專利名稱：激光修復(fù)裝置及激光修復(fù)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及向產(chǎn)品表面上的缺陷照射激光光束來修復(fù)缺陷的技術(shù)， 其中，所述產(chǎn)品是通過在基板的表面上層疊一層以上用于形成電路的一 種以上的物質(zhì)而制造的。
背景技術(shù)：
在FPD (FlatPanel Display:平板顯示器)的制造工序中，例如，利 用使用多個(gè)光掩模的光刻工藝反復(fù)進(jìn)行圖形加工，同時(shí)利用蝕刻技術(shù)和/ 或?yàn)R射技術(shù)在玻璃基板上形成電極圖形和/或TFT (Thin Film Transistor: 薄膜晶體管)。尤其是液晶顯示器(LCD: Liquid Crystal Display)的TFT 基板，使用形成柵極總線(gate bus line)層、絕緣膜層、非晶硅層、源 極—漏極總線(source-drain bus line)層、絕緣膜層、透明電極層的4到 5個(gè)掩模，來制造TFT基板。除了液晶顯示器外，F(xiàn)PD還包括PDP(Pasma Display Panel:等離子顯示器)、SED (Surface-conduction Electron-emitter Display:表面?zhèn)鲗?dǎo)電子發(fā)射顯示器)等各種類型。
并且，在基板上層疊各種物質(zhì)制造的產(chǎn)品自身有時(shí)也被稱為"基板"、 "玻璃基板"、"FPD玻璃基板"等。
以下，為了劃分還沒有層疊任何物質(zhì)的作為基底的玻璃基板、和層 疊了各種物質(zhì)并形成了電極圖形和TFT的產(chǎn)品，把前者稱為"玻璃基板"， 把后者稱為"FPD基板"。另外，用語"產(chǎn)品"包括制造中的半成品和完成制 造后的完成品。
在FPD的制造工序中，對(duì)FPD基板進(jìn)行缺陷的檢查和修復(fù)。近年來， 伴隨FPD的大型化，修復(fù)在各個(gè)制造工序中產(chǎn)生的成為動(dòng)作不良的原因 的缺陷而提高成品率成為重要課題。
例如，關(guān)于成為動(dòng)作不良的原因的缺陷，有布線彼此連接導(dǎo)致的"短
5路缺陷"、布線在中途斷線的"開路缺陷"。并且，在成形抗蝕圖形時(shí)有可 能產(chǎn)生的成為"短路缺陷"的原因的抗蝕圖形的形狀不良，也是作為修復(fù)
對(duì)象的缺陷。另外，附著在FPD基板表面上的微粒(particle)和抗蝕劑 (resist)等異物，也是應(yīng)該通過去除來修復(fù)的缺陷的例子。缺陷的修復(fù) 方法根據(jù)缺陷的類型而不同，通過照射激光光束來修復(fù)缺陷的被稱為"激 光修復(fù)(laserrepair)"的技術(shù)己被公知。
例如，關(guān)于短路缺陷，通過對(duì)形成于FPD基板上的布線之間連接造 成的短路缺陷照射激光光束進(jìn)行去除而修復(fù)，關(guān)于附著在FPD基板表面 上的微粒和抗蝕劑等成為動(dòng)作不良的原因的異物，也是通過照射激光光 束進(jìn)行去除而修復(fù)。即，短路缺陷和異物都是激光修復(fù)的對(duì)象。
在激光修復(fù)中，優(yōu)選根據(jù)每個(gè)缺陷的類型和形狀等適當(dāng)?shù)卣丈浼す?光束。
例如，在修復(fù)金屬圖形的短路缺陷時(shí)，以比較高的輸出照射適合于 去除金屬的波長(例如1024nm)的激光光束。與此相對(duì)，在去除異物時(shí)， 照射適合于去除不是金屬的微粒和抗蝕劑的更短波長(例如355nm)的 激光光束。另外，為了避免損傷除缺陷之外的圖形部分，根據(jù)每個(gè)缺陷 的形狀設(shè)定激光光束的照射范圍。
另外，以往例如進(jìn)行下述的修復(fù)，通過切斷布線使像素?zé)o效，把像 素始終亮燈的亮燈缺陷修復(fù)為像素始終滅燈的非亮燈缺陷。但是，最近 開始要求把不良像素修復(fù)為良好狀態(tài)這樣的更高層次的修復(fù)。并且，在 各種修復(fù)工序中，修復(fù)比較復(fù)雜的是安裝了透明電極的最后疊層(layer) 工序結(jié)束后的修復(fù)。
在最末層的下層有己形成的金屬布線和TFT。并且，由于透明電極 是透明的，所以修復(fù)用的激光光束透射該透明電極，結(jié)果，激光光束到 達(dá)金屬布線和TFT，有可能使得像素被破壞。因此，形成最末層后的修 復(fù)要求防止像素被破壞的技術(shù)，修復(fù)比較復(fù)雜。
在激光修復(fù)裝置中，CCD (Charge Coupled Device:電荷耦合器件) 攝像機(jī)拍攝作為被檢查對(duì)象的FPD基板，并生成圖像信息，圖像處理部 根據(jù)圖像信息生成表示缺陷的特征的缺陷特征信息，DMD (DigitalMicromhror Device:數(shù)字微鏡器件)根據(jù)缺陷特征信息對(duì)激光光束進(jìn)行 整形，這種激光修復(fù)裝置已被公知(例如參照專利文獻(xiàn)l)。
另外，缺陷修復(fù)裝置具有通過與參照?qǐng)D像進(jìn)行比較來檢測(cè)產(chǎn)生于 FPD基板的缺陷的缺陷檢測(cè)部，該缺陷修復(fù)裝置還可以具有以下各個(gè)部 分(例如參照專利文獻(xiàn)2)。
禁止區(qū)域設(shè)定部，其針對(duì)驅(qū)動(dòng)電路元件上和/或布線上的缺陷來設(shè) 定修復(fù)的禁止區(qū)域
修復(fù)區(qū)域設(shè)定部，其把除了與禁止區(qū)域相關(guān)的部分之外的缺陷部 分、和與禁止區(qū)域不相關(guān)的缺陷設(shè)定為修復(fù)區(qū)域
優(yōu)先度設(shè)定部，其對(duì)修復(fù)區(qū)域設(shè)定修復(fù)順序的優(yōu)先度
按照優(yōu)先度修復(fù)缺陷的修復(fù)部
專利文獻(xiàn)1日本特開2007—29983號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2國際公開WO2004/099866號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
如上所述，在把FPD基板表面上的缺陷作為對(duì)象的激光修復(fù)中，為 了實(shí)現(xiàn)更適當(dāng)?shù)募す夤馐恼丈?，開發(fā)了多種技術(shù)。本發(fā)明的目的在于， 對(duì)激光修復(fù)中的激光光束的照射進(jìn)行更加精細(xì)的控制，實(shí)現(xiàn)對(duì)缺陷的更 加適當(dāng)?shù)男迯?fù)。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方式提供一種激光修復(fù)裝置，向產(chǎn)品表面上的缺 陷照射激光光束來修復(fù)所述缺陷，所述產(chǎn)品是通過在基板表面上層疊一 層以上用于形成電路的一種以上的物質(zhì)而制造的。并且，根據(jù)本發(fā)明的 另一方式提供一種由所述激光修復(fù)裝置執(zhí)行的方法。
所述激光修復(fù)裝置具有射出單元、二維空間調(diào)制單元、存儲(chǔ)單元、 識(shí)別單元、劃分單元和控制單元。所述射出單元射出所述激光光束。所 述二維空間調(diào)制單元用于按照所指定的空間調(diào)制模式，對(duì)從所述射出單 元射出的所述激光光束進(jìn)行空間調(diào)制，然后照射到所述產(chǎn)品的表面上。 所述存儲(chǔ)單元存儲(chǔ)照射條件信息，該照射條件信息使照射條件與所述基 板表面上的多個(gè)層疊區(qū)域中的各個(gè)層疊區(qū)域相對(duì)應(yīng)，其中，該照射條件
7與在該層疊區(qū)域上層疊一層以上的所述一種以上的物質(zhì)相對(duì)應(yīng)。所述識(shí) 別單元識(shí)別所述缺陷的范圍。所述劃分單元根據(jù)存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)單元中
的所述照射條件信息，按照是與所述多個(gè)層疊區(qū)域中的哪個(gè)層疊區(qū)域重 合，來把由所述識(shí)別單元識(shí)別到的所述缺陷的所述范圍劃分為一個(gè)以上 的照射區(qū)域。所述控制單元依次對(duì)所述二維空間調(diào)制單元指定一個(gè)以上 的空間調(diào)制模式，并控制所述射出單元，以便對(duì)由所述劃分單元?jiǎng)澐值?所述一個(gè)以上的照射區(qū)域中的各個(gè)照射區(qū)域，按照與和該照射區(qū)域重合 的所述層疊區(qū)域相對(duì)應(yīng)的所述照射條件，向該照射區(qū)域照射所述激光光 束。
根據(jù)本發(fā)明，能夠把小于一個(gè)缺陷的各個(gè)照射區(qū)域作為單位，并根 據(jù)照射條件照射激光光束。S卩，能夠?qū)崿F(xiàn)比以往的把一個(gè)缺陷作為單位 來確定照射條件的激光修復(fù)更加精細(xì)的控制。
并且，照射條件信息使相比允許或禁止照射這種二選一的照射條件 更精細(xì)的多種照射條件與各個(gè)層疊區(qū)域相對(duì)應(yīng)，由此，相比以往，.將向 各個(gè)照射區(qū)域的激光光束的照射控制得更加精細(xì)。
根據(jù)本發(fā)明，能夠通過這種極其精細(xì)的控制來實(shí)現(xiàn)更適當(dāng)?shù)募す庑迯?fù)。


圖1是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的激光修復(fù)裝置的結(jié)構(gòu)圖。
圖2是FPD基板的剖視圖的示例。
圖3是參照?qǐng)D像的示例。
圖4是照射條件圖像的示例。
圖5是攝入了缺陷的拍攝圖像的示例。
圖6是說明激光修復(fù)裝置關(guān)于一個(gè)FPD基板的動(dòng)作的流程圖。
圖7是表示空間調(diào)制模式組的第1例的圖。
圖8是表示空間調(diào)制模式組的第2例的圖。
圖9是表示空間調(diào)制模式組的第3例的圖。
標(biāo)號(hào)說明
8100激光修復(fù)裝置；101FPD基板；102顯示器；103缺陷檢查裝置； 104 PC; 105激光器單元；106二維空間光調(diào)制器；107載物臺(tái)；108攝 像部；109激光光源；IIO耦合單元；111光纖；112投影單元；113、 114 反射鏡；115、 120、 121成像透鏡；116光束分離器；117半透半反鏡； 118物鏡；119照明光源；122主控制部；123方案存儲(chǔ)部；124載物臺(tái)控 制部；125激光控制部；126空間調(diào)制控制部；127圖像處理部；200 FPD 基板；201玻璃基板；202柵極；203、 207絕緣膜；204非晶硅；205源 極；206漏極;208 209接觸孔;210 211ITO; 300參照?qǐng)D像;301a、 301c、 501a、 501c柵極總線;301b、 501bCS總線;302a 302c、 502a 502c源極/漏極布線；303a 303b、503a 503b接觸孔；304a 304d、504a 504dTFT; 305a 305d、 505a 505d透明電極；400照射條件圖像；401a 401b第1條件區(qū)域；402a 402c第2條件區(qū)域；403a 403c第3條件區(qū) 域；404a 404h第4條件區(qū)域；500拍攝圖像；506、 801缺陷；600、 700 空間調(diào)制模式組；601、 604、 607、 701、 704、 707、 900空間調(diào)制模式； 602、 605、 608、 702、 705、 708導(dǎo)通區(qū)域;603、 606、 609、 703、 706、 709截止區(qū)域；800重疊概念圖；802 805第1 第4條件區(qū)域；806 809第1 第4照射區(qū)域。
具體實(shí)施例方式
以下，參照附圖具體說明本發(fā)明的實(shí)施方式。
另外，在以下的實(shí)施方式中，按照以上定義的那樣區(qū)分使用用語"玻 璃基板"和"FPD基板"進(jìn)行說明。g卩，"玻璃基板"是沒有層疊任何物質(zhì)的 基底，"FPD基板"是在玻璃基板上層疊了各種物質(zhì)的產(chǎn)品。單純稱"基板" 時(shí)指與作為"產(chǎn)品"的FPD基板進(jìn)行對(duì)比的玻璃基板。
并且，作為"產(chǎn)品"的"FPD基板"可以是制造柵極總線層、絕緣膜層、 非晶硅層、源極/漏極總線層、絕緣膜層、透明電極層的各個(gè)制造工序中 途的半成品，也可以是形成了各個(gè)層的制造完成后的完成品。以下實(shí)施 方式中的激光修復(fù)的對(duì)象指這樣定義的FPD基板。
圖1是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的激光修復(fù)裝置的結(jié)構(gòu)圖。本實(shí)施方式的激光修復(fù)裝置100是向產(chǎn)生于FPD基板101的成為動(dòng)作不良的原因 的缺陷照射激光光束而進(jìn)行修復(fù)的裝置。FPD基板101是通過在基板(即 玻璃基板)的表面上層疊一層以上用于形成電路的一種以上的物質(zhì)而制 造的產(chǎn)品，所述電路是把TFT用作幵關(guān)元件的有源矩陣(active matrix) 型液晶顯示器的電路。例如，一般LCD用FPD基板具有將物質(zhì)層疊4 5層左右的多層結(jié)構(gòu)。在本實(shí)施方式中，半成品的FPD基板101也包含 于應(yīng)該通過激光加工進(jìn)行修復(fù)的加工對(duì)象物(工件work)中。因此， 按照上面所述把FPD基板101上的層的數(shù)量定義為"一層以上"。
激光修復(fù)裝置100直接或通過網(wǎng)絡(luò)間接地與顯示器102和缺陷檢查 裝置103連接。
缺陷檢查裝置103是檢查FPD基板101的表面是否存在缺陷的裝置。 缺陷檢査裝置103在檢測(cè)到缺陷時(shí)，生成包括表示檢測(cè)到的缺陷位置的 坐標(biāo)在內(nèi)的缺陷信息。缺陷檢查裝置103可以判別檢測(cè)到的缺陷的大小、 形狀、類型等，也可以將判別結(jié)果包含于缺陷信息中。
缺陷檢查裝置103把缺陷信息輸出給激光修復(fù)裝置100。由此，激 光修復(fù)裝置100根據(jù)從缺陷檢查裝置103輸入的缺陷信息，能夠識(shí)別在 FPD基板101的何處存在缺陷，并進(jìn)行缺陷的修復(fù)。
