專(zhuān)利名稱(chēng)：一種能夠?qū)崿F(xiàn)成像功能的多層金屬介質(zhì)膜的設(shè)計(jì)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種采用異質(zhì)結(jié)金屬介質(zhì)薄膜進(jìn)行超分辨成像的結(jié)構(gòu)，特別涉及一種能夠 實(shí)現(xiàn)成像功能的多層金屬介質(zhì)膜的設(shè)計(jì)方法。
背景技術(shù)：
根據(jù)阿貝-瑞利判據(jù)，成像系統(tǒng)的分辨率受到入射光波長(zhǎng)和數(shù)值孔徑的嚴(yán)格限制，理論 上分辨的距離不可能小于1/2波長(zhǎng)，顯微鏡作為一種常用的光學(xué)系統(tǒng)，雖然可以用來(lái)對(duì)微細(xì) 結(jié)構(gòu)進(jìn)行近百倍的放大觀測(cè)，但也要受到分辨極限的限制；這是由于當(dāng)光入射到物體表面 的時(shí)候， 一部分傳播波成分會(huì)與物體表面相互作用后向外傳播，但還有一些倏逝波成分被 束縛在物體表面不能向外傳播，遠(yuǎn)場(chǎng)探測(cè)的信息不包含倏逝波成分，從而對(duì)物體的分辨能 力受到了限制也就是分辨極限，因此超越衍射極限分辨系統(tǒng)的研究在科研、醫(yī)學(xué)、檢測(cè)等 方面均有重要的意義。
目前，有幾種方法可以實(shí)現(xiàn)超分辨成像，掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡(SNOM) (D.W.Pohl, D. Courjon， Near Field Optics, Kluwer, The Netherlands, 1993)， 近場(chǎng)的 superlens ("Sub—Diffraction-Limited Optical Imaging with a Silver Superlens" ; Nicholas Fang, Hyesog Lee, Cheng Sun, Xiang Zhang. Science 2005,308, 534-537)等，近場(chǎng)探測(cè)是采用探針探測(cè)近場(chǎng) 的倏逝波信息，記錄信息并通過(guò)數(shù)據(jù)處理來(lái)還原物體的表面信息，但由于探針是逐行掃描 的，所以掃描過(guò)程緩慢，不利于生物探測(cè)等需要實(shí)時(shí)反應(yīng)物體表面變化的情況。Superlens 是采用薄膜結(jié)構(gòu)對(duì)局域在物體表面的倏逝波信息進(jìn)行放大和傳輸，但該結(jié)構(gòu)要達(dá)到倏逝波 的放大效果對(duì)金屬和介質(zhì)的介電常數(shù)有嚴(yán)格的要求，即其介電常數(shù)必須滿足e +。=0;
并且采用suprelens放大時(shí)物體和像之間的距離很短，不利于實(shí)際應(yīng)用中的探測(cè)需求；另外，
suprelens的分辨較低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提出了一種多層金屬介質(zhì)膜結(jié)構(gòu)， 該結(jié)構(gòu)在用于成像過(guò)程中，物面和像面之間的距離加大，并且分辨率較大；應(yīng)用該結(jié)構(gòu)可 以實(shí)現(xiàn)對(duì)遠(yuǎn)小于工作波長(zhǎng)的細(xì)微結(jié)構(gòu)成像，從而達(dá)到了超分辯的目的。
本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案 一種能夠?qū)崿F(xiàn)成像功能的多層金屬介質(zhì)膜 的設(shè)計(jì)方法，其特征在于步驟如下
5(1) 選擇入射波，其波長(zhǎng)為義，該入射波中只包含TM模式；
(2) 對(duì)于膜層厚度分別為《，《的金屬材料和介質(zhì)材料，在入射波的照射下，金屬 材料和介質(zhì)材料的折射率分別為^， ，對(duì)應(yīng)的介電常數(shù)分別為^， &，若將多個(gè)這樣的
金屬材料膜和介質(zhì)材料膜交替排列構(gòu)成多層膜結(jié)構(gòu)，此多層膜結(jié)構(gòu)材料的等效介電常數(shù)可 以通過(guò)公式(1)計(jì)算獲得
