專利名稱：用于附著基板的設備的制作方法
技術領域：
本公開涉及一種用于將兩個基板彼此附著在一起的設備，更具 體地說，涉及一種用于附著基板的設備，該設備在上腔室與下腔室 之間設置有緩沖件。
背景技術：
近來，隨著信息社會的發(fā)展，對顯示裝置的需求不斷增加。因 此，已經(jīng)開發(fā)出了多種不同類型的顯示裝置，諸如液晶顯示器
(LCD)、等離子顯示面板(PDP)等。這些顯示裝置的用戶要求視 頻質量優(yōu)異、重量輕且尺寸大。因此，近來已開發(fā)出尺寸大于50 英寸的超大尺寸LCD。
LCD顯示器是利用液晶折射率的各向異性而在其屏幕上顯示 信息的顯示裝置。LCD顯示器通過在兩個基板之間加入液晶并將這 兩個基板;波此附著在一起制造而成。這兩個基^反中的一個是驅動裝 置陣列基板，而另一個是濾色片(CF)基板。驅動裝置陣列基板上 形成有多個像素，并且每個像素形成有諸如薄膜晶體管(TFT)的 驅動器件。用于實現(xiàn)色彩的濾色片層連同像素電極、共用電極和用 于對準液晶分子的對準膜(alignment film ) —起形成于濾色片基4反 上。
在制造這種顯示裝置的過程中，將兩個基板4皮此附著在一起的 過程是非常重要的。隨著顯示裝置尺寸的增大，用于附著這兩個基 板的設備的尺寸也增大。
基板附著設備被設計成形成密封附著空間。在附著過程中，該 空間被抽真空以形成真空。隨著基板附著設備的變大，由于附著腔 室的內(nèi)部和外部之間的壓力差而施加于附著i殳備的載荷也增大。該 載荷作用在腔室本體的壁上，并且會引起腔室的變形。該變形力還 可以向用于升降一半腔室的升降裝置施加額外的力。
該附著設備的升降裝置設置有升降電機，該升降電機提供用于
升降腔室的驅動力。升降螺4干(lifting screw)軸向地轉動以升高和 降低用于支撐一部分腔室的框架。通常，升降裝置升降下腔室，直 至下腔室與上腔室相連"t妻以密封附著空間。接著對腔室進行真空排 氣。附著空間內(nèi)的真空狀態(tài)使得下腔室由于壓力差而一皮向上拉。當 下腔室^皮向上拉時，力作用在支撐腔室的框架、升降螺桿等上。因 此，框架、升降螺桿、以及升降裝置的其它部分可能變形。進而， 這將易于造成部件的頻繁更換且基板附著設備的使用壽命較短。
而且，在附著過程中，重要的是調(diào)整基板之間的間隙，從而使 基板之間具有均勻的間隙，并且對準基板的相對位置也很重要從而 兩個基4反在精確的期望位置處4皮此附著在一起。該間隙調(diào)整過程和 位置對準過程僅在下腔室已被升高并固定于上腔室之后才能夠準 確地進行。
由于附著設備隨著基板尺寸的增大而變大，所以當顯示器尺寸 增大時，下腔室以及放置于下腔室內(nèi)的基板的重量也變得更重。因 此，施加于升降并支撐下腔室的升降部件的載荷也增加。更大附著 設備的更重載荷會導致升降螺桿彈性變形。結果，可能在間隙調(diào)整 過程或位置對準過程中出現(xiàn)誤差。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決與現(xiàn)有技術有關的上述和其它的問題，提出了本發(fā) 明。本發(fā)明的特征在于提供一種用于附著基板的設備，該設備在上
腔室與下腔室之間設置有緩沖件，從而可以減小在對腔室進行真空 排氣時作用于升降裝置上的載荷。
本發(fā)明的另 一特征在于提供一種用于附著基板的設備，該i殳備 包括固定裝置，該固定裝置連接于用于升降和支撐下腔室的升降部
件，并利用石茲力附著于外框架，在該i殳備中增加了升降部件的下腔 室支撐力。
