專利名稱：升降式輻射成像裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種輻射成像裝置，特別是一種可以升降的輻射成像 裝置。
背景技術(shù)：
目前的輻射成像裝置，多為固定式和水平移動式。這些輻射成像 裝置共同的特點是，輻射裝置與成像裝置裝配在一起，形成檢測掃描 通道，且輻射裝置與成像裝置間沒有相對運動。正常工作時，被檢測 物體處在掃描通道中，通過被檢測物體與輻射成像裝置間的相對運動 完成檢測。這些輻射成像裝置一般體積與重量較大，不易拆卸與運輸， 而且被檢測物體受到輻射成像裝置掃描通道的限制，自身高度一般需 低于輻射成像裝置。

發(fā)明內(nèi)容
(一) 要解決的技術(shù)問題
本發(fā)明的目的是針對上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種可以升降 的輻射成像裝置。
(二) 技術(shù)方案
為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明釆用如下技術(shù)方案
本發(fā)明所述的一種升降式輻射成像裝置,包括具有輻射源的輻射 裝置和具有成像模塊的成像裝置，所述輻射裝置和成像裝置彼此相對 獨立布置，其中所述輻射裝置包括輻射底盤、安裝在輻射底盤上的輻
射一級升降機構(gòu)，輻射源活動設(shè)置在輻射一級升降機構(gòu)上；所述成像
裝置包括成像底盤、安裝在成像底盤上的成像一級升降機構(gòu)和安裝在 成像一級升降機構(gòu)上的成像二級升降機構(gòu)，所述成像模塊安裝在成像 二級升降機構(gòu)上。
4本發(fā)明所述輻射裝置還包括輻射二級升降機構(gòu)，在輻射二級升降 機構(gòu)上設(shè)有將輻射源由輻射一級升降機構(gòu)轉(zhuǎn)接到輻射二級升降機構(gòu) 上的轉(zhuǎn)接機構(gòu)。
本發(fā)明所述成像裝置還包括使成像二級升降機構(gòu)相對于成像一 級升降機構(gòu)旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)由定位塊和穿過成像模塊 支架中心的緊固螺栓構(gòu)成。
本發(fā)明在所述輻射底盤和/或成像底盤底面設(shè)有行走輪。
本發(fā)明所述輻射一級升降機構(gòu)包括固定在輻射底盤上的豎直安 裝架和安裝在豎直安裝架上的驅(qū)動電機、與驅(qū)動電機輸出軸聯(lián)接的絲 杠和與絲杠配合的絲杠螺母以及與絲杠螺母固定連接的支撐架，所述 輻射源放置在支撐架內(nèi)。
本發(fā)明所述輻射二級升降機構(gòu)包括固定安裝在輻射底盤上固定 桿、由電機驅(qū)動的活動桿，其中所述固定桿和活動桿是空心套管，在 所述電機的輸出軸上裝有卷揚輪，在所述卷揚輪上纏繞有鋼絲繩的一 端，所述鋼絲繩的另一端經(jīng)定滑輪穿過固定桿和活動桿的空心套管， 繞過活動桿上端的動滑輪固定在活動桿的下端。
本發(fā)明所述轉(zhuǎn)接機構(gòu)包括固定安裝在固定桿上的軌跡板、安裝在 活動桿上的掛鉤以及轉(zhuǎn)軸，在所述軌跡板上開有滑槽，所述轉(zhuǎn)軸的一 端固定在桂鉤上，另一端放置在軌跡板的滑槽內(nèi)；在所述掛鉤側(cè)面放 置輻射源支撐架上的掛柱與掛鉤側(cè)面的凹槽相配合。
本發(fā)明所述成像一級升降機構(gòu)包括安裝在成像底盤上的立柱、分 別安裝在立柱的下端部和頂端部的至少兩個同步帶輪和與各同步帶 輪配合的同步帶。
本發(fā)明所述成像二級升降機構(gòu)是包括固定在同步帶上的滑軌、與 滑軌配合的滑塊及驅(qū)動滑塊的電機，所述成像模塊安裝在滑塊上。 (三)有益效果
