專利名稱：分段形標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光刻設(shè)備的一種信號(hào)處理方法，且特別涉及一種分段形標(biāo)記對(duì) 準(zhǔn)信號(hào)處理方法。
背景技術(shù)：
在工業(yè)裝置中，由于高精度和高產(chǎn)量的需要，分布著大量高速實(shí)時(shí)測(cè)量、 信號(hào)采樣、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)交換和通信傳輸?shù)忍綔y(cè)裝置和控制系統(tǒng)。這些系統(tǒng) 需要我們采用多種方式來(lái)實(shí)現(xiàn)探測(cè)、信號(hào)采樣控制、數(shù)據(jù)采集控制、數(shù)據(jù)交換
控制和數(shù)據(jù)傳輸通信等功能。所述的探測(cè)和控制裝置包括集成電路制造光刻 設(shè)備、平板顯示面板光刻設(shè)備、先進(jìn)封裝光刻設(shè)備、印刷電路板光刻設(shè)備、印 刷電路板加工裝置以及印刷電路板器件貼裝裝置等。
光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用于工件上的裝置。通常是將所需圖案應(yīng)用 于工件上的目標(biāo)部分上的裝置。光刻設(shè)備可以用于例如集成電路(IC)的制造。 在這種情況下，構(gòu)圖部件可用于生產(chǎn)在IC一個(gè)單獨(dú)層上形成的電路圖案。該圖 案可以傳遞到工件(如硅晶片)的目標(biāo)部分(例如包括一部分， 一個(gè)或者多個(gè) 管芯)上。通常是通過(guò)將圖案形成到工件上提供的一層輻射敏感材料(抗蝕劑) 上來(lái)按比例復(fù)制所需圖案。已知的光刻設(shè)備還包括所謂掃描器，運(yùn)用輻射光束 沿給定的方向("掃描"方向)掃描所述圖案，并同時(shí)沿與該方向平行或者反平 行的方向同步掃描工件來(lái)輻照每一目標(biāo)部分。還可以通過(guò)將圖案壓印在工件上 而將圖案通過(guò)構(gòu)圖部件生成到工件上。
在光刻設(shè)備中，通過(guò)光刻設(shè)備中的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)使用對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組合進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)掃 描得到各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記分支的光信息和位置信息等對(duì)準(zhǔn)信息，對(duì)這些信息進(jìn)行相應(yīng)
處理，得到對(duì)準(zhǔn)構(gòu)圖部件上的標(biāo)記組合和工件臺(tái)探測(cè)構(gòu)圖部件上的標(biāo)記組合間 的位置關(guān)系，如圖l所示，對(duì)準(zhǔn)該光刻設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)包括輻射發(fā)生器l、構(gòu) 形照射窗口 2及其控制板3、構(gòu)圖部件4、置于目標(biāo)構(gòu)圖部件上的分段形標(biāo)記、探測(cè)構(gòu)圖部件上的單孔形標(biāo)記及其下面的探測(cè)裝置12、工件臺(tái)IO及工件臺(tái) 位置測(cè)量裝置13、探測(cè)構(gòu)圖部件承載臺(tái)6及其位置測(cè)量裝置7、置于探測(cè)構(gòu)圖 部件承栽臺(tái)6和工件臺(tái)10之間的投影系統(tǒng)8以及對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理裝置14,構(gòu)圖部 件4上具有構(gòu)形(包括曝光構(gòu)形和對(duì)準(zhǔn)構(gòu)形5)， 9為被光刻工件， 構(gòu)形照射窗口 2及其控制板3用于形成窗口將輻射1透射到對(duì)準(zhǔn)構(gòu)形5 上，以形成透射像；投影系統(tǒng)8用于將該透射像投射形成空間圖案，并用工件 臺(tái)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記11探測(cè)該空間圖案；輻射空間圖案探測(cè)裝置12用于檢測(cè)空間圖案 經(jīng)過(guò)工件臺(tái)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記11透射后的輻射信息；構(gòu)圖部件承載臺(tái)位置探測(cè)器7和工 件臺(tái)位置探測(cè)器13分別探測(cè)對(duì)準(zhǔn)掃描過(guò)程中的構(gòu)圖部件承載臺(tái)6和工件臺(tái)10 的空間位置，在掃描中得到位置探測(cè)器7和13所測(cè)量得到的位置數(shù)據(jù)，還同步 測(cè)量得到輻射空間圖案探測(cè)裝置12中的輻射信息，將探測(cè)到的所有信息采集到 對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理裝置14中，進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理得到對(duì)準(zhǔn)位置。