為了實現(xiàn)本發(fā)明的特征，提供了一種用于附著基板的設備，該 設備包括主框架；上腔室，安裝于主框架上，該上腔室保持上基 板；下腔室，安裝于主框架上，該下腔室保持下基板，其中，上腔 室和下腔室中的至少一個腔室可以移動，乂人而上腔室和下腔室可以 合在一起以形成密封附著空間；以及緩沖件，；殳置于上腔室與下腔 室之間，其中，緩沖件提供彈性力，該彈性力易于(趨于)使上腔 室和下腔室保持分開。
此外，提供了一種用于附著基板的設備，該設備包括主框架； 上腔室，安裝于保持上基板的主框架上；下腔室，安裝于保持下基 外反的主框架上；移動裝置，移動上腔室和下腔室中的至少一個腔室， /人而上力空室和下月空室可以合在一起以在上腔室與下月空室之間形成 密封附著空間；以及至少一個固定裝置，附著于移動裝置的移動部 分，其中，所述至少一個固定裝置選擇性地將移動裝置的移動部分 連4妾于主一匡架。


將參照附圖詳細描述實施例，附圖中相同的參考標號表示相同 的部件，附圖中
圖1是示出了用于附著基板的設備的第一實施例的截面圖；圖2示出了用于在圖1所示設備的上腔室與下腔室之間進行緩 沖的緩沖件；
圖3A至3C是示出了在附著過程中如何升高下腔室的視圖4是示出了用于附著基板的設備的另 一實施例的截面圖5A示出了固定裝置；
圖5B示出了如何將固定裝置安裝于升降部件的升降臺中；
圖5C是示出了如何將固定裝置的磁性部件附著于外框架的平 面圖；以及
圖6示出了如何利用^ 茲力將#4居本發(fā)明另 一實施例的用于附著 基板的設備的磁性部件附著于外框架。
具體實施例方式
將參照附圖更詳細地描述本發(fā)明的一些實施例。
圖l是示出了用于附著基板的設備的第一實施例的截面圖。參 照圖1，該設備設置有外框架IO。上腔室20和下腔室30形成基板 附著空間。升降部件40提供升降力，以將下月空室30向上移動^f吏之 與上腔室20相接合。緩沖件60設置在上腔室20與下腔室30之間。
外框架IO設置有用于插入和移出基板的門11。優(yōu)選地，該門 11僅在插入和移出基板時才打開，從而諸如灰塵的雜質不會進入基 玲反附著i殳備的內(nèi)部。基4反的插入和移出通過$敘送機器人(未示出) 進行。該輸送機器人設置有用于將上基板Sl和下基板S2運送到設 備內(nèi)并從設備中運出的 一個或多個機械臂。第一真空泵51將上腔室與下腔室之間的空間抽真空，以在形 成于上腔室與下腔室之間的附著空間內(nèi)形成真空。第二真空泵52 產(chǎn)生作用于基板接收銷22的真空吸附力，該基板接收銷接收并保 持上基板Sl和下基板S2。這兩個真空泵可以位于外框架10的內(nèi)部 或夕卜部。
第一真空泵51通常i殳置于外4醫(yī)架10的外部，并且通過真空管 連才妄于形成在上月空室20與下腔室30之間的附著空間。第二真空泵 52固定于外框架10,并且通過真空管連4妻于上腔室20和下腔室30 的基板接收銷22。真空泵可以包括干式泵(dry pump )、渦輪分子 泵(TMP)、機械推進泵等。優(yōu)選地，該真空泵是能夠排出真空泵 送(vacuum-pumped ) 4勿質的回哞爭葉片泉。
雖然該實施例使用真空泵產(chǎn)生的真空和接收銷來保持基板，但 其它實施例可以利用其它的保持裝置。例如，該保持裝置可以是靜 電卡盤或其它類型的裝置。
上腔室20固定于外框架10，并且下腔室30通過升降部件40 而#1向上升高和向下降4氐。下腔室30 ^皮向上升高以連接于上"空室 20， /人而形成密去于附著空間。
上腔室20固定地附著于支架，該支架自身固定于外框架10的 內(nèi)壁。上腔室20設置有用于保持上基板S1的上卡盤21。如上所述， 上卡盤21可以是利用靜電力保持上基板S1的靜電卡盤(ESC)、和 /或真空卡盤。上卡盤21可以凹入上腔室20內(nèi)，以形成一體的腔室 結構。上腔室20還可以包括用于接收上基板Sl的基板接收銷22、 以及用于對準上基板Sl和下基板S2的一個或多個攝像機23。
