專利名稱：：負(fù)性工作元件的成像和顯影方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及采用環(huán)保顯影劑對負(fù)性工作元件進(jìn)行成像和顯影的方法。
背景技術(shù)：
：輻射敏感組合物通常是用于制備包括平版印刷版前體在內(nèi)的可成像材料。這類組合物通常包括輻射敏感成分，可經(jīng)輻射聚合的成分，引發(fā)劑體系，以及粘合劑。這些成分中的每一種均作為研究焦點(diǎn)以提供在物理性能，成像性能和圖像特征中的各種改進(jìn)。在印刷版前體領(lǐng)域內(nèi)的最新進(jìn)展集中在可通過激光器或激光二極管進(jìn)行成像的輻射敏感組合物的使用上，更具體的是可在機(jī)成像和/或顯影的輻射敏感組合物。由于激光可直接通過計(jì)算機(jī)進(jìn)行控制，因此激光曝光并不需要傳統(tǒng)的卣化銀印刷制版膠片作為中間信息載體(或"掩膜")。用于商用影像照排機(jī)中的高性能激光器或激光二極管通常發(fā)射出波長至少為700nm的輻射，因此要求輻射敏感組合物在電磁波譜中的近紅外或紅外區(qū)域內(nèi)壽丈感。然而，也有設(shè)計(jì)成用紫外或可見光輻射進(jìn)行成像的其它可用的輻射敏感組合物。有兩種使用輻射敏感組合物來制備印刷版的可行方法。對于負(fù)性工作的印刷版，輻射敏感組合物的曝光區(qū)域硬化，在顯影過程中洗去未曝光的區(qū)域。對于正性工作的印刷版，曝光區(qū)域溶解于顯影液中，而未曝光的區(qū)域形成圖像。射組合物和可成Y象元件。這些組合物和元件中的一些在例如美國專利6,569,603(F廳kawa)，6,309,792(Hauck等人)，6,582,882(Pappas等人)，6,893,797(Munnelly等人)，6,787,281(Tao等人)，和6,899,994(Huang等人)，美國專利公開2003/0118939(West等人)，和EP1,079，276A1(Lifka等人)，EPU82,033A1(Fuj腿ki等人)，和EP1,449,650A1(Goto)中有描述。在美國專利6,248,502(Eklund)中描述了用有機(jī)溶劑-基的堿性溶劑5件中提供圖像，這在如美國專利6,803,167(Patel等人)和6,844,141(Patd等人)，以及在美國專利申請7>開2004/185369(Patel)中所揭露的。如在美國專利7,045,269(Collins等人)中所描述的，溶劑基的顯影劑還被用來處理負(fù)性工作的成像的元件。待解決的問題成像元件。在文獻(xiàn)中和商業(yè)化實(shí)施方式里，這些成像的負(fù)性工作元件通常是使用高pH的水性顯影液進(jìn)行顯影的。或者用含有胺或其它有機(jī)化合物的有機(jī)溶劑-基的顯影液來對UV-成像的負(fù)性工作元件進(jìn)行顯影，但從環(huán)境觀點(diǎn)看這些有機(jī)化合物卻是受到排斥的。因此期望用更加環(huán)保的、毒性和腐蝕性更小的顯影劑來顯影負(fù)性工作的可成〗象元件。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供了一種提供成像和顯影元件的方法，包括A)使用激光器對負(fù)性工作的可成像元件進(jìn)行成像曝光，該元件包括基材，在其上具有可成像層來提供曝光和非曝光區(qū)域，該可成像層包含可自由基聚合的組分，引發(fā)劑組合物，其能夠產(chǎn)生足夠的自由基，在暴露于成像輻射時(shí)引發(fā)可自由基聚合的組分聚合，輻射吸收4b合物，以及聚合粘合劑，和B)使經(jīng)成像曝光的元件與單相顯影劑接觸，僅除去非曝光區(qū)域而提供顯影的元件，其中該顯影劑的pH小于12且包含a)包含含氮雜環(huán)的兩性表面活性劑，b)具有兩個(gè)或更多氮原子的兩性表面活性劑，或c)a)中的兩性表面活性劑和b)中的兩性表面活性劑。本發(fā)明還提供了由本發(fā)明方法獲得的成像元件，例如平板印刷版。我們已發(fā)現(xiàn)，使用上面提及的有機(jī)溶劑-基的顯影劑后，我們提供了更環(huán)保的方法來對負(fù)性工作的元件進(jìn)行成像和顯影，這些負(fù)性工作的元件對寬范圍的成像輻射，即從"藍(lán)紫色"(例如，X^x從250至450nm)到紅外線輻射(例如Vax從650至1400nm)敏感。具體而言，這些顯影劑包括一種或多種有機(jī)溶劑，例如苯甲醇，并且優(yōu)選不含硅酸鹽，堿金屬氫氧化物，以及單-和二乙醇胺而使顯影劑毒性降低。并且，顯影劑具有相對較低的pH,這樣它們的腐蝕性較低。具體實(shí)施方式定義此外，除非文中另外指出，這里描述的各種組分如"可自由基聚合的組分"，"輻射吸收化合物"，"聚合粘合劑"，"兩性表面活性劑"，"苯或萘磺酸鹽表面活性劑"，以及類似的術(shù)語也指這些組分的混合物。因此，在使用冠詞"一種"，"一個(gè)，，和"該"時(shí)并不一定是指單一組分。并且，除非另外指出，百分比是指干重百分比。術(shù)語"單層"是指有一層需要成像的可成像層，但并不排除在可成像層之下或之上(表涂層)存在其它的層。術(shù)語"輻射吸收化合物"是指將輻射轉(zhuǎn)換成熱的一種或多種化合物。它們有時(shí)也被稱作"感光劑"，"光熱轉(zhuǎn)化材料"，或"光熱轉(zhuǎn)化體"。為解釋與聚合物有關(guān)的任何術(shù)語的定義，應(yīng)參考由國際純粹和應(yīng)用化學(xué)聯(lián)盟(InternationalUnionofPureandAppliedChemistry"IUPAC，，)公開的"聚合物科學(xué)中的基本術(shù)語表，，("GlossaryofBasicTermsinPolymerScience"),尸贓勿/.C/z綴68,2287-2311(1996》然而，如果在這里作出了任何明確的定義，則應(yīng)以該定義為準(zhǔn)。"接枝"聚合物或共聚物是指具有分子量至少為200的側(cè)鏈的聚合物。術(shù)語"聚合物"指高分子量的和包括低聚物在內(nèi)的低分子量的聚合物，并包括均聚物和共聚物。術(shù)語"共聚物"是指由兩種或多種不同單體得到的聚合物術(shù)語"骨架"是指聚合物中的原子鏈，在其上連有復(fù)數(shù)個(gè)側(cè)基。這種骨架的例子是由一種或多種烯屬不飽和可聚合單體的聚合得到的"全碳"骨架。然而，其它的骨架可包含雜原子，其中聚合物是通過縮合反應(yīng)或其它方式形成。輻射壽t感組合物這里描述的輻射敏感組合物可具有任何的用途，但無論在什么情況下都需要有在適合的電磁輻射下可發(fā)生聚合的涂層，特別是在期望除去的是涂布的成像組合物的未曝光的區(qū)域的情況下。輻射敏感組合物可用于制備可成像元件而用作用于集成電路的印刷電路板(印刷電路板)，油漆組合物，模塑組合物，顏色過濾器，化學(xué)增強(qiáng)抗蝕劑(chemicallyamplifiedresists),壓印平版印刷術(shù)，微電子和微光學(xué)裝置,以及光掩膜平版印刷術(shù)，并且優(yōu)選為印刷的形式例如下面將詳細(xì)定義的平版印刷印刷版前體和成4象的印刷版。用于輻射敏感組合物中的可自由基聚合的組分由一種或多種具有合或可交聯(lián)基團(tuán)的化合物構(gòu)成。例如，可自由基聚合的組分可以是烯屬不飽和的單體，低聚物，和包括可交聯(lián)聚合物在內(nèi)的聚合物，或這些化合物的組合。這些可自由基聚合的組分不包括那些在如美國專利6,306,555(Schulz等人)中描述的可陽離子或酸催化聚合的或交聯(lián)的化合物，例如環(huán)醚(不含丙烯酸酯的環(huán)氧化物)，乙烯基酯，羥基化合物，內(nèi)酯，環(huán)辟b醚，和乙歸基石危醚。因此，適合的可發(fā)生聚合或交聯(lián)的烯屬不飽和化合物包括烯屬不飽和的可聚合單體，其具有一個(gè)或多個(gè)可聚合的基團(tuán)，包括醇的不飽和酯，例如多元醇的(曱基)丙烯酸酯。也可使用低聚物和/或預(yù)聚物，如氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，環(huán)氧化物(曱基)丙烯酸酯，聚酯(甲基)丙烯酸酯，聚醚(甲基)丙烯酸酯，以可自由基交聯(lián)的聚合物，及不飽和的聚酯樹脂。特別有用的可自由基聚合的組分包括含有另外的可聚合的烯屬不飽和基團(tuán)的可自由基聚合的單體或低聚物，該烯屬不飽和基團(tuán)包括多個(gè)丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯基團(tuán)以及它們的組合，或可自由基交聯(lián)的聚合物。更為有用的可自由基聚合的化合物包含那些由具有多個(gè)可聚合基團(tuán)的脲氨基甲酸酯(曱基)丙烯酸酯、或氨基曱酸酯(曱基)丙烯酸酯得到的化合物。例如，最優(yōu)選的可自由基聚合的組分可通過使基于六亞曱基二異氰酸酯的DESMODURN100脂肪族聚異氰酯樹脂(BayerCorp.,MilfordConn.)與羥乙基丙烯酸酯和季戊四醇三丙烯酸酯反應(yīng)而制備。其它優(yōu)選的可自由基聚合的化合物可乂人SartomerCompany,Inc.獲得，例如SR399(二季戊四醇五丙烯酸酯)，SR355(二-三羥曱基丙烷四丙烯酸酯)，SR295(季戊四醇四丙烯酸酯)，以及那些對本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的化合物。在美國專利6,582,882(如上所述)和6,899,994(如上所述)中描述的脲氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯和氨基曱酸酯(曱基)丙烯酸酯也是有用的?；蛘?，可由二異氰酸酯與具有游離羧基的二醇反應(yīng)來制備聚脲氨基甲酸酯丙烯酸酯或聚氨基曱酸酯丙烯酸酯，這與美國專利5，919,600(Huang等人)中描述的烯丙基官能的聚氨基曱酸酯的制備類似。許多其它的可自由基聚合的化合物是本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的，并描述包括以下所列在內(nèi)的大量文獻(xiàn)中PhotoreactivePolymers:TheScienceandTechnologyofResists,AReiser,Wiley,NewYork,1989,pp.102-177,byB.M.Monroe在RadiationCuring:ScienceandTechnology中，S.RPappas,Ed.