本發(fā)明所述的升降式輻射成像裝置的優(yōu)點和積極效果是本發(fā)明中，輻射裝置與成像裝置是兩個彼此分離的結(jié)構(gòu)，分別由各自的 升降機構(gòu)帶動實現(xiàn)升降，再通過現(xiàn)有的控制方式，可以使輻射裝置和
成像裝置實現(xiàn)同步升降，而且成像裝置還可以相對輻射裝置做升降運 動，從而完成對被檢測物的檢測。這種輻射成像裝置體積、重量較小， 拆裝、運輸方便；被檢測物的高度不受設(shè)備自身高度的限制，僅與設(shè) 備的升降高度有關(guān)，故可以檢測高度大于輻射成像裝置本身的物體； 成像裝置相對輻射裝置做升降運動，節(jié)省了成像模塊的數(shù)量，也簡化 了結(jié)構(gòu)。


圖i是本發(fā)明的升降式輻射成像裝置的工作原理圖2是本發(fā)明中的輻射裝置的結(jié)構(gòu)示意圖3(a)是本發(fā)明中輻射裝置中的轉(zhuǎn)接機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖，其中 掛鉤處于張開狀態(tài)；
圖3(b)是本發(fā)明中輻射裝置中的轉(zhuǎn)接機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖，其中 掛鉤處于閉合狀態(tài)；
圖3 (c)是圖3 (a)的側(cè)視圖3 (d)是圖3 (b)的側(cè)視圖4是本發(fā)明中的成像裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式
以下實施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。 參見圖1和圖2。本發(fā)明升降式輻射成像裝置，包括具有輻射源 的輻射裝置1和具有成像模塊的成像裝置3，且輻射裝置和成像裝置 彼此相對獨立布置。被檢測物2位于輻射裝置1和成像裝置3之間。 圖1顯示了檢測過程中的三個檢測位置，以I位置為開始檢測位置 為例來說明具體的檢測步驟。通電后，輻射裝置l、成像裝置3在各 自電機的帶動下開始上升，上升一段距離到達(dá)II位置后，輻射裝置1、 成像裝置3停止上升；接著，成像裝置3中的成像二級升降機構(gòu)帶動成像模塊開始上升，直到上升到成像二級升降機構(gòu)的最高位置， 然后再返回到初始位置停止，從而完成第一步檢測；接著，輻射裝 置l、成像裝置3在各自電機的帶動下再次上升，到達(dá)III位置停止， 成像裝置3中的成像二級升降機構(gòu)再次上升至其最高位置、返回， 完成第二步檢測，如此循環(huán)直至覆蓋被檢測物的全部，即檢測完成。 從圖1中可以看出，由輻射裝置l發(fā)出的射線東在整個上升過程 中覆蓋了全部的被檢測物2 ，而且每步之間均無間隙，同時，成像
裝置3接受了反映被檢測物2的全部信號，所以，該輻射成像裝置能
有效、準(zhǔn)確地檢測物體。
參見圖2，本發(fā)明中的輻射裝置包括輻射底盤23、輻射一級升降 機構(gòu)和輻射二級升降機構(gòu)，輻射源放置在與輻射一級升降機構(gòu)相連接 的支撐架8上，并可由輻射一級升降機構(gòu)轉(zhuǎn)接到輻射二級升降機構(gòu) 上。在輻射底盤23上安裝有萬向腳輪，可使整個輻射裝置在水平方 向移動。輻射一級升降機構(gòu)包括固定在輻射底盤23上的豎直安裝架 4和安裝在豎直安裝架4上的驅(qū)動電機5、與驅(qū)動電機5輸出軸連接 的絲杠6和與絲杠6配合的絲杠螺母7以及與絲杠螺母7固定連接的 支撐架8。輻射源放置在支撐架8內(nèi)，從而輻射源可以在電機帶動下 實現(xiàn)上下升降。