基板接收銷22也設置于下腔室30中，以侵_接收并保持下基板 S2。通常，基板接收銷22能夠凹入下腔室的頂表面內(nèi)。
設置于上腔室20的上部處的一個或多個插/f象才幾23通過穿過上 腔室20的照相孔檢測上基板Sl和下基板S2上的對準標記。攝像 機產(chǎn)生的圖像用來確定基板是否彼此適當?shù)貙省?一個或多個照明 裝置33設置于下腔室30的下部處，以通過穿過下腔室30的照明 孑L來4是供光，從而掘/f象機23可以;險測對準才示i己。
下腔室30設置于連接到升降部件40的水平框架的上端處。下 腔室30設置有用于保持下基板S2的下卡盤31。下卡盤31可以是 利用靜電力保持下基板S2的靜電卡盤(ESC)、和/或基于真空的卡 盤。下卡盤31凹入下腔室30內(nèi)，以形成一體的腔室結構。
升降部件40包括用于提供升降/降低力的升降電機41以及升降 螺桿42。優(yōu)選地，升降電才幾41是可以產(chǎn)生能夠支撐下腔室30的負 -菏并且能夠向上升降和向下降<氐下力空室30的力的電才幾。該電4幾可 以包括AC電機、DC電機等。升降電機41的高速轉動力通過減速 器而轉換成低速轉動力，該低速轉動力使得升降螺桿42以低速轉 動并以適當?shù)乃俣认蛏仙岛拖蛳陆怠截迪虑皇?0。
升降螺桿42支撐并移動水平框架，該水平框架支撐下腔室30。 水平框架的兩端均連接于引導軸，以^更平衡下腔室30并且確^呆下 腔室30的平穩(wěn)升降。
一旦基板被安裝于上腔室和下腔室上，下腔室30就被升降部 件40向上升降，并與上腔室20連接以形成密封附著空間。然后， 可以通過第一真空泵51對該密封附著空間進4于真空排氣以形成真
么o
用于移動下腔室30的對準裝置i殳置在下腔室30與水平框架之 間。優(yōu)選地，對準裝置34可以使下腔室30沿X、 Y方向和轉動方 向運動。通常，將多個凸4侖用作對準裝置34。凸4侖的上側鄰4妄下腔
室30的下端，并且凸輪的下側固定于水平框架。凸輪的鄰接下腔 室30的上側利用驅動電才幾提供的轉動力來移動下腔室30。下腔室 沿X、 Y方向和轉動方向相對于上腔室的運動使得上腔室和下腔室 相》于于4皮此適當；也只t準。
雖然圖中未示出，但該附著設備還可以包括用于將基板朝著彼 此推動的增壓裝置。可以使用機械裝置來直接推動基板，或者可以 利用氣體壓力來施加壓力。如果使用氣體壓力，則增壓裝置可以包 括用于供應諸如氮氣的惰性氣體的氣體罐和供氣管、以及用于將氣 體排》文到附著空間內(nèi)的氣體增壓孔。
H沖件60 i殳置在下腔室30的周邊處。當通過上腔室20相對 于下腔室30之間的連4姿而形成的附著空間#1真空排氣時，該緩沖 件用來彈性地支撐于上腔室20與下腔室30之間?？商鎿Q地，緩沖 件60可以i殳置在上腔室20的周邊處。
在該實施例中，緩沖件60包括壓縮螺旋彈簧。在替換實施例 中，緩沖件可以是板簧、空氣彈簧和其它類似的彈性件。將參照圖 2對緩沖件60進行更詳細的描述。
參照圖2,緩沖件60設置有具有預定彈性力的彈性體62。上 框架61 i殳置在彈性體62的一端處，乂人而上沖醫(yī)架可以^妄觸上腔室20 的下端。下框架63設置在彈性體62的另一端處，并且與下腔室30 的上端相4矣觸。
