專利名稱:圖像處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及圖像處理裝置,所述圖像處理裝置具有拾取目標(biāo)圖像的 圖像拾取單元、以及將成像光投射到所述圖像拾取單元的圖像拾取區(qū)域 的投影單元。
背景技術(shù):
已經(jīng)公知有從遠(yuǎn)程位置使用圖像來發(fā)送指示的技術(shù)。通過這些技術(shù), 將由攝像機拾取的預(yù)定區(qū)域的圖像發(fā)送到遠(yuǎn)程位置,并且通過投影儀將 基于來自遠(yuǎn)程位置的指示的注釋圖像投影到攝像機的圖像拾取區(qū)域上
(參見日本特開2005-33756號公報和美國專利申請公開第2004/0070674號)。
在這些常規(guī)技術(shù)中,攝像機和投影儀容納在殼體中,并被遮蔽了外 部光,攝像機的光學(xué)系統(tǒng)和投影儀的光學(xué)系統(tǒng)被設(shè)計為借助于半鏡而共 用同一光軸,從而使得攝像機的每一個圖像拾取范圍都對應(yīng)于投影范圍。
如上所述,在攝像機和投影儀容納在殼體中并且攝像機的光學(xué)系統(tǒng) 和投影儀的光學(xué)系統(tǒng)被設(shè)計為借助于半鏡而共用同一光軸的情況下,從 投影儀向半鏡發(fā)出的成像光中的不用于投影的成像光在殼體中可能散射 為雜散光并進入攝像機。因此,將稱為阱(trap)的用于吸收和衰減不用 于投影的成像光的光衰減元件與半鏡相對地設(shè)置在接收不用于投影的成 像光的位置。例如在日本特開9-5663號公報中公開了這種抑制雜散光 的技術(shù)。
在上述與攝像機集成為一體的投影儀裝置中,在要沿水平方向?qū)δ?標(biāo)圖像進行拾取和投影的情況下的裝置朝向需要與在要從上方對目標(biāo)圖 像進行拾取和投影的情況下的裝置朝向有所不同。在圖像拾取方向和投 影方向受諸如目標(biāo)形狀的目標(biāo)情況的限制的情況下,裝置朝向也需要變化。
然而,由于投影儀設(shè)計上的各種制約,難以將與被設(shè)計為放置在水 平面上的攝像機集成為一體的投影儀裝置從天花板吊下(或者難以將與 被設(shè)計為從天花板吊下的攝像機集成為一體的投影儀設(shè)置在水平面上)。 因此,必須準(zhǔn)備具有適合于使用條件(諸如限于水平面的使用或者限于 從天花板吊下的使用)地設(shè)置的攝像機和投影儀的裝置。
由此,必須根據(jù)要拾取并投影其圖像的各個目標(biāo)的投影條件和圖像 拾取條件來準(zhǔn)備與攝像機集成為一體的投影儀裝置。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明的目的是提供消除了上述缺點的圖像處理裝置。 本發(fā)明的更具體目的是提供一種能夠根據(jù)要拾取并投影其圖像的目 標(biāo)的條件來改變投影和圖像拾取方向的圖像處理裝置。
根據(jù)本發(fā)明的--方面,提供一種圖像處理裝置,該圖像處理裝置包
括.-第一圖像拾取單元;投影單元,其投射成像光;光學(xué)單元,其透射 從第一圖像拾取方向進入的光的一部分并將這部分光導(dǎo)向所述第一圖像 拾取單元,同時反射從所述投影單元投射的成像光的一部分并沿所述第 一圖像拾取方向輸出反射光,并且,其反射從第二圖像拾取方向進入的 光的一部分并將這部分光導(dǎo)向所述第一圖像拾取單元,同時透射從所述 投影單元投射的成像光的一部分并沿所述第二圖像拾取方向輸出這部分 成像光;以及衰減單元,其可移動地設(shè)置在可以接收透過所述光學(xué)單元 的成像光的位置與可以接收由所述光學(xué)單元反射的成像光的位置之間, 并且對所接收的成像光進行衰減。使用此結(jié)構(gòu),無需改變裝置的朝向, 通過調(diào)節(jié)衰減單元的位置即可改變投影方向和圖像拾取方向。