為了檢測更高的物體，輻射裝置還設(shè)置有輻射二級升降機構(gòu)。輻 射二級升降機構(gòu)為電動升降桿，包括固定桿9和活動桿10,其中， 固定桿9安裝在輻射底盤23上，活動桿10可由電機間接驅(qū)動實現(xiàn)上 下升降，其中所述固定桿9是空心套管，和活動桿10是空心套管， 在所述電機11的輸出軸上裝有卷揚輪，在所述卷揚輪上纏繞有鋼絲 繩的一端，所述鋼絲繩的另一端經(jīng)定滑輪穿過固定桿9和活動桿10 的空心套管，繞過活動桿10上端的動滑輪固定在活動桿10的下端。 此外，輻射裝置還設(shè)置有轉(zhuǎn)接機構(gòu)，用于將輻射源從輻射一級升降機 構(gòu)轉(zhuǎn)接到輻射二級升降機構(gòu)上。參見圖3，轉(zhuǎn)接機構(gòu)包括軌跡板12、掛鉤13、軸承座14和轉(zhuǎn)軸15，其中，軌跡板12固定安裝在輻射二 級升降機構(gòu)的固定桿9上，并在所述軌跡板12開有一定軌跡的滑槽 16;掛鉤13和軸承座14安裝在與輻射二級升降機構(gòu)活動桿10相連 接的提升架25上，在所述掛鉤13的側(cè)面上開有一個長槽27，所述 長槽與支撐架上的掛柱26配合，且掛鉤13可繞軸承座14轉(zhuǎn)動；轉(zhuǎn) 軸15的一端固定在掛鉤13上，另 一端放置在軌跡板12的滑槽16里， 當(dāng)輻射二級升降機構(gòu)的活動桿10在轉(zhuǎn)接位置升降時，轉(zhuǎn)軸15可沿軌 跡板l的滑槽16運動，當(dāng)轉(zhuǎn)軸15運動到所述滑槽16的上端點時， 所述掛鉤13上的長槽27呈豎直向下狀，這時正好使放置有輻射源支 撐架上的掛柱26插入掛鉤13上的長槽27內(nèi)，將放置有輻射源的支 撐架勾起，帶動輻射裝置一起實現(xiàn)二次上升。 見圖2、圖3，轉(zhuǎn)接機構(gòu)的動作過程為
以從輻射 一 級升降機構(gòu)向輻射二級升降機構(gòu)轉(zhuǎn)接為例來說明。當(dāng) 絲杠螺母7帶動輻射源到達(dá)II位置并停止在II位置時，此時掛鉤13 處在圖3 (a)所示的張開狀態(tài)，轉(zhuǎn)軸15處在軌跡板12上滑槽16的 最下端。接著，活動桿10在電機11帶動下開始上升，轉(zhuǎn)軸15在上 升的同時還要沿軌跡板12上的滑槽運動，從而引起掛鉤13繞軸承座 14轉(zhuǎn)動。當(dāng)轉(zhuǎn)軸15上升至軌跡板12上滑槽16的上端時，掛鉤13 轉(zhuǎn)到圖3 (b)所示的閉合狀態(tài)，此時，安裝在輻射源上的掛柱26穿 過掛鉤13上的長槽27，并將輻射源懸掛了起來。之后，輻射源將在 活動桿10的帶動下脫離輻射一級升降機構(gòu)，并到達(dá)更高的位置。從 輻射二級升降機構(gòu)向輻射一級升降機構(gòu)轉(zhuǎn)接與上述相反，掛鉤13將 從圖3 (b)所示的閉合狀態(tài)轉(zhuǎn)到圖3 (a)所示的張開狀態(tài)，并將輻 射源釋放到與輻射一級升降機連接的支撐架8上，從而完成轉(zhuǎn)接過 程。
圖2顯示了輻射裝置的整個升降過程，I位置為最低位置，II 位置為轉(zhuǎn)接位置，III位置為最高位置，以I位置為開始檢測位置來說明整個升降過程。通電后，絲杠螺母7在電機5帶動下開始上升，
經(jīng)過若干步上升后到達(dá)II位置并停止在II位置；接著，活動桿10在
電機11帶動下開始上升，此時，轉(zhuǎn)接機構(gòu)開始動作，將輻射源從輻