如圖所示，在該實施例中，緩沖件60安裝在下腔室30的周邊 處。緩沖件60的下框架63固定于下腔室30。當上腔室和下腔室合 在一起時，上框架61鄰4妄上腔室20的下側。優(yōu)選地，多個緩沖件 60圍繞下腔室30的周邊而設置，以便在上腔室20與下腔室30之 間提供均勻的支撐力。 當形成于上腔室20與下腔室30之間的附著空間被真空排氣， 進而下腔室30由于真空力而被向上拉時，彈性體62發(fā)生變形。彈 性體的變形有助于分散真空所產(chǎn)生的力，并進而減小上腔室和下腔 室的變形。彈性體62可以由諸如熱處理鋼、磷青銅、鎳合金等的 金屬材料制成。
圖2所示的壓縮螺旋彈簧由諸如圓鋼(roundbar)、方鋼等的金 屬材料制成，并且被螺旋地巻繞。在替換實施例中，具有由彈簧鋼 制成的多個平々反的凈反簧可以疊置，以形成彈性體。在另一實施例中， 包括其中注入有空氣的波紋管狀(bellows-like)容器的空氣彈簧可 以用作彈性體。
圖3A至圖3C示出了由用于附著基板的設備進行的過程中的 各步驟。圖3A示出的是上基板Sl和下基板S2已被安裝在上腔室 和下腔室上。圖3B示出的是下腔室30已被向上升降以形成密封附 著空間。圖3C示出的是在附著空間已^皮真空排氣進而上基4反S1和 下基板S2彼此附著在一起之后的設備。
參照圖3A至圖3C，在該過程的開始，為了將基板插入到附著 設備內(nèi)，將下腔室30向下移動，使得下腔室與上腔室20隔開最大 的距離，并且打開外框架10的門11。通過打開的門ll，輸送機器 人將上基板Sl運送到附著設備的內(nèi)部。上基板Sl由機械臂保持。 在將上基板Sl運送到內(nèi)部之后，上腔室20的基板接收銷22真空 吸附上基板Sl以保持上基板Sl。接著，將正在保持上基板Sl的 基板接收銷22向上升降，以使上基板Sl坐落到上腔室20上。此 時，上腔室20的上卡盤21將在上基纟反S1上施加保持力。
一旦上基板Sl被上腔室20保持，輸送機器人的機械臂就從附 著設備中移出，并且輸送機器人將下基板S2運送到附著設備的內(nèi) 部。下基板S2由機械臂保持。將下腔室30的基板接收銷22向上 升降以接收下基壽反S2,并且輸送才幾器人的才幾械臂從附著設備中移 出。接著，基板接收銷22向下移動，以使下基板S2坐落到下腔室 30上。此時，下腔室30的下卡盤31將在下基板S2上施加保持力， 并且關閉外框架10的門11。
此后，由升降部件40向上升降下腔室30,并且將下腔室連接 于上腔室20以形成密封附著空間。當上腔室20和下腔室30連4姿 時，緩沖件60緩沖上腔室20與下腔室30之間的沖擊，并進而減 少上腔室和下腔室合在一起時可能引起的上基斧反Sl和下基板S2上 的任何晃動。此時，上基板S1和下基板S2彼此鄰近，如圖3B所 示。
接著，如圖3C所示，第一真空泵51將空氣從附著空間排出到 外部，以保持附著空間處于真空狀態(tài)。此時，緩沖件60在上腔室 20與下腔室30之間提供彈性力，該彈性力克服由于真空狀態(tài)而施 加于下腔室30的力。因此，可以防止升降部^f牛40由于真空4犬態(tài)所 引起的力而在向上的方向上承受額外的力。
接著，攝像機23 4企測上基板Sl和下基板S2的對準標記，以 確定基板的對準狀態(tài)。如果基板的對準狀態(tài)欠佳，則對準裝置34 移動下腔室30,使得上基板Sl和下基板S2適當?shù)貙省?br> 一旦基板的對準狀態(tài)良好，則移開保持上基々反S1的上卡盤21 的靜電力，從而上基板Sl下落到下基板S2上。此時，上基板Sl 和下基板S2通過密封劑而初步附著。接著，可以通過增壓裝置將 基板推動到一起，進而上基板Sl和下基板S2可以更牢固地彼此附 著在一起。在一些實施例中，向附著空間內(nèi)引入氣體，并且通過引 入到附著空間內(nèi)的氣體與存在于上基才反與下基寺反之間的空間中的 真空狀態(tài)之間的壓力差，將上基板S1和下基玲反S2 4侏動到一起。
