專利名稱：：感光性元件、抗蝕圖案的形成方法及印刷電路板的制造方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及感光性元件、抗蝕圖案的形成方法及印刷電路板的制造方法。
背景技術：
：以往，在印刷電路板的制造領域中，作為用于蝕刻或鍍覆等的抗蝕材料，廣泛使用感光性元件。感光性元件通常是通過在支持體上形成由感光性樹脂組合物構成的感光層后，在該感光層上形成保護膜來得到。感光性元件可以進行如下操作形成抗蝕圖案。首先，剝離感光性元件的保護膜后，將感光層層壓到基板(銅基板)上。接著，將制作有圖案的光工具(phototool)密合于支持體上，照射(曝光)紫外線等活性光線后，噴霧顯影液除去未曝光部。近年來，隨著印刷電路板的高密度化和高精細化，對感光性元件要求高析像度和高密合性化。另外，為了提高印刷電路板的生產(chǎn)率，要求感光性元件的高靈敏度化。為了迎合這些要求，進行過旨在改善感光性樹脂組合物的特性的試驗(參照專利文獻1)。另一方面，作為抗蝕圖案的形成方法，不使用光工具而直接描繪的所謂直接描繪曝光法受到了人們的注目。認為通過該直接描繪曝光法，可以實現(xiàn)高生產(chǎn)率且高析像度的抗蝕圖案的形成。直接描繪曝光法可以舉出激光直接描繪曝光法和DLP(DigitalLightProcessing:數(shù)字光處理)曝光法等。激光直4^描纟會曝光法中，可以實際利用激發(fā)出波長405nm的激光的，長壽命且高輸出的氮化鎵系藍色激光器光源。在直接描繪曝光法中通過利用這種短波長的激光，有望實現(xiàn)對于以往來說制造困難的高密度抗蝕圖案的形成。另外，DLP曝光法是應用了由德州儀器公司提倡的DLP系統(tǒng)的方法，已由Ball半導體公司提出，并已開始了應用該方法的曝光裝置的實用化。專利文獻1中記載的感光性元件是針對以波長365nm的光為中心的水4艮燈光源的全波長曝光來設計的。因此，對于直接描繪曝光法的曝光光(例如以波長405nm的光為中心的藍紫色半導體激光)的感光性元件的靈敏度低，難以充分提高生產(chǎn)率。因此，提出了含有六芳基二咪唑化合物和二茂鈦(titanocene)化合物作為自由基產(chǎn)生劑，并且含有二烷基氨基苯化合物作為增感色素的感光性元件(參照專利文獻2)。專利文獻1:日本特開平10-110008號公報專利文獻2:日本特開2002-296764號公報
發(fā)明內(nèi)容發(fā)明要解決的問題可是，即使是專利文獻2中記載的感光性元件，也不能說對直接描繪曝光法的曝光光具有充分的靈敏度。本發(fā)明的目的是提供對于直接描繪曝光法的曝光光具有充分高的靈敏度的感光性元件。解決問題的方案本發(fā)明的感光性元件是順次層疊支持體、感光層、保護膜而成，感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑以及最大吸收波長為370420nm的化合物的感光性樹脂組合物形成，保護膜的主要成分是聚丙烯。另外，本發(fā)明的感光性元件是順次層疊支持體、感光層、保護膜而成，感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑、以及下述通式(1)、(2)和/或(3)所示的增感劑的感光性樹脂組合物形成，保護膜的主要成分是聚丙歸。式(l)中，R各自獨立地表示碳原子數(shù)412的烷基；a、b和c各自獨立地表示使a、b和c的總和成為1~6的選自02的整數(shù)。式(2)中，W和R2各自獨立地表示碳原子數(shù)1~20的烷基、碳原子數(shù)5~12的環(huán)烷基、苯基、節(jié)基、碳原子數(shù)212的烷?；虮綍貂；?；R3、R4、R5、R6、R7、R8、119和111()(以下叫做"R3R1Q")各自獨立地表示氫原子、碳原子數(shù)112的烷基、卣原子、氰基、羧基、苯基、碳原子數(shù)2~6的烷氧基羰基或苯曱?；Ｌ荚訑?shù)120的烷基為，當烷基的碳原子數(shù)為2~12時，在主鏈碳原子間可以具有氧原子，也可以被羥基取代。碳原子數(shù)512的環(huán)烷基為，在環(huán)之中可以具有氧原子，也可以被羥基取代。R!和I^中的苯基可以被從碳原子數(shù)16的烷基、羥基、鹵原子、氰基、羧基、苯基、碳原子數(shù)16的烷氧基、苯氧基和碳原子數(shù)2-6的烷氧基羰基所組成的組中選出的一種以上基團和/或原子取代。千基可以被從碳原子數(shù)1~6的烷基、羥基、卣原子、氰基、羧基、苯基、碳原子數(shù)16的烷氧基、苯氧基和碳原子數(shù)26的烷氧基羰基所組成的組中選出的一種以上基團和/或原子取代。R1和R2中的苯曱?；梢员粡奶荚訑?shù)1~6的烷基、羥基、卣原子、氰基、羧基、苯基、碳原子數(shù)16的烷氧基、苯氧基和碳原子數(shù)2~6的烷氧基羰基所組成的組中選出的一種以上基團和/或原子取代。式(3)中，R"和R"各自獨立地表示氫原子或碳原子數(shù)13的烷基；R11、R12、R13、R"和R"各自獨立地表示可以具有取代基的碳原子數(shù)13的烷基、氫原子、三氟甲基、羧基、羧酸酯基、羥基或硫醇基；R11、R12、R13、R14、R15、R16和R17(以下叫做"R12~R17")也可以相互結合而形成環(huán)狀結構。本發(fā)明的感光性元件，通過具有如上所述的特定組合，可以對在3卯nm440nm的波長范圍內(nèi)具有峰的光具有非常高的靈敏度。在直接描繪曝光法中就是使用在390nm440nm的波長范圍內(nèi)具有峰的光來作為活性光線。至于能夠獲得上述效果的理由并不是十分明確，但本發(fā)明人等推測如下。以往的感光性樹脂組合物的最大吸收波長是在365nm附近，所以在3卯nm440nm的波長范圍內(nèi)具有峰的光就會位于感光性樹脂組合物的吸光度峰的接近峰底的部分。因此，如果照射的光的波長偏離數(shù)nm左右，其靈敏度就變化較大。另一方面，上述通式(1)、(2)或(3)所示的增感劑的最大吸收波長都在370nm420nm的波長范圍內(nèi)，所以即使對于照射光波長的數(shù)nm左右的偏離，也能夠更好地對應。另外，還考慮到，根據(jù)本發(fā)明的保護膜，充分抑制氧氣向感光層的透過，充分防止氧對光聚合引發(fā)劑的氧阻礙也是一個因素。但并不限定于這些因素。本發(fā)明的感光性元件優(yōu)選組合上述通式(1)、(2)和/或(3)所示的增感劑、作為光聚合引發(fā)劑的2，4，5-三芳基咪唑二聚物、以聚丙烯為主要成分的保護膜來使用。通過這樣的組合，即使是將藍色激光等激光用作為活性光線的情況，也能夠以充分高的靈敏度形成具有高密度性的抗蝕圖案。從而，即使是直接描繪曝光法，也能夠以良好的成品率制造高密度化和高精細化的印刷電路板。上述通式(1)中的R優(yōu)選分別獨立地為從正丁基、叔丁基、叔辛基和十二烷基所組成的組中選出的一種以上。另外，上述通式(1)所示的化合物更優(yōu)選為1-苯基-3-(4-叔丁基苯乙烯基)-5-(4-叔丁基苯基)吡唑啉。通過使用上述化合物作為通式(1)所示的增感劑，可以進一步提高感光性元件的靈敏度。優(yōu)選上述通式(2)中的Ri和W各自獨立地為碳原子數(shù)14的烷基，113~111()為氫原子。另外，上述通式(2)所示的化合物更優(yōu)選為9，10-二丁氧基蒽。通過使用上述化合物作為通式(2)所示的增感劑，可以進一步提高感光性元件的靈敏度。上述通式(3)所示的化合物優(yōu)選為7-二乙氨基-4-曱基香豆素。通過使用上述化合物作為通式(3)所示的增感劑，可以進一步提高感光性元件的靈敏度。作為光聚合引發(fā)劑，從提高密合性與靈敏度的角度考慮，優(yōu)選使用2,4，5-三芳基咪唑二聚物。保護膜中的直徑在80(im以上的魚眼的存在密度優(yōu)選為5個/1112以下。如果直徑在80|im以上的魚眼的存在密度超過5個/m2，則存在感光層的靈壽文度下降或者抗蝕圖案的密合性下降的傾向。這里，魚眼的存在密度是指保護膜的每單位面積(lm2)中存在的魚眼狀異物的個數(shù)。