專利名稱：導(dǎo)光板及背光模組的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明關(guān)于一種導(dǎo)光板及具有該導(dǎo)光板的背光模組。
背景技術(shù)：
請參閱圖1，圖1為現(xiàn)有一背光模組10的立體分解圖。背光模組10主要包含有一背板11 ;以及設(shè)于背板11內(nèi)的一導(dǎo)光板(light guide plate， LGP)12、一反射片13、一光源14、一逆棱鏡片15及一光學(xué)膜16。光學(xué)膜16鄰近逆棱鏡片15的出光側(cè)，反射片13鄰近導(dǎo)光板12的下表面122，光源14設(shè)于導(dǎo)光板12的側(cè)入光面124，光源14所發(fā)出的光線自側(cè)入光面124入射至導(dǎo)光板12內(nèi)，再由導(dǎo)光板12的上表面121離開。于下表面122形成有數(shù)個(gè)V型溝槽123，利用V型溝槽123可將光線轉(zhuǎn)折至上表面121。上表面121形成霧面微結(jié)構(gòu)(圖未示)，使光線能以65-75度的角度離開導(dǎo)光板12。逆棱鏡片15鄰近導(dǎo)光板12的上表面121，用以將入射至其內(nèi)的上述65-75度光線導(dǎo)向正視角方向。
上述的現(xiàn)有背光模組10雖然具有良好的輝度，但明顯有如下缺點(diǎn)
1、現(xiàn)有背光模組10其導(dǎo)光板12的上表面121采用霧面微結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，然而于制造霧面微結(jié)構(gòu)時(shí)其轉(zhuǎn)寫率通常不佳(于此轉(zhuǎn)寫率定義為導(dǎo)光板12成型后的上表面121的微結(jié)構(gòu)數(shù)目與模仁表面的微結(jié)構(gòu)數(shù)目的比率)。 2、現(xiàn)有背光模組10的上表面121的霧面微結(jié)構(gòu)與下表面的V型溝槽123，于制造時(shí)為搭配逆棱鏡片15而有明顯的加工限制。 3、現(xiàn)有背光模組10其靠近光源14的側(cè)畫面區(qū)域通常亮度不均勻，特別是使用例如發(fā)光二極體(LED)的點(diǎn)光源作為側(cè)光源時(shí)，靠近光源14的一側(cè)容易產(chǎn)生對比明顯的V形亮/暗帶分布現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種制程穩(wěn)定性較高且能避免入光側(cè)光均勻度不佳現(xiàn)象的導(dǎo)光板及背光模組。 依本發(fā)明一實(shí)施例的設(shè)計(jì)，一種適于引導(dǎo)一光線沿一第一方向行進(jìn)的導(dǎo)光板包含一第一表面、一第二表面、一入光面及數(shù)個(gè)第一柱狀結(jié)構(gòu)。入光面連接第一表面及第二表面，且光線自入光面入射至導(dǎo)光板內(nèi)。數(shù)個(gè)第一柱狀結(jié)構(gòu)以各自的長軸方向大致平行第一方向的方式排列于第一表面。每一柱狀結(jié)構(gòu)具有相對第一表面凸出的一曲面，且該曲面上形成有至少一沿第一方向延伸的凹槽。 依本發(fā)明另一實(shí)施例的設(shè)計(jì)，一種背光模組包含一背板、一光源、一導(dǎo)光板及一反射片。背板具有至少一側(cè)邊及一連接于側(cè)邊的底面，且光源設(shè)置于背板內(nèi)并鄰近側(cè)邊。導(dǎo)光板包含一第一表面、一第二表面、一入光面及數(shù)個(gè)第一柱狀結(jié)構(gòu)。入光面連接第一表面及第二表面，且光線自入光面入射至導(dǎo)光板內(nèi)。數(shù)個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)以各自的長軸方向大致平行第一方向的方式排列于第一表面。每一第一柱狀結(jié)構(gòu)具有相對第一表面凸出的一曲面，且該曲面上形成有至少一沿第一方向延伸的凹槽。反射片置于背板的底面與導(dǎo)光板的第二表面