然后，下腔室30向下移動，從而下腔室與上腔室20分開。此 時，緩沖件60利用較少的能量而使上腔室20和下腔室30分開。 接著，打開外框架10的門11，并且輸送機器人抓住附著后的基板， 并將它們從腔室中移出。
雖然上述實施例具有由升降部件40向上升降和向下降〗氐的下 腔室30,但在替換實施例中，上腔室20可以由升降部件40上下移 動，或者上腔室20和下腔室30兩者都可以上下移動。
圖4是示出了用于附著基4反的設備的另一實施例的截面圖。該 實施例與上述實施例非常相似。因此，不再對相同部件進行描述。
參照圖4,在該實施例中，多個升降裝置400向下腔室300提 供升降力和支撐力。該實施例還包括連接于升降裝置400的多個固 定裝置600。固定裝置可以利用》茲力而可選地連4妾于沖醫(yī)架100,以 增加升降裝置400的下腔室支撐力。
升降裝置400可以包括升降電沖;L 410、升降螺桿420和升降臺 430。升降螺桿420是將升降電機的驅動力傳遞給升降臺430的媒 介，并且升降臺430連接于升降螺桿420且與水平框架350相接觸。
固定裝置600可以與升降裝置400相連接，并且該固定裝置可 以連接于升降裝置400的升降臺430。而且，固定裝置600可以與 升降臺430 —體形成。在下腔室300已^皮向上升降以形成基才反附著 空間之后，并且在下腔室300的位置已被調(diào)整以適當?shù)貙驶逯?后，固定裝置600利用》茲力而附著于外框架。
圖5A示出了固定裝置600的一個實施例的結構。圖5B示出 了如何將固定裝置安裝于升降部件的升降臺上。圖5C是示出了固 定裝置的附著于外沖醫(yī)架的；茲性部件的平面圖。
參照圖5A至圖5C，固定裝置600包括^磁性部件610，該》茲性 部件利用》茲力附著于外框架100。移動裝置620移動》茲性部件610。 而且，固定裝置600可以進一步包括用于向》茲性部件610供應電力 的供電部件630 (參見圖5A)。該固定裝置600可以安裝于升降裝 置400的升降臺430中，如圖5B所示。
石茲性部件610利用i茲力而選擇性地附著于外框架100。在這種 情況下，》茲性部件610可以是始終施力"茲力的7:Ki茲體。 <旦是，優(yōu)選 地，》茲性部件610是電》茲體，在電》茲體中，》茲力的產(chǎn)生取決于電力 的施力口。
f茲性部件610附著于外沖醫(yī)架100以將升降裝置400的可移動部 分固定于外框架IOO。結果，升降裝置400的下腔室支撐力增加。 具有多個》茲性部件610的多個固定裝置600可以在單個升降臺430 上使用。當安裝有多個^f茲性部件610時，可以將它們附著于外框架 100的兩個或多個鄰4妄位置(參見圖5C)。
移動裝置620用來移動f茲性部件610使之與框架相接合。移動 裝置620連4妄于》茲性部件610，并且將/f茲性部件610朝向外框架100 移動，并且還可以沿相反方向移動/f茲性部件。移動裝置620可以包 括線性電機。
可替換地，移動裝置620可以是彈簧。當移動裝置620是彈簧 時，移動裝置620僅用來沿遠離外框架100的方向拉動》茲性部件 610。當向i茲性部l牛610供應電流時，由于;茲力大于彈簧力，所以 磁性部件610將自動將其自身附著于外框架100。當切斷供應給磁 性部件610的電流時，》茲力一皮移除，并JU茲性部件610在彈簧的推 動下自動返回到升降臺430。因此，可以利用彈簧以低成本構造移 動裝置620。
移動裝置620將》茲性部件610與外沖醫(yī)架100分開，以防止當下 腔室需要移動時石茲性部件610由于與外框架100的摩〗察而磨損。
供電部件630用來向》茲性部件610供應電力。如果f茲性部件610 是電,茲體，則f茲力 <又在向電》茲體施力口電流時產(chǎn)生。流過的電流越大， 則電磁體的磁力變得越強。