<formula>formula see original document page 6</formula>(1)
其中;7 =《/《；7為金屬材料和介質(zhì)材料膜層厚度的比值，^分別為在x， y， Z
三個(gè)方向的介電常數(shù)；
(3) TM波在各向異性介質(zhì)中的波矢^與、的函數(shù)關(guān)系為
<formula>formula see original document page 6</formula>
其中t, ^分別為T(mén)M波在JC, 2方向的波矢；0為T(mén)M波的頻率；C為真空中的光速；A。 為T(mén)M波在真空中的波矢；
(4) 選擇第一組金屬材料和介質(zhì)材料，在入射波的照射下，第一組金屬材料和介質(zhì)材
料的折射率分別為"w， "rfl，對(duì)應(yīng)的介電常數(shù)分別為^,和e^，每一膜層厚度分別為《,和
^，將多個(gè)這樣的金屬材料膜和介質(zhì)材料膜交替排列成多層膜結(jié)構(gòu)，通過(guò)公式(1)計(jì)算
使搏第一組多層膜結(jié)構(gòu)材料的等效介電常數(shù)實(shí)部滿足^<0， szl>0，此時(shí)公式(2)可以
變化為
<formula>formula see original document page 6</formula>
該方程形式為雙曲線方程，光波傳輸方向垂直于漸近線，此時(shí)對(duì)應(yīng)的漸近線方程為
<formula>formula see original document page 6</formula> (4)
則此時(shí)光波在第一組多層膜結(jié)構(gòu)材料中傳輸時(shí)與、軸所成角度的正切為:
<formula>formula see original document page 6</formula>(5)
光波在該材料中是發(fā)散的，將該種多層膜結(jié)構(gòu)稱(chēng)為發(fā)散結(jié)構(gòu)
(5)選擇第二組金屬和介質(zhì)材料，在入射波的照射下，第二組金屬材料和介質(zhì)材料的折射率分別為 2, 2，對(duì)應(yīng)的介電常數(shù)分別為^2和&2，每一膜層厚度分別為《2和<2，
將多個(gè)這樣的金屬材料膜和介質(zhì)材料膜交替排列成多層膜結(jié)構(gòu)，通過(guò)公式(1)計(jì)算使得第 二組多層膜結(jié)構(gòu)材料的等效介電常數(shù)實(shí)部滿足&2>0， ez2<0，那么此時(shí)公式(2)可以變
化為
該方程形式也為雙曲線方程，光波傳輸方向垂直于漸近線，此時(shí)漸近線方程為:
光波在該材料中是會(huì)聚的，將該種多層膜結(jié)構(gòu)稱(chēng)為會(huì)聚結(jié)構(gòu)；
(6)選擇厚度分別為i^和^的兩種多層膜結(jié)構(gòu)，將該兩種會(huì)聚結(jié)構(gòu)多層膜和發(fā)散結(jié)構(gòu)
多層膜組合在一起，完成能夠?qū)崿F(xiàn)成像功能的多層金屬介質(zhì)膜的設(shè)計(jì)。
所述步驟(2)中的金屬材料為可以激發(fā)表面等離子體的金，銀，銅，鋁。
所述步驟(2)中的材料的厚度《，^為3納米到50納米。
所述步驟(2)中的多層膜結(jié)構(gòu)為形式上的各向異性結(jié)構(gòu)。
所述步驟(2)中的多層膜結(jié)構(gòu)的層數(shù)可以為IO層到IOO層。
所述步驟(6)中兩種多層膜結(jié)構(gòu)的厚度1,和￡2可以為50納米到2微米。
所述的多層金屬介質(zhì)膜實(shí)現(xiàn)成像功能的時(shí)，物面和像面分別位于多層金屬介質(zhì)膜的下 表面和上表面。
所述步驟(6)中兩種多層膜結(jié)構(gòu)的厚度^和A滿足
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比所具有的優(yōu)點(diǎn)在于