上述圖像處理裝置可以進一步包括殼體,所述殼體遮蔽所述第一圖 像拾取單元、所述投影單元中的至少光學(xué)系統(tǒng)、以及所述光學(xué)單元,所 述殼體具有第一光射入/射出單元,其接收來自第一圖像拾取方向的光, 并發(fā)射由所述投影單元投射的成像光的一部分;以及第二光射入/射出單 元,其接收來自第二圖像拾取方向的光,并發(fā)射由所述投影單元投射的
成像光的一部分;并且,所述衰減單元被設(shè)計為選擇性遮蔽所述第一光 射入/射出單元和所述第二光射入/射出單元。
上述圖像處理裝置可以進一步包括第一調(diào)節(jié)機構(gòu),所述第一調(diào)節(jié)機 構(gòu)對由所述投影單元投射的成像光的方向進行調(diào)節(jié)。使用此結(jié)構(gòu),對成 像光投影方向進行調(diào)節(jié)以使得光學(xué)單元不處于投影范圍內(nèi)。因此,可以 將圖像直接投影在諸如屏幕的顯示區(qū)域上。
上述圖像處理裝置可以進一步包括第二圖像拾取單元,所述第二圖 像拾取單元對通過由所述投影單元投射的成像光在其上投影了圖像的預(yù) 定顯示區(qū)域的圖像進行拾取。使用此結(jié)構(gòu),可以獲得關(guān)于投影在顯示區(qū) 域上的圖像的圖像信息,并且可以將該圖像信息發(fā)送到遠(yuǎn)程位置。
所述圖像處理裝置可以進一步包括圖像處理單元,其由所述第一 圖像拾取單元、所述投影單元、所述光學(xué)單元、以及所述衰減單元形成; 和第二調(diào)節(jié)機構(gòu),其調(diào)節(jié)所述圖像處理單元的位置和設(shè)置角度中的至少 一個。使用此結(jié)構(gòu),可以適當(dāng)?shù)卦O(shè)置圖像處理單元與目標(biāo)之間的位置關(guān) 系來拾取目標(biāo)的圖像并投射成像光。
所述圖像處理裝置可以進一步包括反射單元,當(dāng)通過所述第二調(diào)節(jié) 機構(gòu)的位置調(diào)節(jié)而使得所述圖像處理單元位于預(yù)定位置時,所述反射單 元位于所述第一圖像拾取單元的圖像拾取范圍內(nèi)。在此,所述反射單元 例如可以是鏡。
所述圖像處理裝置可以進一步包括對所述圖像處理單元的位置進行 檢測的檢測單元。
在上述圖像處理裝置中,當(dāng)所述檢測單元檢測到的所述圖像處理單 元的位置是使得所述反射單元位于所述第一圖像拾取單元的圖像拾取范 圍內(nèi)的位置時,所述投影單元可以投射與通過反轉(zhuǎn)由所述第一圖像拾取 單元拾取的圖像而獲得的圖像對應(yīng)的成像光。
所述圖像處理裝置可以進一步包括對所述圖像處理單元的位置進行 檢測的檢測單元。
在上述圖像處理裝置中,當(dāng)所述檢測單元檢測到的所述圖像處理單 元的位置是使得所述反射單元位于所述第一圖像拾取單元的圖像拾取范
