專(zhuān)利名稱(chēng)：具有改進(jìn)的圖像質(zhì)量的面內(nèi)切換模式液晶顯示器件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種液晶顯示器件(LCD)，更具體，涉及橫向電場(chǎng) LCD器件，如面內(nèi)切換模式(IPS-模式)LCD器件。
背景技術(shù)：
LCD器件包括背光單元和在背光單元的正面或發(fā)光側(cè)上布置的 LCD面板。LCD面板對(duì)于其中以矩陣布置的像素執(zhí)行光學(xué)切換，并在 屏幕上顯示圖像。此外，LCD面板也可以通過(guò)連續(xù)地執(zhí)行每個(gè)像素的 光學(xué)切換，顯示視頻圖像。近年來(lái)，由于LCD器件的較輕重量和較小厚度的優(yōu)點(diǎn)，LCD器件 的被廣泛地用于車(chē)輛設(shè)備領(lǐng)域如汽車(chē)導(dǎo)航系統(tǒng)、各種工業(yè)裝置、醫(yī)學(xué) 或廣播裝置等。隨著LCD器件的廣泛使用，對(duì)于LCD，越來(lái)越希望較 高的性能。作為用于LCD器件的驅(qū)動(dòng)方案，通常采用TN(扭曲-向列型)模式， 其中LCD器件在一對(duì)基板之間產(chǎn)生垂直電場(chǎng)，S卩，在有源矩陣基板和 反基板之間。但是，由于從基板表面上升的液晶(LCD)分子的定向， TN模式導(dǎo)致入射光的極化角產(chǎn)生偏差。該偏差隨觀(guān)察者相對(duì)于屏幕的 垂線(xiàn)的視角增加而增加，由此在較高的視角處，LCD器件具有較差的 圖像質(zhì)量。鑒于常規(guī)TN-模式LCD器件中的上述問(wèn)題，橫向-電場(chǎng)模式(LEF-
模式)LCD器件如IPS-模式(面內(nèi)切換模式)或FFS-模式(邊緣場(chǎng)切換 模式)LCD器件被提出并被越來(lái)越多地使用。LEF-模式LCD器件產(chǎn)生 平行于其間夾入LC層的兩個(gè)基板的橫向電場(chǎng)，且因此旋轉(zhuǎn)平行于基板 的LC層中的LC分子。LEF-模式LCD器件包括有源-矩陣基板、有源-矩 陣基板上形成的用于驅(qū)動(dòng)電極的TFT (薄膜晶體管)以及與有源矩陣基 板相對(duì)的反基板，其間插入LC層，該有源-矩陣基板包括用于施加橫向 電場(chǎng)到LC層的電極。該兩個(gè)基板在其上包括在基板表面上與LC層接觸的定向膜，該定 向膜限定LC層中的LC分子的初始定向，g口，在沒(méi)有電場(chǎng)期間。因此， 每個(gè)灰階級(jí)的LC分子的旋轉(zhuǎn)角由施加的電壓和由定向膜產(chǎn)生的定向力 之間的平衡決定。通常， 一般使用研磨技術(shù)形成定向膜。該研磨技術(shù) 是，通過(guò)特定種類(lèi)的布(cloth)，在用于取向聚合物表面的特定方向 上，使配置定向膜的表面的聚合物如聚酰胺經(jīng)受研磨。但是，近年來(lái)， 因?yàn)閷?duì)較高圖像質(zhì)量的LCD器件的需求增加，因此通過(guò)研磨處理在定 向膜表面上/從定向膜表面形成的劃痕或灰塵被認(rèn)為不可忽略。為了抑制由劃痕或灰塵引起的LCD器件的圖像質(zhì)量降低，無(wú)接觸定向技術(shù)被強(qiáng)調(diào)，其中在不使用研磨處理的條件下形成定向膜。專(zhuān)利
發(fā)明者佐佐木洋一, 杉本光弘, 溝口親明, 田中大充, 鈴木照晃 申請(qǐng)人:Nec液晶技術(shù)株式會(huì)社