(1) 本發(fā)明設(shè)計(jì)所得的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，運(yùn)用簡(jiǎn)單的幾種薄膜結(jié)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)目標(biāo)器件的設(shè) 計(jì)；此結(jié)構(gòu)可以將光束縛在某單一方向傳輸，有效的抑制了雜散光，提高了傳輸效率；且 光線在此結(jié)構(gòu)中傳輸時(shí)，其發(fā)散角和會(huì)聚角是可控的，因此其成像位置也是可控的；
(2) 跟目前的超分辨成像系統(tǒng)相比本發(fā)明設(shè)計(jì)所得的結(jié)構(gòu)，物面和像面之間的距離 更大，更加有利于探測(cè)，為其進(jìn)一步實(shí)用奠定了基礎(chǔ)；
此時(shí)光波在第二組多層膜結(jié)構(gòu)材料中傳輸時(shí)與^軸所成角度的正切為:(3)跟superlens相比本發(fā)明設(shè)計(jì)所得的結(jié)構(gòu)在用于成像時(shí)，分辨率進(jìn)一步提高，可 以實(shí)現(xiàn)超衍射極限的細(xì)微物體成像。


圖1是本發(fā)明實(shí)施例1和實(shí)施例2中光線在多層膜結(jié)構(gòu)中呈發(fā)散方向的示意圖； 圖2是本發(fā)明實(shí)施例1和實(shí)施例2中光線在多層膜結(jié)構(gòu)中呈會(huì)聚方向的示意圖； 圖3是實(shí)施例1中光線在設(shè)計(jì)的多層膜結(jié)構(gòu)中傳播的示意圖； 圖4是實(shí)施例2中光線在設(shè)計(jì)的多層膜結(jié)構(gòu)中傳播的示意圖
圖中l(wèi)和2表示雙曲線；3和4表示漸近線；實(shí)箭頭表示光波的傳播方向；5表示金 屬銀；6表示折射率為2.2的介質(zhì)材料；7表示空氣層；8表示金屬鋁；9表示二氧化硅；圖 1和圖2中的橫坐標(biāo)和縱坐標(biāo)分別表示波矢^和^。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施方式
對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不僅限 于下面實(shí)施例，應(yīng)包括權(quán)利要求書(shū)中的全部?jī)?nèi)容。 實(shí)施例1
本發(fā)明實(shí)施例1的具體步驟如下
(I)選擇入射光波長(zhǎng)為365nm，選擇第一組材料為金屬銀和空氣，金屬銀在該波長(zhǎng)的 照射下，折射率為nAg=0.039275+1.614224i("Optical Constants of Noble metals". P. B. Johnson, R. W.Christy P. R. B. 1972)，對(duì)應(yīng)的介電常數(shù)e, =—2.6042 + 0.1268i， 空氣的介電常數(shù) 為52 = 1,取銀和空氣層的厚度《，A均為5nm，將銀層和空氣層其交替排列構(gòu)造第一種多 層膜結(jié)構(gòu)，那么由公式(1)計(jì)算可以得到該銀一空氣多層膜的等效介電常數(shù)實(shí)部為
<formula>formula see original document page 8</formula>
當(dāng)TM波在該種介質(zhì)中傳播的時(shí)候，、和、的函數(shù)關(guān)系對(duì)應(yīng)的方程為
<formula>formula see original document page 8</formula>
取對(duì)應(yīng)的漸近線的方程為-
光波垂直于漸近線方向向上傳播，如圖1中的實(shí)箭頭所示，可以得到光波在其中的傳播方 向與&軸所成的角度的正切為
<formula>formula see original document page 8</formula>
如圖l所示，光線是發(fā)散方向的，將該種多層膜結(jié)構(gòu)稱(chēng)為發(fā)散結(jié)構(gòu)；(2)選擇第二組材料為金屬銀和折射率n=2.2的絕緣介質(zhì)，該絕緣介質(zhì)在波長(zhǎng)365nm 的入射光作用下折射，對(duì)應(yīng)的介電常數(shù)^-4.84，銀和介質(zhì)的厚度均為5mn,利用金屬銀層