分段形標(biāo)記是一種兩段或兩段以上條形透光窗口成一定角度相接或相交而 成的透光標(biāo)記，這種標(biāo)記存在于目標(biāo)構(gòu)圖部件上，它被用于光刻機(jī)的安裝過(guò)程 中實(shí)現(xiàn)目標(biāo)構(gòu)圖部件圖形和工件臺(tái)上窗口形探測(cè)構(gòu)圖部件圖形之間的對(duì)準(zhǔn)定位 和粗捕獲，它的特殊結(jié)構(gòu)決定了它所生成的信號(hào)有一定的特殊性，如不對(duì)稱、 單旁瓣或多旁瓣決定了它的復(fù)雜性，需要對(duì)它特殊的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)進(jìn)行處理。
在上述裝置中，由于對(duì)分段形對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)的不對(duì)稱、單旁瓣或多 旁瓣等特性未進(jìn)行綜合處理，因此，影響對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)定位精度和粗捕獲精 度以及捕獲范圍，需要進(jìn)行逐級(jí)對(duì)準(zhǔn)來(lái)實(shí)現(xiàn)精確對(duì)準(zhǔn)，從而安裝構(gòu)圖部件至構(gòu) 圖部件運(yùn)動(dòng)臺(tái)的適應(yīng)性不強(qiáng)。
在對(duì)準(zhǔn)掃描離焦的情形下，由于分段行對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)非對(duì)稱型，影 響了對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的空中像寬的捕獲精度。
因此，需要提供一種新的分段形標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，使得該方法能 夠很好地處理分段形標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)掃描中出現(xiàn)的非對(duì)稱和旁瓣等信號(hào)特性，從而改 善了分段形標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)精度較低、復(fù)雜掃描工況適應(yīng)性不強(qiáng)、空中像寬捕獲精度 低等問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服已有技術(shù)中分段形標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)精度較低、復(fù)雜掃描工況適應(yīng)性不強(qiáng)和空中像寬捕獲精度低的問(wèn)題，本發(fā)明提供一種分段形標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法， 以實(shí)現(xiàn)較高的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)定位精度和粗捕獲精度。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提出一種分段形標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其包
括以下步驟同步采集分^:形對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的絕對(duì)位置數(shù)據(jù)以及光信息數(shù)據(jù)，并對(duì) 所述絕對(duì)位置數(shù)據(jù)進(jìn)行空間變換，對(duì)光信息數(shù)據(jù)進(jìn)行過(guò)濾處理；利用上述處理 過(guò)的位置數(shù)據(jù)和光信息數(shù)據(jù)，建立對(duì)稱逼近模型和非對(duì)稱逼近模型，分別求兩 個(gè)模型的模型參數(shù)；根據(jù)上述模型參數(shù)計(jì)算分段形標(biāo)記成像的對(duì)準(zhǔn)位置數(shù)據(jù)。 可選的，所述過(guò)濾處理包括對(duì)所述光信息數(shù)據(jù)進(jìn)行暗電流過(guò)濾和巻積過(guò)濾。 可選的，所述過(guò)濾處理還包括提取所述光信號(hào)數(shù)據(jù)的最大值和最小值，并 對(duì)光信號(hào)數(shù)據(jù)進(jìn)行旁瓣濾波。
可選的，所述旁瓣濾波器是圓形旁瓣濾波器或橢圓形旁瓣濾波器。 可選的，所述圓形旁瓣濾波器的形狀表示為^+ < ^2，其中，^A為 旁瓣范圍，；r和z分別為x方向和z方向上相對(duì)各自掃描中心的坐標(biāo)位置。 可選的，所述橢圓旁瓣濾波器的形狀表示為
虹及,
<1
、叛，
其中，5X及為旁瓣范圍，A5Z為垂向空間像大小，c和z分別為x方向和z
方向上相對(duì)各自掃描中心的坐標(biāo)位置。