圍內(nèi)的位置時,所述投影單元可以投射與通過反轉(zhuǎn)由所述第一圖像拾取 單元拾取的圖像而獲得的圖像對應(yīng)的成像光。如果所述反射單元位于所 述第一 圖像拾取單元的圖像拾取范圍內(nèi),則通過投射與所述第一 圖像拾 取單元拾取的圖像對應(yīng)的成像光而形成的圖像是所拾取圖像的反像。因 此,投影儀投射與通過反轉(zhuǎn)由所述第一圖像拾取單元拾取的圖像而獲得 的圖像對應(yīng)的成像光。這樣,可以執(zhí)行適當(dāng)?shù)膱D像投影。
在上述圖像處理裝置中,當(dāng)所述檢測單元檢測到的所述圖像處理單 元的位置是使得所述反射單元位于所述投影單元的成像光投影范圍內(nèi)的 位置時,所述投影單元可以停止投射成像光。
所述圖像處理裝置可以進一步包括排除機構(gòu),當(dāng)所述檢測單元檢測 到的所述圖像處理單元的位置是使得所述反射單元位于所述投影單元的 成像光投影范圍內(nèi)的位置時,所述排除機構(gòu)將所述反射單元排除出所述 投影單元的成像光投影范圍。使用此結(jié)構(gòu),反射單元不會位于成像光投 影方向的延長線上。因此,可以將圖像直接投影到諸如屏幕的顯示區(qū)域 上。
在上述圖像處理裝置中,所述圖像處理單元可以接合于天花板。 在上述圖像處理裝置中,所述圖像處理單元可以可滑動地接合到臺
架(stand )。
根據(jù)本發(fā)明的一方面,可以在不改變裝置的朝向和位置的情況下改 變圖像拾取方向和投影方向。
基于以下附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的示例性實施例,在附圖中 圖1A和IB示意性地示出作為圖像處理裝置的部件的圖像處理單元 的結(jié)構(gòu);
圖2示出光學(xué)阱的第一具體示例結(jié)構(gòu); 圖3示出光學(xué)阱的第二具體示例結(jié)構(gòu); 圖4A和4B是圖像處理單元的側(cè)面圖5示出了投影儀的投影方向相對于屏幕的投影面的角度的示例;
圖6是圖像處理單元位于目標(biāo)上方的圖像處理裝置的側(cè)面圖7是圖像處理單元設(shè)置在與目標(biāo)相同的水平面中的圖像處理裝置
的側(cè)面圖8是鏡設(shè)置在圖像處理單元的投影儀的投影方向的延長線上的圖 像處理裝置的側(cè)面圖9是其中投影儀的投影方向為水平并且圖像處理單元設(shè)置在使得 屏幕位于投影方向延長線上的位置的圖像處理裝置的側(cè)面圖10是其中投影儀向斜下方投射光并且圖像處理單元設(shè)置在使得 屏幕位于投影方向延長線上的位置的圖像處理裝置的惻面圖11是圖像處理單元位于使得鏡處于攝像機的圖像拾取范圍內(nèi)的位 置的圖像處理裝置的側(cè)面圖;以及
圖12是其中將鏡排除出攝像機的圖像拾取范圍的圖像處理裝置的 側(cè)面圖。
具體實施例方式
現(xiàn)在參照附圖給出對本發(fā)明的示例性實施例的描述。圖1A和1B示 意性地示出了作為在本示例性實施例中采用的圖像處理裝置的部件的圖 像處理單元的結(jié)構(gòu)。圖1A和1B中示出的各個圖像處理單元拾取目標(biāo)300 的圖像,并且對所拾取的圖像進行投影。各個圖像處理單元10包括作 為光學(xué)元件的半鏡12、作為第一圖像拾取單元的攝像機14、作為投影單 元的投影儀16、作為衰減單元的光學(xué)阱18、以及為這些元件遮蔽外部光 的殼體H。
殼體11包括允許沿水平方向射入光并且發(fā)射從投影儀16投射的圖 像的光的一部分的光射入/射出單元IIA、以及允許從下方射入光并且發(fā) 射從投影儀16投射的圖像的光的一部分的光射入/射出單元IIB。為這 兩個光射入/射出單元IIA和11B選擇性地設(shè)置光學(xué)阱18,光學(xué)阱18遮 蔽各個光射入/射出單元IIA和IIB。