另外，保護膜的厚度優(yōu)選為5~50|im。如果保護膜的厚度小于5pm，則存在感光層的靈敏度下降或者抗蝕圖案的密合性下降的傾向，并且，在使用感光性元件時的剝離保護膜時，存在保護膜容易破裂的傾向。另一方面，如果厚度超過50pm，則存在感光性元件的價格提高的傾向。本發(fā)明的抗蝕圖案的形成方法具備邊從感光層上剝離感光性元件的保護膜，邊將感光層層疊在電路形成用基板上的層疊工序；對于被層疊的感光層的規(guī)定部分照射活性光線的曝光工序；對照射活性光線后的感光層進行顯影來形成抗蝕圖案的顯影工序。根據(jù)本發(fā)明的抗蝕圖案的形成方法，可以在電路形成用基板上以高的生產(chǎn)率形成高密度的抗蝕圖案。本發(fā)明的印刷電路板的制造方法具備邊從感光層上剝離感光性元件的保護膜，邊將感光層層疊在電路形成用基板上的層疊工序；對于被層疊的感光層的規(guī)定部分照射活性光線的曝光工序；對照射活性光線后的感光層進行顯影來形成抗蝕圖案的顯影工序；將形成有抗蝕圖案的電路形成用基板通過蝕刻或鍍覆來形成導體圖案的導體圖案形成工序。根據(jù)本發(fā)明的印刷電路板的制造方法，可以在電路形成用基板上以高的生產(chǎn)率形成高密度的導體圖案。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，可以提供對于直接描繪曝光法的曝光光，也能夠在不損害析像度和密合性的條件下具有充分高的靈敏度的感光性元件。圖1是表示本發(fā)明的感光性元件的適宜的實施方式的示意剖視圖。符號說明l是感光性元件，IO是支持體，20是感光層，30是保護膜。具體實施例方式以下，根據(jù)需要參照附圖對本發(fā)明的實施方式進行詳細說明。這里，在附圖中，對于相同構件采用相同符號，省略重復性說明。另外，上下左右等位置關系，如果沒有特殊說明，則按照附圖所示的位置關系。進而，附圖的尺寸比例并不限于圖中所示的比例。另夕卜，在本說明書中，"(曱基)丙烯酸"是指"丙烯酸"及與其對應的"曱基丙烯酸"，"(甲基)丙烯酸酯"是指"丙烯酸酯"及與其對應的"曱基丙烯酸酯"，"(曱基)丙烯酰氧基"是指"丙烯?；?及與其對應的"曱基丙烯酰氧基"，"(曱基)丙烯?；?是指"丙烯酰基"及與其對應的"曱基丙烯?；?。本發(fā)明的感光性元件是順次層疊支持體、感光層、保護膜而成，感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑以及上述通式(1)、(2)和/或(3)所示的增感劑的感光性樹脂組合物形成，保護膜的主要成分是聚丙烯。本發(fā)明的感光性元件，優(yōu)選用于被在390nm440nm的波長范圍內(nèi)具有峰的光曝光而形成抗蝕圖案的用途。根據(jù)使用在390nm440nm的波長范圍內(nèi)具有峰的光來作為活性光線的直接描繪曝光法等，可以容易地形成高密度的抗蝕圖案，本發(fā)明的感光性元件對于通過這種特定波長的光形成抗蝕圖案來說是具有充分高的靈敏度的。圖1是表示本發(fā)明的感光性元件的適宜的實施方式的示意剖視圖。圖1的感光性元件1是順次層疊支持體10、感光層20、保護膜30而成。下面，順次說明感光層20、保護膜30和支持體10。感光層20是由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑和增感劑的感光性樹脂組合物形成的層。作為粘合劑聚合物，可以舉出例如丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、酰胺系樹脂、酰胺環(huán)氧系樹脂、醇酸系樹脂及酚系樹脂等。這些可以單獨使用或者組合2種以上來使用。其中，從堿顯影性優(yōu)異的角度考慮，優(yōu)選丙烯酸系樹脂。粘合劑聚合物例如可以通過使聚合性單體進行自由基聚合來制造。作為該聚合性單體，可以舉出例如苯乙烯、乙烯基曱苯、a-曱基苯乙烯等在a-位或芳香環(huán)上被取代的能夠聚合的苯乙烯衍生物、雙丙酮丙烯酰胺等丙烯酰胺，丙烯腈、乙烯基正丁基醚等乙烯醇酯類、(曱基)丙烯酸烷基酯、(曱基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸二曱氨基乙酯、(曱基)丙烯酸二乙氨基乙酯、(曱基)丙烯酸縮水甘油酯、2,2,2-三氟乙基(曱基)丙烯酸酯、2，2，3,3-四氟丙基(曱基)丙烯酸酯、(曱基)丙烯酸、a-溴(曱基)丙烯酸、a-氯(甲基)丙烯酸、P-呋喃基(曱基)丙烯酸、p-苯乙烯基(曱基)丙烯酸、馬來酸、馬來酸酐、馬來酸單甲酯、馬來酸單乙酯以及馬來酸單異丙酯等馬來酸單酯、富馬酸、肉桂酸、a-氰基肉桂酸、衣康酸、巴豆酸、丙炔酸等。這些聚合性單體可以單獨使用，或者組合2種以上來使用。作為上述(曱基)丙烯酸烷基酯，可以舉出例如下述通式(4)所示的化合物、這些化合物的烷基上取代有羥基、環(huán)氧基或卣素基團等的化合物等。F化通式(4)中，R"表示氬原子或甲基，R"表示碳原子數(shù)l12的烷基。作為碳原子數(shù)112的烷基，可以舉出例如曱基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基及它們的結構異構體。作為上述通式(4)所示的化合物，具體地，可以舉出例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(曱基)丙烯酸丙酯、(曱基)丙烯酸丁酯、(曱基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(曱基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(曱基)丙烯酸2-乙基己酯、(曱基)丙烯酸壬酯、(曱基)丙烯酸癸酉旨、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯等。這些可以單獨使用或者將2種以上組合來使用。為了使堿顯影性更加良好，粘合劑聚合物優(yōu)選含有羧基。例如通過使具有合物。另外，從進一步提高撓性的角度考慮，粘合劑聚合物優(yōu)選含有苯乙烯或苯乙烯衍生物作為聚合性單體。使用苯乙烯或苯乙烯衍生物作為共聚成分時，為了使密合性和剝離特性都良好，則苯乙烯或苯乙烯衍生物的含量，以共聚成分總量為基準，優(yōu)選為0.130質(zhì)量％，更優(yōu)選為128質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為1.5~27質(zhì)量％。如果該含量小于0.1質(zhì)量％,則具有密合性降低的傾向，如果超過30質(zhì)量％,則具有剝離片增大、剝離時間變長的傾向。粘合劑聚合物優(yōu)選分散度(重均分子量/數(shù)均分子量)為1.06.0，更優(yōu)選為1.0~3.0。如果分散度超過6.0,則具有密合性與析像度下降的傾向。這里，本發(fā)明的重均分子量和數(shù)均分子量是通過凝膠滲透色譜(GPC)測定的、使用將標準聚苯乙烯作為標準試樣進行換算的值的數(shù)值。粘合劑聚合物的重均分子量(通過凝膠滲透色譜(GPC)測定的標準聚苯乙烯換算值)優(yōu)選為20000~300000，更優(yōu)選為40000150000，特別優(yōu)選為40000-80000。如果重均分子量小于20000，則具有耐顯影液性降低的傾向，如果超過300000，則具有顯影時間變長的傾向。粘合劑聚合物可以單獨使用1種聚合物，或者組合2種以上聚合物來使用。重均分子量互不相同的2種以上的聚合物、分散度互不相同的2種以上的聚合物等的組合。粘合劑聚合物的酸值優(yōu)選為100~500mgKOH/g，更優(yōu)選為100~300mgKOH/g。如果酸值小于lOOmgKOH/g,則具有顯影時間變長的傾向，如果超過500mgKOH/g,則具有光固化后的感光層的耐顯影液性降低的傾向。光聚合性化合物，只要是具有一個以上的乙烯性不飽和鍵的化合物即可，例如可以舉出雙酚A系(曱基)丙烯酸酯化合物。作為雙酚A系(曱基)丙烯酸酯化合物，例如優(yōu)選舉出下述通式(5)所示的化合物。