可選的，所述旁瓣范圍是O. 2微米至5毫米。
可選的，所述垂向空間像大小其范圍在正負(fù)2.7微米。
可選的，所述分段形對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記由至少兩段條形透光窗口相接或相交而成。
可選的，所述空間變換為將絕對(duì)位置數(shù)椐變換為相對(duì)位置數(shù)據(jù)。
可選的，計(jì)算所述非對(duì)稱逼近模型和所述對(duì)稱逼近模型的位置數(shù)據(jù)最大值，
用所述非對(duì)稱逼近模型的位置數(shù)據(jù)最大值對(duì)所述對(duì)稱逼近模型的位置數(shù)據(jù)最大
值進(jìn)行校正。
可選的，所述對(duì)稱逼近模型是不低于2次的高階多項(xiàng)式，即
其中J為位置，/(Z)為光信息，A A為高階多項(xiàng)式系數(shù)，"為多項(xiàng)式的階數(shù)。
可選的，所述對(duì)稱逼近模型是二階對(duì)稱逼近才莫型，即 /(李A(yù)(Z)2+,) + A,或/(李 -, + / 2 其中J為位置，/(Z)為光信息，A —A為高階多項(xiàng)式系數(shù)。 可選的，所述非對(duì)稱逼近模型是不低于2次的高階多項(xiàng)式，即
其中J為位置，/(%)為光信息，A A為高階多項(xiàng)式系數(shù)，且/ +1<0,"為 多項(xiàng)式的階數(shù)。
可選的，所述非對(duì)稱逼近模型是二階對(duì)稱逼近模型，即 其中J為位置，/(義)為光信息，A &為高階多項(xiàng)式系數(shù)，且/ 3<0。
為了實(shí)現(xiàn)上迷目的，本發(fā)明還提出一種分^a形標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其
特征在于包括以下步驟Sl:同步采集分段形對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的絕對(duì)位置數(shù)據(jù)以及光 信息數(shù)據(jù)，并對(duì)所述絕對(duì)位置數(shù)據(jù)進(jìn)行空間變換，對(duì)光信息數(shù)據(jù)進(jìn)行過(guò)濾處理， 同時(shí)進(jìn)行采樣計(jì)數(shù)；S2:判斷采樣點(diǎn)的數(shù)量是否達(dá)到了所設(shè)定的采樣點(diǎn)總數(shù)， 若是，轉(zhuǎn)入步驟S3，若否，轉(zhuǎn)入步驟S1; S3:利用上述處理過(guò)的位置數(shù)據(jù)和光 信息數(shù)據(jù)，建立對(duì)稱逼近模型和非對(duì)稱逼近模型，分別求兩個(gè)模型的模型參數(shù)； S4:根據(jù)上述模型參數(shù)計(jì)算分段形標(biāo)記成像的對(duì)準(zhǔn)位置數(shù)據(jù)。
本發(fā)明所述的分段形標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法的有益效果主要表現(xiàn)在本發(fā) 明通過(guò)對(duì)分段形標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)掃描形成的波形進(jìn)行巻積濾波處理，使得對(duì)該處理 過(guò)的波形能夠用類似逼近的模型進(jìn)行逼近處理，減小逼近處理的誤差。通過(guò)在 分段形標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)掃描過(guò)程中，對(duì)光信息隨掃描位置變化的非對(duì)稱性波形進(jìn)4亍 非對(duì)稱模型校正處理，以及對(duì)可能出現(xiàn)的旁瓣進(jìn)行旁瓣濾波處理，大幅提高因 為非對(duì)稱因素引起的分段形標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)掃描的對(duì)準(zhǔn)精度和捕獲精度，提高了分段 形標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)掃描狀態(tài)的適應(yīng)性，因此，直接進(jìn)入對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的精確對(duì)準(zhǔn)掃描處理，進(jìn)而提高了對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)掃描的效率，在對(duì)準(zhǔn)掃描離焦的情形下，對(duì) 光信息隨掃描位置變化的非對(duì)稱性波形進(jìn)行非對(duì)稱模型校正處理。在對(duì)準(zhǔn)掃描 離焦的情形下，對(duì)光信息隨掃描位置變化的非對(duì)稱性波形進(jìn)行非對(duì)稱模型校正 處理，提高了對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)啟動(dòng)掃描成功率。