基于上述各個(gè)實(shí)施例的設(shè)計(jì)，因每一柱狀結(jié)構(gòu)具有一大致平行光傳遞方向設(shè)置的
第一及第二弧面來界定出一凹槽，如此可使光線離開導(dǎo)光板后更容易向柱狀結(jié)構(gòu)的兩側(cè)擴(kuò)散，減輕入光側(cè)亮/暗帶交替分布的亮度不均現(xiàn)象。此外，柱狀結(jié)構(gòu)可更包含至少一凹陷結(jié)構(gòu)，使光線離開導(dǎo)光板后更容易向柱狀結(jié)構(gòu)的兩側(cè)擴(kuò)散。此外，可于導(dǎo)光板的不同區(qū)域設(shè)置不同密度的凹陷結(jié)構(gòu)，來調(diào)整背光模組的能量分布，使背光模組的亮度更為均勻。再者，利用調(diào)整第一弧面及第二弧面的曲率，可控制光線離開導(dǎo)光板后再向柱狀結(jié)構(gòu)兩側(cè)散射的角度，藉以更有效地減少亮/暗帶交替分布現(xiàn)象。


圖1為現(xiàn)有一背光模組的立體分解圖。 圖2為顯示設(shè)有依本發(fā)明一實(shí)施例的導(dǎo)光板的背光模組立體分解圖。 圖3為顯示沿圖2的A-A'線的導(dǎo)光板剖面示意圖。 圖4為顯示依本發(fā)明一實(shí)施例的柱狀結(jié)構(gòu)的局部放大示意圖。 圖5A及5B為顯示本發(fā)明另一實(shí)施例的導(dǎo)光板結(jié)構(gòu)分別沿第一及第二方向的剖面
示意圖。 圖6A為顯示依本發(fā)明另一實(shí)施例的柱狀結(jié)構(gòu)的局部放大圖，圖6B為沿圖6A的Le線的剖面圖。 圖7A至7D為顯示光線穿過依本發(fā)明一實(shí)施例的柱狀結(jié)構(gòu)的示意圖。 圖8A為顯示本發(fā)明另一實(shí)施例的柱狀結(jié)構(gòu)的局部放大示意圖。 圖8B為顯示本發(fā)明另一實(shí)施例的柱狀結(jié)構(gòu)的局部放大示意圖。 圖8C為沿圖8B的Lf線切割的柱狀結(jié)構(gòu)剖面示意圖。 圖9為顯示依本發(fā)明一實(shí)施例的背光模組的俯視示意圖。 圖10為顯示本發(fā)明另一實(shí)施例的柱狀結(jié)構(gòu)的局部放大示意圖。
具體實(shí)施例方式
有關(guān)本發(fā)明的前述及其他技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)與功效，在以下配合參考圖的實(shí)施例的詳細(xì)說明中，將可清楚的呈現(xiàn)。以下實(shí)施例中所提到的方向用語，例如上、下、左、右、前或后等，僅是參考附圖的方向。因此，使用的方向用語是用來說明并非用來限制本發(fā)明。
圖2為顯示設(shè)有依本發(fā)明一實(shí)施例的導(dǎo)光板的背光模組立體分解圖，圖3為顯示沿圖2的A-A'線的導(dǎo)光板剖面示意圖。 請同時(shí)參考圖2及3，背光模組20包含一背板21、一光源24、一導(dǎo)光板22及一反射片23。背板21具有圍成矩形的四個(gè)側(cè)面211及一連接該些側(cè)面211的底面212。光源24可為圖示的冷陰極燈管(CCFL)，或者亦可為至少一發(fā)光二極體(LED)等等。光源24設(shè)置于背板21內(nèi)并鄰近其中一側(cè)面211，且朝導(dǎo)光板22發(fā)出一光線10，導(dǎo)光板22設(shè)置于背板21內(nèi)并鄰近光源24。導(dǎo)光板22具有一第一表面221、一第二表面222、一入光面223、數(shù)個(gè)V型溝槽250及數(shù)個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)260。第二表面222與第一表面221分別位于導(dǎo)光板22的兩對側(cè)，入光面223連接第一表面221及第二表面222且面向光源24以適于使光線10入射至導(dǎo)光板22內(nèi)。導(dǎo)光板22引導(dǎo)光線IO沿一第一方向41行進(jìn)，以形成背光模組20的面光源。