，Plenum,NewYork,1992,pp.399-440,andin"PolymerImaging"byA.B.CohenandP.Walker,在ImagingProcessesandMaterial中,丄M.Sturge等人(Eds.),VanNostrandReinhold,NewYork,1989,pp.226-262。可自由基聚合的組分在輻射敏感組合物中的含量應(yīng)足以使組合物在暴露于輻射之后不溶于顯影劑。這一含量通常為基于輻射敏感組合物干重的10-70重量％,優(yōu)選為20~50重量％。例如，可自由基聚合的組分與聚合粘合劑(下面將描述)的重量比率一般為5:95到95:5,優(yōu)選為10:90到90:10，更優(yōu)選為30:70到70:30。輻射敏感組合物還包括引發(fā)劑組合物，其在組合物暴露于成像輻射時(shí)能夠產(chǎn)生足以引發(fā)可自由基聚合組分發(fā)生聚合的自由基。該引發(fā)劑組合物可對如在紫外、可見和/或紅外光譜區(qū)內(nèi)的電磁輻射產(chǎn)生響應(yīng)，這對應(yīng)于至少為250nm到上至包括1500nm在內(nèi)的光i普范圍。UV或"藍(lán)紫色"每丈感在一些實(shí)施方式中一ife為至少為250nm到上至包4舌450nm,該輻射每t感組合物對至少375nm和上至包括450nm的成〗象或曝光輻射敏感，并包含用于該成像區(qū)域的適合的引發(fā)劑組合物。在其它的實(shí)施方式中，該引發(fā)劑組合物對為至少為650nm到上至包括1500nm在內(nèi)的成像或曝光紅外或近紅外輻射產(chǎn)生響應(yīng)，且更優(yōu)選地對至少為700nm到上至包括1200nm在內(nèi)的成像紅外輻射產(chǎn)生響應(yīng)，并且該引發(fā)劑組合物對成像范圍來說是適用的。胺(例如烷醇胺)，硫醇化合物，苯胺基乙酰乙酸或其衍生物，N-苯基甘氨酸及其衍生物，N,N-二烷基氨基苯甲酸酯，N-芳基甘氨酸及其衍生物(例如N-苯基甘氨酸)，芳香磺酰卣，三卣代甲基砜，酰亞胺(例如N-苯甲酰氧基苯鄰二甲酰亞胺)，重氮磺酸鹽，9,10-二氫化蒽衍生物，具有至少2個(gè)羧基的N-芳基，S-芳基，或O-芳基聚羧酸，其中的至少一個(gè)羧基連接至芳基部分的氮，氧，或硫原子(例如苯胺乙酰乙酸及其衍生物以及在West等人的美國專利5,629,354中描述的其它"助引發(fā)劑")，肟醚和肟酯(例如那些由苯偶姻衍生所得的)，a-羥基或a-氨基-苯乙酮，烷基三芳基硼酸酯，三卣代甲基芳基砜，苯偶姻醚和酯，過氧化物(例如過氧化苯甲酰)，氫過氧化物(例如氫過氧化枯烯)，偶氮化合物(例如偶氮二異丁腈)，例如在美國專利4^6S/76Q(Dueber等人)中描述的2,4,5-三芳基咪唑基二聚體(也被稱之為六芳基二咪唑，或"HABF，，),例如在美國專利6，562,543(Ogata等人)中描述的硼酸鹽和有機(jī)硼酸鹽，以及錯鹽(例如銨鹽，二芳基碘錯鹽，三芳基硫錄鹽，芳基二重氮鹽，和N-烷氧基吡啶鹽)。其它已知的引發(fā)劑組合物組分在如美國專利申請公開2003/0064318(上面提到的)中進(jìn)行了描述。用于對UV或"藍(lán)紫色"光敏感的輻射敏感組合物的特別有用的引發(fā)劑組合物組分包括六芳基二咪唑(也稱之為三芳基咪唑基二聚體)，例如2,2，-二(2-氯苯基)-4,4，,5,5，-四苯基-二咪唑和2,2，-二(對氯苯基_4,4%5,5，-四(間甲氧基苯基)二咪唑。下面提到的三嗪可在包括UV和"藍(lán)紫色"輻射暴露的任何波長下的成像輻射暴露中使用。其它的UV或"藍(lán)紫色"輻射敏感的自由基生成化合物包括但不限于在如美國專利4,997,745(Kawamura等人)中描迷的三氯甲基三嗪，以及二芳基碘錄鹽。也可使用助引發(fā)劑，例如金屬茂(例如二茂鈦和二茂鐵)，聚羧酸，卣代烷基三漆，硫醇(如巰基三唑)，硼酸鹽、以及如美國專利5,942，37210(West等人)中描述的含被烷氧基或酰氧基取代的雜環(huán)氮的光氧化劑。對于IR-敏感的輻射敏感組合物，優(yōu)選的引發(fā)劑組合物包括錄鹽，其包括但不限于4充(碌U翁)，oxysulfoxonium，氧石克4翁(oxysulfonium),sulfoxonium,銨，硒4翁，砷4翁，膦，重氮，或鹵銪鹽。關(guān)于有用的錯鹽的進(jìn)一步細(xì)節(jié)，包括代表性的例子在美國專利申請公開2002/0068241(Oohashi等人)，WO2004/101280(Munnelly等人)，以及美國專利5,086,086(Brown-Wensley等人)，5,965,319(Kobayashi)以及6,051,366,366(Baumann等人)中給出。例如，適合的膦鹽包括具有四個(gè)有機(jī)取代基的帶正電的超價(jià)磷原子。適合的锍鹽例如三苯基锍鹽包括具有三個(gè)有機(jī)取代基的帶正電的超價(jià)硫。適合的重氮鹽具有帶正電的偶氮基(即-N二N+)。適合的銨鹽包括帶正電的氮原子如具有四個(gè)有機(jī)取代基的取代的季銨鹽，以及四級氮雜環(huán)如N-烷氧基吡啶錄鹽。適合的卣錯鹽包括具有兩個(gè)有機(jī)取代基的帶正電的超價(jià)卣原子。錯鹽一般包括適合數(shù)目的帶負(fù)電的反離子如卣化物，六氟磷酸鹽，硫代疏酸鹽，六氟銻酸鹽，四氟硼酸鹽，磺酸鹽，氫氧化物，高氯酸鹽，正丁基三苯基硼酸鹽，四苯基硼酸鹽，以及其它對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是顯而易見的鹽。較優(yōu)選的是卣鈸鹽，最優(yōu)選的是石典錄鹽。在一優(yōu)選的實(shí)施方式中，錯鹽具有帶正電的碘4翁，(4-曱基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]-部分和適合的帶負(fù)電的反離子。這種碘錯鹽的一個(gè)代表性例子是CibaSpecialtyChemicals(Tarrytown,NY)的Irgacure250,它是(4-甲基苯基)[4國(2-甲基丙基)苯基]碘錟，六氟磷酸鹽，并以它們的75%的碳酸丙二酯溶液形式提供。特別有用的硼組分包括如在上述提及的美國專利6,569,603中描述的那些含有有機(jī)硼陰離子的有機(jī)硼鹽，其與適合的陽離子如堿金屬離子，4翁，或陽離子增感染料配對。有用的錄陽離子包括但不局限于銨，锍，膦，碘錄，和重氮陽離子。它們可單獨(dú)使用或與各種助引發(fā)劑如雜環(huán)含巰基的化合物組合使用，其中雜環(huán)含巰基的化合物包括巰基三唑，巰基苯并咪唑，巰基苯并噻唑，巰基苯并噻唑，巰基苯并鳴二唑，巰基四唑，例如那些在美國專利6,884，568(Timpe等人)中描述的那些化合物，該專利中這些化合物占輻射敏感組合物的總固體量至少為0.5重量％至高達(dá)10重量％并包括10重量％在內(nèi)的部分以引用的方式并入這里。在這些化合物的組合中以巰基三唑?yàn)閮?yōu)選。其它有用的引發(fā)劑組合物包括一種或多種如在美國專利6,936,384(Munnelly等人)中描述的吖。秦化合物。這些化合物為有機(jī)的雜環(huán)化合物，含有由碳原子和氮原子形成的6元環(huán)。吖。秦化合物包括例如吡啶，二溱，和三。秦基團(tuán)的雜環(huán)基團(tuán)，以及具有吡啶，二。秦，或三。秦取代基稠合至一個(gè)或多個(gè)芳香環(huán)如碳環(huán)芳香環(huán)的多環(huán)化合物。因此，吖。秦化合物包括如具有喹啉，異喹啉，苯并二。秦，或萘并二溱取代基的化合物。單環(huán)和多環(huán)的吖溱化合物都是有用的。特別有用的吖嗪化合物是三嗪化合物，其包括含3個(gè)碳原子和3個(gè)氮原子的6元環(huán)，例如那些在美國專利6,309,792(Hauck等人)，6,010,824(Komano等人)，5,885,746(Iwai等人)，5,496,903(Watanabe等人)，和52^J(^(Nagasaka等人)中描述的那些。在需要的情況下，吖嗪化合物的azimum形式也是有用的。在azimum化合物中，在吖。秦環(huán)中氮原子的季銨化取代基能夠被釋放成為自由基。使azimum核上的環(huán)氮原子季銨化的烷氧基取代基可從各種烷氧基取代基中選取。鹵代曱基-取代的三嗪，例如三卣代曱基三嗪在引發(fā)劑組合物中尤為有用。這種類型的代表性化合物包括但不限于1,3,5-三。秦衍生物，例如那些具有1-3個(gè)-CX3基團(tuán)的化合物，其中X獨(dú)立地代表氯或溴原子，包括多囟代甲基取代的三溱和其它的三。秦，例如2,4-三氯曱基-6-甲氧基苯基三。秦，2-苯基-4,6-二(三氯甲基)-s-三。秦，2,4，6-三(三氯曱基)-5-三嗪，2-甲基-4,6-二(三氯曱基)-8-三嗪，2-(苯乙烯基-4,6-二(三氯曱基)+三嗪，2-(對曱氧基苯乙烯基)-4,6-二(三氯曱基)-s-三嗪，2-(4-曱氧基萘一l-基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪，2-(4-乙氧基-萘-l-基)-4,6-二(三氯曱基)-s-三嗪，和2醫(yī)(4陽(2-乙氧基乙基)-萘-1-基)-4,6-二(三氯曱基)-5-三嗪，2-(4-曱基苯硫基)-4,6-二(三氯曱基)-2-三嗪，2-(4-氯苯基)-4,6-二(三氯甲基)-2-三嗪，2,4,6-三(三氯曱基)-2-三嗪，和2,4,6-三(三溴曱基)-2-三嗪。吖漆化合物，特別是三。秦化合物可單獨(dú)使用或與一種或多種助引發(fā)劑如二茂鈥，單和多羧酸，例如在專利4,997,745(Kawamura等人)中描述的六芳基二咪唑組合使用。在一些實(shí)施方式中，輻射敏感組合物也包括石危醇衍生物，例如巰-曱基-3-巰基-l,2,4-三唑，5-巰基-l-苯基-1,2,4-三哇，4-氨基-3-巰基-l,2,4-三唑，3-巰基-1,5-二苯基-l,2，4-三唑，以及5-(對氨基苯基)-3-巰基-1,2,4-三唑。還可存在各種巰基苯并咪唑、巰基苯并p塞唑，以及巰基苯并p惡唑。的纟且合，即a)如上描述的三。