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)光刻設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖2為本發(fā)明分段形標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法步驟流程圖3為本發(fā)明一實(shí)施例的分段形標(biāo)記示意圖4為現(xiàn)有技術(shù)和本發(fā)明一實(shí)施例的波形示意比較圖5為本發(fā)明一實(shí)施例的波形形成示意圖。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖對(duì)發(fā)明作進(jìn)一步的描述。 首先，請(qǐng)參考圖2，圖2為本發(fā)明分段形標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法步驟流程圖，
從圖2中可以看出，本發(fā)明包括步驟如下步驟100:啟動(dòng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)；步驟110:
同步采集構(gòu)圖部件上分段形標(biāo)記成像的位置數(shù)據(jù)以及光信息數(shù)據(jù)，并對(duì)位置數(shù)
據(jù)進(jìn)行空間變換，對(duì)光信息數(shù)據(jù)進(jìn)行暗電流過(guò)濾和巻積過(guò)濾，同時(shí)進(jìn)行采樣計(jì)
數(shù)，所述位置數(shù)據(jù)為相對(duì)位置數(shù)據(jù)，空間變換后，得到絕對(duì)位置數(shù)據(jù)；步驟112:
判斷采樣點(diǎn)的數(shù)量是否達(dá)到了所設(shè)定的采樣點(diǎn)總數(shù)，若是，轉(zhuǎn)入步驟S4，若否，
轉(zhuǎn)入步驟S2;步驟113:提取所述光信號(hào)數(shù)據(jù)的最大值和最小值，并對(duì)光信號(hào)
數(shù)據(jù)進(jìn)行旁瓣濾波，所述旁瓣濾波器是圓形旁瓣濾波器還可以是橢圓旁瓣濾波
器，所述圓形旁瓣濾波器的形狀表示為^ + <SZi 2，其中，見(jiàn)W為旁瓣范圍，
所述旁瓣范圍是O. 2^L米至5毫米，T和z分別為x方向和z方向上相對(duì)各自
廣x Y "、
:1，
掃描中心的坐標(biāo)位置；所述橢圓旁瓣濾波器的形狀表示為——i +|
其中，5XA為旁瓣范圍，所述旁瓣范圍是O. 2微米至5毫米，J5Z為垂向空間 像大小，其范圍在正負(fù)2.7微米，；c和z分別為x方向和z方向上相對(duì)各自掃描中心的坐標(biāo)位置；步驟114:利用經(jīng)步驟S2處理過(guò)的位置數(shù)據(jù)和光信息數(shù)據(jù)， 建立對(duì)稱逼近模型和非對(duì)稱逼近模型，分別求兩個(gè)模型的模型參數(shù)，對(duì)稱逼近 模型是不低于2次的高階多項(xiàng)式，即
<formula>formula see original document page 10</formula>
或/(" = /3。(％)" + "%"_1 +爲(wèi)(""-2+...+凡-2^02+凡-1(" + " 其中I為位置， /(幻為光信息，A ~ A為高階多項(xiàng)式系數(shù)，"為多項(xiàng)式的階數(shù)，典型的二階對(duì) 稱逼近模型為/(%)-A(%)2+A(") + A，或/(X)-A(X)2-A(^0 + A，其中J 為位置，/(X)為光信息，爲(wèi) A為高階多項(xiàng)式系數(shù)，非對(duì)稱逼近模型是不低于 2次的高階多項(xiàng)式，即
或/(x卜(A(-jn"+A(-Y)"+A(-x)"—2+…+A-2(-義)2+A-'(-義)+A),+'(-"，其中i
為位置，/(X)為光信息，凡~ A為高階多項(xiàng)式系數(shù)，且&+1<0，"為多項(xiàng)式的 階數(shù)，典型的二階非對(duì)稱逼近模型為/(x)"y9。(")2 + A(義)+ A)一w ,或
/(%) = (A("2-A(義)+ A)一w)，其中I為位置，/(y)為光信息，A) A為高階 多項(xiàng)式系數(shù)，且"3<0;步驟115:用所述非對(duì)稱逼近模型的模型參數(shù)對(duì)所述對(duì) 稱逼近模型的模型參數(shù)進(jìn)行逼近；步驟116:計(jì)算所述非對(duì)稱逼近模型和所述對(duì) 稱逼近模型的位置數(shù)據(jù)最大值，用所述非對(duì)稱逼近模型的位置數(shù)據(jù)最大值對(duì)所 述對(duì)稱逼近模型的位置數(shù)據(jù)最大值進(jìn)行校正；步驟117:計(jì)算采集構(gòu)圖部件上分 段形標(biāo)記成像的位置數(shù)據(jù)；步驟118:關(guān)閉所述對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。
接著，請(qǐng)參考圖3，圖3為本發(fā)明一實(shí)施例的分段形標(biāo)記示意圖，所述分段 形標(biāo)記一般由兩段或者兩段以上條形透光窗口成一定角度相接或相交而成，本 實(shí)施例中為分段形標(biāo)記由兩段條形透光窗口成一鈍角相接而成。