下面，將描述設置有固定裝置600的基板附著設備的操作。圖 6示出了利用磁力將多個固定裝置的磁性部件附著于外框架的實施 例。
當基板附著設備裝載有基板并且下腔室纟皮升降以與上腔室相 接合時，接著進行基板的對準。當對準過程結束時，固定裝置600 的磁性部件610利用移動裝置620而伸到升降臺430之外，使得磁 性部件*接觸外4匡架100。如果f茲性部件610與外沖匡架100緊密4妻觸， 則通過供電部件630向/F茲性部件610供應電力，使得萬茲性部件610 通過磁性引力而固定地連接于外框架100。由于外框架100是剛性 體，所以下腔室支撐力由于升降臺連接于外框架100而增加，如圖 6所示。此后，第一真空泵510排出附著空間中的空氣以形成真空 狀態(tài)。在一些實施例中，4吏得附著空間成為真空狀態(tài)的過程可以在 進4亍對準過程之前進4亍。A人而，在一些實施例中，在進4亍對準過程 之前，固定裝置可以與外框架相接合。
在上述的用于附著基板的i殳備中，由于在上腔室與下腔室之間 設置有緩沖件，所以減小了對附著空間進行真空排氣時作用于固定 裝置上的載荷。因此，可以減少作用于升降螺桿以及支撐腔室的框 架上的力，從而延長了附著設備的使用壽命，并且減少了頻繁更換 部件的麻煩。
而且，通過利用一個或多個固定裝置將升降部件連接于外框 架，可以增加升降部件的下腔室支撐力。結果，下腔室被穩(wěn)定地固 定，進而可以減少基板附著過程中的缺陷。
在本i兌明書中，對于"一個實施例"、"實施例"、"示例性實施 例，，等的任何論述，都意味著結合實施例所描述的具體特征、結構、 或特性包含在本發(fā)明的至少 一個實施例中。本說明書中各個地方出 現(xiàn)的這些術語不必都涉及同一實施例。此外，當結合任一實施例描 述具體特征、結構、或特性時，需指出的是在本領域技術人員的能
力范圍內(nèi)，可以結合其它實施例來實現(xiàn)這些特4正、結構、或特性。
盡管已經(jīng)描述了多個示例性實施例，^f旦應該理解，本領i或4支術 人員可以i殳想出多種其它變型和實施例，這些變型和實施例4尋落在 本/>開的^"神和原則范圍內(nèi)。更具體地i兌，可以對部件和/或布置進 行各種改變和變型，這些改變和變型將落在本公開、附圖和所附權 利要求的范圍內(nèi)。除了對部件和/或布置進行的改變和變型之外，替 換應用對本領域，技術人員來i兌也是4艮顯然的。
權利要求
1.一種用于附著基板的設備，所述設備包括主框架；上腔室，安裝于所述主框架上，所述上腔室保持上基板；下腔室，安裝于所述主框架上，所述下腔室保持下基板，其中，所述上腔室和所述下腔室中的至少一個腔室可以移動，從而所述上腔室和所述下腔室可以合在一起以形成密封附著空間；以及緩沖件，設置于所述上腔室與所述下腔室之間，其中，所述緩沖件提供彈性力，所述彈性力易于使所述上腔室和所述下腔室保持分開。
2. 沖艮據(jù)權利要求1所述的設備，其中，當所述上腔室和所述下腔 室被連接在一起并且所述密封附著空間被抽真空時，所述緩沖 件克服由所述設備外部的大氣與所述密封附著空間內(nèi)的真空 之間的壓力差所產(chǎn)生的力。
3. 根據(jù)權利要求1所述的設備，其中，所述緩沖件設置在所述上 腔室和所述下腔室的周邊處。
4. 根據(jù)權利要求1所述的設備，其中，所述緩沖件包括上框架； 下沖匡架；以及彈性體，安裝于所述上框架與所述下框架之間。
5. 根據(jù)權利要求4所述的設備，其中，所述上框架和所述下框架 中的至少一個框架固定于所述上腔室和所述下腔室中的至少 一個腔室。