在圖1A和1B中,半鏡12的位置位于攝像機14的圖像拾取范圍內(nèi) 以及投影儀16的成像光的投影范圍內(nèi)。攝像機14拾取設(shè)置在其下方的 目標(biāo)的圖像。在圖1A中,攝像機14接收目標(biāo)300的透過半鏡12的光, 并且拾取設(shè)置在地板等上的目標(biāo)300的圖像。在圖1B中,攝像機14接 收目標(biāo)300的被半鏡12反射的光,并且拾取設(shè)置在桌子等上的目標(biāo)300 的圖像。同時,投影儀16沿著水平方向投射成像光。投影儀16經(jīng)由半 鏡12將與由攝像機14獲得的圖像對應(yīng)的成像光投射到屏幕等(未示出)。
光學(xué)阱18屬于可移動型,并且對光進行衰減。更具體來說,在攝像 機14接收目標(biāo)300的透過半鏡12的光并且拾取目標(biāo)300的圖像的情況 下,光學(xué)阱18位于圖像處理單元10的側(cè)面,或者位于投影儀16的投影 方向的延長線上,以防止圖像拾取所不需要的光被半鏡12反射并進入攝 像機14。在攝像機14接收目標(biāo)300的被半鏡12反射的光并且拾取目標(biāo) 300的圖像的情況下,光學(xué)阱18位于圖像處理單元10的下方,或者位于 攝像機14的圖像拾取方向的延長線上,以防止不必要的光透過半鏡12 并進入攝像機14。
圖2和3詳細(xì)例示出光學(xué)阱18的結(jié)構(gòu)。圖2所示的光學(xué)阱18包括 凹面鏡104、垂直板107、水平板108、以及光衰減濾光器109、 110和 111。凹面鏡104對透過半鏡12的成像光進行反射。垂直板107位于凹 面鏡104反射的光的聚焦區(qū)域。水平板108接合到垂直板107的遠(yuǎn)離半 鏡12的端部。
光衰減濾光器110形成在垂直板107中。光衰減濾光器110具有用 于抑制光透射的ND涂層、用于抑制光反射的AR涂層等。由凹面鏡104 反射的光被光衰減濾光器110衰減,但是反射光的一部分被再次反射并 且到達(dá)形成在凹面鏡104上的光衰減濾光器109。光衰減濾光器109與光 衰減濾光器110具有相同的結(jié)構(gòu)。到達(dá)光衰減濾光器109的光被衰減, 但是該光的一部分被反射并且到達(dá)光衰減濾光器IIO。此后,光衰減濾光 器109與光衰減濾光器110之間的光反射反復(fù)發(fā)生,從而逐步使光衰減。 光衰減濾光器109可以完全或部分地設(shè)置在凹面鏡104上。
另一方面,圖3所示的光學(xué)阱18包括光衰減濾光器124和無反射器 125。透過半鏡12的成像光被扁平型光衰減濾光器124衰減,但該成像 光的一部分被半鏡12反射。橫截面為矩形少一邊的形狀的無反射器125
位于由光衰減濾光器反射的光入射的位置。無反射器125吸收該反射光。 此光學(xué)阱18的光接收面可以形成有諸如絨的織物。
圖4A和4B是圖像處理單元10的側(cè)面圖。作為第一調(diào)整機構(gòu)的接 合基座22接合有攝像機,并且接合有投影儀16,投影儀16的投影方向 是可以調(diào)節(jié)的。光學(xué)阱18形成在光學(xué)阱單元20中。