V型溝槽250自第二表面222向?qū)Ч獍?2內(nèi)凹陷，且V型溝槽250系用以將光線10轉(zhuǎn)折至導(dǎo)光板22的第一表面221。且V型溝槽250的長軸方向垂直于柱狀結(jié)構(gòu)260的長軸方向。各個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)260以其長軸方向大致平行第一方向41的方式排列于第一表面221。如圖3所示，每一柱狀結(jié)構(gòu)260具有相對第一表面221凸出的一曲面S，且曲面S上形成有一沿第一方向41延伸分布的凹槽T。 圖4為顯示依本發(fā)明一實(shí)施例的柱狀結(jié)構(gòu)的局部放大示意圖。如圖4所示，柱狀結(jié)構(gòu)260相對一第一表面221凸出的曲面S包含一第一弧面267、一第二弧面268、一第一底面269、一第一斜面263及一第二斜面264，其中第一弧面267、第二弧面268及第一底面269沿第一方向41延伸設(shè)置且界定出沿第一方向41延伸分布的凹槽T。第一底面269連接于第一弧面267及第二弧面268間，第一底面269可如第4圖所示為一曲面，或者亦可為一平面。第一斜面263連接于第一弧面267及第一表面221間，第二斜面264連接于第二弧面268及第一表面221間。 圖5A及5B為顯示本發(fā)明另一實(shí)施例的導(dǎo)光板結(jié)構(gòu)分別沿第一及第二方向的剖面示意圖。柱狀結(jié)構(gòu)260并不限定形成于第一表面221，例如圖5A及5B所示的導(dǎo)光板22'更包含形成于第二表面的數(shù)個(gè)下柱狀結(jié)構(gòu)260a。于一實(shí)施例中，導(dǎo)光板22'可以同時(shí)包含形成于第一表面221的數(shù)個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)260及形成于第二表面222的數(shù)個(gè)下柱狀結(jié)構(gòu)260a，且下柱狀結(jié)構(gòu)260a的長軸方向垂直于柱狀結(jié)構(gòu)260的長軸方向?；蛘撸瑢?dǎo)光板僅包含形成于第二表面222的數(shù)個(gè)下柱狀結(jié)構(gòu)260a亦可。于一實(shí)施例中，柱狀結(jié)構(gòu)260的結(jié)構(gòu)可以相同于下柱狀結(jié)構(gòu)260a的結(jié)構(gòu)。 圖6A為顯示依本發(fā)明另一實(shí)施例的柱狀結(jié)構(gòu)的局部放大圖，第6B圖為沿圖6A的Le線的剖面圖。請參考圖6A及6B，于本實(shí)施例中，凹槽T(由第一弧面267、第二弧面268及第一底面269所界定出)沿一第二方向42(大致垂直第一方向41)切割的剖面的輪廓包含一第一曲線621、一第二曲線622、及一連接于第一曲線621及第二曲線622間的第三曲線623。第一曲線621、第二曲線622分別凸出于第一表面221，第三曲線623則朝第一表面221凹陷。較佳地，該些曲線可為圓弧曲線。第一曲線621及第三曲線623間形成一第一反曲點(diǎn)N ;第二曲線622及第三曲線623間形成一第二反曲點(diǎn)M。于一實(shí)施例中，當(dāng)凹槽于第一方向41上的不同位置沿第二方向42切割出多個(gè)剖面時(shí)，各個(gè)剖面的輪廓的第一反曲點(diǎn)N與第二反曲點(diǎn)M間的距離W可隨于第一方向41上的不同位置而變化。換言之，當(dāng)凹槽于第一方向41上的不同位置沿第二方向42切割出多個(gè)剖面時(shí)，各個(gè)剖面的輪廓的第三曲線623朝第一表面221凹陷的深度H隨于第一方向41上的不同位置而變化。于本實(shí)施例中，沿第二方向42切割的不同剖面的輪廓的第一反曲點(diǎn)N與第二反曲點(diǎn)M間的距離W、以及第三曲線623的凹陷深度H皆沿第一方向41遞增后遞減地變化而于柱狀結(jié)構(gòu)260'頂部形成一凹陷結(jié)構(gòu)U。于一實(shí)施例中，每一柱狀結(jié)構(gòu)260的頂部亦可以形成多個(gè)凹陷結(jié)構(gòu)U。凹陷結(jié)構(gòu)U能夠使光線10離開柱狀結(jié)構(gòu)260后更為發(fā)散。于本實(shí)施例中，各該剖面的輪廓的第三曲線623朝第一表面221凹陷的深度例如介于約1至約50微米之間。