射一級升降機構(gòu)轉(zhuǎn)接到輻射二級升降機構(gòu)上；接著，在活動桿10的 帶動下，經(jīng)過若干步上升后，輻射源到達(dá)最高位置III處，從而完成 整個檢測過程。參見圖4，本發(fā)明中的成像裝置包括成像底盤24、成 像一級升降機構(gòu)和成像二級升降機構(gòu)，成像模塊安裝在成像二級升降 機構(gòu)上。在成像底盤24上安裝有萬向腳輪，可使整個裝置在水平方 向移動。成像一級升降機構(gòu)為一個同步帶傳動機構(gòu)，包括安裝在成像 底盤24上的立柱17、安裝在立柱17頂端部的一個同步帶輪18、安 裝在立柱17下部的兩個同步帶輪18和與各同步帶輪18配合的同步 帶19。成像二級升降機構(gòu)為一個導(dǎo)軌滑塊機構(gòu)，包括導(dǎo)軌20和滑塊 21,其中，導(dǎo)軌20可以隨著同步帶運動，固定在同步帶19上，滑塊 21在電機22帶動下可沿導(dǎo)軌20滑動，成像模塊安裝在滑塊21上， 通過其上下滑動來接受穿過被檢測對象的射線東，同時可以減少成像 模塊的數(shù)量。此外，成像二級升降機構(gòu)還可以相對于成像一級升降機 構(gòu)旋轉(zhuǎn)，所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)由安裝在同步帶上的定位塊和穿過成像裝置中 心的緊固螺栓構(gòu)成，當(dāng)需要旋轉(zhuǎn)成像裝置時，將緊固螺栓松開手動旋 轉(zhuǎn)成像裝置到定位塊規(guī)定的位置后，再將緊固螺栓旋緊使成像裝置重 新被固定。從而在一定程度上增加了檢測高度。
圖4顯示了成像裝置的整個升降過程，A位置為最低位置，B位 置為旋轉(zhuǎn)位置，C位置為最高位置，以A位置為開始檢測位置來說明 整個升降過程。通電后，同步帶輪18在電機帶動下開始轉(zhuǎn)動，同步 帶19開始上升，從而帶動成像單元上升，經(jīng)過若干步上升后到達(dá)B 位置(該位置高于輻射裝置升降過程中的II位置)，在此過程中的每 一步上升中，成像模塊都要通過在電機帶動下的滑塊沿導(dǎo)軌往復(fù)運動 一次；此時，在輻射裝置和成像裝置進(jìn)行下一步同步升降前，將成像
9二級升降機構(gòu)整個旋轉(zhuǎn)180度，并將成像二級升降機構(gòu)中的滑塊沿導(dǎo)
軌下降到最低位置；然后，成像一級升降機構(gòu)、成像二級升降機構(gòu)又
在各自電機帶動下繼續(xù)上升和下降，經(jīng)過若干步后到達(dá)最高位置c
處，從而完成整個檢測過程。
通過以上結(jié)合附圖對本發(fā)明的詳細(xì)描述，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員 能夠理解，經(jīng)本發(fā)明的升降式輻射裝置運動可靠，體積、重量較小， 便于拆裝，而且可以檢測高度大于其本身的物體。
權(quán)利要求
1. 一種升降式輻射成像裝置，包括具有輻射源的輻射裝置和具有成像模塊的成像裝置，其特征在于所述輻射裝置和成像裝置彼此相對獨立布置，其中所述輻射裝置包括輻射底盤(23)、安裝在輻射底盤(23)上的輻射一級升降機構(gòu)，輻射源活動設(shè)置在輻射一級升降機構(gòu)上；所述成像裝置包括成像底盤(24)、安裝在成像底盤(24)上的成像一級升降機構(gòu)和安裝在成像一級升降機構(gòu)上的成像二級升降機構(gòu)，所述成像模塊安裝在成像二級升降機構(gòu)上。
2. 如權(quán)利要求l所述的升降式輻射成像裝置，其特征在于所述輻 射裝置還包括輻射二級升降機構(gòu)，在輻射二級升降機構(gòu)上設(shè)有將輻射 源由輻射一級升降機構(gòu)轉(zhuǎn)接到輻射二級升降機構(gòu)上的轉(zhuǎn)接機構(gòu)。
3. 如權(quán)利要求l所述的升降式輻射成像裝置，其特征在于所述成 像裝置還包括使成像二級升降機構(gòu)相對于成像一級升降機構(gòu)旋轉(zhuǎn)的 旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)由定位塊和穿過成像模塊支架中心的緊固螺 栓構(gòu)成。