本實(shí)施方式的激光修復(fù)裝置100具有PC (Personal Computer:個(gè)人 計(jì)算機(jī))104、激光器單元(laserunit) 105、 二維空間光調(diào)制器106、載 物臺(tái)107、攝像部108、以及反射鏡和透鏡等各種光學(xué)元件。
PC 104控制激光修復(fù)裝置100的動(dòng)作。激光修復(fù)裝置100也可以取 代PC 104，而具有工作站和服務(wù)器設(shè)備等任意的其他計(jì)算機(jī)。
PC 104具有執(zhí)行處理的未圖示的CPU (Central Processing Unit:中 央處理器)、ROM (Read Only Memory:只讀存儲(chǔ)器)等未圖示的非易失 性存儲(chǔ)器、被用作工作區(qū)域的未圖示的RAM (Random Access Memory: 隨機(jī)存取存儲(chǔ)器)、硬盤裝置等外部存儲(chǔ)裝置、以及受理操作者的輸入的 輸入裝置。通過由CPU執(zhí)行程序，實(shí)現(xiàn)后面敘述的各個(gè)部分的功能。
程序可以存儲(chǔ)在PC 104的外部存儲(chǔ)裝置或ROM中?；蛘?，程序也 可以存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)可讀的存儲(chǔ)介質(zhì)中，通過存儲(chǔ)介質(zhì)的驅(qū)動(dòng)裝置提供給PC 104，還可以通過網(wǎng)絡(luò)提供給PC 104。
無論何種方式，CPU將程序載入到RAM中，把RAM用作工作區(qū) 域來執(zhí)行程序，由此實(shí)現(xiàn)在圖1中的PC 104內(nèi)示出的各個(gè)部分的功能。 關(guān)于PC 104內(nèi)的各個(gè)部分的功能將在后面敘述。
激光器單元105作為射出激光光束的射出單元發(fā)揮作用，具有激光 光源109、耦合單元(coupling unit) 110、對(duì)激光光束進(jìn)行光導(dǎo)的光纖111、 和向所期望的方向射出激光光束的投影單元112。激光光源109例如是 YAG (yttrium-aluminum隱gamet)激光'激發(fā)器。
在本實(shí)施方式中，成為激光修復(fù)的對(duì)象的缺陷主要指附著在FPD基 板101表面上的微粒和抗蝕劑膜等。因此，采用射出適合于去除微粒和 抗蝕劑膜的、比較而言波長較短的激光光束的激光光源109。本實(shí)施方式 中的激光光束的波長例如可以是355nm或266nm或其他近紫外波長。
并且，激光光源109可以是進(jìn)行脈沖激發(fā)的激光光源，也可以進(jìn)行 連續(xù)激發(fā)的激光光源。即，本實(shí)施方式中的激光光束可以是脈沖激光光 束，也可以是CW (Continuous Wave:連續(xù)波)激光光束。在是脈沖激 光光束時(shí)，脈寬例如是5ns，脈沖反復(fù)頻率例如是lOOHz。
從激光光源109射出的激光光束通過耦合單元110和光纖111從投 影單元112射出。
二維空間光調(diào)制器106用于按照所指定的空間調(diào)制模式，對(duì)從發(fā)揮 射出單元作用的激光器單元105射出的激光光束進(jìn)行空間調(diào)制，然后照 射到激光修復(fù)的對(duì)象的產(chǎn)品即FPD基板101的表面上。在本實(shí)施方式中， 二維空間光調(diào)制器106是將微型反射鏡排列成二維陣列狀的DMD，能夠 根據(jù)各個(gè)微型反射鏡的ON/OFF (開/閉)使激光光束的反射截面形狀形 成為任意的形狀。并且，與以往利用遮光板來形成矩形開口的機(jī)械式機(jī) 構(gòu)不同，DMD能夠在多個(gè)部位總括形成任意形狀的反射圖形，使在各個(gè) 反射圖形反射的激光光束照射到FPD基板上。另外，也可以取代DMD， 把使用液晶的透射型或反射型的空間光調(diào)制器用作二維空間光調(diào)制器 106。
載物臺(tái)107保持FPD基板101，攝像部108拍攝FPD基板101的表
ii面。載物臺(tái)107也可以使用例如夾具(clamp)和/或吸附墊(suction pad) 來保持FPD基板101。并且，載物臺(tái)107還可以是噴出空氣使FPD基板 101浮起的浮起式載物臺(tái)。
載物臺(tái)107構(gòu)成為能夠修復(fù)和拍攝FPD基板101的表面上的任意位 置。即，載物臺(tái)107構(gòu)成為沿XY方向二維移動(dòng)，以便能夠任意改變激 光光束的光路與FPD基板101之間的相對(duì)位置、以及攝像部108的光軸 與FPD基板101之間的相對(duì)位置。還可以取代該XY載物臺(tái)107，將放 置FPD基板101的載物臺(tái)固定，以能夠沿著固定載物臺(tái)移動(dòng)的方式跨越 該固定載物臺(tái)架設(shè)龍門(gantry)，并在該龍門的水平臂部以能夠移動(dòng)的 方式設(shè)置激光修復(fù)頭(laser repair head)(所述激光修復(fù)頭包括激光器 單元105、激光照射光學(xué)系統(tǒng)、和觀察光學(xué)系統(tǒng))。另外，關(guān)于載物臺(tái)107 的相對(duì)移動(dòng)的具體情況，將在說明了激光修復(fù)裝置100的光學(xué)系統(tǒng)之后 進(jìn)行說明。
攝像部108例如可以是CCD攝像機(jī)，也可以是CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor)攝像機(jī)。并且，攝像部108
可以是拍攝彩色圖像的裝置，也可以是拍攝被稱為亮度圖像的單色灰度 (grayscale)圖像的裝置。
如上所述，激光修復(fù)裝置100使從激光器單元105射出的激光光束 的截面形狀，通過二維空間光調(diào)制器106成形為作為激光修復(fù)對(duì)象的缺 陷的形狀，并照射到FPD基板101的表面上，由此修復(fù)FPD基板101的 表面上的缺陷。為了實(shí)現(xiàn)這種激光光束的照射，本實(shí)施方式中的激光修 復(fù)裝置100的光學(xué)系統(tǒng)按照下面所述構(gòu)成和配置。
艮P，從激光器單元105射出的激光光束被反射鏡113反射，以預(yù)定 的角度0i。入射到二維空間光調(diào)制器106。如上所述，本實(shí)施方式中的二 維空間光調(diào)制器106是將微型反射鏡排列成二維陣列狀得到的DMD。
驅(qū)動(dòng)用的存儲(chǔ)器單元(memory cell)與DMD的各個(gè)微型反射鏡對(duì) 應(yīng)，根據(jù)驅(qū)動(dòng)用的存儲(chǔ)器單元的狀態(tài)，各個(gè)微型反射鏡的鏡面被驅(qū)動(dòng)為 不同的傾斜角。存儲(chǔ)器單元的狀態(tài)有"開狀態(tài)"和"閉狀態(tài)"。輸入各個(gè)存儲(chǔ) 器單元的信號(hào)是獨(dú)立的，所以各個(gè)微型反射器也被獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)為開狀態(tài)
12和閉狀態(tài)中的任一狀態(tài)。
以上述預(yù)定的角度ei。入射到開狀態(tài)的微型反射鏡上的入射光，相對(duì) 于二維空間光調(diào)制器io6以預(yù)定的角度e。w反射。但是，在開狀態(tài)和閉狀 態(tài)下，微型反射鏡的鏡面的傾斜角不同，所以以相同的預(yù)定的角度e^入 射到閉狀態(tài)的微型反射鏡上的入射光，向與預(yù)定角度e。ut不同的方向反 射。例如，開狀態(tài)和閉狀態(tài)下的微型反射鏡的傾斜角之差是io度。
在開狀態(tài)的微型反射鏡中，以上述預(yù)定的角度e。ut反射的激光光束入
射到反射鏡114上，由反射鏡114沿與成像透鏡115的光軸平行的方向 反射，通過成像透鏡115到達(dá)光束分離器116。然后，激光光束被光束分 離器116反射，并透射半透半反鏡117，通過物鏡118照射到FPD基板 101的表面上。
艮P，如圖1所示，沿著成像透鏡115的光軸從反射鏡114到達(dá)光束 分離器116的激光光束，由光束分離器116向物鏡118的光軸的方向反 射。光束分離器U6例如也可以是分色鏡(dichroic mirror)。
并且，在二維空間光調(diào)制器106的閉狀態(tài)的微型反射鏡反射的激光 光束，按照?qǐng)D1中的虛線所示，向不入射到反射鏡114的方向反射。因 此，入射到反射鏡114的激光光束的光束截面的形狀成為對(duì)應(yīng)開狀態(tài)和 閉狀態(tài)來驅(qū)動(dòng)二維空間光調(diào)制器106中的各個(gè)微型反射鏡的空間調(diào)制模 式的形狀。
激光修復(fù)裝置100還具有照明光源119和成像透鏡120，所述攝像部 108被配置成為使攝像部108的光軸與物鏡118的光軸一致。從照明光源 119射出的照明光通過成像透鏡120到達(dá)半透半反鏡117，被半透半反鏡 117向物鏡118的光軸方向反射，而照射到FPD基板101的表面上。
激光修復(fù)裝置100還具有成像透鏡121。成像透鏡121的光軸也與 物鏡118的光軸一致。因此，在FPD基板101的表面反射的光沿著物鏡 118的光軸按照下面所述傳播。即，在FPD基板101的表面的反射光通 過物鏡118入射到半透半反鏡117，在透射半透半反鏡117后入射到光束 分離器116，并在透射光束分離器116后通過成像透鏡121成像于攝像部 108的感光面上。這樣，光束分離器116發(fā)揮使激光光束的照射光路與攝像部108的 觀察光路合流的作用。
并且，激光修復(fù)裝置IOO構(gòu)成為使FPD基板101的表面與二維空間 光調(diào)制器106成為共軛的位置，而且使FPD基板101的表面與攝像部108 的感光面成為共軛的位置。
另外，反射鏡114、成像透鏡115、光束分離器116、半透半反鏡117、 物鏡118、照明光源119、成像透鏡120、成像透鏡121也可以整合為一 個(gè)顯微鏡單元。顯微鏡單元具有將在二維空間光調(diào)制器106進(jìn)行空間調(diào) 制后的激光光束縮小并投影在FPD基板lOl的表面上的功能、和放大觀 察FPD基板101的表面的功能。
如上所述構(gòu)成的激光修復(fù)裝置100由PC 104按照下面所述控制。
PC 104作為主控制部122、方案(recipe)存儲(chǔ)部123、載物臺(tái)控制 部124、激光控制部125、空間調(diào)制控制部126、以及圖像處理部127發(fā) 揮作用。
主控制部122通過由PC 104的CPU執(zhí)行程序而實(shí)現(xiàn)。主控制部122 控制載物臺(tái)控制部124、激光控制部125、空間調(diào)制控制部126、以及圖 像處理部127。并且，主控制部122從缺陷檢査裝置103接收缺陷信息， 從方案存儲(chǔ)部123讀出被稱為"方案"的用于指定修復(fù)方法的信息，從圖 像處理部127接收?qǐng)D像處理的結(jié)果。
方案存儲(chǔ)部123利用PC 104具有的未圖示的RAM實(shí)現(xiàn)，用于存儲(chǔ) 方案。方案存儲(chǔ)部123也可以使用RAM和硬盤裝置的雙方來實(shí)現(xiàn)。
在此，F(xiàn)PD基板101是通過在玻璃基板的表面上層疊一層或多層用 于形成柵極總線層、絕緣膜層、非晶硅層、源極/漏極總線層、絕緣膜層、 透明電極層的電路的各種物質(zhì)而制造的制造中途或制造完成后的產(chǎn)品。 關(guān)于方案的具體情況將在后面敘述，但在本實(shí)施方式中，作為方案登記 了圖3示例的參照?qǐng)D像300和圖4示例的照射條件圖像400。照射條件圖 像400是照射條件信息的一例，該照射條件信息根據(jù)針對(duì)構(gòu)成該圖形的 物質(zhì)的特定波長的激光光束的反射率、抗激光損傷特性(^一if耐性)、 熱作用(吸收率、熱傳導(dǎo)率)等物理特性和激光修復(fù)禁止區(qū)域，使照射
14條件與在玻璃基板表面上形成為多層的柵極總線層、絕緣膜層、非晶硅 層、源極/漏極總線層、絕緣膜層、透明電極層的各層的圖形區(qū)域(形狀、 位置)相對(duì)應(yīng)。即，方案存儲(chǔ)部123作為存儲(chǔ)下述的照射條件信息的存 儲(chǔ)單元發(fā)揮作用，該照射條件信息根據(jù)每個(gè)激光照射區(qū)域區(qū)分設(shè)定變更
激光能量，例如，針對(duì)形成于最上層的透明電極和形成于下層的TFT， 為了防止因激光照射帶來的損傷，而設(shè)定為激光修復(fù)禁止區(qū)域，針對(duì)存 在于透明電極的下層的金屬布線，設(shè)定為被減弱為周邊不會(huì)因激光照射 的熱作用而受到損傷的程度的激光能量等。
載物臺(tái)控制部124利用執(zhí)行程序的PC 104的CPU、和載物臺(tái)107 與PC 104之間的接口實(shí)現(xiàn)。并且，載物臺(tái)控制部124按照來自主控制部 122的指示控制載物臺(tái)107。
艮口，載物臺(tái)控制部124控制載物臺(tái)107，使物鏡118的光軸在由主控 制部122指定的位置與FPD基板101的表面相交。載物臺(tái)107按照載物 臺(tái)控制部124的控制，使FPD基板101在與物鏡118的光軸垂直的平面 內(nèi)相對(duì)移動(dòng)。
這種相對(duì)移動(dòng)用于向FPD基板101表面上的任意位置照射激光光 束，而且把FPD基板101表面上的任意位置作為視野的中心進(jìn)行拍攝。 相對(duì)移動(dòng)的具體方法根據(jù)載物臺(tái)107的具體結(jié)構(gòu)而不同。
例如，把與臺(tái)面平行且互相正交的兩個(gè)軸設(shè)為x軸和y軸，物鏡118 的光軸與臺(tái)面垂直，載物臺(tái)107以與臺(tái)面平行的方式來保持FPD基板 101。該情況時(shí)，例如能夠形成下述(a) (c)那樣的結(jié)構(gòu)，載物臺(tái)控 制部124根據(jù)載物臺(tái)107的結(jié)構(gòu)進(jìn)行下述動(dòng)作。
(a) 載物臺(tái)107構(gòu)成為能夠通過未圖示的電機(jī)使FPD基板101沿x 方向和y方向移動(dòng)。
該情況時(shí)，載物臺(tái)控制部124按照主控制部122的指示控制載物臺(tái) 107，以使FPD基板101沿x軸和y軸移動(dòng)。