圖7A至7D為顯示光線I0穿過依本發(fā)明一實(shí)施例的柱狀結(jié)構(gòu)的示意圖，且圖7A至7D繪出柱狀結(jié)構(gòu)260沿第二方向42切割的不同剖面。詳言之，圖7A顯示一剖面的輪廓的第一反曲點(diǎn)N與第二反曲點(diǎn)M間的距離W極小不易被人眼察覺的情況，第7D圖顯示第一底面269為一平面時(shí)的情況。圖7A至7D的光線10的行徑遵守光學(xué)的直線原理、折射原理、斯奈爾定律(Snell's)定律或光全反射原理等。如第7A至7D圖所示，距離W的值愈小，光線IO自柱狀結(jié)構(gòu)260兩側(cè)離開的量較少，亦即兩側(cè)光能量較低。距離W的距離愈大，第一曲線621及第二曲線622能夠增加光線10自柱狀結(jié)構(gòu)260兩側(cè)離開的量，因此兩側(cè)光能量較高。 圖8A為顯示本發(fā)明另一實(shí)施例的柱狀結(jié)構(gòu)的局部放大示意圖。圖8A所示的柱狀結(jié)構(gòu)602'與圖3所示的柱狀結(jié)構(gòu)260類似，差別在于柱狀結(jié)構(gòu)602'不包含柱狀結(jié)構(gòu)260的第一斜面263及第二斜面264。圖8B為顯示本發(fā)明另一實(shí)施例的柱狀結(jié)構(gòu)的局部放大示意圖。圖8B所示的柱狀結(jié)構(gòu)602"與圖7A所示的柱狀結(jié)構(gòu)602'類似，差別在于柱狀結(jié)構(gòu)602'形成有一凹陷結(jié)構(gòu)U。 圖8C為沿圖8B的Lf線切割的柱狀結(jié)構(gòu)剖面示意圖。請參考圖8B及8C，凹槽T'(由第一弧面267、第二弧面268及第一底面269界定出)其沿第二方向42切割的剖面的輪廓包含一第一曲線621、一第二曲線622及連接于第一曲線621及第二曲線622的一直線624。較佳地，曲線621及622可以為圓弧曲線，第一曲線621及第二曲線622相較于直線624凸出于第一表面221，且直線624平行第一表面221。直線624的兩端N'及M'分別連接于第一曲線621及第二曲線622。當(dāng)于第一方向41上的不同位置沿第二方向42切割出多個(gè)剖面時(shí)，直線624的兩端M'及N'間的距離可隨于第一方向41上的不同位置而變化或保持固定。于一實(shí)施例中，當(dāng)凹槽于第一方向41上的不同位置沿第二方向42切割出多個(gè)剖面時(shí)，各個(gè)剖面的輪廓的直線624的深度隨于第一方向41上的不同位置而變化，換言之，第一曲線621及第二曲線622凸出于第一表面221的高度大于直線624距第一表面221的高度。于本實(shí)施例中，直線624的兩端M'及N'間的距離沿第一方向41遞增后遞減地變化而形成一凹陷結(jié)構(gòu)U，且各該剖面的輪廓的直線624的深度介于約1至約50微米之間，換言之，第一曲線621凸出于第一表面221的高度與直線624距第一表面221的高度兩者的差距H介于約1至約50微米之間。 圖9為顯示依本發(fā)明一實(shí)施例的背光模組的俯視示意圖。請參考圖9，于本實(shí)施例中，光源24包含沿大致平行第二方向42排列的數(shù)個(gè)發(fā)光二極體241 。因?yàn)榘l(fā)光二極體241為點(diǎn)光源，所以導(dǎo)光板22其鄰近兩相鄰發(fā)光二極體241的局部區(qū)域容易產(chǎn)生暗區(qū)Sd和亮區(qū)Sl交替出現(xiàn)的現(xiàn)象。因上述各個(gè)實(shí)施例的導(dǎo)光板22包含設(shè)置于第一表面221的數(shù)個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)260、260'、602'或602"，且每一設(shè)置于第一表面221的柱狀結(jié)構(gòu)包含大致平行光傳遞方向(第一方向41)設(shè)置的一第一弧面267及一第一弧面268，如此可使光線離開導(dǎo)光板22后較容易向柱狀結(jié)構(gòu)的兩側(cè)擴(kuò)散，減輕入光側(cè)亮/暗帶交替分布的亮度不均現(xiàn)象。