6. 根據(jù)權利要求5所述的設備，其中，所述上腔室和所述下腔室 中的至少一個腔室設置有用于在其中安裝所述緩沖件的凹槽。
7. 根據(jù)權利要求1所述的設備，其中，所述緩沖件是壓縮螺旋彈 簧、^!簧和空氣彈簧中的一種。
8. 才艮據(jù)權利要求1所述的設備，其中，圍繞所述上腔室和所述下 腔室中的至少 一個腔室的周邊安裝有多個緩沖件。
9. 根據(jù)權利要求1所述的設備，進一步包括至少一個固定裝置， 所述至少一個固定裝置選擇性地將所述上腔室和所述下腔室 中的至少一個腔室連"t妄于所述主框架。
10. 根據(jù)權利要求9所述的設備，其中，所述至少一個固定裝置包 才^磁性部件，所述f茲性部件可以通過》茲力選擇性地連4妄于所述 主框架。
11. 根據(jù)權利要求10所述的設備，其中，所述磁性部件包括電磁 體。
12. 根據(jù)權利要求11所述的設備，其中，所述至少一個固定裝置 進一步包括供電部件，所述供電部件選擇性地向所述電》茲體施 力口電力。
13. 根據(jù)權利要求10所述的設備，其中，所述至少一個固定裝置 進一步包括移動部件，所述移動部件選擇性地移動所述^F茲性部 件使之與所述主框架相接合或分開。
14. 根據(jù)權利要求13所述的設備，其中，所述移動部件包括彈簧， 所述彈簧提供易于拉動所述磁性部件使之與所述主框架分開的彈性力。
15. 根據(jù)權利要求9所述的設備，進一步包括移動裝置，所述移動 裝置在所述主框架中上下移動所述下腔室，其中，所述至少一 個固定裝置連接于所述移動裝置的移動部件。
16. —種用于附著基板的設備，所述設備包括主框架；上腔室，安裝于所述主框架上，所述上腔室保持上基板；下腔室，安裝于所述主框架上，所述下腔室保持下基板；移動裝置，移動所述上腔室和所述下腔室中的至少一個 腔室，從而所述上腔室和所述下腔室可以合在一起以在所述上 腔室與所述下腔室之間形成密封附著空間；以及至少一個固定裝置，附著于所述移動裝置的移動部分， 其中，所述至少一個固定裝置選擇性地將所述移動裝置的所述 移動部分連4妄于所述主一匡架。
17. 根據(jù)權利要求16所述的設備，其中，所述至少一個固定裝置 包括石茲性部件，所述石茲性部件可以通過;茲力選擇性地連接于所 述主框架。
18. 根據(jù)權利要求17所述的設備，其中，所述磁性部件包括電磁 體。
19. 根據(jù)權利要求18所述的設備，其中，所述至少一個固定裝置 進一步包4舌供電部件，所述供電部件選擇性地向所述電^茲體施 力口電力。
20. 根據(jù)權利要求17所述的設備，其中，所述至少一個固定裝置 進一步包括移動部件，所述移動部件選擇性地移動所述》茲性部 件4吏之與所述主框架相接合或分開。
21. 根據(jù)權利要求20所述的設備，其中，所述移動部件包括彈簧， 所述彈簧提供易于拉動所述磁性部件使之與所述主框架分開的彈性力。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于附著基板的設備，該設備在上腔室與下腔室之間設置有緩沖件。該緩沖件減少了對腔室之間的密封空間進行真空排氣期間施加于升降裝置的載荷。因此，可以減小施加于升降螺桿以及支撐腔室的框架上的力，從而延長基板附著設備的使用壽命，并延長更換部件的周期。而且，通過利用固定裝置將升降部件連接于外框架，可以增大升降部件的下腔室支撐力。結果，下腔室被穩(wěn)定地固定，從而可以減少基板附著過程中的不足。
文檔編號G02F1/1333GK101191937SQ20071018203
公開日2008年6月4日 申請日期2007年10月24日 優(yōu)先權日2006年11月29日
發(fā)明者金東建, 黃載錫 申請人:愛德牌工程有限公司