秦與助引發(fā)劑的組合，所述助引發(fā)劑即如上描述的具有至少2個(gè)羧基的N-芳基，S-芳基，或O-芳基多羧酸，其中的至少一個(gè)連接至芳基部分的氮，氧，或硫原子(例如苯胺乙酰乙酸及其書f生物)，b)如上描述的三溱與助引發(fā)劑的組合，所述助引發(fā)劑即如上描述的巰基衍生物，c)這里描述的碘銪鹽(例如碘錯硼酸鹽)與助引發(fā)劑的組合，所述助引發(fā)劑即如在美國專利6,936,384(上面已提及)中描述的金屬茂(例如二茂鈦或二茂鐵)，以及d)這里描述的碘銪鹽(例如碘鏘硼酸鹽)與助引發(fā)劑即如上描述的巰基三唑的組合。特別有用的助引發(fā)劑組合物包括能夠產(chǎn)生足以引發(fā)可自由基聚合組分在組合物暴露于成像輻射時(shí)發(fā)生聚合的自由基的硼酸碘錯。硼酸碘錄引發(fā)劑組合物可對如"藍(lán)紫色"、可見光譜和/或紅外光譜區(qū)內(nèi)的電磁輻射產(chǎn)生響應(yīng)，這對應(yīng)于250-1500nm的光鐠范圍。優(yōu)選地，硼酸碘錯引發(fā)劑組合物對范圍在700-1400nm的紅外或近紅外輻射產(chǎn)生響應(yīng)，更優(yōu)選為對范圍在750-1250nm的紅外輻射產(chǎn)生響應(yīng)。硼酸碘錯引發(fā)劑組合物包含一種或多種二芳基碘銪硼酸化合物，它們各自由以下結(jié)構(gòu)(I)表示其中X和Y獨(dú)立地為卣素基團(tuán)(例如，氟，氯，或溴)，具有l(wèi)-20個(gè)因此,碳原子的取代的或未取代的烷基(例如甲基，氯甲基，乙基，2-甲氧基乙基，正丙基，異丙基，異丁基，正丁基，叔丁基，所有支鏈的或直鏈的戊基，l-乙基苯基，4-甲基苯基，所有己基異構(gòu)體，所有辛基異構(gòu)體，千基，4-甲氧基千基，對甲基千基，所有十二烷基異構(gòu)體，所有二十烷基異構(gòu)體，以及取代的或未取代的單-和多-，支鏈的和直鏈的鹵代烷基)，具有l(wèi)-20個(gè)碳原子的取代的或未取代的烷氧基(例如，取代的或未取代的甲氧基，乙氧基，異丙氧基，叔丁氧基，(2-羥基四癸基)氧基，以及各種其它的直鏈和支鏈的烯氧基烷氧基基團(tuán))，在碳環(huán)芳香環(huán)上具有6-10個(gè)碳原子的取代的或未取代的芳基(例如取代的或未取代的苯基和萘基，包括單-和多鹵代苯基和萘基基團(tuán))，或在環(huán)結(jié)構(gòu)中具有3-8個(gè)碳原子的取代的或未取代的環(huán)烷基基團(tuán)(例如，取代的或未取代的環(huán)丙基，環(huán)戊基，環(huán)己基，4-甲基環(huán)己基，和環(huán)辛基基團(tuán))。優(yōu)選地，X和Y獨(dú)立地為取代的或未取代的具有1-8個(gè)碳原子的烷基基團(tuán)，具有1-8個(gè)碳原子的烷氧基基團(tuán)，或在環(huán)中具有5或6個(gè)碳原子的環(huán)烷基，更優(yōu)選地，X和Y獨(dú)立地為取代的或未取代的具有3-6個(gè)碳原子的烷基基團(tuán)，(特別是具有3-6個(gè)碳原子的支鏈的烷基基團(tuán))。因此，X和Y可以是相同或不同的基團(tuán)，各種X基團(tuán)可以是相同的或不同的基團(tuán)，且各種Y基團(tuán)可以是相同的或不同的基團(tuán)。本發(fā)明涵蓋了"對稱的"和"不對稱的"二芳基碘錄硼酸鹽化合物，但以"對稱的"化合物為優(yōu)選(即它們在兩個(gè)苯環(huán)上具有相同基團(tuán))。此外，兩個(gè)或多個(gè)相鄰的X或Y基團(tuán)可結(jié)合而形成帶有相應(yīng)苯基的稠合的碳環(huán)或雜環(huán)。X和Y基團(tuán)可以在苯環(huán)上的任何位置，但它們優(yōu)選在任何一個(gè)苯環(huán)或兩個(gè)苯環(huán)的2-或4-位，更優(yōu)選是在4-位。不管在碘4翁陽離子中存在的X和Y基團(tuán)是何種類型，在X和Y取代基中的碳原子的總數(shù)至少為6,優(yōu)選至少為8,而最多為40個(gè)碳原子。因此，在一些化合物中，一個(gè)或多個(gè)X基團(tuán)可包含至少6個(gè)碳原子，而不存在Y(q為O)。在另外的情況中，一個(gè)或多個(gè)Y基團(tuán)可包含至少6個(gè)碳原子，而不存在X(p為O)。并且，只要X和Y中的碳原子的總數(shù)至少為6,則一個(gè)或多個(gè)X基團(tuán)可包含少于6個(gè)的碳原子，且一個(gè)或多個(gè)Y基團(tuán)可包含少于6個(gè)的碳原子。在兩個(gè)苯環(huán)上仍可具有至少6個(gè)的碳原子。14在結(jié)構(gòu)I中，p和q獨(dú)立地為0或1-5的整數(shù)，前提是p或q至少為1。優(yōu)選i也，p和q均至少為l，更優(yōu)選地，p和q各自為l。因此，需要理解的是，苯環(huán)中的未被X或Y基團(tuán)取代的碳原子在環(huán)的這些位置具有氫原子。Z—是由以下結(jié)構(gòu)(II)表示的有機(jī)陰離子，(H)其中Rl5R2,R3,和R4獨(dú)立地為取代的或未取代的具有1-12個(gè)碳原子的非氟代烷基基團(tuán)的烷基基團(tuán)(例如甲基，乙基，正丙基，異丙基，正丁基，異丁基，叔丁基，所有的戊基異構(gòu)體，2-甲基戊基，所有的己基異構(gòu)體，2-乙基己基，所有的辛基異構(gòu)體，2,4,4-三甲基苯基，所有的壬基異構(gòu)體，所有的癸基異構(gòu)體，所有的十一烷基異構(gòu)體，所有的十二烷基異構(gòu)體，曱氧基甲基，和千基)，取代的或未取代的在芳香環(huán)上具有6-10個(gè)碳原子的碳環(huán)芳基基團(tuán)(例如苯基，對甲基苯基，2,4-甲氧基苯基，萘基，和五氟苯基基團(tuán))，取代的或未取代的具有2-12個(gè)碳原子的烯基基團(tuán)(例如乙烯基，2-甲基乙烯基，烯丙基，乙烯基千基，丙烯?；约岸∠；?，取代的或未取代的具有2-12個(gè)碳原子的炔基基團(tuán)(例如乙炔基，2-甲基乙炔基，和2,3-丙炔基)，取代的或未取代的在環(huán)結(jié)構(gòu)上具有3-8個(gè)碳原子的環(huán)烷基(例如環(huán)丙基，環(huán)戊基，環(huán)己基，4-甲基環(huán)己基，和環(huán)辛基)，或者取代的或未取代的具有5-10個(gè)碳，氧，硫，和氮原子的雜環(huán)基團(tuán)(包括芳香基的和非芳香基，例如取代的或未取4戈的p比咬基，嘧咬基，呋喃基，p比咯基，咪唑基，三唑基，四唑基，吲哚基，喹啉基，p惡二唑基，以及苯并噁唑基)?？蛇x地，R!,R2，R3和R4中的兩個(gè)或更多個(gè)可連4妻在一起而形成帶有硼原子的雜環(huán)，這種環(huán)具有多達(dá)7個(gè)的碳，氮，氧或氮原子。優(yōu)選地，RnR2,113和R4獨(dú)立地為如上定義的取代的或未取代的烷基或芳基，更優(yōu)選地，Rl5R2，Rg和R4中的至少3個(gè)是相同或不同的取代的或未取代的芳基(例如取代的或未取代的苯基)。最優(yōu)選的情況是，Rl5R2,113和R4全部為相同的或不同的取代的或未取代的芳基，說明書第12/33頁最佳的情況是所有的基團(tuán)均是相同的取代的或未取代的苯基。最優(yōu)選的情況下，Z—是四苯基硼酸鹽，其中的苯基為取代的或未取代的(優(yōu)選所有的都是未取代的)。代表性的碘錯硼酸鹽化合物包括但不限于，4-辛氧基苯基苯基碘錯四苯基硼酸鹽，[4-[(2-羥基四癸基)-氧基]苯基]苯基碘銪四苯基硼酸鹽，二(4-叔丁基苯基)碘錄四苯基硼酸鹽，4-甲基苯基-4，-己基苯基殃4翁四苯基硼酸鹽，4-甲基苯基-4，-環(huán)己基苯基碘銪四苯基硼酸鹽，二(4-叔丁基苯基)碘4翁四(五氟苯基)硼酸鹽，4-己基苯基-苯基碘錯四苯基硼酸鹽，4-甲基苯基-4，-環(huán)己基苯基碘錄正丁基三苯基硼酸鹽，4-環(huán)己基苯基-苯基碘錄四苯基硼酸鹽，2-甲基-4-叔丁基苯基-4，-曱基苯基碘錯四苯基硼酸鹽，4-甲基苯基-4，-戊基苯基碘4翁四[3,5-二(三氟甲基)苯基]-硼酸鹽，4-甲氧基苯基-4，-環(huán)己基苯基碘錯四(五氟苯基)硼酸鹽，4-甲基苯基-4，-十二烷基苯基碘4翁四(4-氟苯基)硼酸鹽，二(十二烷基苯基)碘4翁四(五氟苯基)-硼酸鹽，和二(4-叔丁基苯基)碘銪四(l-咪唑基)硼酸鹽。優(yōu)選的化合物包括二(4-叔丁基苯基)碘錄四苯基硼酸鹽，4-甲基苯基-4，-己基苯基碘錯四苯基硼酸鹽，2-甲基-4-叔丁基苯基-4，-曱基苯基碘錯四苯基硼酸鹽，和4-甲基苯基-4，-環(huán)己基苯基碘錄四苯基硼酸鹽。在碘錯硼酸鹽組合物中也可使用這些化合物中的兩種或多種的混合物。二芳基碘錯硼酸鹽化合物一般可通過芳基碘化物與取代的或未取代的芳烴進(jìn)行反應(yīng)，然后通過與硼酸陰離子進(jìn)行離子交換而制備。各種制備方法的詳細(xì)描述參見美國專利6,306,555(Schulz等人)，其在此以引用的方式并入，以及參見Crivello,J.尸o/ywwSc丄，Parf左'尸omerC/z麵勿，37,4241-4254(1999)。包括一種或多種二芳基碘錯硼酸鹽化合物的嶼錯硼酸鹽引發(fā)劑組合物在輻射敏感組合物中的含量通常為至少1%到最多30%,這一含量是基于輻射敏感組合物的總固體分或涂布的可成像層的干重。優(yōu)選地，組合物的含量為2重量％-15重量％。一種或多種二芳基碘錯硼酸鹽化合物通常含有10-100%的二芳基碘錯硼酸鹽引發(fā)劑組合物。在可成像元件的涂布的可成像層中，二芳基碘錯硼酸鹽化合物的含量通常為至少0.01g/m2,且優(yōu)選為0.03-0.3g/m2。在其它引發(fā)劑組合物中的產(chǎn)生自由基的化合物在輻射敏感組合物中的含量基于組合物總固體分或可成像層的總干重計(jì)，一般為至少160.5%到最高30%并包括30%在內(nèi)的范圍，優(yōu)選為至少1%到最高15%并包括15%在內(nèi)的范圍。各種敏化劑的最適宜量對不同的化合物和所期望的輻射敏感組合物的敏感性而言可以不同，這對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是容易確定的。各種聚合粘合劑中的任何一種均可用于輻射敏感組合物中，包括用在本領(lǐng)域中已知的那些用在負(fù)性工作的輻射敏感組合物中。聚合粘合劑一般具有的分子量為2,000-1,000,000,優(yōu)選為10,000-200,000。使用已知方法確定的聚合粘合劑的酸值(mgKOH/g)通常為20-400。通常，用于本發(fā)明特別是用于IR-敏感的可成像元件的聚合粘合劑是可溶于pH大于9,且優(yōu)選為大于10的水溶性溶液(包括下面描述的含有機(jī)溶劑的顯影劑)中的。