述的變形例1中,示出了不使柵虛設(shè)像素區(qū)域GD的面積增加,為了在每1個(gè) 虛設(shè)像素中配置較多的保護(hù)TFT而形成了分支掃描線12'的例子。可是,即使在該變形例1 中,能夠在每1個(gè)虛設(shè)像素中配置的保護(hù)TFT的數(shù)量也有限。于是,在變形例2中,掃描線 12,如圖8所示,在1個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域內(nèi),以沿著相鄰的信號(hào)線16的方式,細(xì)長(zhǎng)地彎曲 成凸?fàn)?。而且,分支信?hào)線16'從信號(hào)線16沿著彎曲而成的掃描線12的周?chē)哉紦?jù)與相 鄰的信號(hào)線16之間的方式延伸。在彎曲而成的掃描線12上,隔著柵絕緣膜14形成多個(gè)、 在此是12個(gè)的半導(dǎo)體層15,并且以部分重疊于該半導(dǎo)體層15上的方式,在信號(hào)線16及分 支信號(hào)線16'側(cè)形成源電極S、在中央側(cè)形成漏電極D。 l個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域內(nèi)的輔助電 容線13,在中央部分形成為整面狀,漏電極D經(jīng)由形成在柵絕緣膜14上的第l接觸孔19' 與輔助電容線13電連接。還有,該非顯示區(qū)域ND的l個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域內(nèi)的輔助電容 線13,隔著與彎曲成凸?fàn)畹膾呙杈€12不同的絕緣膜繞過(guò)掃描線12的表面,與顯示區(qū)域DA 的輔助電容線13電連接。 S卩,在變形例2的液晶顯示裝置10中,在1個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域內(nèi)形成有多個(gè)、在
12此如圖9所示是6X2二 12個(gè)的、作為靜電保護(hù)元件的TFT(以下,稱(chēng)為"保護(hù)TFT")30。這 些保護(hù)TFT30,雖然為了容易與形成于顯示區(qū)域DA的TFT同時(shí)形成,其尺寸與形成于顯示區(qū) 域DA的TFT實(shí)質(zhì)上相同,但是其溝道寬度及溝道長(zhǎng)度比形成于顯示區(qū)域DA的TFT小。因 此,保護(hù)TFT30,因?yàn)榕c形成于顯示區(qū)域DA的TFT相比,抗靜電弱,所以與形成于顯示區(qū)域 DA的TFT相比,先被靜電擊穿。
圖10是圖9的VII-VII線的剖面圖。 如從圖8、圖9及圖10的記載可以看出的,在1個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域內(nèi),保護(hù)TFT30 的柵電極G形成于同一條掃描線12上,源電極S電連接至同一條信號(hào)線16或分支信號(hào)線 16',進(jìn)而漏電極D也電連接至同一條在非顯示區(qū)域ND的一個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域內(nèi)形成的 輔助電容線13。 S卩,在1個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域內(nèi),多個(gè)保護(hù)TFT30互相并聯(lián)連接。
[變形例3] 雖然在上述變形例2的液晶顯示裝置10中,示出了為了加長(zhǎng)1個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū) 域內(nèi)的掃描線12的長(zhǎng)度而使掃描線12彎曲的例子,但是也能夠?yàn)榱思娱L(zhǎng)信號(hào)線16的長(zhǎng)度 而使信號(hào)線16彎曲。對(duì)于使1個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域內(nèi)的信號(hào)線16彎曲的例子,作為變形 例3使用圖ll進(jìn)行說(shuō)明。 在圖11所示的變形例3的1個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域中,信號(hào)線16 " - "字狀地彎曲 為鋸齒形。而且,從掃描線12分支為枝狀的分支掃瞄線12'配置為,橫穿"-"字狀地彎曲 為鋸齒形的信號(hào)線16。并且,在分支掃描線12'上形成有多個(gè)、在此是8個(gè)以該分支掃描線 12'為柵電極G的保護(hù)TFT30。并且,1個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域內(nèi)的輔助電容線13,雖然省略 了圖示,但是配置于各個(gè)漏電極D的下部,其跨分支掃描線12'的部分隔著另外的絕緣膜與 顯示區(qū)域DA的輔助電容線13電連接。