[化學式3]式(5)中，R"和R"各自獨立地表示氬原子或曱基。X和Y各自獨立地表示碳原子數(shù)26的亞烷基。作為碳原子數(shù)26的亞烷基(alkylene),可以舉出1，2-亞乙基、1,3-亞丙基、亞異丙基、亞丁基、亞戊基和亞己基等。其中，優(yōu)選X和Y各自獨立地為1，2-亞乙基或1,3-亞丙基，更優(yōu)選都是1，2-亞乙基。p和q是按照使(p+q)成為4~40的條件選出的正整數(shù)，優(yōu)選為634，更優(yōu)選為8~30，進一步優(yōu)選為828,特別優(yōu)選為8~20，非常優(yōu)選為816,極其優(yōu)選為8~12。如果(p+q)小于4，則會有與粘合劑聚合物相溶性降低的傾向，如果(p+q)超過40,則親水性增加而會有固化膜的吸水率增高的傾向。Z1和Z"可以各自獨立地舉出卣原子、碳原子數(shù)120的烷基、碳原子數(shù)310的環(huán)烷基、碳原子數(shù)618的芳基、苯甲酰曱基、氨基、烷基的碳原子數(shù)為1~20的單烷基氨基或二烷基氨基、硝基、氰基、羰基、硫醇基、碳原子數(shù)110的烷基硫醇基、烯丙基、羥基、碳原子數(shù)1~20的羥基烷基、羧基、烷基的碳原子數(shù)為110的羧基烷基、烷基的碳原子數(shù)為l-10的?；?、碳原子數(shù)120的烷氧基、碳原子數(shù)1~20的烷氧基羰基、碳原子數(shù)2~10的烷基羰基、碳原子數(shù)2~10的烯基、碳原子數(shù)2~10的N-烷基氨基曱?；蚝须s環(huán)的基團和被這些取代基取代了的芳基等。上述取代基也可以形成縮環(huán)。另外，這些取代基中的氫原子也可以被卣原子等上述取代基等所取代。另外，當取代基的數(shù)目分別為2以上時，2個以上的取代基可以各自相同或不同。s和t各自獨立地表示04的整數(shù)。作為上述通式(5)所示的化合物，可以舉出例如2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷、2，2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基)丙烷、2，2-雙(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丁氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基)苯基)丙烷等雙酚A系(曱基)丙烯酸酯化合物等。這些可以單獨或組合2種以上來使用。作為上述2,2-雙(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷，可以舉出例如2，2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基三乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基四乙氧基)苯基)丙烷、2，2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基五乙llJO苯基)丙烷、2，2-雙(4-((甲基)丙烯酰氧基六乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基七乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基八乙氧基)苯基)丙烷、2，2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基九乙氧基)苯基)丙烷、2，2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基十乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯酰氧基十一乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基十二乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基十三乙氧基)苯基)丙烷、2，2-雙(4-((甲基)丙烯酰氧基十四乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷、2，2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基十六乙氧基)苯基)丙烷等。這些可以單獨使用l種或組合2種以上來使用。其中，2，2-雙(4-(曱基丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷，作為BPE-500(新中村化學工業(yè)抹式會社制造，制品名)可以商業(yè)地購入，2，2-雙(4-(曱基丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷，作為BPE-1300(新中村化學工業(yè)林式會社制造，制品名)可以商業(yè)地購入。這些可以單獨使用l種或組合2種以上來使用。作為上述2，2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基)丙烷，可以舉出例如2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基二丙氧基)苯基)丙烷、2，2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基三丙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基四丙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基五丙氧基)苯基)丙烷、2，2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基六丙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基七丙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基八丙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基九丙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯酰氧基十丙氧基)苯基)丙烷、2，2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基十一丙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基十二丙氧基)苯基)丙烷、2，2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基十三丙氧基)苯基)丙烷、2，2-雙(4-((甲基)丙烯酰氧基十四丙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基十五丙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基十六丙氧基)苯基)丙烷等。這些可以單獨使用l種或組合2種以上來使用。作為上述2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基)苯基)丙烷，可以舉出例如2，2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基二乙氧基八丙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基四乙氧基四丙氧基)苯基)丙烷、2，2-雙(4-((曱基)丙烯酰氧基六乙氧基六丙氧基)苯基)丙烷等。這些可以單獨使用1種或組合2種以上來使用。