例如，用于本發(fā)明的聚合粘合劑可溶于pH為9.3的顯影劑中，但在美國專利6,902,865(Teng)中描述的聚合粘合劑不溶于這種顯影劑中。一些粘合劑是非水溶性的但可溶于常規(guī)的堿性顯影劑中。這類聚合粘合劑的例子包括但不限于，衍生自(甲基)丙烯酸和酸酯的聚合物，聚乙烯基縮醛，酚醛樹脂，衍生知苯乙烯的聚合物及其衍生物，(曱基)丙烯腈，N-取代的環(huán)酰亞胺或馬來酸酐，例如那些在EP1，182，033(上面提到過)和美國專利6,309,792(上面提到過)，6,352，812(Sh腿zu等人)，6,569,603(上面提到過)，以及6,893,797(上面提到過)中描述的。其它有用的是帶有側(cè)鏈N-^t唑部分的乙烯基^唑聚合物包括在美國專利4,774,163(Higashi)中描述的那些，以及帶有側(cè)鏈乙烯基的聚合物，包括在美國專利4,511,645(Koike等人)，和EP1,182,033A1(Fuj腿ki等人)描述的那些。其它有用的聚合粘合劑具有憎水骨架，并含有以下a)和b)的重復(fù)單元中的兩者，或僅b)重復(fù)單元a)具有直接連接到憎水骨架上的側(cè)鏈氰基的重復(fù)單元，和b)具有包含聚環(huán)氧烷鏈段的側(cè)基的重復(fù)單元。聚合粘合劑包含聚環(huán)氧烷鏈段，優(yōu)選聚環(huán)氧乙烷鏈段。這些聚合物可以是接枝共聚物，其具有主鏈聚合物和聚環(huán)氧烷側(cè)鏈，或者是嵌段共聚物的鏈段，其具有含聚環(huán)氧烷重復(fù)單元的嵌段和不含聚環(huán)氧烷重復(fù)單元的嵌段。接枝共聚物和嵌段共聚物兩者均可額外含有氰基側(cè)基直接連接到憎水骨架上。環(huán)氧烷的構(gòu)成單元通常是d-C6的環(huán)氧烷基團(tuán)，更多情況下是C廣C3的環(huán)氧烷基團(tuán)。亞烴基部分可以是線性的或分支的，或是它們的取代形式。優(yōu)選的是聚環(huán)氧乙烷和聚環(huán)氧丙烷鏈段，而最優(yōu)選的是聚環(huán)氧乙烷鏈段。.在一些實(shí)施方式中，聚合粘合劑僅包括含有聚環(huán)氧烷鏈段的重復(fù)單元，而在其它實(shí)施方式中，聚合粘合劑包括含有聚環(huán)氧烷鏈段的重復(fù)單元以及含有氰基側(cè)基直接連接到憎水骨架上的重復(fù)單元。例如，這樣的重復(fù)單元可包括含-CN,氰基取代的亞烷基或氰基封端的亞烷基側(cè)基。重復(fù)單元也可由烯屬不飽和可聚合單體如丙烯腈、曱基丙烯腈、氰基丙烯酸曱酯、氰基丙烯酸乙酯、或它們的組合得來。但也可通過其它的傳統(tǒng)方法將氰基^1入聚合物中。這種含氰基的聚合粘合劑的例子描述于如美國專利申請公開2005/003285(Hayashi等)中。例如，這些聚合粘合劑可通過適合的烯屬不飽和可聚合單體或大分子單體的組合或混合物的聚合反應(yīng)而形成，這些單體例如A)丙烯腈、甲基丙烯腈、或它們的組合，B)丙烯酸或甲基丙烯酸的聚環(huán)氧烷烴酯，例如聚乙二醇甲基醚丙烯酸酯、聚乙二醇曱基醚甲基丙烯酸酯、或它們的任意組合，以及C)任選地，單體如丙烯酸、甲基丙烯酸、苯乙烯、羥基苯乙烯、丙烯酸酯、曱基丙烯酸酯、丙烯酰胺、曱基丙烯酰胺、或這些單體的任意組合。這些聚合粘合劑中聚環(huán)氧烷鏈段的含量為0.5-60重量％,優(yōu)選為2-50重量％,更優(yōu)選為5-40重量％,最優(yōu)選為5-20重量％。嵌段共聚物中聚環(huán)氧烷烴鏈段的含量為5-60重量％,優(yōu)選為10-50重量％,更優(yōu)選為10-30重量％。具有聚環(huán)氧烷烴側(cè)鏈的聚合粘合劑也可以離散顆粒的形式存在。一些優(yōu)選的聚合粘合劑包含衍生自一種或多種(曱基)丙烯酸，(甲基)丙烯酸酯，苯乙烯和苯乙烯衍生物，乙烯基口卡唑，和聚亞烷基二醇(甲基)丙烯酸酯的重復(fù)單元。更優(yōu)選地，聚合粘合劑包含衍生自兩種或多種這些單體的重復(fù)單元。上面描述的聚合粘合劑基于輻射敏感組合物的總固體分含量或由其制備的可成像層的干重的含量一般為10-70重量％,優(yōu)選為20-50重量％。在一些實(shí)施方式中，可包含"次(第二)"粘合劑而與上面描述的聚合粘合劑組合使用。這些"次"聚合粘合劑包括丙烯酸-聚氨酯混合聚合物，它們可由AirProductsandChemicals,Inc.(Allentown,PA)的分散體形式購買，商品名為Hybridur,例如Hybridur540，560,570,580,870，和878丙烯酸-聚氨酯混合分散體。次聚合粘合劑在輻射敏感組合物中的含量基于組合物的總固體分含量或可成像層的干重可以為5-40重量％。輻射敏感組合物通常包括一種或多種輻射吸收化合物，或敏化劑，其吸收成像輻射，或者使組合物對Xn^在電磁光譜UV到IR區(qū)域的成4象輻射即/人至少250到高至1500nm并包4舌1500nm在內(nèi)的輻射產(chǎn)生敏化。一些敏化劑可在任何波長下使用，但大多數(shù)的敏化劑在特定波長范圍內(nèi)使用最佳。例如，一些敏化劑在暴露于至少250nm到高至450nm并包括450nm在內(nèi)的波長范圍內(nèi)使用時(shí)最佳，而另一些敏化劑在暴露于至少650nm到高至1500nm并包括1500nm在內(nèi)(近IR和IR)的波長范圍內(nèi)使用時(shí)最佳。在一些優(yōu)選的實(shí)施方式中，輻射敏感組合物含有UV敏化劑，其中自由基生成化合物是對UV輻射敏感的(即至少為250mn到高至450nm并包括450nm),/人而有助于光聚合。上面描述了典型的UV輻射敏感自由基生成化合物。在一些優(yōu)選的實(shí)施方式中，輻射敏感組合物對范圍在至少375nm到高至450nm并包括450nm在內(nèi)的"藍(lán)紫色"輻射敏感。可用于這類組合物的有用的敏化劑包括特定的pyrilium和硫代pyrilium染料以及3-香豆素酮(特別是與多元羧酸自由基生成的化合物如苯胺-N,N-乙酰乙酸一起4吏用)。還可使用在電》茲光譜可見區(qū)域內(nèi)(即至少400nm最高650nm并包括650nm在內(nèi))吸收的壽丈化劑。這些敏化劑的例子在本領(lǐng)域內(nèi)是熟知的，包括在美國專利6,569,603(上面已提及)的Cols.17-22中所描述的化合物。其它可用的可見和UV-敏感的光敏組合物包括花青染料、二芳基碘鏡鹽和如在美國專利5,368,990(Kawabata等人)中描述的助引發(fā)劑(上面已提及)。其它用于紫外/可見壽丈化區(qū)域的有用敏化劑如WO2004/074930(Baumann等人)中所描述的2,4,5-三芳基鵬唑衍生物。這些化合物可單獨(dú)使用或與上面所描述的助引發(fā)劑一起使用，尤其是與上面所描述的1,3,5-苯三溱或硫醇化合物一起使用?？捎玫?,4,5-三芳基嗯唑衍生物可以G-(Arj3的結(jié)構(gòu)表示，其中An是相同或不同，取代的或未取代的碳環(huán)芳基，其環(huán)上具有6-12個(gè)碳原子，且G為呋喃、p惡唑或p惡二唑環(huán)。An基團(tuán)可被一個(gè)或多個(gè)卣素、取代或未取代的芳基、取代或未取代的環(huán)烷基、取代或未取代的芳基、氨基(伯，仲或叔)或取代或未取代的烷氧基或芳氧基所取代。因此，芳基可被一個(gè)或多個(gè)R、~R'3的基團(tuán)分別取代，這些基團(tuán)獨(dú)立地是氫原子或具有l(wèi)-20個(gè)碳原子的取代的或未取代的烷基(例如甲基，乙基，異丙基，正己基，節(jié)基和甲氧基甲基),在環(huán)上具有6-10個(gè)碳原子的取代的或未取代的碳環(huán)芳基(例如苯基，萘基，4-甲氧基苯基和3-甲基苯基)，在環(huán)上具有5-10個(gè)碳原子的取代的或未取代的環(huán)烷基，->^(11，4)(11，5)基或-0R，6基，其中R'4~R，6獨(dú)立地表示上面所描述的取代或未取代的芳基或烷基。優(yōu)選地，R、~R，3中至少一個(gè)是-N(R，4)(R，5)基團(tuán)，其中R，4和R，5為相同或不同的烷基。用于An基團(tuán)的優(yōu)選的取代基包括相同或不同的伯，仲或叔胺且更優(yōu)選為相同的二烷基胺。再一類有用的紫外/可見輻射敏化劑包括以ArrG-Ar2結(jié)構(gòu)所表示的化合物，其中An和Ar2是相同或不同的在環(huán)上具有612個(gè)碳原子的取代或未取代的芳基，或Ar2可以為亞芳基-G-Ar！或亞芳基-G-Ai"2且G為p夫喃、，，惡唑或p惡二哇環(huán)。A！與上面所定義的一f丈，而A&可以是與A^相同或不同的芳基。"亞芳基"可以是定義為Ar!的任何芳基基團(tuán)，但去除掉了氳原子以使其成為二價(jià)。其它的有用的"紫外，，-可見輻射敏化劑為WO2004/074929(Baumann等)中所描述的化合物。這些化合物含有相同或不同的芳香雜環(huán)基團(tuán)，其與含有至少一個(gè)碳-碳雙鍵的間隔基部分相連接，該雙鍵與芳香雜環(huán)基團(tuán)共軛，且通過提及的發(fā)表物中的分子式(I)進(jìn)行更詳細(xì)的表達(dá)。優(yōu)選地，輻射吸收化合物對紅外和近紅外輻射壽t感，即從600-1400nm且優(yōu)選從700~1200nm。這類輻射吸收化合物包括炭黑和其它的IR-吸收顏料且優(yōu)選為各種IR-敏感染料("IR染料")。適合的IR染料的例子包括但不限于偶氮染料、squarilium染料、croconate染料、三芳基胺染料、硫代氮錯(thioazolium)染料、。引哚錄染料、氧雜菁染料、oxaxolmm染料、花青染料、部花青染料、酞菁染料、吲哚菁染料、吲哚三羰花青(indotncarbocyamne)染料、氧雜三羰花青(oxatricarbocyanine)染料、石危代花菁(thiocyanine)染料、疏雜三羰花菁(thiatricarbocyanine)染料、部花青染料、隱花青染料、萘酞菁(naphthalocyanine)染料、聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染泮+、chalcogenopyryloarylidene和bi(chalcogenopyrylo)多次甲基染料、氧中氮茚(oxyindolizine)染料、他喃錄(pyrylium)染料、吡唑啉偶氮染料、p惡溱染料、萘醌染料、蒽醌染料、醌亞胺(quinoneimine)染料、次甲基染料、芳基次甲基染料、方酸(squarine)染料、噁唑染料、克酮酸染料、吟啉染料、以及前述染料類別的任何取代的或離子形式。