還有,在該變形例3的一個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域內(nèi),從 掃描線12分支而成的分支掃描線12'的寬度,為了降低阻抗、使全部的保護(hù)TFT30有效地 工作,盡可能粗些為佳。 還有,在該變形例3的1個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域內(nèi),因?yàn)闊o(wú)法為了不使制造工時(shí)增加 而將輔助電容線13配置為整面狀,所以如上所述,可以適宜利用柵布線及源布線將各個(gè)保 護(hù)TFT30的漏電極D電連接至輔助電容線13。進(jìn)而,也可以與顯示區(qū)域DA的像素電極20 的情況同樣地,在1個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域內(nèi)形成層間膜18及虛設(shè)像素電極,并使該虛設(shè)像 素電極在顯示區(qū)域外連接至共用布線COM,并使虛設(shè)像素電極經(jīng)由形成于層間膜18及鈍化 膜17中的接觸孔與保護(hù)TFT30的漏電極D電連接。若采用這樣的結(jié)構(gòu),則無(wú)需特別地在非 顯示區(qū)域ND的1個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域內(nèi)形成輔助電容線13。 還有,在上述變形例2、變形例3等中,關(guān)于因?yàn)轱@示區(qū)域DA的各像素的形狀為縱 長(zhǎng),所以l個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域的形狀也為縱長(zhǎng)的情況進(jìn)行了說(shuō)明。但是,在顯示區(qū)域DA 的像素的形狀為橫長(zhǎng)的矩形狀的情況下,在非顯示區(qū)域ND的1個(gè)虛設(shè)像素量的區(qū)域中,在 使掃描線彎曲的情況下,只要"- "字狀地彎曲為鋸齒形既可,在使信號(hào)線彎曲的情況下,只 要彎曲為凸?fàn)罨虬紶罴纯?。并且,雖然在上述變形例2、變形例3等中,關(guān)于使所有的1個(gè)像 素量的區(qū)域內(nèi)的靜電保護(hù)單元的結(jié)構(gòu)都相同的例子進(jìn)行了說(shuō)明,但是也可以在顯示區(qū)域DA 的左右的非顯示區(qū)域ND和上下的顯示區(qū)域ND中成為分別不同的結(jié)構(gòu)。
并且,雖然在上述實(shí)施方式、變形例1 變形例3等中,以TN模式的縱向電場(chǎng)方式 的透射型液晶顯示裝置為例進(jìn)行了說(shuō)明,但是本發(fā)明并不限于此,對(duì)于其他模式的縱向電
13場(chǎng)方式的液晶顯示裝置、或者對(duì)于橫向電場(chǎng)方式的液晶顯示裝置、進(jìn)而對(duì)于具有反射部的 液晶顯示裝置,都可以等同地應(yīng)用。尤其是,在層間膜上具備下電極及具有狹縫的上電極的 結(jié)構(gòu)的FFS模式的液晶顯示裝置中,因?yàn)閷?duì)上電極或下電極供給共用電位,所以即使采用 上述變形例的結(jié)構(gòu),也能夠不特別地使制造工時(shí)增加,便能夠簡(jiǎn)單地將保護(hù)TFT30的漏電 極D連接至被供給共用電位的布線。
權(quán)利要求
一種液晶顯示裝置,其具有夾持液晶層而相對(duì)配置的第1基板及第2基板,在前述第1基板的液晶層側(cè),形成有配置為矩陣狀的多條掃描線及信號(hào)線、配置于顯示區(qū)域的前述各掃描線及信號(hào)線的交叉部分附近的開(kāi)關(guān)元件、與前述開(kāi)關(guān)元件電連接的像素電極,在前述顯示區(qū)域的周?chē)姆秋@示區(qū)域形成有多個(gè)虛設(shè)像素,其特征在于在多個(gè)前述虛設(shè)像素的各個(gè)中,形成有與前述掃描線或信號(hào)線連接的多個(gè)開(kāi)關(guān)元件,前述多個(gè)開(kāi)關(guān)元件互相并聯(lián)連接且前述開(kāi)關(guān)元件的電極之一與被供給共用電位的布線連接。
2. 按照權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置,其特征在于形成于前述虛設(shè)像素中的開(kāi)關(guān)元件,沿前述掃描線形成多個(gè),從前述信號(hào)線直線狀地 延伸的布線與前述開(kāi)關(guān)元件連接。