作為上述雙酚A系(曱基)丙烯酸酯化合物，還可以使用其衍生物。作為所述的衍生物，可以舉出對雙酚A的二環(huán)氧化物加成了丙烯酸的化合物。作為商品可以商業(yè)地購入Biscoat#540(大敗有機化學工業(yè)林式會社制造，制品名)。這些可以單獨使用1種或組合2種以上來使用。作為雙酚A系(曱基)丙烯酸酯化合物以外的光聚合性化合物，還可以舉出例如對多元醇反應a,p-不飽和羧酸而得到的化合物、對含有縮水甘油基的化合物反應a，p-不飽和羧酸而得到的化合物、具有氨酯鍵的(曱基)丙烯酸酯化合物等氨酯單體、壬基苯基二環(huán)氧乙烯(曱基)丙烯酸酯、Y-氯-(3-羥基丙基-卩，-(曱基)丙烯酰氧乙基鄰苯二曱酸酯、(3-羥基乙基-|3，-(甲基)丙烯酰氧乙基鄰苯二甲酸酯、(3-羥基丙基-(3，-(甲基)丙烯酰氧乙基鄰苯二曱酸酯、(曱基)丙烯酸烷基酯和EO改性壬基苯基(曱基)丙烯酸酯等。這些可以單獨使用，或者組合2種以上來使用。作為光聚合性化合物，優(yōu)選并用這些化合物。作為上述a,p-不飽和羧酸，可以舉出(曱基)丙烯酸等。作為上述含有縮水甘油基的化合物，可以舉出例如三羥曱基丙烷三縮水甘油醚三(曱基)丙烯酸酯、2，2-雙(4-(曱基)丙烯酰氧-2-羥基-丙基氧)苯基等。這些可以單獨〗吏用，或者組合2種以上來^f吏用。作為上述氨酯單體，可以舉出例如在(3位具有OH基的(曱基)丙烯酸系單體與異佛爾酮二異氰酸酯、2，6-曱苯二異氰酸酯、2,4-曱苯二異氰酸酯、1,6-六亞曱基二異氰酸酯等二異氰酸酯化合物的加成反應物，三((曱基)丙烯酰氧基四乙二醇異氰酸酯)六亞曱基異氰尿酸酯，EO改性氨酯二(甲基)丙烯酸酯，EO、PO改性氨酯二(甲基)丙烯酸酯等。這里，EO表示表示環(huán)氧乙烷，EO改性的化合物具有環(huán)氧乙烷基的嵌段結構。另外，PO表示環(huán)氧丙烷，PO改性的化合物具有環(huán)氧丙烷基的嵌段結構。作為EO改性氨酯二(曱基)丙烯酸酯，可以舉出例如新中村化學工業(yè)株式會社制造的制品名UA-ll等。另外，作為EO、PO改性氨酯二(曱基)丙烯酸酯，可以舉出例如新中村化學工業(yè)林式會社制造的制品名UA-13等。作為上述(曱基)丙烯酸烷基酯，可以舉出例如(曱基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(曱基)丙烯酸丁酯和(曱基)丙烯酸2-乙基己酯等。這些可以單獨使用或者將2種以上組合來使用。作為上述的對多元醇反應a，(3-不飽和羧酸而得到的化合物，可以舉出例如1，2-亞乙基數(shù)為214的聚乙二醇二(曱基)丙烯酸酯、1,3-亞丙基數(shù)為2~14的聚丙二醇二(曱基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(曱基)丙烯酸酯、三羥曱基丙烷三(曱基)丙烯酸酯、三羥曱基丙烷乙氧基三(曱基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二乙氧基三(曱基)丙烯酸酯、三羥曱基丙烷三乙氧基三(曱基)丙烯酸酯、三羥曱基丙烷四乙氧基三(曱基)丙烯酸酯、三羥曱基丙烷五乙氧基三(曱基)丙烯酸酯、四羥曱基曱烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥曱基曱烷四(曱基)丙烯酸酯、1,3-亞丙基數(shù)為2~14的聚丙二醇二(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(曱基)丙烯酸酯和二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。這些可以單獨使用或者將2種以上組合來使用。光聚合引發(fā)劑只要是51發(fā)或加速光聚合性化合物的光聚合的化合物即可。作為光聚合引發(fā)劑，可以舉出例如4,4，-雙(二乙基胺)二苯甲酮、二苯甲酮、2-節(jié)基-2-二曱氨基-l-(4-嗎啉代苯基)-丁酮-l、2-甲基-l-[4-(曱疏基)苯基]-2-嗎啉代-丙酮-l等芳香族酮；烷基蒽醌等醌類；苯偶因、烷基苯偶因等苯偶因化合物；苯偶因烷基醚等苯偶因醚化合物；聯(lián)苯?？s二甲醇等聯(lián)苯酰衍生物；2-(鄰氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(鄰氯苯基)-4，5-二(曱氧基苯基)咪唑二聚物、2-(鄰氟苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(鄰曱氧基苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚物、2-(對曱氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物等2,4,5-三芳基咪唑二聚物；9-苯基吖啶、1,7-雙(9,9，-吖啶基)庚烷等吖咬衍生物；N-苯基甘氨酸、N-苯基甘氨酸衍生物等。2,4,5-三芳基咪唑的兩個芳基取代基可以相同而成為對稱的化合物，也可以不同而成為非對稱的化合物。這些光聚合引發(fā)劑可以單獨或組合2種以上來使用。作為光聚合引發(fā)劑，從密合性與靈敏度的角度考慮，更優(yōu)選2，4，5-三芳基咪唑二聚物。增感劑是可以有效利用所使用的活性光線的吸收波長的物質(zhì)。作為增感劑，優(yōu)選最大吸收波長為370nm420nm的化合物。在本發(fā)明中，通過使用這種增感劑，對于直接描繪曝光法的曝光光能夠具有充分高的靈敏度。如果增感劑的最大吸收波長小于370nm,則具有對直接描繪曝光光的靈敏度下降的傾向，如果在420nm以上，則具有即使在黃色光環(huán)境下穩(wěn)定性也下降的傾向。作為增感劑，可以舉出噻噸酮系化合物、下述通式(1)、(2)或(3)所示的化合物。這些可以單獨〗吏用或組合2種以上來使用。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage18</formula>式(l)中，R各自獨立地表示碳原子數(shù)412的烷基；a、b和c各自獨立地表示使a、b和c的總和成為1~6的選自02的整數(shù)。同一分子中的多個R可以各自相同或不同。碳原子數(shù)412的烷基可以是直鏈狀也可以是支鏈狀，優(yōu)選為正丁基(以下有時也叫做"丁基")、叔丁基、叔辛基和十二烷基。作為通式(1)所示的化合物的具體例，可以舉出1-(4-叔丁基-苯基)-3-苯乙烯基-5-苯基-吡唑啉、1-苯基-3-(4-叔丁基-苯乙烯基)-5-(4-叔丁基-苯基)-吡唑啉、1，5-雙-(4-叔丁基-苯基)-3-(4-叔丁基-苯乙烯基)-吡唑啉、1-(4-叔辛基-苯基)-3-苯乙烯基-5-苯基-吡唑啉、1-苯基-3-(4-叔辛基-苯乙烯基)-5-(4-叔辛基-苯基)-吡唑啉、1,5-雙-(4-叔辛基-苯基)-3-(4-叔辛基-苯乙烯基)-吡唑啉、1-(4-十二烷基-苯基)-3-苯乙烯基-5-苯基-吡唑啉、l畫苯基-3-(4-十二烷基-苯乙烯基)-5-(4-十二烷基-苯基)-吡唑啉、1-(4-十二烷基-苯基)-3-(4-十二烷基-苯乙烯基)-5-(4-十二烷基-苯基)-吡唑啉、1-(4-叔辛基畫苯基)_3-(4-叔丁基-苯乙烯基)-5-(4-叔丁基-苯基)-吡唑啉、1-(4-叔丁基-苯基)-3-(4-叔辛基-苯乙烯基)-5-(4-叔辛基-苯基)-吡唑啉、1-(4-十二烷基-苯基)-3-(4-叔丁基-苯乙烯基)-5-(4-叔丁基-苯基)-吡唑啉、1-(4-叔丁基-苯基)-3-(4-十二烷基-苯乙烯基)-5-(4-十二烷基-苯基)-吡唑啉、1-(4-十二烷基-苯基)-3-(4-叔辛基-苯乙烯基)-5-(4-叔辛基-苯基)-吡唑啉、1-(4-叔辛基-苯基)-3-(4-十二烷基-苯乙烯基)-5-(4-十二烷基-苯基)-吡唑啉、1-(2,4-二正丁基-苯基)-3-(4-十二烷基-苯乙烯基)-5-(4-十二烷基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(3，5-二叔丁基-苯乙烯基)-5-(3,5-二叔丁基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(2,6-二叔丁基-苯乙烯基)-5-(2,6-二叔丁基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(2,5-二叔丁基-苯乙烯基)-5-(2,5-二叔丁基-苯基)-吡唑啉、1_苯基_3_(2，6-二正丁基-苯乙烯基)-5-(2,6-二正丁基-苯基)-吡唑啉、1-(3，4-二叔丁基-苯基)-3-苯乙烯基-5-苯基-吡唑啉、1-(3，5-二叔丁基-苯基)-3-苯乙烯基-5-苯基-吡唑啉、1-(4-叔丁基-苯基)-3-(3，5-二叔丁基-苯乙烯基)-5-(3,5-二叔丁基-苯基)-吡唑啉和1-(3，5-二叔丁基-苯基)-3-(3,5-二叔丁基-苯乙烯基)-5-(3，5-二叔丁基-苯基)-吡唑啉。