此外，設(shè)置于第一表面221的柱狀結(jié)構(gòu)可更包含至少一凹陷結(jié)構(gòu)U，且可使第一表面221中靠近入光面223的區(qū)域Sa形成有凹陷結(jié)構(gòu)U的密度，大于第一表面221中遠(yuǎn)離223入光面的區(qū)域形成該些凹陷結(jié)構(gòu)U的密度，以使光線離開導(dǎo)光板22后更容易向柱狀結(jié)構(gòu)的兩側(cè)擴(kuò)散，亦即使此些凹陷結(jié)構(gòu)于靠近入光面的區(qū)域的分布密度大于遠(yuǎn)離入光面的區(qū)域的分布密度。此外，亦能夠依據(jù)導(dǎo)光板22未設(shè)置凹陷結(jié)構(gòu)U前的自第一表面221各區(qū)域離開的光線的能量分布，而于各區(qū)域設(shè)置不同密度的凹陷結(jié)構(gòu)U，來調(diào)整背光模組20的能量分布，使背光模組20的亮度更為均勻。再者，利用調(diào)整第一弧面267及第二弧面268的曲率，可控制光線10離開導(dǎo)光板22后再向柱狀結(jié)構(gòu)兩側(cè)散射的角度，藉以更有效地減少亮/暗帶交替分布現(xiàn)象。由于第一弧面267及第二弧面268為平滑面，故不會導(dǎo)致光暈或整體輝度下降的問題。 圖IO為顯示本發(fā)明另一實(shí)施例的柱狀結(jié)構(gòu)的局部放大示意圖。圖IO所示的柱狀
結(jié)構(gòu)603類似于圖3所示的柱狀結(jié)構(gòu)260，差別在于柱狀結(jié)構(gòu)603具有二個(gè)凹槽Tl、 T2，因
此更包含一第三弧面2681及一第二底面2691。第三弧面2681及第二底面2691大致平行
第一方向41設(shè)置，第二底面2691連接于第二弧面268及第三弧面2681間。 于同樣利用精密加工的制造方式下，凹陷結(jié)構(gòu)U較現(xiàn)有霧面微結(jié)構(gòu)容易制造，因
此制程穩(wěn)定性較高。此外，單位面積下凹陷結(jié)構(gòu)U數(shù)量的多寡，可依個(gè)別的光學(xué)需求做調(diào)
整。例如在暗影區(qū)域或需加強(qiáng)出光量的區(qū)域，可增加凹陷結(jié)構(gòu)U的數(shù)量。 綜上所述，相較于現(xiàn)有導(dǎo)光板其上表面設(shè)有霧面微結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)，本發(fā)明的導(dǎo)光板
實(shí)施例不僅制程穩(wěn)定性較高且制程良率較佳，且其具凹槽的柱狀結(jié)構(gòu)可使光線離開導(dǎo)光板
后更容易向柱狀結(jié)構(gòu)的兩側(cè)擴(kuò)散，減輕入光側(cè)光均勻度不佳的現(xiàn)象。再者，現(xiàn)有霧面微結(jié)構(gòu)
的出光能量較低，而本發(fā)明的導(dǎo)光板實(shí)施例可于柱狀結(jié)構(gòu)的頂部再設(shè)置凹陷結(jié)構(gòu)，藉以提
高兩側(cè)的出光能量且可據(jù)此進(jìn)行更多元的密度分布，進(jìn)一步提高整體背光模組的出光均勻度。 雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例如上所述公開，然而其并非用以限定本發(fā)明，任何本 領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可作些許的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保 護(hù)范圍當(dāng)以權(quán)利要求書為準(zhǔn)。另外，本發(fā)明的任一實(shí)施例或權(quán)利要求不須達(dá)到本發(fā)明所公 開的全部目的或優(yōu)點(diǎn)或特點(diǎn)。此外，摘要部分和標(biāo)題僅是用來輔助專利文件檢索之用，并非 用來限制本發(fā)明的權(quán)利范圍。主要符號名稱列表