(b) 載物臺(tái)107構(gòu)成為能夠通過未圖示的電機(jī)使FPD基板101沿x 方向移動(dòng)，而且具有跨越該單軸移動(dòng)載物臺(tái)107固定在臺(tái)架上的門型龍 門(gantry )。該情況時(shí)，龍門具有與y軸平行的水平梁，激光修復(fù)單元(激光器 單元105、激光照射系統(tǒng)、觀察光學(xué)系統(tǒng))被設(shè)置成為能夠沿著水平梁移 動(dòng)。載物臺(tái)控制部124對(duì)載物臺(tái)107的未圖示的電機(jī)指示FPD基板101 的x方向的移動(dòng)量和光學(xué)單元的y方向的移動(dòng)量，由此控制物鏡118與 FPD基板101之間的x方向和y方向的相對(duì)位置。
(c)載物臺(tái)107具有門型龍門，該龍門被固定在臺(tái)架上，并跨越架 設(shè)在該固定載物臺(tái)107的兩側(cè)，能夠沿著固定載物臺(tái)在x方向移動(dòng)。
該情況時(shí)，龍門具有與(b)時(shí)相同的與y軸平行的水平梁，在該水 平梁上以能夠移動(dòng)的方式設(shè)有與(b)時(shí)相同的激光修復(fù)單元。載物臺(tái)控 制部124對(duì)載物臺(tái)107的未圖示的電機(jī)指示龍門的x方向的移動(dòng)量和激 光修復(fù)單元的y方向的移動(dòng)量，由此控制物鏡118與FPD基板101之間 的x方向和y方向的相對(duì)位置。
例如，根據(jù)以上所述的(a) (c)的結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)旨在實(shí)現(xiàn)下述動(dòng)作 的相對(duì)移動(dòng)，即，向FPD基板lOl的表面上的任意位置照射激光光束， 而且把FPD基板101的表面上的任意位置作為視野的中心進(jìn)行拍攝。
激光控制部125按照來自主控制部122的指示，控制激光器單元105。 激光控制部125由執(zhí)行程序的PC 104的CPU、和激光器單元105與PC 104之間的接口實(shí)現(xiàn)。激光控制部125控制下述的(a)。激光控制部125 根據(jù)激光器單元105的規(guī)格等，還控制(b) (h)中的一個(gè)以上。
(a) 開始激光光束的照射的定時(shí)
(b) 激光光束的輸出功率(即激光光束截面的每單位面積的能量強(qiáng)
度)
(c) 激光光束的波長
(d) 激光光束的照射時(shí)間
(e) 在激光光束是脈沖激光光束時(shí)應(yīng)該照射的脈沖數(shù)
(f) 在激光光束是脈沖激光光束時(shí)的脈沖反復(fù)頻率
(g) 在激光光束是脈沖激光光束時(shí)的脈寬
(h) 是連續(xù)激發(fā)還是脈沖激發(fā)。
空間調(diào)制控制部126按照來自主控制部122的指示，把二維空間光
16調(diào)制器106的各個(gè)微型反射鏡獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)為開狀態(tài)或閉狀態(tài)，由此控制
二維空間光調(diào)制器106。
圖像處理部127接收攝像部108拍攝并輸出的拍攝圖像。圖像處理 部127把接收到的拍攝圖像輸出給顯示器102，并且處理接收到的拍攝圖 像并把處理結(jié)果輸出給主控制部122。
并且，圖像處理部127也作為劃分單元發(fā)揮作用，根據(jù)在作為存儲(chǔ) 單元發(fā)揮作用的方案存儲(chǔ)部123中存儲(chǔ)的照射條件信息，把識(shí)別到的缺 陷范圍按照是與多個(gè)層疊區(qū)域的哪個(gè)層疊區(qū)域重合，而劃分為一個(gè)以上 的照射區(qū)域。作為劃分單元發(fā)揮作用的圖像處理部127把作為劃分結(jié)果 的一個(gè)以上的照射區(qū)域輸出給主控制部122。
并且，主控制部122、激光控制部125和空間調(diào)制控制部126作為 控制單元發(fā)揮作用，依次對(duì)作為二維空間調(diào)制單元的空間調(diào)制控制部126 指定一個(gè)以上的空間調(diào)制模式，并控制作為射出單元的激光器單元105。 作為控制單元的主控制部122、激光控制部125和空間調(diào)制控制部126進(jìn) 行控制，以便對(duì)由圖像處理部127劃分的一個(gè)以上的照射區(qū)域的各個(gè)照 射區(qū)域，按照與和該照射區(qū)域重合的層疊區(qū)域相對(duì)應(yīng)的照射條件，向該 照射區(qū)域照射激光光束。
下面，根據(jù)FPD基板101的具體示例，說明激光修復(fù)裝置100的動(dòng) 作。圖2 圖5是FPD基板101的具體示例的圖，圖6是說明激光修復(fù) 裝置100的動(dòng)作的流程圖。
圖2是FPD基板的剖視圖的示例。圖2中的FPD基板200是圖1 中的FPD基板101的具體示例。
FPD基板200是通過在玻璃基板201的表面上層疊一層以上用于形 成電路的一種以上的物質(zhì)而制造的產(chǎn)品的示例。在圖2中，按照下面所 述，在玻璃基板201上將各種物質(zhì)層疊6層，形成FPD基板200。
，第1層?xùn)艠O202用的金屬
-第2層絕緣膜203
第3層非晶石圭(amorphous silicon) 204
，第4層源極205與漏極206用的金屬'第5層絕緣膜207
第6層透明電極用的ITO (Indium Tin Oxide:銦錫氧化物)210 和211
另外，在絕緣膜207上形成有用于將源極205與ITO 210的透明電 極連接的接觸孔(contact hole) 208、用于將漏極206與ITO 211的透明 電極連接的接觸孔209。這樣，通過在玻璃基板201上層疊各種物質(zhì)，形 成TFT (Thin Film Transistor)電路。
在圖2中，直線A、 B和C表示與玻璃基板201的表面垂直的物鏡 118的光軸的方向，根據(jù)缺陷的位置，直線A、 B或C成為激光光束的照 射光路。
在此，ITO210和ITO211是透明的，絕緣膜203和絕緣膜207使用 例如二氧化硅(Si02)等透明物質(zhì)時(shí)居多。因此，所照射的激光光束不僅 對(duì)形成于最上層的透明電極產(chǎn)生影響，而且在透射后對(duì)位于下層的金屬 布線也帶來影響。
并且，發(fā)明人根據(jù)實(shí)驗(yàn)得到以下見解，在金屬位于下層時(shí)，與下層 不存在金屬時(shí)相比，上層的物質(zhì)更容易受到損傷。例如，圖2中的直線A、 B和C是金屬位于下層的照射光路的示例，在沿著這些照射光路照射激 光光束時(shí)，位于金屬上層的物質(zhì)容易受到損傷。關(guān)于金屬位于下層時(shí)上 層的物質(zhì)容易受到損傷的原因可以認(rèn)為有以下兩條。
原因之一是受到透射光和反射光雙方的影響。例如，在沿著直線B 照射激光光束時(shí)，非晶硅204不僅受到從上方照射而透射絕緣膜207的 激光光束的影響，而且也受到透射各層并被柵極202的金屬反射后的激 光光束的影響。
因此，在該示例中，非晶硅204有可能過多地受到激光光束的照射 的影響而損傷。同樣，在沿著直線A和C照射激光光束時(shí)，也受到透射 光和反射光雙方的影響，金屬的上層的物質(zhì)有可能受到損傷。
原因之二是受到熱量的影響。金屬在被照射激光光束時(shí)將成為高溫。 因此，例如在沿著圖2中的直線C照射激光光束時(shí)，夾在柵極202和源 極205的金屬之間的絕緣膜203和非晶硅204不僅受到激光光束的直接
18影響，而且也受到來自金屬的熱的影響。
因此，在該示例中，絕緣膜203和非晶硅204有可能受到損傷。同 樣，在沿著直線A和B照射激光光束時(shí)，也存在與金屬層相鄰的層受到 熱的影響而受到損傷的可能性。
這樣，容易受到激光光束的損傷的程度根據(jù)已經(jīng)層疊的下層的物質(zhì) 而不同。因此，為了在激光修復(fù)中能夠更適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行激光光束的照射， 優(yōu)選不僅考慮在進(jìn)行激光修復(fù)時(shí)的最上層的狀態(tài)，也要考慮下層的物質(zhì) 來控制照射的方式。
在此，為了抑制損傷并充分修復(fù)缺陷，在本實(shí)施方式中，利用圖4 和將在后面敘述的照射條件圖像400，同時(shí)也考慮下層的物質(zhì)來照射激光 光束。
下面，參照?qǐng)D3繼續(xù)說明FPD基板的具體示例。
圖3是參照?qǐng)D像的示例。圖3中的參照?qǐng)D像300是根據(jù)作為激光修 復(fù)對(duì)象的FPD基板的每種類型、及進(jìn)行激光修復(fù)的每個(gè)工序而準(zhǔn)備的模 板。例如，圖3中的參照?qǐng)D像300是為對(duì)某種類型的FPD基板而準(zhǔn)備的， 用于在完成了直到圖2中的第6層的物質(zhì)層疊的時(shí)刻進(jìn)行的激光修復(fù)。 例如，如果在完成了各層的層疊的時(shí)刻分別需要激光修復(fù)，則也需要對(duì) 相同類型的FPD基板準(zhǔn)備第1層用 第5層用的參照?qǐng)D像。
參照?qǐng)D像300是由激光修復(fù)裝置100或其他裝置準(zhǔn)備的。在本實(shí)施 方式中，說明由激光修復(fù)裝置100準(zhǔn)備參照?qǐng)D像300的情況。
參照?qǐng)D像300是拍攝沒有缺陷的FPD基板的一部分得到的圖像。以 下，把為了獲取參照?qǐng)D像300而拍攝的FPD基板稱為"參照FPD基板"， 以便與激光修復(fù)對(duì)象即圖1所示的FPD基板101區(qū)分。
圖3中的參照?qǐng)D像300例如是在參照FPD基板被放置在載物臺(tái)107 上的狀態(tài)下，由攝像部108拍攝參照FPD基板的一部分而得到的。另外， 在進(jìn)行用于獲取參照?qǐng)D像300的拍攝時(shí)，在與進(jìn)行激光修復(fù)時(shí)相同的條 件下，照明光源119照射出照射光。并且，把n設(shè)為正整數(shù)，當(dāng)獲取在 完成了直到第n層物質(zhì)的層疊的時(shí)刻進(jìn)行的激光修復(fù)用的參照?qǐng)D像300 時(shí)，使用完成了直到第n層物質(zhì)的層疊的狀態(tài)下的參照FPD基板。200910169507.9
參照FPD基板和FPD基板101都是通過在玻璃基板上二維陣列狀地 反復(fù)形成相同的電路圖形而制造的。以下，把電路圖形的最小反復(fù)單位 定義為"像素"。例如，F(xiàn)PD中的1點(diǎn)利用與紅色(R)、綠色(G)、藍(lán)色 (B)各顏色的濾色器對(duì)應(yīng)的3像素的組表示。
在圖3中由于紙張大小的關(guān)系，只示出了分別對(duì)應(yīng)2像素的電路圖 形的整體和2像素各自的一部分電路圖形。但是，參照?qǐng)D像300也可以 是包括相當(dāng)于更多像素的范圍的圖像。
在按照上面所述獲取的參照?qǐng)D像300中，攝入了TFT及其下層的細(xì) 微的金屬布線等。即，在參照?qǐng)D像300中攝入了柵極總線301a和301c、 CS (storage capacitor)總線301b、源極/漏極布線302a 302c、從CS總 線301b上的接觸孔303a和303b延伸的輔助布線、層疊非晶硅204形成 的TFT 304a 304d、和透明電極305a 305d。并且，在圖3中，源極/ 漏極布線302a 302c在柵極總線301a上橫穿，這對(duì)應(yīng)于在圖2中的柵極 202的金屬的上層層疊有源極205和漏極206的金屬。
CS總線301b由與柵極總線301a和301c同樣地層疊在第1層上的 金屬構(gòu)成，以便在TFT 304a和304b流過足夠的電流。另外，在圖3中 省略圖示透明的絕緣膜的范圍。并且，在圖3中示出了透明電極305a 305d的范圍，但實(shí)際上由于透明電極305a 305d是透明的，所以在參照 圖像300中，不一定能夠清楚地?cái)z入圖3所示的輪廓。
這種參照?qǐng)D像300作為方案的一部分存儲(chǔ)在例如PC 104的未圖示的 硬盤裝置中。然后，根據(jù)需要，將參照?qǐng)D像300讀出并存儲(chǔ)在利用RAM 實(shí)現(xiàn)的方案存儲(chǔ)部123中。并且，參照?qǐng)D像300還用于生成圖4中的照 射條件圖像。
圖4是照射條件圖像的示例。圖4中的照射條件圖像400與圖3中 的參照?qǐng)D像300 —起包含于方案中。并且，照射條件圖像400是根據(jù)參 照?qǐng)D像300生成的。在本實(shí)施方式中，通過由操作者根據(jù)參照?qǐng)D像300 對(duì)激光修復(fù)裝置100給出指示，圖像處理部127生成照射條件圖像400。
首先，說明圖4中的照射條件圖像400的內(nèi)容和意思，然后說明照 射條件圖像400的生成。如上所述，照射條件圖像400是被表述為圖像的照射條件信息的一例。照射條件信息也可以以圖像之外的形式表述。
本實(shí)施方式中的照射條件圖像400是被稱為亮度圖像的單色的灰度
圖像，照射條件圖像400的各個(gè)像素被分配了表示照射條件的亮度。另 外，圖4中說明的"像素"，指作為構(gòu)成照射條件圖像400自身的最小單 位的"像素"。
為了簡化說明，在本實(shí)施方式中，把構(gòu)成照射條件圖像400的各個(gè) 像素的亮度設(shè)為0以上100以下的整數(shù)值。即，構(gòu)成表示形成為TFT504a 和透明電極505a的形狀的第4條件區(qū)域404a、 404b的圖像的各個(gè)像素 的亮度0對(duì)應(yīng)于圖4中的黑色部分，構(gòu)成表示沒有形成圖形的第1條件 區(qū)域401a、401b的圖像的各個(gè)像素的亮度100對(duì)應(yīng)于圖4中的白色部分。
照射條件圖像400內(nèi)的像素P的亮度L表示向與像素P對(duì)應(yīng)的FPD 基板101上的點(diǎn)Q照射激光光束時(shí)的照射條件。亮度L的值越大，表示 越強(qiáng)列地向點(diǎn)Q照射激光光束。另外，雖然表述為"越強(qiáng)列地照射"，但 如后面在圖7 圖9中敘述的那樣，照射的強(qiáng)度能夠利用各種方法控制。
在圖4的照射條件圖像400中，相同亮度的多個(gè)像素對(duì)應(yīng)于同一個(gè) 照射條件。如圖4所示，照射條件圖像400包括與第1條件對(duì)應(yīng)的利用 亮度IOO表示的比較白的第1條件區(qū)域401a和401b、與第2條件對(duì)應(yīng)的 利用亮度60表示的淺灰色的第2條件區(qū)域402a 402c、與第3條件對(duì)應(yīng) 的利用亮度30表示的深灰色的第3條件區(qū)域403a 403c、與第4條件對(duì) 應(yīng)的利用亮度0表示的比較黑的第4條件區(qū)域404a 404h。
