專利名稱：消除讀數(shù)視差的光學器件的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種光學器件，尤其是指一種消除讀數(shù)視差的光學器件。
技術背景在測量讀數(shù)時，為了消除視差帶來的讀數(shù)誤差，通常要將指標刻線與讀數(shù) 刻線盡可能的重合。若受條件限制，指標與讀數(shù)刻線之間有較大間隙時，隨著 人眼觀察位置的不同將造成讀數(shù)的差異。為此需要采用各種手段消除讀數(shù)的視 差，以保證測量的準確性。 發(fā)明內容本實用新型的目的在于設計一種消除讀數(shù)視差的光學器件，采用一個單一 的簡單零件即可消除讀數(shù)時的視差。按照本實用新型提供的技術方案，所述消除讀數(shù)視差的光學器件包括光學 底平面與光學后平面及光學上表面，其特征是在光學底平面上設置指標刻線， 在光學后平面上設置校準刻線；光學底平面與光學后平面相交，光學上表面與 光學后平面相交，指標刻線與校準刻線相交。所述指標刻線與校準刻線均為直線，并且指標刻線及校準刻線分別與光學 底平面和光學后平面的交線垂直相交。光學底平面與光學后平面垂直相交。所 述光學上表面為傾斜的表面，光學上表面與光學后平面相交的一側高于光學上 表面的另一側?；蛘?，所述光學上表面為傾斜的光學球面，光學球面與光學后 平面相交的一側高于光學球面的另一側。本實用新型的優(yōu)點是采用單一零件結構緊湊簡單，可靠性好，讀數(shù)清晰 準確。

圖l為本實用新型的立體圖。圖2為本實用新型的另一個方向的立體圖。
具體實施方式
如圖所示所述消除讀數(shù)視差的光學器件包括光學底平面2與光學后平面3及光學上表面，在光學底平面2上設置指標刻線4,在光學后平面3上設置校準 刻線5;光學底平面2與光學后平面3相交，光學上表面與光學后平面3相交， 指標刻線4與校準刻線5相交。一種比較好的方案是指標刻線4與校準刻線5均為直線，并且指標刻線4 及校準刻線5分別與光學底平面2和光學后平面3的交線垂直相交。光學底平面2與光學后平面3相交；所述光學上表面可以設置成傾斜的表面，并且，光學上表面與光學后平面3 相交的一側高于光學上表面的另一側。比較理想的方案是將光學上表面設置為傾斜的光學球面l，光學球面l與光學后平面3相交的一側高于光學球面1的另一側。這種球面可以在觀看時產 生放大作用，使觀察的對象更加清晰。其消除視差的原理是當觀測者通過光學球面1觀察光學底平面2下的讀數(shù)刻線時，光學球面1作為一個放大鏡對讀數(shù)進行放大，同時可用指標刻線4 對準讀數(shù)刻線進行讀數(shù)。此時，光學后平面3相對于指標刻線4滿足全反射條 件，因而將指標刻線4成像于后方，形成反射像。若觀測者處于不正確的觀測 位置時，指標刻線4的反射像與校準刻線5不重合而形成一個夾角。當移動觀 測位置至指標刻線4的反射像與校準刻線5重合時，則觀測點處于正確位置， 視差得以消除。
權利要求1、一種消除讀數(shù)視差的光學器件，包括光學底平面(2)與光學后平面(3)及光學上表面，其特征是在光學底平面(2)上設置指標刻線(4)，在光學后平面(3)上設置校準刻線(5)；光學底平面(2)與光學后平面(3)相交，光學上表面與光學后平面(3)相交，指標刻線(4)與校準刻線(5)相交。
2、 如權利要求1所述消除讀數(shù)視差的光學器件，其特征是指標刻線(4) 與校準刻線(5)均為直線，并且指標刻線(4)及校準刻線(5)分別與光學底 平面(2)和光學后平面(3)的交線垂直相交。
3、 如權利要求1所述消除讀數(shù)視差的光學器件，其特征是光學底平面(2) 與光學后平面(3)垂直相交。
4、 如權利要求1所述消除讀數(shù)視差的光學器件，其特征是光學上表面為 傾斜的表面，光學上表面與光學后平面(3)相交的一側高于光學上表面的另一 側。
5、 如權利要求1所述消除讀數(shù)視差的光學器件，其特征是光學上表面為傾斜的光學球面(1)，光學球面(1)與光學后平面(3)相交的一側高于光學 球面(1)的另一側。
專利摘要本實用新型涉及一種光學器件，尤其是指一種消除讀數(shù)視差的光學器件。按照本實用新型提供的技術方案，所述消除讀數(shù)視差的光學器件包括光學底平面與光學后平面及光學上表面，其特征是在光學底平面上設置指標刻線，在光學后平面上設置校準刻線；光學底平面與光學后平面相交，光學上表面與光學后平面相交，指標刻線與校準刻線相交。本實用新型采用一個單一的簡單零件即可消除讀數(shù)時的視差，并對讀數(shù)刻度作一定程度上的放大作用。
文檔編號G02B27/32GK201096993SQ200720045009
公開日2008年8月6日 申請日期2007年10月31日 優(yōu)先權日2007年10月31日
發(fā)明者徐毅剛 申請人:無錫市星迪儀器有限公司