這些可以單獨或組合2種以上來使用。[化合物5]式(2)中，R1和R2各自獨立地表示碳原子數(shù)1~20的烷基、碳原子數(shù)5~12的環(huán)烷基、苯基、千基、碳原子數(shù)212的烷?；虮綍貂；?；113~111()各自獨立地表示氫原子、碳原子數(shù)112的烷基、卣原子、氰基、羧基、苯基、碳原子數(shù)26的烷氧基羰基或苯曱?；?。碳原子數(shù)120的烷基為，當烷基的碳原子數(shù)為212時，在主鏈碳原子間可以具有氧原子，也可以被羥基取代。碳原子數(shù)5~12的環(huán)烷基為，在環(huán)之中可以具有氧原子，也可以被羥基取代。W和RS中的苯基也可以被從碳原子數(shù)16的烷基、羥基、卣原子、氰基、羧基、苯基、碳原子數(shù)16的烷氧基、苯氧基和碳原子數(shù)2~6的烷氧基羰基所組成的組中選出的一種以上基團和/或原子取代。芐基也可以被從碳原子數(shù)16的烷基、羥基、鹵原子、氰基、羧基、苯基、碳原子數(shù)1~6的烷氧基、苯氧基、碳原子數(shù)26的烷氧基羰基所組成的組中選出的一種以上基團和/或原子取代。R1和R2中的苯曱?；部梢员粡奶荚訑?shù)16的烷基、羥基、囟原子、氰基、羧基、苯基、碳原子數(shù)16的烷氧基、苯氧基、碳原子數(shù)26的烷氧基羰基所組成的組中選出的一種以上基團和/或原子取代。作為W和R2，適宜舉出例如曱基、乙基、丙基、丁基、戊基和己基等。作為R/和I^的組合，可以舉出例如乙基之間的組合、丙基之間的組合、丁基之間的組合。作為R^R10，適宜舉出例如氫原子、曱基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、乙氧基羰基、羥基乙氧基羰基或苯氧基等。作為RLR"的組合，可以舉出其全部為氫原子；其中的任一個為曱基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、乙氧基羰基、羥基乙氧基羰基或苯氧基而其余全部為氫原子；其中的任意2個為甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、乙氧基羰基、羥基乙氧基羰基、苯氧基或這些的組合而其余全部為氫原子等。作為通式(2)所示的化合物的具體例，可以舉出9，10-二曱氧基蒽、9,10-二乙氧基蒽、9,10-二丁氧基蒽、9，10-二甲氧基-2-乙基蒽。其中，從能夠進一步提高感光性元件的靈敏度的角度考慮，適宜舉出9,10-二曱氧基蒽、9，10-二乙氧基蒽和9,10-二丁氧基蒽。式(3)中，1116和1117各自獨立地表示氫原子或碳原子數(shù)13的烷基；R11、R12、R13、R"和R"各自獨立地表示可以具有取代基的碳原子數(shù)13的烷基、氫原子、三氟曱基、羧基、羧酸酯基、羥基或硫醇基；R11、R12、R13、R14、R15、R"和R卩也可以相互結合而形成環(huán)狀結構。作為通式(3)所示的化合物的具體例，可以舉出7-氨基-4-曱基香豆素、7-二甲氨基-4-甲基香豆素、7-二甲氨基-4-三氟甲基香豆素、7-曱氨基-4-甲基香豆素、7-二乙氨基-4-曱基香豆素、7-乙氨基-4-曱基香豆素、4，6-二曱基-7-乙氨基香豆素、4，6-二曱基-7-乙氨基香豆素、4,6-二甲基-7-二乙氨基香豆素、4,6-二曱基-7-二曱氨基香豆素、4，6-二乙基-7-二乙氨基香豆素、4，6-二乙基-7-二曱氨基香豆素、7-二曱氨基環(huán)五[c]香豆素、7-氨基環(huán)五[c]香豆素、7-二乙氨基環(huán)五[c]香豆素、2,3,6，7,10，11-六酐-1H,5H-環(huán)五[3,4][1]苯并p比喃酰胺[6,7,8-ij奎喚12(9H)-酮、7-二乙氨基-5，,7，-二曱氧基-3,3，-羰基雙香豆素、3,3，-羰基雙[7-(二乙氨基)香豆素]、7-二乙氨基-3-噻吩并氧基(千工乂《i>A)香豆素等。其中，從能夠進一步提高感光性元件的靈敏度的角度考慮，適宜舉出7-二乙氨基-4-曱基香豆素等。這些可以單獨或組合2種以上來使用。從能夠進一步提高靈壽文度的角度考慮，上述增感劑優(yōu)選與作為光聚合引發(fā)劑的2，4，5-三芳基咪唑二聚物組合使用。粘合劑聚合物的配合量，相對于粘合劑聚合物和光聚合性化合物的總量100質(zhì)量份，優(yōu)選為4080質(zhì)量份，更優(yōu)選為4570質(zhì)量^f分。如果該配合量小于40質(zhì)量份，則光固化物容易變脆，當用作感光性元件時，會有涂膜性變差的傾向。另一方面，如果超過80質(zhì)量份，則會有光敏度不充分的傾向。光聚合性化合物的配合量，相對于粘合劑聚合物和光聚合性化合物的總量IOO質(zhì)量份，優(yōu)選為2060質(zhì)量份，更優(yōu)選為3060質(zhì)量份。如果該配合量小于20質(zhì)量份，則會有掩蔽性不充分的傾向，如果超過60質(zhì)量份，則會有光固化物變脆的傾向。光聚合引發(fā)劑的配合量，相對于粘合劑聚合物和光聚合性化合物的總量IOO質(zhì)量份，優(yōu)選為0.520質(zhì)量份，更優(yōu)選為1.010質(zhì)量份，特別優(yōu)選為1.5-7質(zhì)量份。如果該配合量小于0.5質(zhì)量份，則會有光敏度不充分的傾向，如果超過20質(zhì)量份，則在曝光時，具有在組合物的表面的吸收增大、內(nèi)部的光固化不充分的傾向。增感劑的配合量，相對于粘合劑聚合物和光聚合性化合物的總量100質(zhì)量份，優(yōu)選為0.015質(zhì)量份，更優(yōu)選為0.0.3-3質(zhì)量份，特別優(yōu)選為0.05-2質(zhì)量份。如果該配合量小于0.01質(zhì)量份，則會有光敏度不充分的傾向，如果超過5質(zhì)量份，則會有析像度不充分的傾向。感光性樹脂組合物中，根據(jù)需要可以含有孔雀綠等染料、三溴苯砜、隱色結晶紫等光顯色劑、熱顯色防止劑、對曱苯磺酰胺等增塑劑、顏料、填充劑、消泡劑、阻燃劑、穩(wěn)定劑、密合性賦予劑、流平劑、剝離促進劑、抗氧化劑、香料、成像劑、熱交聯(lián)劑等。這些的配合量，相對于粘合劑聚合物和光聚合性化合物的總量100質(zhì)量份，優(yōu)選各自含有0.0120質(zhì)量份左右。這些可以單獨使用1種或組合2種以上來使用。上述感光性樹脂組合物的各成分及其配合量，調(diào)節(jié)成能夠通過在390nm440nm的波長范圍內(nèi)具有峰的活性光線進行固化即可。具備由這種感光性樹脂組合物構成的感光層20的感光性元件1，能夠通過在390nm440nm的波長范圍內(nèi)具有峰的活性光線容易地形成高密度的抗蝕圖案。感光層20的厚度可以根據(jù)用途來適當設定，例如優(yōu)選使干燥后的厚度成為l-lOO^tm,更優(yōu)選150pm。如果該厚度小于lpm,則會有難以涂布成期望厚度的傾向，另一方面，如果超過100pm，會有抗蝕圖案的密合性和析像度下降的傾向。感光層20對波長365nm的紫外線的光透過率優(yōu)選為5~75%，更優(yōu)選為760%，特別優(yōu)選為10~40%。