例如，圖4的照射條件圖像400被涂色成為分別對(duì)應(yīng)100、 60、 30、 0這4種亮度的白色、淺灰色、深灰色、黑色這4種顏色。以下為了方便， 在圖4 圖8的說明中，把對(duì)應(yīng)亮度IOO、 60、 30、 O的照射條件分別稱 為"第l條件"、"第2條件"、"第3條件"、"第4條件"。利用白色表示的 第1條件表示最強(qiáng)的照射。利用淺灰色表示的第2條件表示強(qiáng)度為第1 條件的60%的照射，利用深灰色表示的第3條件表示強(qiáng)度為第1條件的 30%的照射。利用黑色表示的第4條件表示強(qiáng)度為第1條件的0%的照射， 換言之，第4條件表示不能照射激光光束的禁止照射區(qū)域。
這些各個(gè)區(qū)域是根據(jù)在玻璃基板201的表面上如何層疊了何種物質(zhì)
21而劃分的區(qū)域，是上述的"層疊區(qū)域"的示例。照射條件圖像400是照射 條件信息的一例，該照射條件信息將照射條件與多個(gè)層疊區(qū)域的各個(gè)層 疊區(qū)域相對(duì)應(yīng)，該照射條件對(duì)應(yīng)于在該層疊區(qū)域上層疊了一層以上的一 種以上的物質(zhì)。
這樣，照射條件圖像400中的多個(gè)層疊區(qū)域中的各個(gè)層疊區(qū)域的亮
度，被設(shè)定為對(duì)應(yīng)于照射條件的值，該照射條件對(duì)應(yīng)于該層疊區(qū)域。例 如，照射條件表示每單位面積應(yīng)該照射的能量，在多個(gè)層疊區(qū)域的各個(gè) 層疊區(qū)域中，與能量成正比的值被設(shè)定為亮度。
在照射條件圖像400中示出的比較白的第1條件區(qū)域401a和401b 是與圖3的參照?qǐng)D像300對(duì)比時(shí)比較明顯的、沒有形成電極、TFT和布 線的區(qū)域。
換言之，第1條件區(qū)域401a和401b是在圖2中在玻璃基板201上 只層疊了絕緣膜203和絕緣膜207的區(qū)域。這種區(qū)域幾乎不存在因照射 激光光束而造成的損傷，所以可以強(qiáng)烈地照射激光光束，適合與第1條 件對(duì)應(yīng)。
并且，在照射條件圖像400中利用淺灰色示出的第2條件區(qū)域402a 是與圖3的參照?qǐng)D像300對(duì)比時(shí)比較明顯的、形成有柵極總線301a的區(qū) 域中、用于形成其他電路要素的物質(zhì)(具體地講是非晶硅204、源極205 用的金屬、漏極206用的金屬、ITO210、或IT0 211)沒有被層疊在上 層的區(qū)域。
在FPD基板101中，在向與第2條件區(qū)域402a對(duì)應(yīng)的區(qū)域照射激 光光束時(shí)，如參照?qǐng)D2說明的那樣，由于柵極202的金屬的影響，有可 能對(duì)上層物質(zhì)等周圍造成損傷。因此，在第2條件區(qū)域402a中適合比第 1條件減弱地來照射激光光束。
但是，在第2條件區(qū)域402a中只形成有柵極總線301a，在上層沒有 形成其他電路要素，所以與形成有TFT等的區(qū)域相比，像對(duì)電路的動(dòng)作 造成不良影響那樣的損傷的可能性比較小。因此，在FPD基板101中， 激光光束向與第2條件區(qū)域402a對(duì)應(yīng)的區(qū)域的照射不必極端微弱。因此， 在本實(shí)施方式中，使第2條件對(duì)應(yīng)于第2條件區(qū)域402a。同樣，對(duì)于與柵極總線301同樣形成在第1層上的CS總線301b和 柵極總線301c中、用于形成其他電路要素的物質(zhì)沒有層疊在上層的部分， 使它們分別對(duì)應(yīng)在照射條件圖像400中利用淺灰色示出的第2條件區(qū)域 402b和402c 。
并且，在照射條件圖像400中利用深灰色示出的第3條件區(qū)域403a 403c是與圖3的參照?qǐng)D像300對(duì)比時(shí)比較明顯的、分別層疊有源極/漏極 布線302a 302c用的金屬的區(qū)域中、透明電極305a 305d沒有層疊在上
層的區(qū)域。
在FPD基板101中，在向與第3條件區(qū)域403a 403c對(duì)應(yīng)的區(qū)域照 射激光光束時(shí)，如參照?qǐng)D2說明的那樣，由于源極205或漏極206的金 屬的影響，有可能對(duì)上下層的物質(zhì)等周圍造成損傷。因此，在FPD基板 101中與第3條件區(qū)域403a 403c對(duì)應(yīng)的區(qū)域，適合比第1條件減弱地 來照射激光光束。
并且，第3條件區(qū)域403a 403c的一部分橫穿在最下層層疊了柵極 總線301a等的金屬的區(qū)域。因此，如果向FPD基板lOl中與第3條件區(qū) 域403a 403c對(duì)應(yīng)的區(qū)域照射激光光束，則透射上層并到達(dá)最下層的激 光光束也造成影響。因此，激光光束向FPD基板101中與第3條件區(qū)域 403a 403c對(duì)應(yīng)的區(qū)域的照射，適合在比第2條件更弱的第3條件下進(jìn) 行。
當(dāng)然，也可以根據(jù)下層是否存在柵極總線301a、 CS總線301b或柵 極總線301c的金屬，來更加細(xì)致地分類源極/漏極布線302a 302c的各 個(gè)范圍，并使它們分別對(duì)應(yīng)不同的照射條件。但是，在本實(shí)施方式中， 考慮照射條件圖像400的生成的簡潔度與基于照射條件圖像400的照射 條件指定的精密度的平衡，不進(jìn)行更加細(xì)致的分類。
并且，在圖3中，從接觸孔303b向TFT 304b延伸的輔助性布線， 形成于和源極205及漏極206相同的層上。因此，對(duì)于這些輔助性布線 中與透明電極305a 305d不重復(fù)的部分，也使它們與第3條件區(qū)域 403a 403c同樣，對(duì)應(yīng)于第3條件，并在圖4中利用深灰色示出。
并且，在照射條件圖像400中利用黑色示出的第4條件區(qū)域404a
23404h是與圖3的參照?qǐng)D像300對(duì)比時(shí)比較明顯的、與TFT 304a 304 d 及透明電極305a 305d中任一方重復(fù)的區(qū)域。即，這些第4條件區(qū)域 404a 404h是層疊了非晶硅204、 ITO210、或IT0 211的區(qū)域。
TFT 304a 304d和透明電極305a 305d容易受到激光光束照射帶 來的影響，在受到損傷時(shí)電路發(fā)生故障的可能性比較大，所以在本實(shí)施 方式中，禁止向形成有TFT 304a 304d和透明電極305a 305d的區(qū)域 照射激光光束。如上所述，禁止照射對(duì)應(yīng)于第4條件。因此，第4條件 對(duì)應(yīng)于第4條件區(qū)域404a 404h。
如上所述，照射條件圖像400的各個(gè)像素P的亮度L表示向與像素 P對(duì)應(yīng)的FPD基板101上的點(diǎn)Q照射激光光束時(shí)的照射條件。并且，亮 度L的值越大，表示越強(qiáng)烈地向點(diǎn)Q照射激光光束。
根據(jù)圖3的參照?qǐng)D像300生成這種照射條件圖像400的方法，根據(jù) 實(shí)施方式有各種方法。在本實(shí)施方式中，根據(jù)操作者的輸入，由圖1的 圖像處理部127生成照射條件圖像400。
并且，在圖l中省略了圖示，PC104具有輸入裝置，其包括鼠標(biāo)和/ 或觸摸傳感器(touch sensor)等指向設(shè)備(pointing device)、以及鍵盤等。
在本實(shí)施方式中，操作者觀看顯示在顯示器102上的參照?qǐng)D像300， 同時(shí)通過輸入裝置指定參照?qǐng)D像300中的源極/漏極布線302a的范圍，向 所指定的范圍輸入用于分配表示照射條件的數(shù)值"30"的指示。本實(shí)施方 式中的照射條件利用0 100的數(shù)值表示，也可以說表示相對(duì)于最強(qiáng)照射 條件的百分比。
對(duì)于其他層疊區(qū)域也相同，操作者通過輸入裝置指定參照?qǐng)D像300 中的各個(gè)層疊區(qū)域的范圍。然后，操作者通過輸入裝置輸入表示應(yīng)該分 配給所指定的層疊區(qū)域的照射條件的數(shù)值。
并且，作為輔助操作者的輸入作業(yè)的功能，本實(shí)施方式中的圖像處 理部127具有自動(dòng)使相同處理反復(fù)的功能。
在參照?qǐng)D像300中攝入了有規(guī)律地周期性排列的多個(gè)像素中的各個(gè) 像素的電路圖形。在此，圖像處理部127對(duì)于其他像素的電路圖形，同 樣適用有關(guān)任意1個(gè)像素的電路圖形的指示，由此減輕操作者的輸入負(fù)擔(dān)。
艮口，圖像處理部127進(jìn)行提取反復(fù)圖形的最小單位的像素的圖像處 理，或者從輸入裝置通過主控制部122接收來自操作者的用于指定1個(gè)
像素的電路圖形的范圍的輸入，由此識(shí)別1個(gè)像素的電路圖形的范圍。
并且，圖像處理部127把對(duì)任意1個(gè)像素的電路圖形進(jìn)行的、各個(gè) 層疊區(qū)域的范圍的指示和向各個(gè)層疊區(qū)域的照射條件的對(duì)應(yīng)性的指示， 也適用于其他像素的電路圖形。結(jié)果，只需操作者對(duì)1個(gè)像素給出指示, 就能夠根據(jù)包括多個(gè)像素的電路圖形的參照?qǐng)D像300，自動(dòng)生成包括多個(gè) 像素的電路圖形的照射條件圖像400 。
并且，圖像處理部127提供與公知的繪圖工具和圖片修飾工具(photo retouch tools)同樣的功能，以便輔助操作者指示層疊區(qū)域的范圍。
例如，應(yīng)該禁止照射激光光束的透明電極305a的范圍的形狀是圖3 所示的不規(guī)則的六邊形。操作者使指針在顯示于顯示器102上的畫面上 移動(dòng)，指定透明電極305a的六邊形的6個(gè)頂點(diǎn)。圖像處理部127也可以 根據(jù)所輸入的6個(gè)頂點(diǎn)的坐標(biāo)選擇透明電極305a的六邊形的范圍。
并且，在本實(shí)施方式中，也可以在利用指向設(shè)備選擇了參照?qǐng)D像300 中的1點(diǎn)時(shí)，通過主控制部122輸入到圖像處理部127，具有所選擇的點(diǎn) 的亮度的范圍被自動(dòng)設(shè)定，針對(duì)所設(shè)定的區(qū)域自動(dòng)設(shè)定與亮度對(duì)應(yīng)的照 射條件，并且操作者能夠變更所設(shè)定的區(qū)域的照射條件。圖像處理部127 將選擇結(jié)果顯示在顯示器102上，以便操作者能夠根據(jù)需要修改選擇結(jié) 果。
上述的照射條件可以是圖像處理部127預(yù)先確定的數(shù)值，也可以是 操作者從輸入裝置輸入的數(shù)值，還可以是圖像處理部127根據(jù)參照?qǐng)D像 300中的亮度的分布而確定的數(shù)值。
例如，在利用輸入裝置指定源極/漏極布線302a內(nèi)的1點(diǎn)后，選擇在 參照?qǐng)D像300中大致以相同亮度攝入的源極/漏極布線302a的范圍。結(jié)果， 操作者在指定源極/漏極布線302a的范圍時(shí)，不需要通過指向設(shè)備等輸入 裝置來描畫復(fù)雜的形狀。
并且，在由輸入裝置指定了參照?qǐng)D像300上的一條直線后，圖像處理部127生成表示所指定的直線上的亮度變化的曲線并顯示在顯示器102
上，操作者能夠參照著曲線選擇/變更各個(gè)圖形區(qū)域的照射條件。
例如，假設(shè)輸入裝置接收到指定在CS總線301b和柵極總線301c 之間與CS總線301b平行的直線的輸入。所指定的直線上的亮度在源極/ 漏極布線302a 302c的部分和其他部分是不同的。由此，表示所指定的 直線上的亮度變化的曲線有助于操作者根據(jù)參照?qǐng)D像300內(nèi)的亮度來確 定源極/漏極布線302a的范圍。
圖像處理部127提供以上所述的各種輔助功能，減輕操作者的輸入 負(fù)擔(dān)，并根據(jù)輸入裝置接收到的輸入，根據(jù)參照?qǐng)D像300生成照射條件 圖像400。
另外，通過利用像照射條件圖像400那樣的灰度圖像表述照射條件 信息，操作者容易從視覺上掌握照射條件，能夠抑制方案設(shè)定中的人為 錯(cuò)誤。
圖5是攝入了缺陷的拍攝圖像的示例。圖5的拍攝圖像500通過由 攝像部108拍攝作為激光修復(fù)對(duì)象的FPD基板101而獲取。
艮P，主控制部122從缺陷檢査裝置103接受缺陷信息。在此，把想 要通過激光修復(fù)來修正的缺陷稱為"對(duì)象缺陷"。主控制部122從來自缺 陷檢查裝置103的缺陷信息中選擇對(duì)象缺陷。然后，主控制部122為了 使對(duì)象缺陷進(jìn)入物鏡118的視野內(nèi)，根據(jù)所指定的缺陷的位置信息(缺 陷坐標(biāo)數(shù)據(jù))，命令載物臺(tái)控制部124使載物臺(tái)107沿x方向和y方向移 動(dòng)，以使對(duì)象缺陷與物鏡的光軸一致。載物臺(tái)控制部124按照來自主控 制部122的命令來控制載物臺(tái)107。
在進(jìn)行上述的相對(duì)移動(dòng)后，攝像部108拍攝FPD基板101的表面， 把拍攝圖像500輸出給顯示器102，并且還輸出給圖像處理部127。
在拍攝作為激光修復(fù)對(duì)象的FPD基板101得到的圖5的拍攝圖像500 中，攝入了柵極總線501a、 CS總線501b、柵極總線501c和源極/漏極布 線502a 502c。另外，從在和源極/漏極布線502a 502c相同的層上形成 的CS總線501b上的接觸孔503a和503b延伸的輔助性布線，也被攝入 到拍攝圖像500中。并且，層疊非晶硅204形成的TFT504a 504d也被攝入到拍攝圖像500中。與參照?qǐng)D像300相同，由于透明電極505a 505d 是透明的，所以在實(shí)際的拍攝圖像500中輪廓不一定明確，在圖5中示 出了透明電極505a 505d的輪廓。
并且，作為對(duì)象缺陷的缺陷506也被攝入到拍攝圖像500中。缺陷 506例如是附著在FPD基板101表面上的微?；蚩刮g劑膜的殘余等。缺 陷506存在于柵極總線501c、源極/漏極布線502b和透明電極505a 505c 等、分別層疊了不同物質(zhì)的多個(gè)區(qū)域中。根據(jù)本實(shí)施方式，在這些不同 的每個(gè)區(qū)域中，按照不同的照射條件向缺陷506上照射激光光束，能夠 把缺陷506內(nèi)的激光光束的照射方式控制得極其精細(xì)。
以上，參照?qǐng)D2 圖5并根據(jù)FPD基板的具體示例，說明了方案和 拍攝圖像。
下面，參照?qǐng)D6 圖9說明激光修復(fù)裝置100的動(dòng)作。另外，如參 照?qǐng)D4說明的那樣，照射條件表示照射的強(qiáng)弱，照射的強(qiáng)弱能夠利用各 種方法控制。在此，首先參照?qǐng)D6，說明不依賴于控制照射強(qiáng)弱的方法的 共同點(diǎn)，然后參照?qǐng)D7 圖9具體說明控制照射的強(qiáng)弱的各種方法。