10背光模組11背板12導(dǎo)光板121上表面122下表面123V型溝槽124側(cè)入光面13反射片14光源15逆棱鏡片16光學(xué)膜20背光模組21背板211側(cè)面212底面22、22，導(dǎo)光板221第一表面222第二表面223入光面
23 反射片 24 光源 241 發(fā)光二極體 250 V型溝槽 260 、260，柱狀結(jié)構(gòu) 263 第一斜面 264 第二斜面 267 第一弧面 268 第二弧面 2681 第三圓柱側(cè)面 269 第一底面 2691 第二底面 41 第一方向 42 第二方向 602'、602〃柱狀結(jié)構(gòu) 621 第一曲線 622 第二曲線 623 624 10 S T、T'、T1、T2凹槽 U 凹陷結(jié)構(gòu)
線
三線線面
第直光曲
權(quán)利要求
一種導(dǎo)光板，適于引導(dǎo)一光線沿一第一方向行進(jìn)，該導(dǎo)光板包含一第一表面；一第二表面，相對于該第一表面；一入光面，連接該第一表面及該第二表面，且該光線自該入光面入射至該導(dǎo)光板內(nèi)；及數(shù)個(gè)第一柱狀結(jié)構(gòu)，以各自的長軸方向平行該第一方向的方式排列于該第一表面，每一該第一柱狀結(jié)構(gòu)具有相對該第一表面凸出的一曲面，且該曲面上形成有至少一沿該第一方向延伸的凹槽。
2. 如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)光板，其中該凹槽由一第一弧面、一第二弧面及連接于該第 一弧面及該第二弧面間的一第一底面所界定，且該第一弧面、該第二弧面及該第一底面沿 該第一方向延伸。
3. 如權(quán)利要求2所述的導(dǎo)光板，其中每一該第一柱狀結(jié)構(gòu)更包含一第一斜面及一第二 斜面，該第一斜面連接于該第一弧面及該第一表面間，且該第二斜面連接于該第二弧面及 該第一表面間。
4. 如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)光板，更包含數(shù)個(gè)第二柱狀結(jié)構(gòu)，該些第二柱狀結(jié)構(gòu)以各自 的長軸方向平行一第二方向的方式排列于該第二表面，且該第二方向垂直該第一方向。
5 如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)光板，其中該凹槽沿垂直于該第一方向的一第二方向切割的 一剖面的輪廓包含一第一曲線、一第二曲線及連接于該第一曲線及該第二曲線間的一第三 曲線，該第一曲線及該第二曲線凸出于該第一表面，且該第三曲線朝該第一表面凹陷。
6. 如權(quán)利要求5所述的導(dǎo)光板，其中該第一、該第二及該第三曲線的至少其一為一圓 弧曲線。
7. 如權(quán)利要求5所述的導(dǎo)光板，其中該第一曲線及該第三曲線間形成一第一反曲點(diǎn)， 且該第二曲線及該第三曲線間形成一第二反曲點(diǎn)。
8. 如權(quán)利要求7所述的導(dǎo)光板，其中當(dāng)該凹槽于該第一方向上的不同位置沿該第二方 向切割出多個(gè)該剖面時(shí)，各該剖面的輪廓的該第一反曲點(diǎn)與該第二反曲點(diǎn)間的距離隨該不 同位置而變化。
9. 如權(quán)利要求5所述的導(dǎo)光板，其中當(dāng)該凹槽于該第一方向上的不同位置沿該第二方 向切割出多個(gè)該剖面時(shí)，各該剖面的輪廓的該第三曲線的朝該第一表面凹陷的深度隨該不 同位置而變化。
10. 如權(quán)利要求9所述的導(dǎo)光板，其中各該剖面的該第三曲線的朝該第一表面凹陷的 深度介于約1至約50微米之間。
11. 如權(quán)利要求9所述的導(dǎo)光板，其中該些剖面的該些第三曲線的各自朝該第一表面 凹陷的深度沿該第一方向先遞增后遞減地變化，使每一該第一柱狀結(jié)構(gòu)的頂部形成一凹陷 結(jié)構(gòu)。