如果該透過率小于5%,則具有抗蝕圖案的密合性下降的傾向；如果超過75%,則具有抗蝕圖案的析像度下降的傾向。上述光透過率可以^使用UV分光計來測定，作為UV分光計可以舉出例如日立制作所抹式會社制造的228A型W光束分光光度計等。作為支持體10,可以舉出例如銅、銅系合金、鎳、鉻、鐵、不銹鋼等鐵系合金等(優(yōu)選銅、銅系合金、鐵系合金)的金屬板，或者，聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、聚酯等具有耐熱性和耐溶劑性的聚合物膜等。支持體10的厚度優(yōu)選為5~25pm，更優(yōu)選為820nm，特別優(yōu)選為1016|im。如果該厚度小于5pm，則在顯影前剝離支持體時，具有支持體容易破裂的傾向，另一方面，如果超過25pm，則具有抗蝕圖案的析像度降低的傾向。支持體10的霧度優(yōu)選為0.001-5.0，更優(yōu)選為0.0012.0,特別優(yōu)選為0.011.8。如果該霧度超過5.0,則具有抗蝕圖案的析像度降低的傾向。上述霧度可以采用按照JISK7105測定的值，可以用例如NDH-1001DP(日本電色工業(yè)抹式會社制造，商品名)等市售的濁度計等測定。保護膜30是以聚丙烯為主要成分的膜，優(yōu)選為聚丙烯膜，更優(yōu)選為雙軸取向性的聚丙烯膜。作為這種聚丙烯膜，可以商業(yè)地購入例如"pp型PT"(信越薄膜公司制造)、"特雷凡(卜k77*7)YK57"(東麗抹式會社制造)、"阿魯凡(7VL777)E200系列"(王子制紙抹式會社制造)等。保護膜中的直徑在80jim以上的魚眼的數(shù)目優(yōu)選為5個/!112以下。這里，魚眼是指，在將膜材料熱熔融、混煉、擠出，通過延伸法或澆鑄法制造成膜時，材料的未熔化物和劣化物等被帶到膜中的物質(zhì)。另外，魚眼的存在和大小可以用例如光學顯微鏡、接觸型表面粗糙度儀或掃描電子顯微鏡確認。這里，魚眼的直徑(40是指最大直徑。通常，魚眼的大小為，直徑為約10^mlmm，從膜表面的高度為約l~50|im。通過使用直徑在80pm以上的魚眼的存在密度為5個/m2以下的膜，能夠?qū)⒏泄鈱拥撵`敏度更確實地保持在充分的水平上。另外，能夠更確實且更容易地形成具有充分的密合性的抗蝕圖案。如果魚眼的存在密度超過5個/m2,則具有感光層的靈敏度下降或抗蝕圖案的密合性下降的傾向。這種保護膜可以通過例如在制造膜時，設置熱熔融原料樹脂后將其過濾的工序等方法來制造。另外，保護膜的在膜長度方向上的拉伸強度優(yōu)選為13MPa以上，更優(yōu)選為13100MPa,特別優(yōu)選為14100MPa,非常優(yōu)選為15100MPa,極其優(yōu)選為16100MPa。如果該拉伸強度小于13MPa,則在層壓時具有保護膜容易破裂的傾向。另外，膜寬度方向上的拉伸強度優(yōu)選為9MPa以上，更優(yōu)選為9100MPa,特別優(yōu)選為10100MPa，非常優(yōu)選為11100MPa，極其優(yōu)選為12100MPa。如果該拉伸強度小于9MPa,則在層壓時具有保護膜容易破裂的傾向。上述拉伸強度可以按照JISC2318-1997(5.3.3)測定，可以用例如天喜隆(TENSILON)(東洋寶德溫(Baldwin)林式會社制造，商品名)等市售的拉伸強度試驗機等測定。保護膜的厚度優(yōu)選為550pm。如果該厚度小于5pm,則具有感光層的靈敏度下降或抗蝕圖案的密合性降低的傾向，并且在使用感光性元件時的剝離保護膜時，具有保護膜容易破裂的傾向。另一方面如果超過50pm,則具有感光性元件的價格增高的傾向。支持體10及保護膜30,也可以根據(jù)需要實施表面處理。但是，在使用感光性元件1時，支持體10及保護膜30需要能夠從感光層20上除去，所以優(yōu)選不至于使除去變得困難的程度的表面處理。另外，支持體10及保護膜30，也可以根據(jù)需要實施防靜電處理。感光性元件l，例如可以直接以平板狀的形態(tài)儲存，或者也可以巻繞到圓筒狀等的巻芯上，以巻狀的形態(tài)儲存。作為巻芯，只要是以往使用的物質(zhì)即可，并無特別限制，可以舉出例如聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚氯乙烯樹脂、ABS樹脂(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物)等塑料等。在儲存時，優(yōu)選巻繞成支持體IO在最外側。另外，在被巻繞成巻狀的感光性元件1(感光性元件巻)的端面，出于保護端面的目的，優(yōu)選設置端面隔板，進而從耐熔邊的觀點考慮，優(yōu)選設置防濕端面隔板。另外，在捆包感光性元件l時，優(yōu)選用透濕性小的黑色薄片包覆來包裝。作為制造感光性元件1的方法，可以舉出例如在支持體IO上涂布將感光性樹脂組合物溶解到規(guī)定的溶劑而得到的涂布液后，除去溶劑來形成感光層20,接著在感光層20上層疊上述的保護膜30的方法。作為上述溶劑，可以舉出例如甲醇、乙醇、丙酮、曱基乙基酮、曱基溶纖劑、乙基溶纖劑、曱苯、N,N-二曱基曱酰胺、丙二醇單曱基醚等溶劑或它們的混合溶劑。另外，涂布液是，優(yōu)選按照使固體成分成為3060質(zhì)量°/。的方式來將感光性樹脂組合物溶解在上述溶劑中。作為涂布方法，可以舉出例如輥涂、逗號涂布、凹版涂布、氣刀涂布、模涂和棒涂等方法。另外，溶劑的除去是例如可以通過加熱來進行，此時的加熱溫度優(yōu)選為約70~150°C,加熱時間優(yōu)選為約530分鐘。作為在感光層20上層疊保護膜30的方法，可以舉出例如邊在感光層20上供給聚丙烯膜邊用輥加壓的方法。接著，說明本實施方式的抗蝕圖案的形成方法。本實施方式的抗蝕圖案的形成方法具備邊從感光層上剝離感光性元件的保護膜，邊將感光層層疊在電路形成用基板上的層疊工序；對于被層疊的感光層的規(guī)定部分照射活性光線的曝光工序；對照射活性光線后的感光層進行顯影來形成抗蝕圖案的顯影工序。這里，"電路形成用基板"是指具備絕緣層和形成于該絕緣層上的導體層的基板。作為在電路形成用基板上層疊感光層的方法，可以舉出例如在除去聚丙烯膜后，邊加熱感光層邊壓接到電路形成用基板上來進行層疊的方法等。另夕卜，從提高密合性和跟隨性的角度考慮，優(yōu)選在減壓下層疊。感光層的加熱溫度優(yōu)選為7013(TC,壓接壓力優(yōu)選為0.11.0MPa左右(l-10kgf/cn^左右)，但這些條件并無特別限制。另外，如果將感光層加熱至70~130°C,則沒有必要預先對電路形成用基板進行預熱處理，但是為了進一步提高層疊性，也可以進行電路形成用基板的預熱處理。作為對感光層的規(guī)定部分照射活性光線將曝光部光固化的方法，可以舉出例如對于在電路形成用基板上完成層疊的感光層，通過被稱作原圖的負片或正片掩模圖案來圖像狀地照射活性光線，將曝光部光固化的方法。此時，存在于感光層上的支持體為透明時，可以直接照射活性光線，當支持體對于活性光線顯示蔽光性時，則在除去支持體之后對感光層照射活性光線。作為活性光線的光源，可以使用公知的光源，例如碳弧燈、水銀蒸氣弧燈、超高壓水銀燈、高壓水銀燈、氯燈等可有效地放射紫外線的光源。另外，也可以使用照相用散光燈、太陽燈等可有效放射可見光的光源。除了如上所述通過掩模圖案進行的掩模曝光法以外，還可以通過激光直接描繪曝光法和DLP曝光法等直接描繪曝光法對感光層的規(guī)定部分照射活性光線將曝光部光固化。在本實施方式中，從析像度等方面考慮，優(yōu)選使用直接描繪曝光法。在直接描繪曝光法中使用的活性光線，是在390nm440nm的波長范圍內(nèi)具有峰的光。作為其光源可以舉出激發(fā)出在390nm440nm的波長范圍內(nèi)具有峰的激光的半導體激光器。半導體激光器從容易形成抗蝕圖案的角度考慮是適宜使用的。作為這種半導體激光器，可以舉出氮化鎵系的藍色激光器?；蛘?，也可以將以高壓水銀燈等水銀燈為光源的光之中波長365nm以下的光過濾掉99.5%以上的活性光線，用作為在390nm440nm的波長范圍內(nèi)具有峰的光。