和此絕緣介質(zhì)層交替排列構(gòu)造出第二種多層膜結(jié)構(gòu)；由公式(1)計(jì)算可以得到該多層膜結(jié) 構(gòu)的介電常數(shù)實(shí)部為
1.1179， ￡:2 =-11.2750 當(dāng)TM波在該種介質(zhì)中傳播的時(shí)候，、和^的函數(shù)關(guān)系對(duì)應(yīng)的方程為
11.2750 U179
取對(duì)應(yīng)的漸近線的方程為;
-^H/fcJ = 0.314,
光波垂直于漸近線方向向上傳播，如圖2中的實(shí)箭頭所示；可以得到光波在其中的傳播方 向與&軸所成的角度的正切為
i械卜0.3149
如圖2所示，光線是會(huì)聚的，將該種多層膜結(jié)構(gòu)稱(chēng)為會(huì)聚結(jié)構(gòu)；
(3)由上述兩種對(duì)光具有不同調(diào)制效果的結(jié)構(gòu)粘合在一起，制作具有成像功能的多層
金屬介質(zhì)膜結(jié)構(gòu)，由于^| = 0.497/0.3149 = 1.58,所以可知發(fā)散結(jié)構(gòu)與會(huì)聚結(jié)構(gòu)的厚度比
例^L-j^j-l丄58，在此若取發(fā)散結(jié)構(gòu)的多層膜厚度為75nm，即交替排布的金屬銀層和 丄2 一|
空氣層共15層(如果金屬銀層為8層，空氣層就為7層，反之亦然)；那么會(huì)聚結(jié)構(gòu)的多 層膜厚度為120nm，即交替排布的金屬銀層和折射率n-2.2的絕緣介質(zhì)共24層(金屬銀層 和折射率n-2.2的絕緣介質(zhì)各12層)；最終結(jié)構(gòu)示意圖如圖3所示， 一種具有成像功能的 多層金屬介質(zhì)膜結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)完成。 實(shí)施例2
本發(fā)明實(shí)施例2的具體步驟如下 (1)入射光波長(zhǎng)為365mn，選擇第一組材料為金屬鋁和二氧化硅，在該波長(zhǎng)的照射下，
金屬鋁的折射率為nA產(chǎn)0.407+4.426i,對(duì)應(yīng)的介電常數(shù)￡'=-19.4238 + 3.6028i, 二氧化硅的
折射率" 。2 = 1.45671， 對(duì)應(yīng)的介電常數(shù)為^ = 1.45671 (以上參數(shù)取自Handbook of Optical
Materials, CRC Press)，取鋁和二氧化硅層的厚度《，《均為10nm，將鋁層和二氧化硅層交替排列構(gòu)造第一種多層膜結(jié)構(gòu)，那么由公式(1)計(jì)算可以得到該鋁一二氧化硅多層膜的 等效介電常數(shù)實(shí)部為
= -8.6509 ， szl = 4.7645
當(dāng)TM波在該種介質(zhì)中傳播的時(shí)候，^和^的函數(shù)關(guān)系對(duì)應(yīng)的方程為
4.7645 — 8.6509 — fl
取對(duì)應(yīng)的漸近線的方程為
t 1.347氛|
光波垂直于漸近線方向向上傳播，如圖1中的實(shí)箭頭所示，可以得到光波在其中的傳播方 向與&軸所成的角度的正切為
|姊卜1.3475
如圖1所示，光線是發(fā)散方向的，將該種多層膜結(jié)構(gòu)稱(chēng)為發(fā)散結(jié)構(gòu)；
(2) 選擇第二組材料為金屬銀和折射率n=2.2的絕緣介質(zhì)，該絕緣介質(zhì)在波長(zhǎng)365nm 的入射光作用下折射，對(duì)應(yīng)的介電常數(shù)&=4.84，銀和介質(zhì)的厚度均為10nm,利用金屬銀 層和此絕緣介質(zhì)層交替排列構(gòu)造出第二種多層膜結(jié)構(gòu)；由公式(1)計(jì)算可以得到該多層膜 結(jié)構(gòu)的介電常數(shù)實(shí)部為
1.1179， sz2 =-11.2750 當(dāng)TM波在該種介質(zhì)中傳播的時(shí)候，^和^的函數(shù)關(guān)系對(duì)應(yīng)的方程為
—11.2750 +1.1179 — 0
取對(duì)應(yīng)的漸近線的方程為
、=」一^"1、1 = 0.3149|^|
光波垂直于漸近線方向向上傳播，如圖2中的實(shí)箭頭所示；
可以得到光波在其中的傳播方向與^軸所成的角度的正切為