在美國專利5,208,135(Patel等)，6569603(如上所述)和6787281(如上所述)中也描述了適合的染料。在WO2004/101280的段落中通過分子式對合適的花青染料的一類進(jìn)行了一般性描述。除了低分子量的IR-吸收染料外，也可使用連接到聚合物上的IR染料部分。并且，還可使用IR染料陽離子，即這種陽離子是染料鹽的IR吸收部分，而染料鹽與在側(cè)鏈上含有羰基，磺基，二氧磷基或磷?；木酆衔锇l(fā)生離子相互作用。也可使用近紅外吸收的花青染料，它們例如在美國專利6,309,792(Hauck等人)，6,264,920(Achilefu等人)，6,153,356(Urano等人)以及5,496,903(Watanate等人)中進(jìn)行了描述。適合的染料可使用傳統(tǒng)的方法和起始原料形成，或由各種商業(yè)渠道如AmericanDyeSource(BaieD，Urfe,Quebec,加拿大)和FEWChemicals(德國)獲得。其它可用于近紅外二極管激光束的染料例如在美國專利4,973,572(DeBoer)中進(jìn)行了描述。有用的IR吸收化合物也包括炭黑，這包括那些用本領(lǐng)域已知的可溶基團(tuán)進(jìn)行表面官能化的炭黑。另外，也可以使用接枝到親水、非離子聚合物上的炭黑，例如FX-GE-003(NipponShokubai制造)，或用陰離子進(jìn)行表面官能化的炭黑，例如CAB-O-JET200或CAB-O-JET300(CabotCorporation制造)。輻射吸收化合物可存在于輻射敏感組合物中，其量通常至少為組合物中總固體量的0.1%且至多為20%,優(yōu)選為從0.5~10%,其中總固體量對應(yīng)于可成像層的總的干重量?；蛘?，該含量可由干膜中的吸收率定義，范圍在0.05-3,優(yōu)選在0.1-1.5,這些值由反射紫外-可見光波語儀測量。本領(lǐng)域技術(shù)人員很容易根據(jù)具體使用的化合物確定為此目的所需的具體含量。輻射敏感組合物還可包括"主要添加劑，，，即亞烷基二醇或其醚或酯類，其具有200至最高4000的分子量(優(yōu)選為500-2000)。存在的主要添加劑的含量占組合物的總固體量或可成像層的干重的2-50重量%(優(yōu)選為5~30%)。特別有用的主要添加劑包括但不限于，一種或多種聚乙二醇，聚丙二醇，聚乙二醇甲基醚，聚乙二醇二甲基醚，聚乙二醇單乙醚，聚乙二醇二丙烯酸酯，乙氧基化的雙酚A二(甲基)丙烯酸酯以及聚乙二醇單甲基丙烯酸酯。其它有用的主要添加劑是SR9036(乙氧基化的(30)雙酚A二曱基丙烯酸酯)，CD9038(乙氧基化的(30)雙酚A二丙烯酸酯)以及SR494(乙氧基化的("季戊四醇四丙烯酸酯)，所有的這些可,人SartomerCompany,Inc獲得。在某些實(shí)施方式中，主要添加劑可以為"非反應(yīng)的，，，這表示其不含有可聚合的乙烯基。輻射敏感組合物還可包括"次要添加劑，，，即聚乙烯醇，聚乙烯吡咯烷酮，聚乙烯咪唑或聚酯，其量最高可達(dá)到且包括組合物的總固體含量或可成像層的總干重的20重量％。輻射敏感組合物也可包括常規(guī)含量的多種其它的任選化合物但不局限于，分散劑、濕潤劑、生物殺滅劑、增塑劑、用于涂布性能或其它性能的表面活性劑、增粘劑、染料或著色劑(使書寫影像視覺化)、pH調(diào)節(jié)劑、干燥劑、消泡劑、防腐劑、抗氧化劑、顯影助劑、流變改性劑或它們的組合，或任何其它的常用于平版印刷領(lǐng)域的添加劑。有用的增粘劑包括羥丙基纖維素、羥乙基纖維素、羧甲基基纖維素、和聚乙烯吡咯烷酮。在一些實(shí)施方式中，輻射敏感組合物也包括石危醇衍生物，例如巰基三唑如3-巰基-l,2,4-三唑、4-甲基-3-巰基-l,2,4-三唑、5-巰基-l-苯基-1,2,4-三唑、4-氨基-3-巰基-l,2，4-三唑、3-巰基-1,5-二苯基-l,2,4-三唑、以及5-(對氨基苯基)-3-巰基-1,2,4-三唑。還可存在各種巰基苯并咪唑、巰基苯并噻唑，以及巰基苯并p惡唑?？沙蒷象元件可成像元件是通過將輻射敏感組合物適當(dāng)?shù)厥┯玫竭m合基板上而形成可成像層。如下所述，該基材在進(jìn)行輻射敏感組合物施用之前以22多種方式進(jìn)行處理或涂布。優(yōu)選地，只有一層含本發(fā)明輻射敏感組合物的可成像層。如果基材經(jīng)處理而提供內(nèi)涂層來改善粘附性或親水性的話，則施用的輻射敏感組合物通常被認(rèn)為是頂層或最外層。然而這些內(nèi)涂層并不被認(rèn)為是"可成像層"。盡管不需要將通常所知的外涂層(例如氧氣不能滲透的頂涂層)施用到WO99/06890(Pappas等人)中所描述的可成像層上，但如果需要也可進(jìn)行使用。這種外涂層可含有一種或多種水溶性聚合物如聚乙烯醇，聚乙烯吡咯烷酮，聚乙烯咪唑并且通常存在的干涂層重量是從O.l~4g/m2?；囊话憔哂杏H水表面或至少具有比成像側(cè)施用的輻射敏感組合物親水性強(qiáng)的表面?；陌ㄖ?，其可由任何常規(guī)的用于制備可成像元件如平版印刷版的材料構(gòu)成。支撐通常采取片、膜、或箔的形式，且堅(jiān)固、穩(wěn)定、柔韌并能經(jīng)受使用條件下的尺寸改變，使得彩色記錄將記錄下全彩圖像。典型的支撐可以是任何的自支撐材料，包括聚合膜(例如聚酯，聚乙烯，聚碳酸酯，纖維素酯聚合物，以及聚苯乙烯膜)，玻璃，陶瓷，金屬片或箔，或硬紙面(包括帶有樹脂涂層的和鍍金屬的紙)，或任何這些材料的層合物(例如鋁箔層壓在聚酯膜上的層合物)。金屬支撐物包括鋁，銅，鋅，鈦，和它們的合金的片或箔。聚合膜支撐可在一個(gè)平面或兩個(gè)平面上用"底涂層"進(jìn)行改性，以提高親水性，或者紙支撐可經(jīng)過類似的涂布來增加平面性。底涂層材料的例子包括但不限于，烷氧基硅烷，氨基-丙基三乙氧基硅烷，縮水甘油基丙基-三乙氧基硅烷，以及環(huán)氧官能聚合物，以及用于卣化銀照相軟片的傳統(tǒng)的親水底涂層材料(例如凝膠和其它天然形成的和合成的親水膠體和包括偏二氯乙烯共聚物在內(nèi)的乙烯基聚合物)。優(yōu)選的基材是由鋁支撐構(gòu)成，其可采用本領(lǐng)域已知的技術(shù)來處理，這些技術(shù)包括以物理磨版、電化學(xué)磨版、化學(xué)磨版、及陽扨f匕。優(yōu)選可通過對鋁支;掌用如硅酸鹽、、糊精:氟化鉤鋯、六氟^:酸、含有氟化鈉的磷酸鹽溶液、聚乙烯基膦酸(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物、聚丙烯酸、或丙烯酸共聚物進(jìn)行處理來形成內(nèi)涂層。優(yōu)選地，使用已知工藝對鋁支撐進(jìn)行機(jī)械磨版以及磷酸陽極氧化并用聚丙烯酸進(jìn)行處理，以改善表面親水性?；牡暮穸瓤梢愿淖?，但應(yīng)能足以承受印刷產(chǎn)生的磨損，并足夠薄到能纏繞在印版上。優(yōu)選的實(shí)施方式包括厚度在100-600|am的處理過的鋁箔?；牡谋巢?非成像側(cè))可涂布抗靜電劑層和/或滑動層或消光層，以改善對可成像元件的操作性和"手感"?；囊部梢允瞧渖鲜┯幂椛涿舾薪M合物的圓柱形表面，因而成為印刷機(jī)的構(gòu)成部分。這種成像筒的使用在如美國專利5,713,287(Gelbart)中進(jìn)行了描述。何適合的裝備和工藝進(jìn)行施涂，例如旋轉(zhuǎn)涂布、刮刀涂布、凹版涂布、模頭涂布、狹縫式涂布、刮棒涂布、繞線棒涂布、輥涂布、或擠出斗涂布。組合物也可通過噴灑到適合的支持(例如印機(jī)中印刷滾筒)上而涂布。優(yōu)選地，輻射敏感組合物以最外層施用。這些制作方法的例證是將可自由基聚合的組分，引發(fā)劑組合物，輻射吸收化合物，聚合粘合劑，以及輻射敏感組合物的任何其它組分在適合的有機(jī)溶劑[例如曱乙酮(2-丁酮)，甲醇，乙醇，1-曱氧基-2-丙醇，異丙醇，丙酮，"丁內(nèi)酯，正丙醇，四氬^^夫喃，和其它本4貞i或中已知的，以及它們的混合物]中混合，將所得溶液施涂到基材上，并在適當(dāng)?shù)母稍飾l件下通過蒸發(fā)除去溶劑。優(yōu)選的涂布溶劑和典型的可成像層配方在以下的實(shí)施例中描述。在正確的干燥之后，可成像層的涂布重量通常是0.1-5g/m2,優(yōu)選為0.5-3.5g/m2,更優(yōu)選為0.5-2g/m2。在可顯影元件之下也可存在提高顯影性或作為絕熱層的層。底涂層應(yīng)當(dāng)是可溶的，或至少可分散于顯影劑中，并優(yōu)選具有相對較低的熱傳導(dǎo)系數(shù)?？沙上裨哂性S多有用的形式，這些形式包括但不限于印刷版前體，印刷滾筒，印刷套筒，和印刷膠帶(包括柔性印刷網(wǎng))。優(yōu)選地，可成像元件是任何有用的尺寸和形狀(例如正方形或長方形)的印刷版前體，并在適合的基材上放置了需要的成像層。印刷滾筒和印刷套筒已知為旋轉(zhuǎn)印刷元件，具有圓柱形的基材和成像層。中空的或?qū)嵭牡慕饘傩究捎米饔∷⑻淄驳幕摹３上駰l件使用中，可成像元件暴露于波長在250-1500nm的適合的提供"藍(lán)紫色"，近紅外，或紅外輻射的激光，具體波長取決于存在于輻射敏感組合物中的輻射吸收化合物。優(yōu)選地，采用提供Uax在650-1400nm的成像輻射的紅外激光器進(jìn)行成像。用于成像元件曝光的激光器優(yōu)選為二極管激光器，這是因?yàn)槎O管激光器系統(tǒng)的可靠性和低維護(hù)需要，但也可以使用其它的激光器例如氣態(tài)和固態(tài)激光器。用于激光成像的功率，強(qiáng)度和暴露時(shí)間的組合對本領(lǐng)域技術(shù)人員是容易確定的。當(dāng)前，用于可商業(yè)獲得的照排機(jī)(imagesetter)中的高性能激光器或激光二極管發(fā)出的紅外輻射在波長800-850nm或1060-1120nm。成像裝置可僅作為制版機(jī)(platesetter)工作，或者也可將它直接引入到平版印刷機(jī)中。在后者情況下，印刷可在成像和顯影后立即開始，/人而大大減少了印機(jī)設(shè)定時(shí)間。成^象裝置可設(shè)計(jì)成平臺式記錄儀或鼓式記錄儀，而可成像元件安裝到鼓的內(nèi)或外圓柱表面上?？色@得的有用的成像裝置的例子有伊斯曼_柯達(dá)公司(加拿大Burnaby,BritishColumbia)的CreoTrendsetter⑧型照排機(jī)，其包括在波長830nm發(fā)出近紅外輻射的激光二極管。