作為用于過濾波長365nm以下的光的濾波器，可以舉出西格瑪光機林式會社制造的銳截止濾波器"SCF-100S-39L"(制品名)、朝日分光林式會社制造的分光濾波器"HG0405"(制品名)等。曝光后，除去感光層上的支持體，然后，用濕式顯影、干式顯影等來除去未曝光部，來形成抗蝕圖案。在濕式顯影時，可以采用堿性水溶液、水系顯影液、有機溶劑等顯影液。其中，特別優(yōu)選堿性水溶液，因為安全且穩(wěn)定、操作性良好。作為-威性水溶液顯影液的堿，可以舉出例如鋰、鈉或鉀的氬氧化物等氫氧化堿；鋰、鈉、鉀或銨的碳酸鹽或碳酸氬鹽等碳酸堿；磷酸鉀、磷酸鈉等堿金屬磷酸鹽；焦磷酸鈉、焦磷酸鉀等堿金屬焦磷酸鹽等。另外，作為堿性水溶液顯影液，更優(yōu)選使用0.1~5質(zhì)量％碳酸鈉的稀溶液、0.15質(zhì)量％碳酸鉀的稀溶液、0.1~5質(zhì)量％氫氧化鈉的稀溶液、0.15質(zhì)量％四硼酸鈉的稀溶液等。進而，堿性水溶液的pH優(yōu)選為9~11的范圍，其溫度可以根據(jù)感光層的顯影性進行調(diào)節(jié)。另外，堿性水溶液中還可以添加表面活性劑、消泡劑、少量的用于促進顯影的有機溶劑等。作為水系顯影液，可以舉出包含水或堿性水溶液與一種以上的有機溶劑的顯影液。這里，作為石威性水溶液的義威，除了上述的石威以外，還可以舉出例如硼砂或偏硅酸鈉、四曱基氬氧化銨、乙醇胺、乙二胺、二乙三胺、2-氨基-2-羥基甲基-l，3-丙二醇、1，3-二氨基丙醇-2、嗎啉等。作為上述有機溶劑，可以舉出例如三丙酮醇、丙酮、乙酸乙酯、具有碳原子數(shù)14的烷氧基的烷氧基乙醇、乙醇、異丙醇、丁醇、二甘醇單曱基醚、二甘醇單乙基醚和二甘醇單丁基醚等。這些可以單獨使用1種或者組合使用2種以上。水系顯影液為，優(yōu)選將有機溶劑的濃度控制在2~90質(zhì)量％，其溫度可以根據(jù)感光層的顯影性進行調(diào)節(jié)。進而，水系顯影液的pH為，在能夠充分進行抗蝕劑的顯影的范圍內(nèi)優(yōu)選盡可能小，具體地優(yōu)選pH為812，更優(yōu)選pH為9~10。另外，水系顯影液中也可以添加少量的表面活性劑、消泡劑等。作為有機溶劑系顯影液，可以舉出例如l，l,l-三氯乙烷、N-甲基吡咯烷酮、N，N-二曱基曱酰胺、環(huán)己酮、曱基異丁基酮、Y-丁內(nèi)酯等。為了防止著火，這些有機溶劑優(yōu)選以1~20質(zhì)量％的范圍來添加水。在本實施方式中，也可以根據(jù)需要將上述顯影方式中的兩種以上顯影方式并用。顯影方式中有浸漬方式、攪拌方式、噴霧方式、刷涂、刮涂等，從提高析像度的角度考慮最適合采用高壓噴霧方式。作為顯影后的處理，可以根據(jù)需要通過進行60250。C左右的加熱或0.2-10mJ/cm2左右的曝光，來進一步固化抗蝕圖案。接著，說明本實施方式的印刷電路板的制造方法。本實施方式的印刷電路板的制造方法具備邊從感光層上剝離感光性元件的保護膜，邊將感光層層疊在電路形成用基板上的層疊工序；對于被層疊的感光層的規(guī)定部分照射活性光線的曝光工序；對照射活性光線后的感光層進行顯影來形成抗蝕圖案的顯影工序；將形成有抗蝕圖案的電路形成用基板通過蝕刻或鍍覆來形成導體圖案的導體圖案形成工序。層疊工序、曝光工序及顯影工序也可以與抗蝕圖案的形成方法同樣地進行。電路形成用基板的蝕刻和鍍覆，是以形成的抗蝕圖案作為掩模對電路形成用基板的導體層進行的。作為用于蝕刻的蝕刻液，可以使用氯化銅溶液、氯化鐵溶液、堿性蝕刻溶液、過氧化氫系蝕刻液。從蝕刻因子良好的角度考慮，優(yōu)選使用氯化鐵溶液。另夕卜，作為進行鍍覆時的鍍覆法，可以舉出例如硫酸銅鍍覆、焦磷酸銅鍍覆等鍍銅、高均一焊料鍍覆等鍍焊料、瓦特浴(硫酸鎳-氯化鎳)鍍覆、氨基磺酸鎳鍍覆等鍍鎳、鍍硬金、鍍軟金等鍍金等。蝕刻或鍍覆結束后，例如可以采用堿性比用于顯影的堿性水溶液更強的強堿性水溶液來剝離抗蝕圖案。作為該強堿性水溶液，可以使用例如110質(zhì)量%氬氧化鈉水溶液、1~10質(zhì)量％氫氧化鉀水溶液等。作為剝離方式，可以舉出例如浸漬方式、噴霧方式等。這些剝離方式可以單獨使用也可以并用。通過上述操作可以得到印刷電路板，就本實施方式的印刷電路板的制造方法來說，不僅適用于單層印刷電路板的制造，還適用于多層印刷電路板的制造。上面是對本發(fā)明的適宜的實施方式進行了說明，但本發(fā)明并不限于上述實施方式。實施例以下，通過實施例更詳細地說明本發(fā)明，但本發(fā)明不限于這些實施例。實施例15以及比4交例14首先，按照表l所示的量(g)混合各成分，得到溶液S。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage28</column></row><table>*1:下述通式(6)所示的EO改性雙酚A二曱基丙烯酸酯(日立化成工業(yè)抹式會社制造，商品名"FA-321M")。在通式(6)中，m+n-10(平均值)。在通過表1得到的溶液S中，按照表2所示的量(g)溶解增感劑NF-EO、DBA、Cl、EAB，分別得到感光性樹脂組合物A、B、C、D的溶液。這里，NF-EO、DBA、Cl、EAB分別是如下的化合物。NF-EO:1-苯基-3-(4-叔丁基苯乙烯基)-5-(4-叔丁基苯基)吡唑啉(曰本化學工業(yè)林式會社制造，商品名"NF-EO"，最大吸收波長[、ax]=387nm)DBA:9，10-二丁氧基蒽(川崎化成工業(yè)抹式會社制造，表示吸收極大的波長[Vh368nm、388nm、410nm)Cl:7-二乙氨基-4-甲基香豆素(日本化學工業(yè)抹式會社制造，最大吸收波長[U:374nm)EAB:4，4，-雙(二乙氨基)二苯曱酮(保土谷化學抹式會社制造，最大吸收波長[U-365nm)表2<formula>formulaseeoriginaldocumentpage29</formula>實施例1將所得的感光性樹脂組合物A均勻地涂布到16pm厚的聚對苯二曱酸乙二醇酯膜(商品名"GS-16"，帝人抹式會社制造，霧度1.7%)上。然后，用熱風對流式干燥才幾在IO(TC干燥IO分鐘，形成干燥后的膜厚為20^mi的感光層。接著，在感光層上采用輥加壓層疊保護膜，得到實施例1的感光性元件。這里，作為保護膜是使用聚丙烯膜(膜厚20)im，膜長度方向上的拉伸強度15MPa以上，膜寬度方向上的拉伸強度lOMPa以上，商品名"E-200C"，王子制紙抹式會社制造)。聚丙烯膜中的直徑在80|im以上的魚眼的存在密度為5個/m2以下)。實施例2除了使用感光性樹脂組合物B來代替感光性樹脂組合物A以外，與實施例1同樣地操作，得到實施例2的感光性元件。實施例3除了使用感光性樹脂組合物C來代替感光性樹脂組合物A以外，與實施例1同樣地操作，得到實施例3的感光性元件。實施例4除了使用聚丙烯膜YK57(膜厚15|im，商品名"YK57"，東麗株式會社制造)來代替聚丙烯膜E-200C作為保護膜以外，與實施例l同樣地操作，得到實施例4的感光性元件。此時，聚丙烯膜中的直徑在80pm以上的魚眼的存在密度為5個/m2以下。實施例5除了使用聚丙烯膜YK57(膜厚15jim,商品名"YK57",東麗抹式會社制造)來代替聚丙烯膜E-200C作為保護膜以外，與實施例2同樣地，得到實施例5的感光性元件。此時，聚丙烯膜中的直徑在80(im以上的魚眼的存在密度為5個/1112以下。比專交例1除了使用聚乙烯膜(膜厚22pm，膜長度方向上的拉伸強度16MPa，膜寬度方向上的拉伸強度12MPa,商品名"NF-15",Tamapoly株式會社制造)來代替聚丙烯膜E-200C作為保護膜以外，與實施例l同樣地操作，得到比較例1的感光性元件。此時，聚乙烯膜中的直徑在80iim以上的魚眼的存在密度為10個/m2。比專交例2除了使用聚乙烯膜(膜厚22pm，膜長度方向上的拉伸強度16MPa,膜寬度方向上的拉伸強度12MPa，商品名"NF-15"，Tamapoly抹式會社制造)來代替聚丙烯膜E-200C作為保護膜以外，與實施例2同樣地，得到比較例1的感光性元件。此時，聚乙烯膜中的直徑在80pm以上的魚眼的存在密度為10個/m2。