|賦| = 0.3149
如圖2所示，光線是會(huì)聚的，將該種多層膜結(jié)構(gòu)稱(chēng)為會(huì)聚結(jié)構(gòu)；
(3) 由上述兩種對(duì)光具有不同調(diào)制效果的結(jié)構(gòu)粘合在一起，制作具有成像功能的多層
金屬介質(zhì)膜結(jié)構(gòu)，由于|^1 = 1.3475/0.3149 = 4.2791'，所以可知發(fā)散結(jié)構(gòu)與會(huì)聚結(jié)構(gòu)的厚度
10比例l^)^lf = 1:4.2791,在此若取發(fā)散結(jié)構(gòu)的多層膜厚度為l加nm，即交替排布的金屬鋁
層和二氧化硅層共10層(金屬鋁層和二氧化硅層各5層)；那么會(huì)聚結(jié)構(gòu)的多層膜厚度為 420nm，即交替排布的金屬銀層和折射率n=2.2的絕緣介質(zhì)共42層(金屬銀層和折射率n =2.2的絕緣介質(zhì)層各21層)；最終結(jié)構(gòu)示意圖如圖4所示。
權(quán)利要求
1、一種能夠?qū)崿F(xiàn)成像功能的多層金屬介質(zhì)膜的設(shè)計(jì)方法，其特征在于以下步驟(1)選擇入射波，其波長(zhǎng)為λ，該入射波中只包含TM模式；(2)對(duì)于膜層厚度分別為dm，dd的金屬材料和介質(zhì)材料，在入射波的照射下，金屬材料和介質(zhì)材料的折射率分別為nm，nd，對(duì)應(yīng)的介電常數(shù)分別為εm，εd，若將多個(gè)這樣的金屬材料膜和介質(zhì)材料膜交替排列構(gòu)成多層膜結(jié)構(gòu)，此多層膜結(jié)構(gòu)材料的等效介電常數(shù)可以通過(guò)公式(1)計(jì)算獲得其中η＝dm/dd；η為金屬材料和介質(zhì)材料膜層厚度的比值，εx，εy，εz分別為在x，y，z三個(gè)方向的介電常數(shù)；(3)TM波在各向異性介質(zhì)中的波矢kx與kz的函數(shù)關(guān)系為其中kx，kz分別為T(mén)M波在x，z方向的波矢；ω為T(mén)M波的頻率；c為真空中的光速；k0為T(mén)M波在真空中的波矢；(4)選擇第一組金屬材料和介質(zhì)材料，在入射波的照射下，第一組金屬材料和介質(zhì)材料的折射率分別為nm1，nd1，對(duì)應(yīng)的介電常數(shù)分別為εm1和εd1，每一膜層厚度分別為dm1和dd1，將多個(gè)這樣的金屬材料膜和介質(zhì)材料膜交替排列成多層膜結(jié)構(gòu)，通過(guò)公式(1)計(jì)算使得第一組多層膜結(jié)構(gòu)材料的等效介電常數(shù)實(shí)部滿足εx1<0，εz1>0，此時(shí)公式(2)可以變化為該方程形式為雙曲線方程，光波傳輸方向垂直于漸近線，此時(shí)對(duì)應(yīng)的漸近線方程為則此時(shí)光波在第一組多層膜結(jié)構(gòu)材料中傳輸時(shí)與kz軸所成角度的正切為光波在該材料中是發(fā)散的，將該種多層膜結(jié)構(gòu)稱(chēng)為發(fā)散結(jié)構(gòu)；(5)選擇第二組金屬和介質(zhì)材料，在入射波的照射下，第二組金屬材料和介質(zhì)材料的折射率分別為nm2，nd2，對(duì)應(yīng)的介電常數(shù)分別為εm2和εd2，每一膜層厚度分別為dm2和dd2，將多個(gè)這樣的金屬材料膜和介質(zhì)材料膜交替排列成多層膜結(jié)構(gòu)，通過(guò)公式(1)計(jì)算使得第二組多層膜結(jié)構(gòu)材料的等效介電常數(shù)實(shí)部滿足εx2>0，εz2<0，那么此時(shí)公式(2)可以變化為該方程形式也為雙曲線方程，光波傳輸方向垂直于漸近線，此時(shí)漸近線方程為此時(shí)光波在第二組多層膜結(jié)構(gòu)材料中傳輸時(shí)與kz軸所成角度的正切為光波在該材料中是會(huì)聚的，將該種多層膜結(jié)構(gòu)稱(chēng)為會(huì)聚結(jié)構(gòu)；(6)選擇厚度分別為L(zhǎng)1和L2的兩種多層膜結(jié)構(gòu)，將該兩種會(huì)聚結(jié)構(gòu)多層膜和發(fā)散結(jié)構(gòu)多層膜組合在一起，完成能夠?qū)崿F(xiàn)成像功能的多層金屬介質(zhì)膜的設(shè)計(jì)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種能夠?qū)崿F(xiàn)成像功能的多層金屬介質(zhì)膜的設(shè)計(jì)方法，其特 征在于步驟(2)中的金屬材料為可以激發(fā)表面等離子體的金，銀，銅，鋁。