其它適合的成像源包括GerberCrescent42TPlatesetter,其在波長1064nm下才喿作(可由GerberScientific,Chicago,IL獲得),以及ScreenPlateRite4300系列或8600系列的制版機(jī)(可由Screen,Chicago,IL獲得)。另外的有用的輻射源包括直接成像印刷機(jī)，其可在連接到印刷版滾筒時(shí)用于對元件進(jìn)行成像。適合的直接成像印刷機(jī)的例子包括HeidelbergSM74-DI印刷機(jī)(可由Heidelberg,Dayton,OH獲得)。"藍(lán)紫色"成像可使用如FujiLuxelVx-9600影排印版機(jī)這類設(shè)備進(jìn)行。通常，一般可在至少20mJ/cm2至最大500mJ/cm2且包括500mJ/cm2在內(nèi)的成像(曝光)能量，優(yōu)選為從50-300mJ/cn^的成像(曝光)能量下進(jìn)行紅外成像。在光譜的"藍(lán)紫色"區(qū)域內(nèi)的成像輻射，特別是在至少250nm至最大450mJ/cm2且包括450nm在內(nèi)的波長下的成像輻射一般可在至少0.01mJ/cm2至最大0.5mJ/cm2且包括0.5mJ/cm2在內(nèi)的能量下，優(yōu)選至少0.02至最大0.1mJ/cm2且包括0.1mJ/cm2的能量下進(jìn)行。理想的情況如在能量密度自至少0.5到最大50kW/cm2并包括50kW/cm2在內(nèi)的范圍，優(yōu)選自至少5到最大30kW/cm2并包括30kW/cm2在內(nèi)的范圍進(jìn)行對"藍(lán)紫色"敏感的可成像元件的成像。顯影和印刷在成像后無需進(jìn)行預(yù)熱步驟，可使用這里描述的有機(jī)溶劑-基的顯影劑來"離機(jī)"對成像的元件進(jìn)行顯影?？纱娴姆桨甘窃谶@種顯影進(jìn)行之前對成像的元件進(jìn)行整體熱處理。這種熱處理可在85-135°C的溫度下進(jìn)行20-100秒。更具體地，可用于本發(fā)明的顯影劑為有機(jī)溶劑-基的顯影劑，其一般為包括一種或多種有機(jī)溶劑的單相溶液。特別有用的有機(jī)溶劑包括但不限于，節(jié)醇，苯酚與環(huán)氧乙烷的反應(yīng)產(chǎn)物(苯朌乙氧基化物)或苯酚與環(huán)氧丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物(苯酚丙氧基化物)，例如乙二醇苯醚(2-苯氧基乙醇)和2-苯氧基乙醇，(b)具有6個(gè)或更少碳原子的烷撐二醇例如乙二醇，丙二醇，二乙二醇，2-乙氧基乙醇，2(-2-乙氧基)乙氧基乙醇，和2-丁氧基乙醇的酯和醚。優(yōu)選地，千醇是在顯影劑中存在的唯一的有機(jī)溶劑。上述有機(jī)溶劑在顯影劑中的含量為0.5-15重量％(基于顯影劑總重量)，但優(yōu)選顯影劑含有的千醇的量為至少2%的固體分，且至多10%并包括10%的固體分在內(nèi)(基于顯影劑總重量)，且更優(yōu)選為3-5重量%。一般而言，這些顯影劑的pH小于12,且通常pH至少為6。優(yōu)選地，pH為10或更少，更優(yōu)選地，為6.5-9.5。優(yōu)選地，顯影劑不含硅酸鹽和氫氧化物，這意味著這些成分沒有被有意地加入，但如果有這些成分無意地存在，則它們的含量小于0.25重量％(基于顯影劑總重量)。我們使用"硅酸鹽"來表示堿金屬硅酸鹽，其Si02與M2Q的重量比率至少為0.3，至多為1.2,其中M為石咸金屬(例如鋰，鈉，鉀，或它們的混合)。優(yōu)選地，Si〇2與M20之比為0.6-1.1。我們使用"氫氧化物"來表示堿金屬氫氧化物，例如氬氧化鋰，氫氧化鈉，氬氧化鉀，和氫氧化銨。此外，優(yōu)選顯影劑不含以下物質(zhì)(a)苯酚與環(huán)氧乙烷的反應(yīng)產(chǎn)物(苯酚乙氧基化物)或苯酚與環(huán)氧丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物(苯酚丙氧基化物)，例如乙二醇苯醚(2-苯氧基乙醇)和2-苯氧基乙醇，(b)具有6個(gè)或更少碳原子的烷撐二醇例如乙二醇，丙二醇，二乙二醇，2-乙氧基乙醇，2(-2-乙氧基)乙氧基乙醇，和2-丁氧基乙醇的酯和醚，以及(c)單-和二乙醇胺類例如單乙醇胺和二乙醇胺。我們4吏用"不含"也表示這些化合物不是有意加入顯影劑中的，但如果有這些成分無意地存在，則它們的含量小于0.25重量％(基于顯影劑總重量)。顯影劑包含a)含有含氮雜環(huán)的兩性表面活性劑，b)具有兩個(gè)或多個(gè)氮原子的兩性表面活性劑，或者c)a)的兩性表面活性劑和b)的兩性表面活性劑。優(yōu)選地，兩性表面活性劑是a)型的，更優(yōu)選地，其在雜環(huán)中包含兩個(gè)堿性氮原子。在一些實(shí)施方式中，該兩性表面活性劑含有氮原子和羧基，其中氮原子數(shù)大于羧基數(shù)。最為優(yōu)選的兩性表面活性劑具有連接至含氮雜環(huán)的羧酸根(通常通過連接基團(tuán))。這種兩性表面活性劑的一種由如下結(jié)構(gòu)所表示其中R是取代的或未取代的具有1-20個(gè)碳原子，優(yōu)選3-12個(gè)碳原子的烷基。這類兩性表面活性劑的商品例子包括但不限于CrodatericCyNa50(可由Croda,Edison,NJ獲得)，其為辛酰兩性丙酸酯(capryloamphoproprionate)以及ALKAWET.RTM丄F(可由Lonza,Allendale，NJ獲得)。兩性表面活性劑在顯影劑中的含量為至少2重量％(優(yōu)選至少4重量％),至多10重量％(基于顯影劑總重量)。本發(fā)明中使用的顯影劑可進(jìn)一步包含至少5重量％(優(yōu)選至少6.5重量％到至多15重量％固體分)的苯磺酸或萘磺酸表面活性劑(或兩者)。這類表面活性劑的商品(或來源)的例子包括但不限于含苯磺酸的Naxonate4L和Naxonate4ST(來自NeaseCorporation,BlueAsh,OH)和含萘磺酸的Naxai^ABL(來自NeaseCorporation),GeowetWL(來自GEOSpecialtyChemicals,Lafayette,IN),以及PetroAA(來自MonsonCorporation,Leominster,MA)。顯影劑中所有的表面活性劑(兩性表面活性劑和苯磺酸或萘磺酸表面活性劑的總和)與有機(jī)溶劑如節(jié)醇的重量比率的理想范圍是至少2.5'.1，且優(yōu)選為至少3:1。用于本發(fā)明實(shí)施的代表性的溶劑基的顯影劑包括但不限于955Developer(可由EastmanKodakCompany獲得)。一般來說，顯影劑是通過用含顯影劑的涂布器在成像的元件的外層上揉擦或擦拭而涂布在成像的元件上的。或者，可在成像的元件上刷顯影劑，或者通過用足夠去除暴露區(qū)域的力向外層噴涂顯影劑而進(jìn)行涂布。再有，成像的元件也可浸入顯影劑中。顯影后，成像元件可用水清洗并適當(dāng)?shù)丶右愿稍?。干燥的元件也可用傳統(tǒng)的涂膠溶液[例如聚乙烯醇，聚甲基丙烯酸，聚甲基丙烯酰胺，聚曱基丙烯酸羥乙酯，聚乙烯基曱基醚，明膠，多醣，纖維素，以及優(yōu)選阿拉伯樹膠]進(jìn)4亍處理。此外，可在有或沒有UV或可見輻射的全面曝光(blanketexposure)下進(jìn)行后焙烘操作?；蛘撸墒褂煤骍V強(qiáng)曝光(floodwiseexposure)(沒有熱)來增強(qiáng)成像元件的性能。全面(強(qiáng)或整體)UV曝光可采用適當(dāng)?shù)腢V輻射源例如SpectramatchL1250重氮/光聚合物燈來進(jìn)行，這樣的燈例如可由OLECCorporation(Irvine,CA)獲得的?？赏ㄟ^將平版印刷墨和潤版液涂布在經(jīng)成像的和顯影的元件的印刷表面上來進(jìn)行印刷。潤版液被非曝光(未成像的)區(qū)域，即經(jīng)顯影而顯露出的親水基材的表面，所吸收，而墨被成像的層的曝光的(成像的或未除去的)區(qū)域所吸收。墨然后轉(zhuǎn)移.到適合的接受材料(例如布，紙，金屬，玻璃，或塑料)上，從而在其上提供期望的圖像的印刷。如果需妻，可使用中間"橡皮布(轉(zhuǎn)印布)"輥來將墨從成像的元件轉(zhuǎn)移到接受材料上。如果需要，可使用傳統(tǒng)的清潔手段和化學(xué)品在印刷之間對成像的元件進(jìn)行清潔。以下的實(shí)施例被提供用來說明本發(fā)明的實(shí)施，但并不能以任何方式構(gòu)成對本發(fā)明的限制。實(shí)施例用于實(shí)施例中的組分和材料以及用于評價(jià)中的分析方法如下。除非另外指出，各種化學(xué)品均可通過商業(yè)渠道如AldnchChemicalCo.(Milwaukee,WI)獲得BLO代表Y-丁內(nèi)酯。Byk307是在25wt.%的二甲苯/乙酸甲氧基丙酯溶液中的可由BykChemie(Wallingford,CT)獲得的聚乙氧基化的聚二曱基硅氧烷共聚物。共聚物2是丙烯腈，曱基丙烯酸曱酯，乙烯基咔唑和甲基丙烯酸以43/24/24/9重量百分比組成的共聚物。接枝共聚物1是聚乙二醇甲基醚甲基丙烯酸酯(Mn1,100),丙烯腈，苯乙烯，和曱基丙烯酸以10/60/20/10重量百分比組成的共聚物，具有的酸值為65。接枝共聚物3是聚乙二醇甲基醚曱基丙烯酸酯(Mn1,100),丙烯腈，乙烯基呼唑，和曱基丙烯酸以10/55/25/10重量百分比組成的共聚物，具有的酸值為65。HB-NKEsterBPE500是乙氧基化雙酚A二甲基丙烯酸酯，可由NK-Esters(日本)獲得。IR染料1(也稱之為IRT染料)是由ShowaDenko(Japan)獲得，并由下式表示引發(fā)劑A是二(4-叔丁基苯基)碘鏡四苯基硼酸鹽。Irganox1035是硫代二乙撐二(3,5-二-叔丁基-4-羥基氫化肉桂酸)，由CibaSpecialtyChemicalsCompany獲得。KayamerPM-2是甲基丙烯酸2-羥乙酯的混合磷酸酯，由NipponIR染料1Kayaku(日本)獲得。MEK代表甲乙酮。低聚物l是氨基曱酸酯丙烯酸酯在乙酸乙酯中的30%重量的溶液，所述氨基甲酸酯丙烯酸酯是將2份六亞甲基二異氰酸酯，2份曱基丙烯酸羥乙酯和1份2-(2-羥乙基)哌啶反應(yīng)制得。^氐聚物A是使DesmodurN100與丙烯酸羥乙酯和季戊四醇三丙烯酸酯(在MEK中的80%重量)經(jīng)反應(yīng)制得的氨基甲酸酯丙烯酸酯。PEGDA是聚乙二醇雙丙烯酸酯(MW=700)。PGME表示l-甲氧基-2-丙醇，也稱之為DowanolPM。