圖6是說明激光修復(fù)裝置IOO的動(dòng)作的流程圖。另外，假設(shè)在開始 圖6所示的處理之前，已經(jīng)完成了下面的(a) (c)的處理。
(a) 將FPD基板101搬入激光修復(fù)裝置100的處理。
(b) 例如未圖示的輸入裝置接收FPD基板101的類型和FPD基板 101的識(shí)別符等信息，并提供給主控制部122的處理。
(c) 缺陷檢査裝置103向激光修復(fù)裝置100輸出有關(guān)FPD基板101 的缺陷信息，主控制部122將缺陷信息讀出到例如RAM中的處理。
在完成這些(a) (c)的處理后，開始圖6所示的處理，在圖6 所示的處理結(jié)束后，從激光修復(fù)裝置100中搬出FPD基板101。
在圖6的步驟S101中，主控制部122從方案存儲(chǔ)部123讀出預(yù)先存 儲(chǔ)的方案。
接著，在步驟S102中，主控制部122從由缺陷檢査裝置103接收的 缺陷信息中，讀取與所指定的一個(gè)對(duì)象缺陷相關(guān)的缺陷坐標(biāo)。
接著，在步驟S103中，攝像部108拍攝FPD基板101的表面的對(duì)
27200910169507.9
象缺陷，獲取例如圖5的拍攝圖像500。攝像部108把所拍攝的拍攝圖像 500輸出給顯示器102和圖像處理部127。
接著，在步驟S104中，圖像處理部127根據(jù)從攝像部108輸出的圖 5的拍攝圖像500，來識(shí)別缺陷506的范圍。
例如，圖像處理部127將拍攝圖像500與方案中包含的圖3的參照 圖像300進(jìn)行比較，根據(jù)參照?qǐng)D像300與拍攝圖像500的差分圖像，識(shí) 別對(duì)象缺陷的范圍。圖像處理部127通過使用適當(dāng)?shù)拈撝祵⒉罘謭D像2 值化等方法，能夠識(shí)別缺陷506的大小、形狀、位置和范圍。
然后，在接下來的步驟S105中，圖像處理部127將識(shí)別到的缺陷 506的范圍與方案中包含的圖4的照射條件圖像400進(jìn)行比較。另外，作 為比較的前處理，圖像處理部127進(jìn)行拍攝圖像500與根據(jù)參照?qǐng)D像300 生成的照射條件圖像400的位置對(duì)準(zhǔn)。根據(jù)將位置對(duì)準(zhǔn)后的拍攝圖像500 中的缺陷506的范圍與照射條件圖像400進(jìn)行比較得到的結(jié)果，圖像處 理部127把缺陷506的范圍劃分為一個(gè)以上的照射區(qū)域。
艮P，在圖4和圖5所示的本實(shí)施方式的示例中，圖像處理部127把 缺陷506的范圍劃分為下面的(a) (i)的照射區(qū)域。
(a) 與白色的第l條件區(qū)域401b重合的區(qū)域。
(b) 在第4條件區(qū)域404b的周圍，并與圖4中不帶參照符號(hào)的白 色區(qū)域重合的區(qū)域。
(c) 在第4條件區(qū)域404d的周圍，并與圖4中不帶參照符號(hào)的白 色區(qū)域重合的區(qū)域。
(d) 在第4條件區(qū)域404f的周圍，并與圖4中不帶參照符號(hào)的白 色區(qū)域重合的區(qū)域。
(e) 與淺灰色的第2條件區(qū)域402c重合的區(qū)域(分離為兩個(gè)的區(qū)域)。
(f) 與深灰色的第3條件區(qū)域403b重合的區(qū)域。
(g) 與黑色的第4條件區(qū)域404b重合的區(qū)域。
(h) 與黑色的第4條件區(qū)域404d重合的區(qū)域。
(i) 與黑色的第4條件區(qū)域404f重合的區(qū)域。
28圖像處理部127這樣把缺陷506的范圍劃分為多個(gè)照射區(qū)域(a) (i)后，把劃分的結(jié)果輸出給主控制部122。然后，處理轉(zhuǎn)入步驟S106。
在步驟S106中，主控制部122根據(jù)在步驟S105中的劃分結(jié)果，生 成對(duì)應(yīng)各個(gè)檢查條件的空間調(diào)制模式。
并且，各個(gè)"空間調(diào)制模式"是指對(duì)二維空間光調(diào)制器106指定的模 式。具體地講，各個(gè)空間調(diào)制模式是針對(duì)二維空間光調(diào)制器106的各個(gè) 微型反射鏡獨(dú)立地指定開狀態(tài)或閉狀態(tài)的任一狀態(tài)的模式。
例如，設(shè)M和N是正整數(shù)，且二維空間光調(diào)制器106具有MxN個(gè) 微型器件。例如，如果二維空間光調(diào)制器106是DMD，則微型器件是微 型反射鏡。該情況時(shí)，各個(gè)空間調(diào)制模式能夠利用MxN像素的2值圖像 來表示，該MxN像素利用白色表示開狀態(tài)，利用黑色表示閉狀態(tài)。
主控制部122決定如何控制照射條件表示的照射的強(qiáng)度，根據(jù)照射 強(qiáng)度的控制方式，決定對(duì)應(yīng)各個(gè)照射條件的空間調(diào)制模式。關(guān)于空間調(diào) 制模式的示例，將在后面參照?qǐng)D7 圖9進(jìn)行說明。
接著，在步驟S107中，主控制部122進(jìn)行依次切換在步驟S106中 決定的空間調(diào)制模式并照射激光光束的控制。步驟S107的控制是用于以 下目的的一種控制，對(duì)于在步驟S105被劃分的一個(gè)以上照射區(qū)域的各個(gè) 照射區(qū)域，按照與和該照射區(qū)域重合的層疊區(qū)域相對(duì)應(yīng)的照射條件，向 該照射區(qū)域照射激光光束。
艮口，主控制部122將各個(gè)空間調(diào)制模式輸入空間調(diào)制控制部126， 同時(shí)根據(jù)各個(gè)空間調(diào)制模式對(duì)激光控制部125指定成為照射條件的與激 光光束的照射相關(guān)的參數(shù)，改變照射條件同時(shí)修復(fù)對(duì)象缺陷506。
然后，在進(jìn)行了以上敘述的一系列的流程處理后，在接下來的步驟 S108中，主控制部122判定是否還有與未處理的其他缺陷相關(guān)的信息。 如果有未處理的其他缺陷，則處理返回步驟S102，進(jìn)行相同的一系列的 流程處理，如果已處理完畢全部缺陷，則結(jié)束圖6所示的處理。
以上，參照?qǐng)D6說明了激光修復(fù)裝置100的一系列的動(dòng)作。
下面，參照?qǐng)D7 圖9，說明與圖6中的步驟S106和步驟S107相關(guān) 聯(lián)的、空間調(diào)制模式組的示例。圖7是表示空間調(diào)制模式組的第1例的圖。圖7所示的空間調(diào)制模
式組600由空間調(diào)制模式601、空間調(diào)制模式604和空間調(diào)制模式607這3個(gè)組成。
空間調(diào)制模式組600是適合于激光光源109的輸出功率可變的情況的空間調(diào)制模式組的一例。并且，空間調(diào)制模式組600內(nèi)的3個(gè)空間調(diào)制模式的順序是任意的，以下假設(shè)是按照空間調(diào)制模式601、 604、 607的順序。
如上所述，在二維空間光調(diào)制器106是具有MxN個(gè)微型反射鏡的DMD時(shí)，各個(gè)空間調(diào)制模式能夠利用MxN像素的2值圖像表示，該MxN像素利用白色表示開狀態(tài)，利用黑色表示閉狀態(tài)。在圖7中，只提取相當(dāng)于被取入物鏡118的視野內(nèi)的缺陷506附近的部分，并利用白色和黑色的2值圖像表示空間調(diào)制模式601、 604和607。
下面，在空間調(diào)制模式中，把指定開狀態(tài)的白色區(qū)域稱為"開區(qū)域"，把指定閉狀態(tài)的黑色區(qū)域稱為"閉區(qū)域"。并且，在圖7中為了方便，把缺陷506的輪廓線顯示為白色，但并不是對(duì)各個(gè)微型反射鏡指定了開狀態(tài)。
在圖4的照射條件圖像400中，空間調(diào)制模式601與由利用亮度"30"表示的第3條件對(duì)應(yīng)的開區(qū)域602、和除此之外的閉區(qū)域603組成。
開區(qū)域602包括在圖6中的步驟S105中說明的(f)照射區(qū)域。并且，在圖7的示例中，為了更可靠地修復(fù)缺陷506，激光修復(fù)裝置100不僅向缺陷506，也向缺陷506的附近照射激光光束。因此，空間調(diào)制模式601中的開區(qū)域602是(f)照射區(qū)域、與在缺陷506附近和圖4中的第3條件區(qū)域403b重合的區(qū)域之和。
艮P，開區(qū)域602是在缺陷506的內(nèi)部或附近與第3條件區(qū)域403b重合的區(qū)域。第3條件區(qū)域403b與第3條件(即利用亮度"30"表示的照射條件)相對(duì)應(yīng)。
并且，空間調(diào)制模式604由在圖4的照射條件圖像400中與利用亮度"60"表示的第2條件對(duì)應(yīng)的開區(qū)域605 、和除此之外的閉區(qū)域606組成。開區(qū)域605被劃分為兩部分，但統(tǒng)稱為"開區(qū)域605"。開區(qū)域605包括在圖6中的步驟S105中說明的(e)照射區(qū)域。并 且，為了更可靠地修復(fù)缺陷506，開區(qū)域605包括在缺陷506附近與圖4 中的第2條件區(qū)域402c重合的區(qū)域。
艮口，開區(qū)域605是在缺陷506的內(nèi)部或附近與第2條件區(qū)域402c重 合的區(qū)域。第2條件區(qū)域402c與第2條件(即利用亮度"60"表示的照射 條件)相對(duì)應(yīng)。
并且，空間調(diào)制模式607由在圖4的照射條件圖像400中與利用亮 度"100"表示的第1條件對(duì)應(yīng)的開區(qū)域608、和除此之外的閉區(qū)域609組 成。開區(qū)域608被劃分為四個(gè)部分，但統(tǒng)稱為"開區(qū)域608"。
開區(qū)域608包括在圖6中的步驟S105中說明的(a) (d)照射區(qū) 域。并且，為了更可靠地修復(fù)缺陷506，開區(qū)域608包括在缺陷506附近 與圖4中表示第1條件的白色部分重合的區(qū)域。
艮P，開區(qū)域608是在缺陷506的內(nèi)部或附近與利用亮度"100"表示的 第1條件相對(duì)應(yīng)的區(qū)域(例如第1條件區(qū)域401b)重合的區(qū)域。
這樣，空間調(diào)制模式組600由對(duì)應(yīng)于第3條件的空間調(diào)制模式601、 對(duì)應(yīng)于第2條件的空間調(diào)制模式604、和對(duì)應(yīng)于第1條件的空間調(diào)制模式 607組成。空間調(diào)制模式601、 604和607是具有基于照射條件圖像400 中的特定灰度(即特定的亮度)的區(qū)域的形狀，用于將激光光束整形成 為與其相同的形狀的模式?？臻g調(diào)制模式組600中不具有對(duì)應(yīng)于第4條
件的空間調(diào)制模式，這是因?yàn)楸緦?shí)施方式中的第4條件表示禁止照射激 光光束。
下面，說明空間調(diào)制模式組600的使用方法。使用空間調(diào)制模式組 600的情況，例如是下述(a)和(b)成立的情況。激光光源109可以是 進(jìn)行連續(xù)激發(fā)的，也可以是進(jìn)行脈沖激發(fā)的。
(a) 激光光源109的輸出功率是可變的。
(b) 在圖4的照射條件圖像400中，與表示最強(qiáng)的照射條件的亮度 "100"對(duì)應(yīng)的輸出功率Pn^和照射時(shí)間T已經(jīng)預(yù)先設(shè)定。例如，輸出功率 Prr^和照射時(shí)間T的值與照射條件圖像400相關(guān)聯(lián)地存儲(chǔ)在方案存儲(chǔ)部 123中。
31在(a)和(b)成立的情況下，在圖6中的步驟S106中，在主控制 部122生成空間調(diào)制模式組600后，在步驟S107進(jìn)行下面所述的基于空 間調(diào)制模式組600的激光光束的照射。
主控制部122向空間調(diào)制控制部126輸出空間調(diào)制模式601的數(shù)據(jù)， 以使二維空間光調(diào)制器106按照與利用亮度"30"表示的第3條件相對(duì)應(yīng) 的空間調(diào)制模式601，對(duì)激光光束進(jìn)行空間調(diào)制。并且，主控制部122根
據(jù)式(1)計(jì)算對(duì)應(yīng)于第3條件的輸出功率P3。
P3-P隨x (30/100) (1)
并且，主控制部122指示激光控制部125進(jìn)行控制，以使在照射時(shí) 間T內(nèi)以輸出功率P3持續(xù)從激光器單元105射出激光光束。
并且，主控制部122通過空間調(diào)制控制部126和激光控制部125， 使二維空間光調(diào)制器106和激光器單元105的動(dòng)作定時(shí)同步。即，主控 制部122進(jìn)行同步控制，以便在二維空間光調(diào)制器106在按照空間調(diào)制 模式601驅(qū)動(dòng)各個(gè)微型反射鏡的定時(shí)，激光器單元105開始射出激光光 束。
如上所述，在照射時(shí)間T內(nèi)以輸出功率P3射出的激光光束，在按照
空間調(diào)制模式601被實(shí)施空間調(diào)制后，照射到FPD基板101的表面上， 然后，主控制部122切換照射的方式。
艮P，主控制部122向空間調(diào)制控制部126輸出空間調(diào)制模式604的 數(shù)據(jù)，以使二維空間光調(diào)制器106按照與利用亮度"60"表示的第2條件 相對(duì)應(yīng)的空間調(diào)制模式604，對(duì)激光光束進(jìn)行空間調(diào)制。并且，主控制部 122根據(jù)式(2)計(jì)算對(duì)應(yīng)于第2條件的輸出功率P2。
P2^P隨x (60/100) (2)
然后，主控制部122指示激光控制部125，以使在照射時(shí)間T內(nèi)以 輸出功率P2從激光器單元105射出激光光束。并且，主控制部122進(jìn)行 與上述相同的同步控制。
如上所述，在照射時(shí)間T內(nèi)以輸出功率P2射出的激光光束，在按照 空間調(diào)制模式604被實(shí)施空間調(diào)制后，照射到FPD基板101的表面上， 然后，主控制部122再次切換照射的方式。艮口，主控制部122向空間調(diào)制控制部126輸出空間調(diào)制模式607的 數(shù)據(jù)，以使二維空間光調(diào)制器106按照與利用亮度"100"表示的第1條件 相對(duì)應(yīng)的空間調(diào)制模式607，對(duì)激光光束進(jìn)行空間調(diào)制。并且，主控制部 122根據(jù)式(3)計(jì)算對(duì)應(yīng)于第1條件的輸出功率P,。