由于投影儀16的投影方向是可以調(diào)節(jié)的,所以對成像光的投射方向 進行調(diào)節(jié)以使得半鏡12不位于投影范圍之內(nèi),如圖4B所示。這樣,成 像光可以直接投射到屏幕200上。
在屏幕200的投影面沿垂直方向延伸的情況下,圖4A所示的狀態(tài)下 的圖像處理單元10中的投影儀16的成像光投影方向與屏幕的投影面垂 直。因此,在投影圖像的中心觀察到圓形的亮度分布,或者形成所謂的 熱斑。然而,投影儀16如圖4B所示地發(fā)生傾斜,使得投影儀16的成像 光投影方向不能相對于屏幕200的投影面形成直角,如圖5所示。這樣, 不能在屏幕200上形成熱斑。
在圖像處理單元10中的投影儀16的成像光投影方向與屏幕200的 投影面不垂直的情況下,如圖5所示,在投影到屏幕200上的圖像中可 能引起梯形失真。在此情況下,內(nèi)置在投影儀16中的投影透鏡(未示出) 沿著預(yù)定方向偏移,并且投射校正了失真的成像光。這樣,可以校正梯 形失真。
例如,通過控制接合基座22的個人計算機(PC)等來設(shè)置投影儀 16的傾斜角度。從PC向投影儀16輸入傾斜角度?;诖藘A斜角度,對 成像光進行校正。另選的是,將回轉(zhuǎn)儀接合到投影儀16,并將由回轉(zhuǎn)儀 檢測到的傾斜角度輸入投影儀16?;诖藘A斜角度,投影儀16對成像光 進行校正。在由攝像機14拾取的圖像中出現(xiàn)梯形失真的情況下,可以使 用與上述相同的方式對圖像進行校正。
圖4B所示的攝像機30拾取通過成像光投射而在其上投影有圖像的 屏幕200的圖像。如果將攝像機14設(shè)計為可以移動并且可以拾取其上投 影有圖像的屏幕200的圖像,則攝像機30是不必要的。然而,考慮到半 鏡12上的灰塵和污點,具有對屏幕200的圖像進行拾取的攝像機是理想
的。
圖6和圖7是其上安裝有圖像處理單元10的第一圖像處理裝置的側(cè)
面圖。圖像處理單元10設(shè)置在可滑動地接合于臺架41的作為第二調(diào)節(jié) 機構(gòu)的升降式可移動擱板40上。這樣,圖像處理單元10可以上下移動。 在圖6中,目標(biāo)300-1設(shè)置在位于位置A的圖像處理單元10的下方。 在此情況下,光學(xué)阱18設(shè)置在圖像處理單元10的側(cè)面,或者設(shè)置在投 影儀16的投影方向的延長線上,如圖1A所示。攝像機14接收目標(biāo)300-1 的透過半鏡12的光,并且拾取目標(biāo)300-l的圖像。來自投影儀16的成像 光被半鏡12反射,并且向下投射??梢苿訑R板可以被設(shè)計為使得圖像處 理單元10傾斜。
另一方面,在圖7中,目標(biāo)300-2并非設(shè)置在圖像處理單元10的下 方。在此情況下,圖像處理單元10向下移動到與目標(biāo)300-2相同的水平 面中的位置(位置B)。光學(xué)阱18設(shè)置在圖像處理單元10的下方,或者 設(shè)置在攝像機14的圖像拾取方向的延長線上,如圖1B所示。攝像機14 接收目標(biāo)300-2的被半鏡12反射的光,并且拾取目標(biāo)300-2的圖像。來 自投影儀16的成像光透過半鏡12,并且沿水平方向投射。
圖8、 9和10是其上安裝有圖像處理單元10的第二圖像處理裝置的 側(cè)面圖。與第一圖像處理裝置相同,圖像處理單元10設(shè)置在可移動擱板 40上,并且可以上下移動。在圖像處理單元IO位于位置C的情況下, 作為反射裝置的鏡50設(shè)置在投影儀16的投影方向的延長線上。