PhosmerPE是具有4-5個(gè)乙二醇單元的曱基丙烯酸磷酸乙二醇酉旨，由Urn-ChemicalCo.,Ltd.(日本)獲得。顏料A(951)是含27%固體分的分散液，含7.7份的衍生自用乙醛，丁醛和4-曱酰苯甲酸乙?；木垡蚁┐嫉木垡蚁┗s醛，76.9份的IrgalithBlueGLVO(Cu-酞菁染料C丄顏料藍(lán)15:4)和15.4份的Disperbyk167在l-甲氧基-2-丙醇中的分散液(BykChemie)。SR-349是乙氧化雙酚A雙丙烯酸酯，由SartomerCompany,Inc.(Exton,PA)獲得。SR-399是雙季戊四醇五丙烯酸酯，由SartomerCompany,Inc.(Exton,PA)獲得。955Developer^i^，J-H^齊寸，★EastmanKodakCompany(Rochester,NY)獲得。聚合物A的制備將AIBN[2,2，-偶氮二(異丁腈)，Vazo-64,1.6g],曱基丙烯酸甲酯(20g),丙烯腈(24g),N-乙烯基呼唑(18g,來自PolymerDajac),曱基丙烯酸(18g)和N,N，-二曱基乙酰胺(DMAC,320g)置于配備了磁攪拌器，冷凝器，溫度控制器和N2入口的1000ml的3頸燒瓶中。反應(yīng)混合物被加熱至60。C并在N2保護(hù)下攪拌過夜(16小時(shí))。以20%測量。/。N.V.。.向上述反應(yīng)混合物中(在移去氮?dú)獗Ｗo(hù)后)緩慢加入氬氧化鉀(5.2g)在水(40g)中的溶液，形成粘稠的液體。攪拌混合物10分鐘后，加入烯丙基溴(13.3g),在55。C攪拌混合物3小時(shí)。向燒瓶中加入濃的(36%)氫氯酸(12g)在DMAC(40g)中的溶液，對反應(yīng)混合物再攪拌3小時(shí)。然后將所得反應(yīng)混合物在攪拌下緩慢滴入12升水水和20g濃氳氯酸的混合物中。過濾得到的沉淀并用2000ml正丙醇清洗，然后用2000ml水清洗。過濾后得到細(xì)的白色粉末。粉末在室溫下干燥過夜，然后在50°C下放置5小時(shí)，獲得63g聚合物固體。聚合物B的制備將AIBN[2,2，-偶氮二(異丁腈)，Vazo-64,1.6g],甲基丙烯酸曱酯(20g),丙烯腈(28g),N-乙烯基咔唑(14g)，曱基丙烯酸(18g),和N,N，-二甲基乙酰胺(DMAC,320g)置于配備了磁攪拌器，冷凝器，溫度控制器和N2入口的1000ml的3頸燒瓶中。反應(yīng)混合物被加熱至60°C并在N2保護(hù)下攪拌過夜(16小時(shí))。以20%測量％N.V。向上述反應(yīng)混合物中(在移去氮?dú)獗Ｗo(hù)后)緩慢加入氫氧化鉀(5.2g)在水(40g)中的溶液，形成粘稠的液體。攪拌混合物IO分鐘后，加入烯丙基溴(13.3g),在55。C攪拌混合物3小時(shí)。向燒瓶中加入濃的(36%)氪氯酸(12g)在DMAC(40g)中的溶液，對反應(yīng)混合物再攪拌3小時(shí)。然后將所得反應(yīng)混合物在攪拌下緩慢滴入12升水水和20g濃氫氯酸的混合物中。過濾得到的沉淀并用2000ml正丙醇清洗，然后用2000ml水清洗。過濾后得到細(xì)的白色粉末。粉末在室溫下干燥過夜，然后在40°C下放置5小時(shí)，獲得60g聚合物固體。聚合物C的制備將AIBN[2,2，-偶氮二(異丁腈)，Vazo-64,1.6g]，曱基丙烯酸甲酯(10g)，丙烯腈(24g),N-乙烯基卩卡唑(20g,來自PolymerDajac)，曱基丙烯酸(26g),和N,N，-二甲基乙酰胺(DMAC,320g)置于配備了磁攪拌器，冷凝器，溫度控制器和N2入口的1000ml的3頸燒瓶中。反應(yīng)混合物:故加熱至60。C并在N2保護(hù)下攪拌過夜(16小時(shí))。以20%測量Q/。N.V.。向上述反應(yīng)混合物中(在移去氮?dú)獗Ｗo(hù)后)緩慢加入氫氧化鉀(12.7g)在水(40g)中的溶液，形成粘稠的液體。攪拌混合物10分鐘后，加入烯丙基溴(27.5g),在55。C攪拌混合物3小時(shí)。向燒瓶中加入濃的(36%)氫氯酸(25g)在DMAC(40g)中的i容液，對反應(yīng)混合物再攪拌3小時(shí)。然后將所得反應(yīng)混合物在攪拌下緩慢滴入12升水水和20g濃氳氯酸的混合物中。過濾得到的沉淀并用2000ml正丙醇清洗，然后用2000ml水清洗。過濾后得到細(xì)的白色粉末。粉末在室溫下干燥過夜，然后在50°C下放置5小時(shí)，獲得66g聚合物固體。實(shí)施例1:通過將聚合物A(1.2g),低聚物A(0.83g),IR染料(0.094g)，Irganox1035(0.50g,在MEK中濃度為5%),SR-399(1.28g),顏料951(0.34g)，PEGDA(0.28g),PhosmerPE(0.038g),Byk307(0.32g)，和引發(fā)劑A(0.22g)溶解在PGME(29.9g)和MEK(15.0g)中配制成可成像層配方。用該配方涂布經(jīng)聚乙烯基磷酸后處理過的電化學(xué)磨版和硫酸陽極氧化的鋁基材，當(dāng)在旋轉(zhuǎn)鼓上于77°C下適當(dāng)干燥約2分鐘后，干燥涂層重量約為1.3g/m2。將所得可成像元件置于CREOTrendsetter3244x照排機(jī)(Creo,加拿大Burnaby,BritishColumbia,-f尹斯曼-柯達(dá)^>司的子/>司)上，并用830nmIR激光器在4.5W功率下和變化的鼓速度(250-60RPM)下曝光。然后將成像元件在25°C下用955Devd叩er在盤中進(jìn)行顯影。獲得穩(wěn)定的固體密度圖像和清晰背景的最小能量約為120mJ/cm2。將所得印刷版在48°C或38。C/80。/。濕度下恒溫保持5天后，其顯示出類似的數(shù)字速度和清晰的背景。-實(shí)施例2:通過將聚合物B(1.2g),低聚物A(0.83g)，IR染料(0.094g),Irganox1035(0.50g,在MEK中濃度為50/。)，SR-399(1.28g),顏料951(0.34g)，PEGDA(0.28g),PhosmerPE(0.038g),Byk307(0.32g),和引發(fā)劑A(0.22g)溶解在PGME(29.9g)和MEK(15.0g)中配制成可成像層配方。用該配方涂布經(jīng)聚乙烯基磷酸后處理過的電化學(xué)磨版和硫酸陽極氧化的鋁基材，當(dāng)在旋轉(zhuǎn)鼓上于77。C下適當(dāng)干燥約2分鐘的干燥涂層重量約為1.3g/m2。然后將所得的可成像元件按實(shí)施例1中的描述進(jìn)行成像和處理。獲得穩(wěn)定的固體密度圖像和清晰背景的最小能力約為130mJ/cm2。將所得印刷版在48。C或38°(780%濕度下恒溫保持5天后，其顯示出類似的數(shù)字速度和清晰的背景。實(shí)施例3:按實(shí)施例1中的描述制備出可成像層配方并涂布在經(jīng)聚乙烯基磷酸后處理過的電化學(xué)磨版和硫酸陽極氧化的鋁基材上，當(dāng)在旋轉(zhuǎn)鼓上于77°C下適當(dāng)干燥約2分鐘后，干燥涂層重量約為1.3g/m2。在可成4象層上涂布頂涂層配方，其含有Airvo1203聚乙烯醇(67.9g的9.7%水溶液)，聚乙烯基咪唑(5.8g的20%水溶液)，2-丙醇(20.7g)和水(405.6g)。在以與可成像層配方類似的方式涂布頂涂層配方后，在旋轉(zhuǎn)鼓上于77。C干燥可成像元件約2分鐘以提供約0.35g/m2的干燥的頂涂層。按實(shí)施例1中的描述(除了成像中的功率為2.5W外)對所得的可成像元件進(jìn)行成像和處理。為獲得穩(wěn)定的固體密度圖像和清晰背景的最小能量約為60mJ/cm2。將所得印刷版在48。C恒溫保持5天后，其顯示出類似的數(shù)字速度和清晰的背景。將這種類型的另一個(gè)元件在120mJ/cm2下曝光，然后安裝在Miehle單張紙印刷機(jī)上，使用含1.5%碳酸釣的研磨墨水，以產(chǎn)生至少15,000次良好的印刷。實(shí)施例4:如在實(shí)施例2中的描述準(zhǔn)備可成像層并將其涂布在經(jīng)聚乙烯基磷酸后處理過的電化學(xué)磨版和硫酸陽極氧化的鋁基材上，當(dāng)在旋轉(zhuǎn)鼓上于77。C下適當(dāng)干燥約2分鐘的干燥涂層重量約為1.3g/m2。在可成像層上涂布頂涂層配方，其含有Airvo1203聚乙烯醇(67.9g的9.7%水溶液)，聚乙烯基咪唑(5.8g的20%水溶液)，2-丙醇(20.7g)和水(405.6g)。在以與可成Y象層配方類似的方式涂布頂涂層配方后，在旋轉(zhuǎn)鼓上于77°C干燥可成像元件約2分鐘以提供約0.35g/m2的干燥的頂涂層覆蓋。然后將所得的可成像元件按實(shí)施例3中的描述進(jìn)行成像和處理。獲得穩(wěn)定的固體密度圖像和清晰背景的最小能力約為60mJ/cm2。將所得印刷版在48°C恒溫保持5天后，其顯示出類似的數(shù)字速度和清晰的背景。將這種類型的另一個(gè)元件在120mJ/cm2下曝光，然后安裝在Miehle單張紙印刷機(jī)上，使用含1.5%碳酸釣的研磨墨水，以產(chǎn)生至少15,000次良好的印刷。實(shí)施例5:將含14.2%膠體140(由KemiraChemicals,Kennesaw,GA獲得)，4.3%磷酸和1.3%表面活性劑10G(由ArchChemicals,Norwalk,Connecticut提供)水溶液的底涂層配方涂布在刷磨版和磷酸陽才及氧化的鋁金屬板上，并干燥至最終涂布重量為0.03g/m2。然后將按表I中描述配制的可成像層配方涂布在底涂布基材上，并經(jīng)干燥提供涂層覆蓋為1.6g/m2的可成像層。然后用由5.64%聚乙烯醇(88%水解的)，0.3%聚乙烯吡咯烷酮，3.76%異丙醇和90.3%水組成的溶液涂布干燥的可成像層，并干燥至涂層覆蓋為1.9g/m2。所得的可成像元件在FujiLuxelVx-9600制版機(jī)上成像，曝光量為30|iJ/cm2,并用KodakPolychromeGraphics955負(fù)性版顯影劑顯影。用所得的印刷版使用研磨墨水在KomoriSprint26印刷機(jī)上進(jìn)行印刷，在固體圖像開始顯示出磨損前進(jìn)行了40,000次印刷。實(shí)施例6:如下表I所述配制出可成像層配方并涂布在電化學(xué)磨版的石危酸陽極氧化的鋁上，該鋁用含氟化鈉的磷酸一鈉溶液進(jìn)行后處理。涂層經(jīng)干燥提供1.6g/m2的覆蓋。