Pi=Pmaxx (100/100) (3)
并且，主控制部122指示激光控制部125，以使在照射時(shí)間T內(nèi)以 輸出功率P,從激光器單元105射出激光光束。并且，主控制部122進(jìn)行 與上述相同的同步控制。
如上所述，在照射時(shí)間T內(nèi)以輸出功率P,射出的激光光束，在按照 空間調(diào)制模式607被實(shí)施空間調(diào)制后，照射到FPD基板101的表面上， 持續(xù)這種狀態(tài)，缺陷506的修復(fù)結(jié)束。g卩，在圖6中，處理從步驟S107 轉(zhuǎn)入步驟S108。
并且，在上述的說明中，分別按照空間調(diào)制模式601、 604、 607進(jìn) 行空間調(diào)制的時(shí)間的長短相等，都是照射時(shí)間T，輸出功率按照P3、 P2、 P,變化。但是，在激光光源109進(jìn)行連續(xù)激發(fā)時(shí)、或者激光光源109進(jìn) 行脈沖激發(fā)時(shí)，脈沖反復(fù)周期與照射時(shí)間T相比非常短，在能夠視為脈 沖數(shù)與照射時(shí)間成比例的情況下，也能夠進(jìn)行步驟S107中的以下所述的 控制。
艮P，主控制部122根據(jù)式(4)計(jì)算照射時(shí)間T3，該照射時(shí)間丁3是 按照對(duì)應(yīng)于第3條件的空間調(diào)制模式601進(jìn)行空間調(diào)制并照射激光光束 的時(shí)間。
T3=Tx (30/100) (4)
然后，主控制部122通過激光控制部125間接地控制激光器單元105, 以使其在照射時(shí)間T3內(nèi)以輸出功率Pm^持續(xù)射出激光光束。并且，主控 制部122進(jìn)行與上述相同的同步控制，并向空間調(diào)制控制部126輸出空 間調(diào)制模式601的數(shù)據(jù)。
然后，在經(jīng)過照射時(shí)間T3后，主控制部122根據(jù)式(5)計(jì)算照射 時(shí)間T2，該照射時(shí)間T2是按照對(duì)應(yīng)于第2條件的空間調(diào)制模式604進(jìn)行 空間調(diào)制并照射激光光束的時(shí)間。
33T2=Tx (60/100) (5)
然后，主控制部122通過激光控制部125間接地控制激光器單元105，
以使其在照射時(shí)間T2內(nèi)以輸出功率P,持續(xù)射出激光光束。并且，主控
制部122進(jìn)行與上述相同的同步控制，并向空間調(diào)制控制部126輸出空 間調(diào)制模式604的數(shù)據(jù)。
然后，在經(jīng)過照射時(shí)間T2后，主控制部122根據(jù)式(6)計(jì)算照射 時(shí)間T,，該照射時(shí)間T,是按照對(duì)應(yīng)于第1條件的空間調(diào)制模式607進(jìn)行 空間調(diào)制并照射激光光束的時(shí)間。
T-Tx (100/100) (6)
并且，主控制部122通過激光控制部125間接地控制激光器單元105， 以使其在照射時(shí)間T,內(nèi)以輸出功率P,持續(xù)射出激光光束。并且，主控 制部122進(jìn)行與上述相同的同步控制，并向空間調(diào)制控制部126輸出空 間調(diào)制模式607的數(shù)據(jù)。
如上所述，主控制部122、激光控制部125和空間調(diào)制控制部126 作為控制單元發(fā)揮以下作用。即，作為控制單元的各個(gè)部分依次對(duì)二維 空間光調(diào)制器106指定多個(gè)空間調(diào)制模式，并控制激光器單元105，以便 在一個(gè)以上的照射區(qū)域的各個(gè)照射區(qū)域中，按照與和該照射區(qū)域?qū)?yīng)的 照射條件相當(dāng)?shù)臅r(shí)間來照射激光光束。
并且，無論改變輸出功率和照射時(shí)間中的哪一方，作為控制單元發(fā) 揮作用的各個(gè)部分控制激光器單元105，使其依次切換輸出功率來射出激 光光朿，并依次對(duì)二維空間光調(diào)制器106指定多個(gè)空間調(diào)制模式，以便 在一個(gè)以上的照射區(qū)域的各個(gè)照射區(qū)域中，使每單位面積照射的能量與 和該照射區(qū)域?qū)?yīng)的照射條件相當(dāng)。
并且，在上述的示例中，作為控制單元發(fā)揮作用的各個(gè)部分還進(jìn)行 控制，以使二維空間光調(diào)制器106根據(jù)依次指定的多個(gè)空間調(diào)制模式切 換空間調(diào)制方式的定時(shí)、與激光器單元105切換輸出功率的定時(shí)同步。
這樣，主控制部122通過空間調(diào)制控制部126依次對(duì)二維空間光調(diào) 制器106指定3個(gè)空間調(diào)制模式601、 604、 607，并通過激光控制部125 控制激光器單元105。然后，主控制部122進(jìn)行將照射時(shí)間和輸出功率一方固定而改變另一方的控制，由此實(shí)現(xiàn)適合于在圖6中的步驟S105中說 明的各個(gè)照射區(qū)域(a) (i)的激光光束照射。
艮口，進(jìn)行把小于一個(gè)缺陷506的區(qū)域即各個(gè)照射區(qū)域(a) (i)作 為單位的、極其精細(xì)的激光光束照射的控制。在本實(shí)施方式中，也附帶 向缺陷506附近的小區(qū)域照射激光光束，但如以上說明的那樣，缺陷506 附近的小區(qū)域也對(duì)應(yīng)于各個(gè)層疊區(qū)域而設(shè)定。因此，根據(jù)本實(shí)施方式， 對(duì)于各個(gè)照射區(qū)域(a) (i)，按照與和該照射區(qū)域重合的層疊區(qū)域相 對(duì)應(yīng)的照射條件，向該照射區(qū)域照射激光光束。
并且，以往公知的方法使用狹縫等物理機(jī)構(gòu)來整形激光光束的光束 截面形狀，但在本實(shí)施方式中，把能夠電氣驅(qū)動(dòng)的DMD用作二維空間光 調(diào)制器106。
因此，在本實(shí)施方式中，能夠把空間調(diào)制模式的切換所需的時(shí)間視 為零。因此，在本實(shí)施方式中，能夠在與使用物理機(jī)構(gòu)的現(xiàn)有方法相比 極短的時(shí)間內(nèi)，把比一個(gè)缺陷506更小的區(qū)域作為單位，極其精細(xì)且適 當(dāng)?shù)貋砜刂萍す夤馐恼丈洹?br> 并且，通過極其精細(xì)的控制，也能夠防止照射無用的激光光束，結(jié) 果，不會(huì)因?yàn)榧す夤馐苟S空間光調(diào)制器106和其他光學(xué)元件產(chǎn)生無 用的應(yīng)力。因此，不會(huì)在必要程度以上地縮短二維空間光調(diào)制器106等 的壽命。
圖8是表示空間調(diào)制模式組的第2例的圖。圖8的空間調(diào)制模式組 700由空間調(diào)制模式701、空間調(diào)制模式704和空間調(diào)制模式707這3個(gè) 組成。并且，空間調(diào)制模式組700內(nèi)的3個(gè)空間調(diào)制模式的順序是任意 的，但在下面設(shè)為按照空間調(diào)制模式701、 704、 707的順序。
圖8也與圖7相同，只提取相當(dāng)于被取入物鏡118的視野內(nèi)的缺陷 506附近的部分，并利用白色和黑色的2值圖像表示空間調(diào)制模式701、 704和707。并且，為了方便而示出了缺陷506的輪廓線，這一點(diǎn)也與圖 7相同。
空間調(diào)制模式701由用于把對(duì)應(yīng)的微型反射鏡驅(qū)動(dòng)為開狀態(tài)的開區(qū) 域702、和除此之外的閉區(qū)域703組成。
35開區(qū)域702指下述三個(gè)區(qū)域在缺陷506或其附近全部重合的區(qū)域， 所述三個(gè)區(qū)域指在圖4的照射條件圖像400中與利用亮度"30"表示的第3 條件對(duì)應(yīng)的區(qū)域、與利用亮度"60"表示的第2條件對(duì)應(yīng)的區(qū)域、以及與 利用亮度"100"表示的第1條件對(duì)應(yīng)的區(qū)域。換言之，開區(qū)域702包括在 圖6中的步驟S105中說明的(a) (f)照射區(qū)域之和。并且，開區(qū)域 702還包括在缺陷506的附近與第1 第3條件全部對(duì)應(yīng)的照射條件圖像 400內(nèi)的區(qū)域重合的區(qū)域。
同樣，空間調(diào)制模式704由開區(qū)域705和閉區(qū)域706組成。幵區(qū)域 705被劃分為兩部分，但統(tǒng)稱為"開區(qū)域705"。
開區(qū)域705指在缺陷506或其附近，在圖4的照射條件圖像400中 與利用亮度"60"表示的第2條件對(duì)應(yīng)的區(qū)域、和與利用亮度"100"表示的 第1條件對(duì)應(yīng)的各個(gè)區(qū)域重合的區(qū)域。換言之，開區(qū)域705包括(a) (e)照射區(qū)域之和，還包括與第1 第2條件對(duì)應(yīng)的照射條件圖像400 內(nèi)的各個(gè)區(qū)域重合的區(qū)域。
并且，空間調(diào)制模式707由開區(qū)域708和除此之外的閉區(qū)域709組 成，開區(qū)域708在缺陷506或其附近，和在圖4的照射條件圖像400中 與利用亮度"100"表示的第1條件對(duì)應(yīng)的區(qū)域重合。換言之，開區(qū)域708 包括(a) (d)照射區(qū)域之和，還包括與對(duì)應(yīng)于第1條件的照射條件 圖像400內(nèi)的區(qū)域重合的區(qū)域。另外，開區(qū)域708被劃分為四部分，但 統(tǒng)稱為"開區(qū)域708"。
艮口，開區(qū)域702包括開區(qū)域705，開區(qū)域705包括開區(qū)域708。
下面，說明空間調(diào)制模式組700的使用方法?？臻g調(diào)制模式組700 也能夠在激光光源109的輸出功率恒定時(shí)使用。并且，激光光源109可 以是進(jìn)行連續(xù)激發(fā)的，也可以是進(jìn)行脈沖激發(fā)的裝置。空間調(diào)制模式組 700例如在下述(a)或(b)成立的情況下使用。
(a)激光光源109進(jìn)行連續(xù)激發(fā)的情況，預(yù)先設(shè)定照射時(shí)間Tmax (=T)，該照射時(shí)間對(duì)應(yīng)于在圖4的照射條件圖像400中表示最強(qiáng)的照 射條件的亮度"100"。例如，照射時(shí)間T^x的值與照射條件圖像400相關(guān) 聯(lián)地存儲(chǔ)在方案存儲(chǔ)部123中。(b)激光光源109進(jìn)行脈沖激發(fā)的情況，預(yù)先設(shè)定脈沖數(shù)Nmw，該
脈沖數(shù)對(duì)應(yīng)于在圖4的照射條件圖像400中表示最強(qiáng)的照射條件的亮度 "100"。例如，脈沖數(shù)H^的值與照射條件圖像400相關(guān)聯(lián)地存儲(chǔ)在方案 存儲(chǔ)部123中。
在(a)或(b)成立的情況下，在圖6中的步驟S106中，在主控制 部122生成空間調(diào)制模式組700后，在步驟S107中進(jìn)行下面所述的基于 空間調(diào)制模式組700的激光光束的照射。
主控制部122向空間調(diào)制控制部126輸出空間調(diào)制模式701的數(shù)據(jù)， 以使二維空間光調(diào)制器106按照空間調(diào)制模式701對(duì)激光光束進(jìn)行空間 調(diào)制。并且，在空間調(diào)制模式701中，與從最弱的照射條件即第3條件 到最強(qiáng)的照射條件即第1條件的多個(gè)照射條件對(duì)應(yīng)的區(qū)域包含于開區(qū)域 702中。
因此，在激光光源109進(jìn)行連續(xù)激發(fā)時(shí)，主控制部122根據(jù)上式(4) 計(jì)算對(duì)應(yīng)于利用亮度"30"表示的第3條件的照射時(shí)間T3?；蛘?，在激光 光源109進(jìn)行脈沖激發(fā)時(shí)，主控制部122根據(jù)式(7)計(jì)算對(duì)應(yīng)于第3條
件的脈沖數(shù)N3。
N產(chǎn)N薩x (30/100) (7)
并且，在激光光源109進(jìn)行連續(xù)激發(fā)時(shí)，主控制部122通過激光控 制部125間接地控制激光器單元105，使其在照射時(shí)間T3內(nèi)持續(xù)射出激 光光束?；蛘?，在激光光源109進(jìn)行脈沖激發(fā)時(shí)，主控制部122通過激 光控制部125間接地控制激光器單元105，使其照射N3次脈沖。
同時(shí)，主控制部122進(jìn)行與使用圖7說明的情況相同的同步控制， 使在激光器單元105射出激光光束的期間，進(jìn)行基于空間調(diào)制模式701 的空間調(diào)制。
并且，在經(jīng)過照射時(shí)間T3后或者照射N3次脈沖后，主控制部122 切換照射的方式。
艮口，主控制部122向空間調(diào)制控制部126輸出空間調(diào)制模式704的 數(shù)據(jù)，以使二維空間光調(diào)制器106按照空間調(diào)制模式704對(duì)激光光束進(jìn) 行空間調(diào)制。并且，在空間調(diào)制模式704中，對(duì)應(yīng)于第2條件和第1條