請(qǐng)參考圖4，圖4為現(xiàn)有技術(shù)和本發(fā)明一實(shí)施例的波形示意比較圖，圖4中 第 一個(gè)波形圖是現(xiàn)有技術(shù)的波形圖，第二個(gè)波形圖是本發(fā)明實(shí)施例的波形圖， 圖中橫坐標(biāo)X表示位置，單位是微米，縱坐標(biāo)Y為光強(qiáng)密度，單位是微瓦，從 圖中可以看出，經(jīng)過(guò)本發(fā)明分段形標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法處理后的波形圖， 其圖形中點(diǎn)的密度大幅度的提高，圖形的光滑度也增加了，從而也提高了分段 形標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)掃描的對(duì)準(zhǔn)精度和捕獲精度。圖5為本發(fā)明一實(shí)施例的波形形成示意圖，和圖4相同，圖5的橫坐標(biāo)X表示位置，縱坐標(biāo)Y表示光強(qiáng)密度，圖中 P2是對(duì)稱逼近對(duì)準(zhǔn)波形，Pl是非對(duì)稱逼近對(duì)準(zhǔn)波形，PO是校正后的對(duì)準(zhǔn)波形， 從圖上可以看出，X=A為P2對(duì)稱逼近對(duì)準(zhǔn)位置，X=B為Pl對(duì)稱逼近對(duì)準(zhǔn)位置， X=C為PO校正后的對(duì)準(zhǔn)位置。
雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明。本發(fā)明 所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各 種的更動(dòng)與潤(rùn)飾。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視權(quán)利要求書(shū)所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1. 一種分段形標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于包括以下步驟同步采集分段形對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的絕對(duì)位置數(shù)據(jù)以及光信息數(shù)據(jù)，并對(duì)所述絕對(duì)位置數(shù)據(jù)進(jìn)行空間變換，對(duì)光信息數(shù)據(jù)進(jìn)行過(guò)濾處理；利用上述處理過(guò)的位置數(shù)據(jù)和光信息數(shù)據(jù)，建立對(duì)稱逼近模型和非對(duì)稱逼近模型，分別求兩個(gè)模型的模型參數(shù)；根據(jù)上述模型參數(shù)計(jì)算分段形標(biāo)記成像的對(duì)準(zhǔn)位置數(shù)據(jù)。
2. —種如權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于所述過(guò)濾處理 包括對(duì)所述光信息數(shù)據(jù)進(jìn)4于暗電流過(guò)濾和巻積過(guò)濾。
3. —種如權(quán)利要求2所述的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，進(jìn)一步地，其特征在于所 述過(guò)濾處理還包括提取所述光信號(hào)數(shù)據(jù)的最大值和最小值，并對(duì)光信號(hào)數(shù)據(jù)進(jìn) 行旁瓣濾波。
4. 一種如權(quán)利要求3所述的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于所述旁瓣濾波 器是圓形旁瓣濾波器或橢圓形旁瓣濾波器。
5. —種如權(quán)利要求4所述的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于所述圓形旁瓣 濾波器的形狀表示為？+ <"及2,其中，見(jiàn)7 為旁瓣范圍，；r和z分別為x 方向和z方向上相對(duì)各自掃描中心的坐標(biāo)位置。
6. —種如權(quán)利要求4所述的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于所述橢圓旁瓣 濾波器的形狀表示為<formula>formula see original document page 2</formula>其中，5Zi 為旁瓣范圍，爿5Z為垂向空間像大小，；c和z分別為x方向和z方向上相對(duì)各自掃描中心的坐標(biāo)位置。
7. —種如權(quán)利要求5或6所述的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于所述旁瓣范圍是0.2微米至5毫米。
8. —種如權(quán)利要求6所述的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于所述垂向空間 像大小其范圍是正負(fù)2.7微米。
9. 一種如權(quán)利要求l所述的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于所述分段形對(duì) 準(zhǔn)標(biāo)記由至少兩段條形透光窗口相接或相交而成。