比l交例3除了使用感光性樹脂組合物D來代替感光性樹脂組合物A以外，與實施例1同樣地操作，得到比較例3的感光性元件。比較例4除了使用溶液S來代替感光性樹脂組合物A以外，與實施例1同樣地操作，得到比較例4的感光性元件。對于得到的各感光性元件，按照以下方法分別在鍍銅膜層疊板上層壓感光層，得到層疊體。即，對于將銅箔(厚度35iim)層疊于兩面的玻璃環(huán)氧材料即鍍銅膜層疊板(日立化成工業(yè)林式會社制造，商品名"MCL-E-67")的銅表面，使用具有相當#600的刷子的研磨機(三啟抹式會社制造)進行研磨并水洗后，用空氣流干燥。然后，將得到的鍍銅膜層疊板加溫至80°C,—邊從感光層剝離感光性元件的保護膜，一邊在120°C、0.4MPa壓力下將感光層層壓在上述鍍銅膜層疊板上，來得到層疊體。<光敏度和析像度試驗>將上述層疊體冷卻至23°C，在位于上述層疊體的最外層的聚對苯二曱酸乙二醇酯膜的表面，順次層疊具有濃度區(qū)域0.00~2.00、濃度階段0.05、曝光表(矩形)大小20mmxl87mm、各階段(矩形)大小3mmxl2mm的41段格階段式曝光表的光工具，以及具有作為析像度評價用負片的線寬/間隔寬度為6/635/35(單位mm)的配線圖案的光工具。進而在其上放置用于將波長365nm以下的光過濾掉99.5%以上的西格瑪光機抹式會社制造的銳截止濾波器SCF-100S-39L(制品名)。在該狀態(tài)下，使用將5kw短弧燈作為光源的平行光曝光機(ORC制作所制造，制品名"EXM-1201")，以41段格階段式曝光表顯影后的殘留階段段格數(shù)成為17段格的曝光量進行曝光，將該曝光量作為靈敏度。另外，至于照度的測定是，對于透過銳截止濾波器的光，采用應用了405nm對應#:測器的紫外線照度計(優(yōu)志旺電機抹式會社制造，"UIT-101"(制品名))來進行，將照度與曝光時間的乘積作為曝光量。將其結果示于表3。接著，剝離聚對苯二曱酸乙二醇酯膜，在30。C噴霧24秒鐘的1質(zhì)量％碳酸鈉水溶液，來除去未曝光部分。至于析像度是，根據(jù)能夠通過顯影處理干凈地除去未曝光部分，并且所生成的線未發(fā)生蛇形、缺損情況的線寬之間的間隔寬的最小值來評價的。析像度的評價是，數(shù)值越小越好。將其結果示于表3。表3<table>tableseeoriginaldocumentpage32</column></row><table>產(chǎn)業(yè)上的可應用性根據(jù)本發(fā)明，可以提供對于直接描繪曝光法的曝光光，也能夠在不損害析l象度和密合性的條件下具有充分高的靈敏度的感光性元件。權利要求1.一種感光性元件，其特征在于，順次層疊支持體、感光層、保護膜而成，所述感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑以及最大吸收波長為370～420nm的化合物的感光性樹脂組合物形成，所述保護膜以聚丙烯為主要成分。2.—種感光性元件，其特征在于，順次層疊支持體、感光層、保護膜而成，所述感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑以及下述通式(1)、(2)和/或(3)所示的增感劑的感光性樹脂組合物形成，所述保護膜以聚丙烯為主要成分，[化學式1]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage2</formula>式(l)中，R各自獨立地表示碳原子數(shù)412的烷基；a、b和c各自獨立地表示02的整數(shù)，并且a、b和c的總和為l6;式(2)中，R1和112各自獨立地表示碳原子數(shù)120的烷基、碳原子數(shù)5~12的環(huán)烷基、苯基、千基、碳原子數(shù)2~12的烷酰基或苯曱?；?；R3、R4、R5、R6、R7、R8、119和111()各自獨立地表示氫原子、碳原子數(shù)112的烷基、卣原子、氰基、羧基、苯基、碳原子數(shù)26的烷氧基羰基或苯曱?；凰鎏荚訑?shù)1~20的烷基為，當烷基的碳原子數(shù)為212時，在主鏈碳原子間具有或不具有氧原子，被羥基取代或未被取代；所述碳原子數(shù)512的環(huán)烷基為，在環(huán)之中具有或不具有氧原子，被羥基取代或未被取代；所述Ri和RS中的所述苯基被從碳原子數(shù)16的烷基、羥基、卣原子、氰基、羧基、苯基、碳原子數(shù)16的烷氧基、苯氧基和碳原子數(shù)2~6的烷氧基羰基所組成的組中選出的一種以上基團和/或原子取代或未被取代；所述節(jié)基被從碳原子數(shù)16的烷基、羥基、卣原子、氰基、羧基、苯基、碳原子數(shù)16的烷氧基、苯氧基和碳原子數(shù)26的烷氧基羰基所組成的組中選出的一種以上基團和/或原子取代或未被取代；W和I^中的所述苯曱?；粡奶荚訑?shù)1~6的烷基、羥基、卣原子、M、羧基、苯基、碳原子數(shù)16的烷氧基、苯氧基和碳原子數(shù)26的烷氧基羰基所組成的組中選出的一種以上基團和/或原子取代或未被取代；式(3)中，R"和R"各自獨立地表示氫原子或碳原子數(shù)13的烷基；R11、R人R、R"和R"各自獨立地表示具有取代基或不具有取代基的碳原子數(shù)13的烷基、氫原子、三氟曱基、羧基、羧酸酯基、羥基或硫醇基；R11、R12、R13、R14、R15、R"和R口相互結合而形成環(huán)狀結構或者不相互結合。3.根據(jù)權利要求2所述的感光性元件，其中，所述R分別獨立地為從正丁基、叔丁基、叔辛基和十二烷基所組成的組中選出的基團。4.根據(jù)權利要求2或3所述的感光性元件，其中，所述通式(1)所示的化合物為1-苯基-3-(4-叔丁基苯乙烯基)-5-(4-叔丁基苯基)吡唑啉。5.根據(jù)權利要求2~4中的任一項所述的感光性樹脂組合物，其中，所述Ri和R2各自獨立地為碳原子數(shù)l4的烷基，所述R3、R4、R5、R6、R7、R8、W和RW為氫原子。6.根據(jù)權利要求25中的任一項所述的感光性元件，其中，所述通式(2)所示的化合物為9，10-二丁氧基蒽。7.根據(jù)權利要求26中的任一項所述的感光性元件，其中，所述通式(3)所示的化合物為7-二乙氨基-4-曱基香豆素。8.根據(jù)權利要求1~7中的任一項所述的感光性元件，其中，所述光聚合引發(fā)劑為2，4，5-三芳基咪唑二聚物。9.根據(jù)權利要求18中的任一項所述的感光性元件，其中，所述保護膜中的直徑在80pm以上的魚眼的存在密度為5個/1112以下。10.根據(jù)權利要求19中的任一項所述的感光性元件，其中，所述保護膜的厚度為550pm。11.一種抗蝕圖案的形成方法，其特征在于，具備邊從感光層上剝離權利要求1~10中的任一項所述的感光性元件的保護膜，邊將所述感光層層疊在電路形成用基板上的層疊工序；對于被層疊的所述感光層的規(guī)定部分照射活性光線的曝光工序；對所述照射活性光線后的所述感光層進^"顯影來形成抗蝕圖案的顯影工序。12.—種印刷電路板的制造方法，其特征在于，具備邊從感光層上剝離權利要求1~10中的任一項所述的感光性元件的保護膜，邊將所述感光層層疊在電路形成用基板上的層疊工序；對于被層疊的所述感光層的規(guī)定部分照射活性光線的曝光工序；對所述照射活性光線后的所述感光層進行顯影來形成抗蝕圖案的顯影工序；對所述形成有抗蝕圖案的所述電路形成用基板進行蝕刻或鍍覆來形成導體圖案的導體圖案形成工序。全文摘要本發(fā)明提供一種順次層疊支持體、感光層、保護膜而成的感光性元件，所述感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑以及最大吸收波長為370～420nm的化合物的感光性樹脂組合物形成，所述保護膜是以聚丙烯為主要成分。文檔編號G03F7/004GK101421671SQ20078001359公開日2009年4月29日申請日期2007年4月13日優(yōu)先權日2006年4月18日發(fā)明者大橋武志,宮坂昌宏,市川立也,齋藤學,熊木尚,磯純一,賴華子申請人:日立化成工業(yè)株式會社