37件的區(qū)域包含于開區(qū)域705中。并且，開區(qū)域705包含于開區(qū)域702中。因此，在遵循空間調(diào)制模式704的激光光束照射中，主控制部122 把與開區(qū)域705對(duì)應(yīng)的兩個(gè)照射條件中更弱的照射條件即第2條件作為 基準(zhǔn)，來計(jì)算照射時(shí)間或脈沖數(shù)。即，主控制部122根據(jù)第2條件所需 要的照射能量、與受到基于空間調(diào)制模式701的空間調(diào)制而已經(jīng)照射到 FPD基板101的表面上的激光光束的照射能量的差分進(jìn)行計(jì)算。在激光光源109進(jìn)行連續(xù)激發(fā)時(shí)，主控制部122根據(jù)式(8)計(jì)算照 射時(shí)間Ta，在激光光源109進(jìn)行脈沖激發(fā)時(shí)，主控制部122根據(jù)式(9) 計(jì)算脈沖數(shù)Na。Ta=Tx ((60—30) /100) (8)Na=Nmaxx ((60一30) /100) (9)并且，在激光光源109進(jìn)行連續(xù)激發(fā)時(shí)，主控制部122控制激光器 單元105，以使其在照射時(shí)間Ta內(nèi)射出激光光束。或者，在激光光源109 進(jìn)行脈沖激發(fā)時(shí)，主控制部122通過激光控制部125間接地控制激光器 單元105，以使其照射NJ欠脈沖。同時(shí)，主控制部122進(jìn)行同步控制，以使在激光器單元105射出激 光光束的期間，進(jìn)行基于空間調(diào)制模式704的空間調(diào)制。并且，在經(jīng)過照射時(shí)間Ta后或者照射Na次脈沖后，主控制部122 切換照射的方式。艮P，主控制部122向空間調(diào)制控制部126輸出空間調(diào)制模式707的 數(shù)據(jù)，以使二維空間光調(diào)制器106按照空間調(diào)制模式707對(duì)激光光束進(jìn) 行空間調(diào)制。并且，在空間調(diào)制模式707中，只有對(duì)應(yīng)于第1條件的區(qū) 域包含于開區(qū)域708中，開區(qū)域708包含于開區(qū)域702和開區(qū)域705的 雙方中。因此，在基于空間調(diào)制模式707的激光光束照射中，主控制部122 應(yīng)該計(jì)算的照射時(shí)間或脈沖數(shù)是與第1條件所需要的照射能量和已經(jīng)照 射的能量的差分對(duì)應(yīng)的值。即，在激光光源109進(jìn)行連續(xù)激發(fā)時(shí)，主控 制部122根據(jù)式(10)計(jì)算照射時(shí)間Tb，在激光光源109進(jìn)行脈沖激發(fā) 時(shí)，主控制部122根據(jù)式(11)計(jì)算脈沖數(shù)Nb。Tb=Tx ((100—60)細(xì)) (10) Nb=Nmaxx ((100—60) /100) (11)并且，在激光光源109進(jìn)行連續(xù)激發(fā)時(shí)，主控制部122通過激光控 制部125間接地控制激光器單元105，使其在照射時(shí)間Tb內(nèi)持續(xù)射出激 光光束?；蛘?，在激光光源109進(jìn)行脈沖激發(fā)時(shí)，主控制部122通過激 光控制部125間接地控制激光器單元105，使其照射Nb次脈沖。同時(shí)，主控制部122進(jìn)行同步控制，使在激光器單元105射出激光 光束的期間，進(jìn)行基于空間調(diào)制模式707的空間調(diào)制。另外，在上述的說明中，主控制部122通過激光控制部125明確控 制對(duì)應(yīng)于各個(gè)空間調(diào)制模式701、 704和707的照射時(shí)間或脈沖數(shù)。但是， 主控制部122也可以只將激光光束的照射開始的定時(shí)和照射時(shí)間T通知 給激光控制部125。該情況時(shí)，在從激光光束的照射開始時(shí)刻起經(jīng)過照射 時(shí)間Ts后、以及從激光光束的照射開始時(shí)刻起經(jīng)過照射時(shí)間T2 (=T3 + Ta)后，只需主控制部122通過空間調(diào)制控制部126切換空間調(diào)制模式， 激光修復(fù)裝置100即可進(jìn)行與上述相同的動(dòng)作。這是因?yàn)槟軌虬讯S空 間光調(diào)制器106切換空間調(diào)制方式的所需要的時(shí)間視為零。如式(4) (11)明確示出的那樣，根據(jù)上述的控制，在激光光源 109進(jìn)行連續(xù)激發(fā)時(shí)，向分別對(duì)應(yīng)第1 第3條件的區(qū)域照射激光光束的 合計(jì)時(shí)間分別是T、 T2、 T3。并且，根據(jù)上述的控制，在激光光源109進(jìn) 行脈沖激發(fā)時(shí)，向分別對(duì)應(yīng)第1 第3條件的區(qū)域照射激光光束的合計(jì)脈 沖數(shù)分別是N隨、N謹(jǐn)x (60/100)、 N3。因此，根據(jù)使用了空間調(diào)制模式組700的上述控制，對(duì)于在圖6的 步驟S105中說明的各個(gè)照射區(qū)域(a) (f)，分別按照對(duì)應(yīng)的照射條件 (即與照射條件圖像400中的亮度成比例的強(qiáng)度)來照射激光光束。如上所述，在激光光源109進(jìn)行脈沖激發(fā)時(shí)，主控制部122、激光 控制部125和空間調(diào)制控制部126作為控制單元發(fā)揮下述作用。S卩，作 為控制單元的各個(gè)部分依次對(duì)二維空間光調(diào)制器106指定多個(gè)空間調(diào)制 模式，并控制激光器單元105，以便在一個(gè)以上的照射區(qū)域的各個(gè)照射區(qū) 域中，按照與和該照射區(qū)域?qū)?yīng)的照射條件相當(dāng)?shù)拿}沖數(shù)來照射激光光39束。并且，在圖8的示例中，主控制部122也可以進(jìn)行改變輸出功率而 不改變照射時(shí)間和脈沖數(shù)的控制。即，主控制部122也可以通過激光控 制部125控制激光器單元105,使其對(duì)應(yīng)于空間調(diào)制模式701、 704和707 分別以輸出功率P3、 (P2—P3)和(P,—P2)來照射激光光束。該情況時(shí)， 每個(gè)空間調(diào)制模式的照射時(shí)間的長度相等，例如是上述的照射時(shí)間T。在以上說明的實(shí)施方式中，說明了把空間調(diào)制模式組劃分為多個(gè)空 間調(diào)制模式的情況，但也可以把照射條件不同的區(qū)域劃分為多個(gè)區(qū)域由 一個(gè)空間調(diào)制模式來構(gòu)成。圖9是表示空間調(diào)制模式組的第3例的圖。圖9的示例是使用了與 圖3和圖4所示的方案不同的其他方案的激光修復(fù)的示例。圖9中的重合概念圖800是示意地表示把拍攝激光修復(fù)對(duì)象即FPD 基板101得到的拍攝圖像中的缺陷801劃分照射區(qū)域的圖。并且，圖9 中的空間調(diào)制模式900用于調(diào)整基于重合概念圖800的劃分而得到的激 光光束的功率。在重合概念圖800中分別示出了缺陷801的范圍、以及分別對(duì)應(yīng)于 4個(gè)照射條件而劃分的第1條件區(qū)域802、第2條件區(qū)域803、第3條件 區(qū)域804和第4條件區(qū)域805。與圖4的示例相同，在圖9的示例中，照 射條件也利用0 100的整數(shù)示出。圖9的示例中的各個(gè)照射條件利用下 面的數(shù)值表示。 第1條件50 第2條件70.第3條件100*第4條件0第1條件區(qū)域802是左側(cè)的長方形區(qū)域，第2條件區(qū)域803是右下 的長方形區(qū)域、第3條件區(qū)域804是右側(cè)的L字形區(qū)域，第4條件區(qū)域 805是右上的長方形區(qū)域。如重合概念圖800所示，缺陷801橫跨這4個(gè)不同的照射區(qū)域。因 此，在圖6中的步驟S105中，圖像處理部127把缺陷801的范圍劃分為4個(gè)照射區(qū)域。g卩，缺陷801的范圍被劃分為與第1條件區(qū)域802重合的 第1照射區(qū)域806、與第2條件區(qū)域803重合的第2照射區(qū)域807、與第 3條件區(qū)域804重合的第3照射區(qū)域808、和與第4條件區(qū)域805重合的 第4照射區(qū)域809。根據(jù)這樣劃分的照射區(qū)域，在圖6中的步驟S106中，主控制部122 生成只包括1個(gè)空間調(diào)制模式900的空間調(diào)制模式組。然后，在步驟S107 中，主控制部122、激光控制部125和空間調(diào)制控制部126進(jìn)行控制，使 進(jìn)行基于空間調(diào)制模式900的空間調(diào)制，并照射激光光束。與圖7和圖8相同，空間調(diào)制模式900只提取示出與具有MxN個(gè)微 型反射鏡的DMD對(duì)應(yīng)的MxN像素的2值圖像中、相當(dāng)于缺陷801附近 的部分。另外，在圖9的示例中，不向缺陷801附近進(jìn)行附帶的激光光 束照射。并且，為了便于圖示，在空間調(diào)制模式900中示出了不同的照射區(qū) 域之間的邊界線和缺陷801的輪廓線。但是，在表示空間調(diào)制模式900 的實(shí)際的2值圖像中不存在這些邊界線和輪廓線。并且，空間調(diào)制模式卯0中的各個(gè)小正方形是表示空間調(diào)制模式900 的2值圖像中的1個(gè)像素，對(duì)應(yīng)于各個(gè)微型反射鏡。對(duì)應(yīng)于各個(gè)微型反 射鏡的各個(gè)像素利用表示開狀態(tài)的白色或表示閉狀態(tài)的黑色示出。在空間調(diào)制模式900中對(duì)應(yīng)于第1照射區(qū)域806的范圍內(nèi)，混合存 在表示開狀態(tài)的白色像素和表示閉狀態(tài)的黑色像素。并且，在照射條件 利用0 100的整數(shù)表示、對(duì)應(yīng)于第1照射區(qū)域806的第1條件利用數(shù)值 "50"表示時(shí)，白色像素與黑色像素的個(gè)數(shù)比如式(12)所示。50: (100 — 50) =1: 1 (12)同樣，在空間調(diào)制模式卯0中對(duì)應(yīng)于第2照射區(qū)域807的范圍內(nèi)， 也混合存在表示幵狀態(tài)的白色像素和表示閉狀態(tài)的黑色像素。并且，在 照射條件利用0 100的整數(shù)表示、對(duì)應(yīng)于第2照射區(qū)域807的第2條件 利用數(shù)值"75，，表示時(shí)，白色像素與黑色像素的個(gè)數(shù)比如式(13)所示。75: (100—75) =3: 1 (13)并且，在空間調(diào)制模式900中對(duì)應(yīng)于第3照射區(qū)域808的范圍內(nèi)，3 條件利用"100"這種用于表示照射條件的最大數(shù)值表示。換言之，在空間 調(diào)制模式900中對(duì)應(yīng)于第3照射區(qū)域808的范圍內(nèi)，白色像素與黑色像 素的個(gè)數(shù)比如式(14)所示。
100: (100—100) =1: 0 (14)
相反，在空間調(diào)制模式900中對(duì)應(yīng)于第4照射區(qū)域809的范圍內(nèi)， 只有表示閉狀態(tài)的黑色像素。這是因?yàn)閷?duì)應(yīng)于第4照射區(qū)域809的第4 條件利用"O"這種用于表示照射條件的最小數(shù)值表示。換言之，在空間調(diào) 制模式900中對(duì)應(yīng)于第4照射區(qū)域809的范圍內(nèi)，白色像素與黑色像素 的個(gè)數(shù)比如式(15)所示。
0: (100 — 0) =0 : 1 (15)
基于只包括空間調(diào)制模式900的空間調(diào)制模式組的激光光束的照 射，尤其適合于與一個(gè)微型反射鏡相對(duì)應(yīng)地被照射激光光束的FPD基板 101的表面上的面積充分小的情況。因?yàn)樵谠撉闆r下，通過按照空間調(diào)制 模式900進(jìn)行空間調(diào)制并照射激光光束，當(dāng)在一個(gè)照射區(qū)域內(nèi)進(jìn)行平均 時(shí)，按照與圖4所示的照射條件圖像的各個(gè)條件區(qū)域相對(duì)應(yīng)的照射條件， 向各個(gè)照射區(qū)域照射激光光束。
例如，第1條件利用相對(duì)表示最強(qiáng)照射條件的數(shù)值"100"的比率為 50%的值表示，如式(12)所示，以第1照射區(qū)域806的50%照射激光 光束。由此，如果與一個(gè)微型反射鏡相對(duì)應(yīng)地被照射激光光束的FPD基 板101的表面上的面積充分小，則能夠視為"當(dāng)在第1照射區(qū)域806內(nèi)進(jìn) 行平均時(shí)，將以最強(qiáng)的照射條件的50%的強(qiáng)度均勻地照射激光光束"。對(duì) 于其他照射區(qū)域也相同。
艮P，圖9的示例可以概括如下。
二維空間光調(diào)制器106具有第一個(gè)個(gè)數(shù)(MxN個(gè))的微型反射鏡， 其排列成二維陣列狀，各個(gè)微型反射鏡至少能夠以第1和第2傾斜角(即， 分別對(duì)應(yīng)開狀態(tài)和閉狀態(tài)的傾斜角)驅(qū)動(dòng)。
單元發(fā)揮作用的空間調(diào)制控制部126對(duì)二維空間光調(diào)制 器106指定的空間調(diào)制模式900，是使第一個(gè)個(gè)數(shù)的微型反射鏡的各個(gè)微 42型反射鏡與開狀態(tài)和閉狀態(tài)對(duì)應(yīng)的模式。
另外，本發(fā)明不限于上述的實(shí)施方式，能夠進(jìn)行各種變形。下面敘 述幾個(gè)示例。
FPD基板中用于構(gòu)成電路的物質(zhì)的層疊方式根據(jù)實(shí)施方式有各種方 式。圖2所示的剖視圖是具體示例中的一個(gè)，有時(shí)也把與圖2不同的物
質(zhì)層疊在玻璃基板201上來制造FPD基板。在這種情況下，與上述實(shí)施 方式相同，能夠根據(jù)與所層疊的物質(zhì)對(duì)應(yīng)的方案來實(shí)現(xiàn)適當(dāng)?shù)募す夤馐?的照射。
并且，在上述實(shí)施方式中作為激光修復(fù)對(duì)象的產(chǎn)品不限于FPD基板。 作為FPD基板之外的激光修復(fù)對(duì)象，例如也能夠把上述實(shí)施方式適用于 LSI (Large Scale Integration)芯片(chip)和印刷布線基板等產(chǎn)品。
并且，圖l所示的各個(gè)光學(xué)元件的配置僅是一例。例如，可以明白， 通過改變激光器單元105的配置，能夠省去反射鏡113。除此之外，還能 夠進(jìn)行各種變形。
并且，在圖6中的步驟S104中，圖像處理部127也能夠根據(jù)識(shí)別到 的缺陷506的位置和范圍，識(shí)別拍攝圖像500中的缺陷506的亮度。圖 像處理部127也可以根據(jù)缺陷506的亮度來識(shí)別缺陷506的類型，并根 據(jù)缺陷506的類型判定是否需要修復(fù)。并且，在圖像處理部127判定為 不需要修復(fù)時(shí)，能夠省略后面的步驟S105 S107。
并且，如圖7 圖9示例的那樣，關(guān)于具體生成包括何種各個(gè)空間 調(diào)制模式的空間調(diào)制模式組，根據(jù)實(shí)施方式有各種方式。代表性的方式 如圖7 圖9所示，各個(gè)空間調(diào)制模式可以是下面(a) (d)中的任一 個(gè)模式，也可以是除此之外的模式。