10. —種如權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于所述空間變換為將絕對(duì)位置數(shù)據(jù)變換為相對(duì)位置數(shù)據(jù)。
11. 一種如權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于計(jì)算所述非對(duì)稱逼近模型和所述對(duì)稱逼近;f莫型的位置數(shù)據(jù)最大值，用所述非對(duì)稱逼近;f莫型 的位置數(shù)據(jù)最大值對(duì)所迷對(duì)稱逼近模型的位置數(shù)據(jù)最大值進(jìn)行校正。
12. —種如;f又利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于所述對(duì)稱逼 近模型是不低于2次的高階多項(xiàng)式，即/(X)=+ A(-幻"—1 +A(-X)"-2 +...+2(-義)2 +A或/(JT) =+ A滅"—1 + AUG"—2 +...+A—2(義)2 + &其中J為位置，/(義)為光信息，/ 。~ A為高階多項(xiàng)式系^:，"為多項(xiàng)式的 階數(shù)。
13. —種如4又利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于所述對(duì)稱逼 近模型是二階對(duì)稱逼近模型，即/(z)=駆)2 + AW + A,或= AW2 _A(") + A 其中J為位置，/(z)為光信息，A — A為高階多項(xiàng)式系數(shù)。
14. 一種如權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于所述非對(duì)稱 逼近模型是不低于2次的高階多項(xiàng)式，即= ( a w" + 1 +軀廣2 + "+a-2 w2 +w+w其中j為位置，/(義)為光信息，/ 。~ a為高階多項(xiàng)式系數(shù)，且凡+1<0,"為 多項(xiàng)式的階數(shù)。
15. —種如權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于所述非對(duì)稱 逼近模型是二階對(duì)稱逼近模型，即/(x) = (/ 。("2+A(" + A)eAm ,或其中J為位置，/(JkT)為光信息，A — A為高階多項(xiàng)式系數(shù)，且爲(wèi)<0。
16. —種分^:形標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，其特征在于包括以下步驟Sl:同步采集分段形對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的絕對(duì)位置數(shù)據(jù)以及光信息數(shù)據(jù)，并對(duì)所述絕對(duì)位置數(shù)據(jù)進(jìn)行空間變換，對(duì)光信息數(shù)據(jù)進(jìn)行過(guò)濾處理，同時(shí)進(jìn)行采樣計(jì)數(shù)； S2:判斷采樣點(diǎn)的數(shù)量是否達(dá)到了所設(shè)定的采樣點(diǎn)總數(shù)，若是，轉(zhuǎn)入步驟S3,若否，轉(zhuǎn)入步驟S1;S3:利用上述處理過(guò)的位置數(shù)據(jù)和光信息數(shù)據(jù)，建立對(duì)稱逼近模型和非對(duì)稱逼近模型，分別求兩個(gè)模型的模型參數(shù)；S4:根據(jù)上述;f莫型參數(shù)計(jì)算分段形標(biāo)記成像的對(duì)準(zhǔn)位置數(shù)據(jù)。
全文摘要
本發(fā)明提出一種分段形標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理方法，通過(guò)對(duì)分段形標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)掃描形成的平頂波形進(jìn)行卷積濾波處理，對(duì)光信息隨掃描位置變化的非對(duì)稱性波形進(jìn)行非對(duì)稱模型校正處理，以及對(duì)可能出現(xiàn)的旁瓣進(jìn)行旁瓣濾波處理，減小逼近處理的誤差，大幅提高對(duì)準(zhǔn)精度和捕獲精度，提高了分段形標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)掃描狀態(tài)的適應(yīng)性，進(jìn)而提高了對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)掃描的效率。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101436005SQ20081020380
公開(kāi)日2009年5月20日 申請(qǐng)日期2008年12月1日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月1日
發(fā)明者宋海軍, 勇 張, 李煥煬 申請(qǐng)人:上海微電子裝備有限公司;上海微高精密機(jī)械工程有限公司