然后用由5.64%聚乙烯醇(88%水解的)，0.3%聚乙烯吡咯烷酮，3.76%異丙醇和90.3%水組成的溶液涂布可成〗象層，并干燥至涂層^隻蓋為1.9g/m、所得的可成^f象元件在FujiLuxelVx-%00制版才幾上成l象，曝光量為44nJ/cm2,并用KodakPolychromeGraphics955負(fù)性版顯影劑顯影。用所得的印刷版使用研磨墨水在Miehle印刷機(jī)上進(jìn)行印刷，在固體圖像開始顯示出磨損前進(jìn)行了13,000次印刷。實(shí)施例7:如下表I所述配制出可成像層配方并涂布在電化學(xué)磨版的石克酸陽極氧化的鋁上，該鋁用含氟化鈉的;舞酸一鈉溶液進(jìn)行后處理?？沙裳鞠髮咏?jīng)干燥提供1.6g/n^的覆蓋。然后用由5.64%聚乙烯醇(88%水解的)，0.3%聚乙烯吡咯烷酮，3.76%異丙醇和90.3%水組成的溶液涂布可成像層，并干燥至覆蓋為1.9g/m2。所得的可成像元件在FujiLuxelVx-9600制版機(jī)上成^f象，曝光量為22nJ/cm2,并用KodakPolychromeGraphics955負(fù)性版顯影劑顯影。用所得的印刷版使用研磨墨水在KomoriSprint26印刷機(jī)上進(jìn)行印刷，在固體圖像開始顯示出磨損前進(jìn)行了35,000次印刷。從印刷測試的第200張到最后一張?jiān)?0%色彩的印刷面積沒有變化產(chǎn)生。表I<table>tableseeoriginaldocumentpage35</column></row><table>實(shí)施例8:四個(gè)柯達(dá)藍(lán)紫色印刷版(由EastmanKodak公司提供)在FujiLuxelVx-9600制版機(jī)上成像，曝光量為31pJ/cm2,并加熱到約110。C的溫度。成像的版1用柯達(dá)藍(lán)紫色500顯影劑顯影，成像的版2用柯達(dá)PolychromeGraphics955負(fù)性板顯影劑顯影，成像的版3用柯達(dá)PolychromeGraphics980顯影劑顯影，成像的版4用柯達(dá)PolychromeGraphics二合一顯影劑顯影。每個(gè)印刷版被用來在Miehle印刷機(jī)上用研磨墨水進(jìn)行15,000次印刷，并在第500次和在最后一次印刷時(shí)測量50%色彩的印刷面積。結(jié)果示于下表II中。對版l,3和4的成像和顯影在本發(fā)明范圍之外。通過從"500次印刷后的面積百分比"中減去"1500次印刷后的面積百分比"然后將所得結(jié)果除以"500次印刷后的面積百分比"得出了相對點(diǎn)銳化數(shù)據(jù)百分比。表II<table>tableseeoriginaldocumentpage36</column></row><table>這些結(jié)果表明，經(jīng)實(shí)施本發(fā)明(對版2進(jìn)行顯影)提供了較使用毒性和腐蝕性更強(qiáng)的負(fù)性工作的顯影劑(對版1和3的顯影)更可接受的印刷結(jié)果，而用版4得到的結(jié)果是不合需要的。實(shí)施例9:通過將聚合物C(1.2g),低聚物A(0.83g),IR染料(0.094g)，Irganox1035(0.50g,在MEK中濃度為5%)，SR-399(1.28g),顏料951(0.34g)，PEGDA(0.28g),PhosmerPE(0.048g),Byk307(032g),和引發(fā)劑A(0.22g)溶解在PGME(29.9g)和MEK(15.0g)中配制成可成像層配方。用該配方涂布經(jīng)聚乙烯基磷酸后處理過的電化學(xué)磨版和硫酸陽極氧化的鋁基材，當(dāng)在旋轉(zhuǎn)鼓上于77°C下適當(dāng)干燥約2分鐘的干燥涂層重量約為1.3g/m2。將所得可成像元件置于CREOTrendsetter3244x照排機(jī)(Creo,伊斯曼-柯達(dá)公司的子公司加拿大Burnaby,BritishColumbia)上，并用830nmIR激光器在4.5W功率下和變化的鼓速度(250-60RPM)下曝光。然后將成#^的元件在25°C下用955Developer在盤中進(jìn)4亍顯影。獲得穩(wěn)定的固體密度圖像和清晰背景的最小能量約為70mJ/cm2。將所得印刷版在48°C恒溫保持5天后，其顯示出類似的數(shù)字速度和清晰的背景。將這種類型的另一個(gè)元件在120mJ/cm2下曝光，然后安裝在Miehle單張紙印刷^幾上，使用含1.5%;灰酸4丐的磨耗墨水，以進(jìn)行至少20,000次良好的印刷。權(quán)利要求1.一種提供成像的和顯影的元件的方法，包括A)使用激光器對負(fù)性工作的可成像元件進(jìn)行成像曝光，該元件包括基材，在其上具有可成像層來提供曝光和非曝光區(qū)域，所述可成像層包含可自由基聚合的組分，引發(fā)劑組合物，其能夠產(chǎn)生足夠的自由基，以在暴露于成像輻射時(shí)引發(fā)所述可自由基聚合的組分聚合，輻射吸收化合物，以及聚合粘合劑，和B)使所述經(jīng)成像曝光的元件與單相顯影劑接觸，僅除去所述非曝光區(qū)域而提供顯影的元件，其中所述顯影劑的pH小于12且包含a)包含含氮雜環(huán)的兩性表面活性劑，b)具有兩個(gè)或更多氮原子的兩性表面活性劑，或c)a)中的兩性表面活性劑和b)中的兩性表面活性劑。2.權(quán)利要求1的方法，其中所述兩性表面活性劑具有含氮的雜環(huán)，且所述顯影劑進(jìn)一步包含至少0.5重量％的千醇。3.權(quán)利要求l的方法，其中所述顯影劑的pH為6.5-9.5。4.權(quán)利要求l的方法，其中所述顯影劑不含硅酸鹽，氫氧化物，或兩者均不含。5.權(quán)利要求4的方法，其中所述顯影劑還不含有a)苯酚與環(huán)氧乙烷或環(huán)氧丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物，(b)具有6個(gè)或更少碳原子的烷撐二醇的酯和醚，以及(c)單-和二乙醇胺類。6.權(quán)利要求1的方法，其中所述顯影劑進(jìn)一步含有苯磺酸或萘磺酸表面活性劑，其含量至少為5重量％。7.權(quán)利要求1的方法，其中所述a)的兩性表面活性劑在雜環(huán)上含有兩個(gè)堿性氮原子，且其在所述顯影劑中的含量至少為2重量％。8.權(quán)利要求1的方法，其中所述兩性表面活性劑含有羧基和氮原子，其中氮原子數(shù)大于羧基數(shù)。9.權(quán)利要求l的方法，其中所述顯影劑的pH為6.5-9.5,所述兩性表面活性劑的含量為2-10重量％,所述顯影劑進(jìn)一步含有0.5-15重量％的千醇，5-15重量％的苯磺酸或萘磺酸鹽表面活性劑，且所述顯影劑中所有的所述兩性表面活性劑和苯磺酸或萘磺酸鹽表面活性劑與芐醇的重量比率至少為2.5:1。10.權(quán)利要求1的方法，其中所述a)的兩性表面活性劑具有連接至含氮雜環(huán)上的羧酸根。11.權(quán)利要求1的方法，其中所述成像的元件在步驟B之前進(jìn)行整體熱處理。12.權(quán)利要求'l的方法，其中所述成像曝光是使用^ax為650-1400nm的激光器發(fā)出的成像輻射進(jìn)行，且所述引發(fā)劑組合物含有對所述成像輻射響應(yīng)的化合物。13.權(quán)利要求12的方法，其中所述引發(fā)劑組合物包含由以下結(jié)構(gòu)(I)表示的二芳基碘錫硼酸鹽化合物其中X和Y獨(dú)立地為卣素，烷基，烷氧基，或環(huán)烷基，或者兩個(gè)或多個(gè)相鄰的X或Y基團(tuán)可組合而與相應(yīng)的苯環(huán)形成稠合環(huán)，p和q獨(dú)立地為0或l-5的整數(shù)，前提是p或q至少為l，且X和Y取代基或稠合環(huán)中的碳原子總數(shù)至少為6,以及Z—是由以下結(jié)構(gòu)(II)表示的有機(jī)陰離子<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>其中R"R2，R3,和R4獨(dú)立地為烷基，芳基，烯基，炔基，環(huán)烷基，或雜環(huán)基團(tuán)，或R!，R2,R3和R4中的兩個(gè)或多個(gè)可結(jié)合在一起而與硼原子形成雜環(huán)。14.權(quán)利要求1的方法，其中所述可成像元件進(jìn)一步包含分布在所述可成像層之上的氧不能滲透的頂涂層。15權(quán)利要求1的方法，進(jìn)一步包括使用所述成像曝光的和顯影的元件來在接受材料上印刷影像。16.由權(quán)利要求1的方法獲得的成像元件。17.權(quán)利要求16的成像元件，其為平版印刷板。18.權(quán)利要求1的方法，其中所述成像曝光是使用；収為250-450nm的成像輻射進(jìn)行的。19.權(quán)利要求18的方法，其中所述引發(fā)劑組合物包含六芳基二咪唑，以及所述輻射吸收化合物為2,4,5-三芳基P惡唑衍生物。20.權(quán)利要求18的方法，其中所述兩性表面活性劑具有含氮的雜環(huán)，且所述顯影劑進(jìn)一步包含至少0.5重量％的千醇，以及所述顯影劑的pH為6.5-9.5。21.權(quán)利要求18的方法，其中所述顯影劑不含硅酸鹽和氫氧化物，并且還不含有a)苯酚與環(huán)氧乙烷或環(huán)氧丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物，(b)具有6個(gè)或更少碳原子的烷撐二醇的酯和醚，以及(c)單-和二乙醇胺。22.權(quán)利要求18的方法，其中所述顯影劑的pH為6.5-9.5,所述兩性表面活性劑的含量為2-10重量％，所述顯影劑進(jìn)一步含有2-5重量％的千醇，5-15重量％的苯磺酸或萘磺酸鹽表面活性劑，且所述顯影劑中所有的所述兩性表面活性劑和苯磺酸或萘磺酸鹽表面活性劑與千醇的重量比率至少為2.5:1。全文摘要負(fù)性工作的可成像元件可在成像后用pH值低的有機(jī)基的單相顯影劑進(jìn)行顯影，該顯影劑的毒性和腐蝕性較低，且在使用后可更方便地對其進(jìn)行顯影。該顯影劑的pH值小于12，且包含a)含有含氮雜環(huán)的兩性表面活性劑，b)具有兩個(gè)或多個(gè)氮原子的兩性表面活性劑，或者c)a)的兩性表面活性劑和b)的兩性表面活性劑。文檔編號G03F7/32GK101632041SQ200780031821公開日2010年1月20日申請日期2007年8月20日優(yōu)先權(quán)日2006年8月31日發(fā)明者K·B·雷,P·R·韋斯特,S·A·貝克利,T·陶申請人:伊斯曼柯達(dá)公司