(a) 表示一個(gè)以上照射區(qū)域中的一個(gè)照射區(qū)域的空間調(diào)制模式
(b) 表示利用上述(a)的空間調(diào)制模式表示的一個(gè)照射區(qū)域與該 照射區(qū)域附近的區(qū)域之和的空間調(diào)制模式
(c) 表示一個(gè)以上照射區(qū)域中的多個(gè)照射區(qū)域之和的空間調(diào)制模式
(d) 表示利用上述(c)的空間調(diào)制模式表示的多個(gè)照射區(qū)域與該 多個(gè)照射區(qū)域附近的區(qū)域之和的空間調(diào)制模式
43另外，根據(jù)各個(gè)照射條件向各個(gè)照射區(qū)域照射激光光束的控制方法， 不限于圖7 圖9示例的方法。例如，也可以根據(jù)空間調(diào)制模式的切換來 改變輸出功率和照射時(shí)間的雙方。
或者，在激光光源109進(jìn)行連續(xù)激發(fā)、而且在實(shí)現(xiàn)二維空間光調(diào)制 器106的DMD中微型反射鏡的驅(qū)動(dòng)速度足夠快(g卩，能夠在與激光光束 的照射時(shí)間To相比足夠短的時(shí)間內(nèi)驅(qū)動(dòng)微型反射鏡)的情況下，還能夠 進(jìn)行下面的控制。
艮P，激光控制部125控制激光光源109，使其在照射時(shí)間To內(nèi)射出 固定輸出功率的CW激光光束。與此并行，空間調(diào)制控制部126對(duì)各個(gè) 微型反射鏡進(jìn)行例如PWM (Pulse Width Modulation)驅(qū)動(dòng)，以使開狀態(tài) 的時(shí)間在照射時(shí)間To中所占的比例(即占空比(duty cycle))與照射條 件圖像400中的亮度成比例。主控制部122向激光控制部125和空間調(diào) 制控制部126輸出指令使進(jìn)行上述的控制。
另外，例如在利用每單位面積照射的能量的總量表示照射條件的強(qiáng) 度時(shí)，可以向各個(gè)照射區(qū)域照射最終對(duì)應(yīng)照射條件的每單位面積的能量。 因此，例如輸出功率的切換定時(shí)與空間調(diào)制模式的切換定時(shí)可以不一定 一致。
另外，例如在照射條件利用0 100的整數(shù)表示時(shí)，不一定需要存在 對(duì)應(yīng)于利用"0"或"100"表示的照射條件的層疊區(qū)域。g卩，也可以使全部層
疊區(qū)域與中間的照射條件相對(duì)應(yīng)。當(dāng)然，表示照射條件的數(shù)值范圍也可
以不是上述實(shí)施方式那樣的0 100，而能夠任意預(yù)先確定。
例如，通過根據(jù)激光器單元105的規(guī)格適當(dāng)確定表示照射條件的數(shù) 值范圍，能夠取消式(1) (11)的相乘運(yùn)算，并且方案存儲(chǔ)部123不
需要存儲(chǔ)Pmax等常數(shù)。例如，在能夠把0 Pma^的范圍內(nèi)的數(shù)值設(shè)定為照
射條件圖像400中的亮度時(shí)，表示照射條件的數(shù)值本身就是應(yīng)該對(duì)激光 器單元105指定的輸出功率的值。因此，將不需要式(1) (3)的計(jì) 算。這對(duì)于其他的方式也相同。
另外，在上述實(shí)施方式中，根據(jù)實(shí)際拍攝參照FPD基板得到的參照 圖像300生成照射條件圖像400。但是，也可以取代參照?qǐng)D像300，而根據(jù)FPD基板101的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)生成照射條件圖像400。設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的具體示 例是光刻用掩模圖形的CAD (Computer Aided Design)數(shù)據(jù)。在使用CAD 數(shù)據(jù)時(shí)，有時(shí)需要進(jìn)行實(shí)際層疊的物質(zhì)的形狀與掩模圖形的形狀的微小 差異的修正等。
另外，在上述實(shí)施方式中，根據(jù)操作者的輸入來設(shè)定照射條件，但 也可以根據(jù)相對(duì)層疊在各層上的物質(zhì)的特定波長的激光光束的反射率、 抗激光損傷特性、熱作用(吸收率、熱傳導(dǎo)率)等物理特性、和層疊在 各層上的物質(zhì)的層厚度等設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)，自動(dòng)設(shè)定條件區(qū)域，并針對(duì)各個(gè)條 件區(qū)域計(jì)算照射條件來自動(dòng)生成方案。
4權(quán)利要求
1.一種激光修復(fù)裝置，其向產(chǎn)品表面上存在的缺陷照射激光光束來修復(fù)所述缺陷，所述產(chǎn)品是通過在基板的表面上層疊一層以上用于形成電路的一種以上的物質(zhì)而制造的，其特征在于，所述激光修復(fù)裝置具有射出單元，其射出所述激光光束；二維空間調(diào)制單元，其按照所指定的空間調(diào)制模式，對(duì)從所述射出單元射出的所述激光光束進(jìn)行空間調(diào)制后，照射到所述產(chǎn)品的表面上；存儲(chǔ)單元，其存儲(chǔ)照射條件信息，該照射條件信息使照射條件與所述基板表面上的多個(gè)層疊區(qū)域的各個(gè)層疊區(qū)域相對(duì)應(yīng)，其中，該照射條件與在該層疊區(qū)域上層疊一層以上的所述一種以上的物質(zhì)相對(duì)應(yīng)；識(shí)別單元，其識(shí)別所述缺陷的范圍；劃分單元，其根據(jù)存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)單元中的所述照射條件信息，把由所述識(shí)別單元識(shí)別的所述缺陷的所述范圍，按照其是與所述多個(gè)層疊區(qū)域中的哪個(gè)層疊區(qū)域重合來劃分為一個(gè)以上的照射區(qū)域；以及控制單元，其依次對(duì)所述二維空間調(diào)制單元指定一個(gè)以上的空間調(diào)制模式，并控制所述射出單元，以便對(duì)由所述劃分單元?jiǎng)澐值乃鲆粋€(gè)以上的照射區(qū)域的各個(gè)照射區(qū)域，按照與和該照射區(qū)域重合的所述層疊區(qū)域相對(duì)應(yīng)的所述照射條件，來向該照射區(qū)域照射所述激光光束。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光修復(fù)裝置，其特征在于， 所述照射條件信息被表述為圖像，在所述圖像中，所述多個(gè)層疊區(qū)域的各自的亮度被設(shè)定為與該層疊 區(qū)域相關(guān)聯(lián)的與所述照射條件對(duì)應(yīng)的值。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光修復(fù)裝置，其特征在于， 所述照射條件表示每單位面積應(yīng)照射的能量，在所述多個(gè)層疊區(qū)域的各個(gè)層疊區(qū)域中，與所述能量成比例的值被 設(shè)定為所述亮度。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光修復(fù)裝置，其特征在于，所述照射條 件表示每單位面積應(yīng)照射的能量。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的激光修復(fù)裝置，其特征在于， 所述激光光束是脈沖激光光束，所述控制單元依次對(duì)所述二維空間調(diào)制單元指定多個(gè)空間調(diào)制模 式，并控制所述射出單元，以便在所述一個(gè)以上的照射區(qū)域的各個(gè)照射 區(qū)域中，按照與和該照射區(qū)域?qū)?yīng)的所述照射條件相當(dāng)?shù)拿}沖數(shù)來照射 所述脈沖激光光束。
6. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的激光修復(fù)裝置，其特征在于，所述控制單 元依次對(duì)所述二維空間調(diào)制單元指定多個(gè)空間調(diào)制模式，并控制所述射 出單元，以便在所述一個(gè)以上的照射區(qū)域的各個(gè)照射區(qū)域中，按照與和 該照射區(qū)域?qū)?yīng)的所述照射條件相當(dāng)?shù)臅r(shí)間來照射所述激光光束。
7. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的激光修復(fù)裝置，其特征在于，所述控制單 元控制所述射出單元使其依次切換輸出功率來射出所述激光光束，并依 次對(duì)所述二維空間調(diào)制單元指定多個(gè)空間調(diào)制模式，以便在所述一個(gè)以 上的照射區(qū)域的各個(gè)照射區(qū)域中，使每單位面積照射的能量與和該照射 區(qū)域?qū)?yīng)的所述照射條件相當(dāng)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的激光修復(fù)裝置，其特征在于，所述控制單 元進(jìn)行控制，以使所述二維空間調(diào)制單元根據(jù)被依次指定的所述多個(gè)空 間調(diào)制模式而切換空間調(diào)制方式的定時(shí)、與所述射出單元切換所述輸出 功率的定時(shí)同步。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光修復(fù)裝置，其特征在于，所述二維空 間調(diào)制單元具有第一個(gè)個(gè)數(shù)的微型反射鏡，其排列成二維陣列狀，各個(gè) 微型反射鏡至少能夠驅(qū)動(dòng)為第1和第2傾斜角，所述控制單元對(duì)所述二維空間調(diào)制單元指定的所述一個(gè)以上的空間 調(diào)制模式的各個(gè)空間調(diào)制模式是使所述第一個(gè)個(gè)數(shù)的微型反射鏡中的各 個(gè)微型反射鏡與所述第1或所述第2傾斜角對(duì)應(yīng)的模式，所述控制單元對(duì)所述二維空間調(diào)制單元指定下述的空間調(diào)制模式， 即，對(duì)于所述一個(gè)以上的照射區(qū)域中的各個(gè)照射區(qū)域，在所述第一個(gè)個(gè) 數(shù)的微型反射鏡中與該照射區(qū)域?qū)?yīng)的第二個(gè)個(gè)數(shù)的所述微型反射鏡 中，使所述第1或所述第2傾斜角分別對(duì)應(yīng)于所述第二個(gè)個(gè)數(shù)的所述微型反射鏡中的各個(gè)微型反射鏡，以使分別驅(qū)動(dòng)為所述第1和所述第2傾 斜角的所述微型反射鏡的個(gè)數(shù)比成為與和該照射區(qū)域?qū)?yīng)的所述照射條 件相當(dāng)?shù)闹怠?br> 10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光修復(fù)裝置，其特征在于，所述控制 單元對(duì)所述二維空間調(diào)制單元依次指定的所述一個(gè)以上的空間調(diào)制模式 中的各個(gè)空間調(diào)制模式是表示所述一個(gè)以上的照射區(qū)域中的一個(gè)照射區(qū)域的第1空間調(diào)制模式;表示利用所述第1空間調(diào)制模式表示的一個(gè)所述照射區(qū)域、與該照射區(qū)域的附近區(qū)域之和的第2空間調(diào)制模式；表示所述一個(gè)以上的照射區(qū)域中的多個(gè)照射區(qū)域之和的第3空間調(diào) 制模式；或者表示利用所述第3空間調(diào)制模式表示的多個(gè)所述照射區(qū)域與該多個(gè) 照射區(qū)域的附近區(qū)域之和的第4空間調(diào)制模式。
11. 一種激光修復(fù)方法，使激光修復(fù)裝置向產(chǎn)品表面上存在的缺陷照 射激光光束來修復(fù)所述缺陷，所述產(chǎn)品是通過在基板表面上層疊一層以 上用于形成電路的一種以上的物質(zhì)而制造的，其特征在于，所述激光修復(fù)方法包括讀取照射條件信息，該照射條件信息使照射條件與所述基板表面上 的多個(gè)層疊區(qū)域的各個(gè)層疊區(qū)域相關(guān)聯(lián)，其中，該照射條件對(duì)應(yīng)于在該層疊區(qū)域上層疊一層以上的所述一種以上的物質(zhì)； 識(shí)別所述缺陷的范圍；根據(jù)所讀取的所述照射條件信息，把所識(shí)別的所述缺陷的所述范圍， 按照是與所述多個(gè)層疊區(qū)域中的哪個(gè)層疊區(qū)域重合來劃分為一個(gè)以上的 照射區(qū)域；通過射出所述激光光束并依次切換空間調(diào)制用的一個(gè)以上的空間調(diào) 制模式，來依次對(duì)所射出的所述激光光束按照不同的方式進(jìn)行空間調(diào)制， 以便對(duì)所述一個(gè)以上的照射區(qū)域中的各個(gè)照射區(qū)域，按照與和該照射區(qū) 域重合的所述層疊區(qū)域相關(guān)聯(lián)的所述照射條件，向該照射區(qū)域照射所述 激光光束，而照射到所述產(chǎn)品的表面上。
全文摘要
激光修復(fù)裝置及激光修復(fù)方法，極其精細(xì)地控制激光光束的照射，更適當(dāng)?shù)匦迯?fù)缺陷。方案存儲(chǔ)部(123)存儲(chǔ)照射條件圖像，該照射條件圖像使與層疊物質(zhì)對(duì)應(yīng)的照射條件和玻璃基板表面上多個(gè)層疊區(qū)域中的各個(gè)層疊區(qū)域相對(duì)應(yīng)。圖像處理部(127)識(shí)別通過在玻璃基板上層疊各種物質(zhì)而制造的FPD基板(101)表面上的缺陷范圍，根據(jù)照射條件圖像并按照是與哪個(gè)層疊區(qū)域重合，來把缺陷范圍劃分為照射區(qū)域。主控制部(122)通過激光控制部(125)和空間調(diào)制控制部(126)，依次對(duì)二維空間光調(diào)制器(106)指定一個(gè)以上空間調(diào)制模式，并控制激光器單元(105)，以便對(duì)各個(gè)照射區(qū)域按照與和該照射區(qū)域重合的層疊區(qū)域?qū)?yīng)的照射條件，向該照射區(qū)域照射激光光束。
文檔編號(hào)G02B26/08GK101673666SQ20091016950
公開日2010年3月17日 申請(qǐng)日期2009年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月12日
發(fā)明者赤羽隆之 申請(qǐng)人:奧林巴斯株式會(huì)社