12. 如權(quán)利要求11所述的導(dǎo)光板，其中該些第一柱狀結(jié)構(gòu)具有數(shù)個(gè)該凹陷結(jié)構(gòu)，該些 凹陷結(jié)構(gòu)于靠近該入光面的區(qū)域的分布密度大于遠(yuǎn)離該入光面的區(qū)域的分布密度。
13. 如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)光板，其中該凹槽沿垂直于該第一方向的一第二方向切割 的一剖面的輪廓包含一第一曲線、一第二曲線及連接于該第一曲線及該第二曲線間的一直 線，該第一曲線及該第二曲線凸出于該第一表面的高度大于該直線距該第一表面的高度。
14. 如權(quán)利要求13所述的導(dǎo)光板，其中該第一曲線及該第二曲線的至少其一為一圓弧曲線，且該直線平行于該第一表面。
15. 如權(quán)利要求13所述的導(dǎo)光板，其中當(dāng)該凹槽于該第一方向上的不同位置沿該第二方向切割出多個(gè)該剖面時(shí)，各該剖面的輪廓的該直線的長度隨該不同位置而變化。
16. 如權(quán)利要求13所述的導(dǎo)光板，其中當(dāng)該凹槽于該第一方向上的不同位置沿該第二方向切割出多個(gè)該剖面時(shí)，各該剖面的輪廓的該直線距該第一表面的該高度隨該不同位置 而變化。
17. 如權(quán)利要求16所述的導(dǎo)光板，其中各該剖面的該第一曲線凸出于該第一表面的高 度與該直線距該第一表面的高度兩者的差距介于約1至約50微米之間。
18. 如權(quán)利要求16所述的導(dǎo)光板，其中該些剖面的該些直線各自距該第一表面的該高 度沿該第一方向先遞減后遞增地變化，使每一該第一柱狀結(jié)構(gòu)的頂部形成一凹陷結(jié)構(gòu)。
19. 如權(quán)利要求18所述的導(dǎo)光板，其中該些第一柱狀結(jié)構(gòu)具有數(shù)個(gè)該凹陷結(jié)構(gòu)，該些 凹陷結(jié)構(gòu)于靠近該入光面的區(qū)域的分布密度大于遠(yuǎn)離該入光面的區(qū)域的分布密度。
20. —種背光模組，包含一背板，具有至少一側(cè)邊及一連接于該側(cè)邊的底面； 一光源，設(shè)置于該背板內(nèi)并鄰近該側(cè)邊，適于發(fā)出 一光線；一導(dǎo)光板，設(shè)置于該背板內(nèi)并鄰近該光源，適于引導(dǎo)該光線沿一第一方向行進(jìn)，該導(dǎo)光 板包含一第一表面；一第二表面，相對于該第一表面；一入光面，連接該第一表面及該第二表面，且該光線自該入光面入射至該導(dǎo)光板內(nèi)；及 數(shù)個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)，以各自的長軸方向平行該第一方向的方式排列于該第一表面，每一該柱狀結(jié)構(gòu)具有相對該第一表面凸出的一曲面，且該曲面上形成有至少一沿該第一方向延伸的凹槽；以及一反射片，置于該背板的該底面與該導(dǎo)光板的該第二表面間。
全文摘要
本發(fā)明公開一種導(dǎo)光板及背光模組。該導(dǎo)光板適于引導(dǎo)光線沿一第一方向行進(jìn)且其包含一第一表面、一第二表面、一入光面及數(shù)個(gè)第一柱狀結(jié)構(gòu)。入光面連接于第一表面及第二表面，且光線自入光面入射至導(dǎo)光板內(nèi)。數(shù)個(gè)第一柱狀結(jié)構(gòu)以各自的長軸方向大致平行第一方向的方式排列于第一表面。每一柱狀結(jié)構(gòu)具有相對第一表面凸出的一曲面，且該曲面上形成有至少一沿第一方向延伸分布的凹槽。
文檔編號G02B6/00GK101738673SQ20081017675
公開日2010年6月16日 申請日期2008年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月20日
發(fā)明者張立典, 張良港, 郭浩然 申請人:揚(yáng)昕精密股份有限公司