3、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種能夠?qū)崿F(xiàn)成像功能的多層金屬介質(zhì)膜的設(shè)計(jì)方法，其特 征在于步驟(2)中所述的材料的厚度《，^為3納米到50納米。
4、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種能夠?qū)崿F(xiàn)成像功能的多層金屬介質(zhì)膜的設(shè)計(jì)方法，其特 征在于步驟(2)中所述的多層膜結(jié)構(gòu)為形式上的各向異性結(jié)構(gòu)。
5、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種能夠?qū)崿F(xiàn)成像功能的多層金屬介質(zhì)膜的設(shè)計(jì)方法，其特 征在于步驟(2)中所述的多層膜結(jié)構(gòu)的層數(shù)可以為10層到100層。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能夠?qū)崿F(xiàn)成像功能的多層金屬介質(zhì)膜的設(shè)計(jì)方法，其特 征在于步驟(6)中兩種多層膜結(jié)構(gòu)的厚度丄,和^可以為50納米到2微米。
7、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種能夠?qū)崿F(xiàn)成像功能的多層金屬介質(zhì)膜的設(shè)計(jì)方法，其特征在于多層金屬介質(zhì)膜實(shí)現(xiàn)成像功能的時(shí)，物面和像面分別位于多層金屬介質(zhì)膜的下表面和上表面。
8、根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能夠?qū)崿F(xiàn)成像功能的多層金屬介質(zhì)膜的設(shè)計(jì)方法，其特 征在于步驟(6)中兩種多層膜結(jié)構(gòu)的厚度i,和IV滿足 <formula>formula see original document page 4</formula>
全文摘要
一種能夠?qū)崿F(xiàn)成像功能的多層金屬介質(zhì)膜的設(shè)計(jì)方法，其特征在于首先選擇入射波；再選擇兩組一定厚度的金屬材料和介質(zhì)材料，將兩組中的金屬和介質(zhì)分別交替排布構(gòu)成兩種多層金屬介質(zhì)膜結(jié)構(gòu)，根據(jù)入射波作用下每種材料的介電常數(shù)和每層膜的厚度能夠分別計(jì)算出這兩種多層金屬介質(zhì)膜的等效介電常數(shù)；然后通過(guò)設(shè)計(jì)各薄膜層的厚度可以實(shí)現(xiàn)等效介質(zhì)中各方向介電常數(shù)大小和正負(fù)的變化，由此可使光波通過(guò)第一組多層金屬介質(zhì)膜結(jié)構(gòu)發(fā)散，而通過(guò)第二組多層金屬介質(zhì)膜結(jié)構(gòu)會(huì)聚；將發(fā)散結(jié)構(gòu)多層膜和會(huì)聚結(jié)構(gòu)的多層膜按特定的厚度比例粘合在一起便構(gòu)成了具有成像功能的多層金屬介質(zhì)膜結(jié)構(gòu)器件，該器件可以實(shí)現(xiàn)對(duì)遠(yuǎn)小于工作波長(zhǎng)的細(xì)微結(jié)構(gòu)成像，達(dá)到超分辨的目的。
文檔編號(hào)G02B27/00GK101441325SQ20071017775
公開(kāi)日2009年5月27日 申請(qǐng)日期2007年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月20日
發(fā)明者杜春雷, 王長(zhǎng)濤, 羅先剛, 趙延輝 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所