4. 如權(quán)利要求1所述的升降式輻射成像裝置，其特征在于在所述 輻射底盤(23)和/或成像底盤(24)底面設(shè)有行走輪。
5. 如權(quán)利要求1所述的升降式輻射成像裝置，其特征在于所述輻 射一級升降機構(gòu)包括固定在輻射底盤(23)上的豎直安裝架(4)和 安裝在豎直安裝架(4)上的驅(qū)動電機(5)、與驅(qū)動電機(5)輸出軸 聯(lián)接的絲杠(6)和與絲杠(6)配合的絲杠螺母(7)以及與絲杠螺 母(7)固定連接的支撐架(8)，所述輻射源放置在支撐架(8)內(nèi)。
6. 如權(quán)利要求1所述的升降式輻射成像裝置，其特征在于所述輻 射二級升降機構(gòu)包括固定安裝在輻射底盤(23)上固定桿(9)、由電 機(11)驅(qū)動的活動桿(10),其中所述固定桿(9)和活動桿(10) 是空心套管，在所述電機(11)的輸出軸上裝有卷揚輪，在所述卷揚 輪上纏繞有鋼絲繩的一端，所述鋼絲繩的另 一端經(jīng)定滑輪穿過固定桿(9) 和活動桿(10)的空心套管，繞過活動桿(10)上端的動滑輪 固定在活動桿(10)的下端。
7. 如權(quán)利要求2所述的升降式輻射成像裝置，其特征在于所述轉(zhuǎn) 接機構(gòu)包括固定安裝在固定桿(9)上的軌跡板(12)、安裝在活動桿(10) 上的掛鉤(13)以及轉(zhuǎn)軸(15)，在所述軌跡板(12)上開有 滑槽(16)，所述轉(zhuǎn)軸(15)的一端固定在掛鉤(13)上，另一端放 置在軌跡板(12)的滑槽(16)內(nèi)；在所述掛鉤(13)側(cè)面放置輻射 源支撐架(8)上的掛柱(26)與掛鉤(13)側(cè)面的凹槽(27)相配 合。
8. 如權(quán)利要求l所述的升降式輻射成像裝置，其特征在于所述成 像一級升降機構(gòu)包括安裝在成像底盤(24)上的立柱(17)、分別安 裝在立柱(17)的下端部和頂端部的至少兩個同步帶輪(18)和與各 同步帶輪(18)配合的同步帶(19)。
9. 如權(quán)利要求8所述的升降式輻射成像裝置，其特征在于所述成 像二級升降機構(gòu)是包括固定在同步帶(19)上的滑軌(20)、與滑軌(20)配合的滑塊(21)及驅(qū)動滑塊(21)的電機(22)，所述成像模 塊安裝在滑塊(21)上。
全文摘要
本發(fā)明輻射成像裝置涉及一種可升降式的輻射成像裝置。包括具有輻射源的輻射裝置和具有成像模塊的成像裝置，其中所述輻射裝置和成像裝置彼此相對獨立布置，其中所述輻射裝置包括輻射底盤、安裝在輻射底盤上的輻射一級升降機構(gòu)，輻射源活動設(shè)置在輻射一級升降機構(gòu)上；所述成像裝置包括成像底盤、安裝在成像底盤上的成像一級升降機構(gòu)和安裝在成像一級升降機構(gòu)上的成像二級升降機構(gòu)，所述成像模塊安裝在成像二級升降機構(gòu)上。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，體積小，重量輕，且輻射裝置與成像裝置分為兩部分結(jié)構(gòu)，便于拆裝和運輸，并可以檢測高度大于輻射成像裝置本身的物體。
文檔編號G03B42/02GK101441400SQ200710177750
公開日2009年5月27日 申請日期2007年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月20日
發(fā)明者劉飛燕, 李薦民, 楊中榮, 勇 畢, 溫燕杰, 趙自然, 闞洪友 申請人:同方威視技術(shù)股份有限公司;清華大學(xué)