3. 按照權(quán)利要求l所述的液晶顯示裝置,其特征在于形成于前述虛設(shè)像素中的開(kāi)關(guān)元件,沿前述信號(hào)線形成多個(gè),從前述掃描線直線狀地 延伸的電極與前述開(kāi)關(guān)元件連接。
4. 按照權(quán)利要求l所述的液晶顯示裝置,其特征在于在前述虛設(shè)像素中,在前述掃描線或信號(hào)線上形成有彎曲部,前述多個(gè)開(kāi)關(guān)元件沿前 述彎曲部形成。
5. 按照權(quán)利要求4所述的液晶顯示裝置,其特征在于在前述虛設(shè)像素中,在前述掃描線上形成有彎曲部,前述信號(hào)線形成有沿前述掃描線 的彎曲部的外周延伸的分支信號(hào)線。
6. 按照權(quán)利要求4所述的液晶顯示裝置,其特征在于在前述虛設(shè)像素中,在前述信號(hào)線上形成有彎曲部,前述掃描線形成有以與前述信號(hào) 線的彎曲部交叉的方式延伸的分支掃描線。
7. 按照權(quán)利要求1 6中的任意一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置,其特征在于 形成于前述虛設(shè)像素中的開(kāi)關(guān)元件,大小與形成于前述像素區(qū)域中的開(kāi)關(guān)元件基本相同。
8. 按照權(quán)利要求1 7中的任意一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置,其特征在于 前述開(kāi)關(guān)元件是薄膜晶體管,形成于前述虛設(shè)像素中的薄膜晶體管,分別地,其源電極與前述信號(hào)線連接,柵電極與前述掃描線連接,漏電極與前述被供給共用電位的布線連接。
9. 按照權(quán)利要求8所述的液晶顯示裝置,其特征在于形成于前述虛設(shè)像素中的薄膜晶體管的溝道寬度及溝道長(zhǎng)度,分別比形成于前述顯示 區(qū)域中的薄膜晶體管的溝道寬度及溝道長(zhǎng)度小。
10. —種液晶顯示裝置,其特征在于,包括 第1基板;與前述第1基板相對(duì)的第2基板;介于前述第1基板與前述第2基板之間的液晶層;能夠顯示圖像的顯示區(qū)域;第1虛設(shè)像素區(qū)域,其設(shè)置于前述顯示區(qū)域的外側(cè),且相對(duì)于前述顯示區(qū)域在第1方向 上相鄰;第2虛設(shè)像素區(qū)域,其設(shè)置于前述顯示區(qū)域的外側(cè),且相對(duì)于前述顯示區(qū)域在與前述第1方向交叉的第2方向上相鄰;第1布線,其介于前述第1基板與前述液晶層之間,且從前述第1虛設(shè)像素區(qū)域沿前述 第1方向延伸至前述顯示區(qū)域內(nèi);第2布線,其介于前述第1基板與前述液晶層之間,且沿前述第2方向從前述第2虛設(shè) 像素區(qū)域延伸至前述顯示區(qū)域內(nèi);被供給共用電位的第3布線;以及虛設(shè)像素,其設(shè)置于前述第1虛設(shè)像素區(qū)域及前述第2虛設(shè)像素區(qū)域的各個(gè)中; 其中,在各前述虛設(shè)像素中,設(shè)置有相互并聯(lián)連接的多個(gè)開(kāi)關(guān)元件; 在前述第1虛設(shè)像素區(qū)域,各前述虛設(shè)像素中的前述多個(gè)開(kāi)關(guān)元件,分別與前述第1布 線連接;在前述第2虛設(shè)像素區(qū)域,各前述虛設(shè)像素中的前述多個(gè)開(kāi)關(guān)元件,分別與前述第2布 線連接;各前述開(kāi)關(guān)元件,其電極之一與前述第3布線連接。
全文摘要
本發(fā)明提供在形成于顯示區(qū)域的周?chē)母鱾€(gè)虛設(shè)像素中形成有多個(gè)靜電保護(hù)用的開(kāi)關(guān)元件的液晶顯示裝置。在本發(fā)明的液晶顯示裝置的陣列基板上,在顯示區(qū)域(DA)的周?chē)姆秋@示區(qū)域(ND)形成有多個(gè)虛設(shè)像素,在多個(gè)虛設(shè)像素的各個(gè)中,形成有與掃描線(12)或信號(hào)線(16)連接的多個(gè)作為開(kāi)關(guān)元件的保護(hù)TFT(30),這多個(gè)保護(hù)TFT(30)互相并聯(lián)連接而保護(hù)TFT(30)的電極的漏電極(D)與被供給共用電位的布線連接。
文檔編號(hào)G02F1/1368GK101726895SQ200910174009
公開(kāi)日2010年6月9日 申請(qǐng)日期2009年10月16日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月17日
發(fā)明者太田昭雄 申請(qǐng)人:愛(ài)普生映像元器件有限公司
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