在圖像處理單元10如圖8所示地位于位置C的情況下,光學(xué)阱18 設(shè)置在圖像處理單元10的下方,或者設(shè)置在攝像機14的圖像拾取方向 的延長線上,如圖1B所示。攝像機14接收目標(biāo)300-1的被鏡50反射并 且透過半鏡12的光。攝像機14隨后拾取目標(biāo)300-1的圖像。在圖像處理 單元位于在位置D的情況下,光學(xué)阱18設(shè)置在圖像處理單元10的側(cè)面, 或者設(shè)置在投影儀16的投影方向的延長線上。攝像機14接收目標(biāo)300-2 的被半鏡12反射的光,并且拾取目標(biāo)300-2的圖像。
在圖9中,圖像處理單元10位于位置E。在此情況下,光學(xué)阱18 設(shè)置在圖像處理單元10的下方,或者設(shè)置在攝像機14的圖像拾取方向
的延長線上,如圖1B所示。來自投影儀16的成像光透過半鏡12,并且 水平地投射在屏幕200上。
在圖10中,圖像處理單元10位于位置F。該圖像處理單元10發(fā)生 傾斜以使得向斜下方投射從投影儀16發(fā)射并透過半鏡12的成像光。在 此情況下,光學(xué)阱18設(shè)置在圖像處理單元10的下方,或者設(shè)置在攝像 機14的圖像拾取方向的延長線上,如圖1B所示。來自投影儀16的成像 光透過半鏡12并且向斜下方投射。這樣,成像光投射到屏幕200上。
圖11是其上安裝有圖像處理單元10的第三圖像處理裝置的側(cè)面圖。 與第二圖像處理裝置不同,第三圖像處理裝置具有對設(shè)置在可移動擱板 40上的圖像處理單元10的位置進行檢測的接觸傳感器60。更具體來說, 在圖像處理單元IO位于使得鏡50處于攝像機14的圖像拾取范圍內(nèi)的位 置的情況下,接觸傳感器60位于可以與圖像處理單元IO接觸的位置。
在圖11所示的情況下,當(dāng)接觸傳感器60與位于位置G的圖像處理 單元10接觸時,將對此結(jié)果的檢測信號發(fā)送到投影儀16。當(dāng)投影儀16 接收到該檢測信號時,即當(dāng)鏡50位于攝像機14的圖像拾取范圍內(nèi)時, 投影儀16對攝像機14拾取的圖像進行左右反轉(zhuǎn),并投射與該左右反轉(zhuǎn) 的圖像對應(yīng)的成像光。這樣,在屏幕上投影沒有反轉(zhuǎn)的圖像。如果投影 儀16沒有接收到檢測信號,即如果鏡50并非位于攝像機14的圖像拾取 范圍內(nèi),則投影儀16投射與攝像機14拾取的圖像對應(yīng)的成像光。
圖12是其上安裝有圖像處理單元10的第四圖像處理裝置的側(cè)面圖。 與第二圖像處理裝置不同,第四圖像處理裝置具有可以向上翻的鏡50、 以及對設(shè)置在可移動擱板40上的圖像處理單元10的位置進行檢測的接 觸傳感器70。更具體來說,在圖像處理單元10位于使得鏡50處于投影 儀16的成像光投影范圍內(nèi)的位置的情況下,接觸傳感器70設(shè)置在可以 與圖像處理單元10接觸的位置。
在圖12所述的情況下,當(dāng)接觸傳感器70與位于位置G的圖像處理 單元10接觸時,將對此結(jié)果的檢測信號發(fā)送到投影儀16。當(dāng)投影儀16 接收到該檢測信號時,即當(dāng)鏡50位于投影儀16的成像光投影范圍內(nèi)時, 投影儀16停止投射成像光。另選的是,當(dāng)投影儀16接收到該檢測信號
時,投影儀16進行控制操作以將鏡50向上翻,由此將鏡50排除出投影 儀16的成像光投影范圍??梢詫㈢R50手動上翻。
如上所述,在本示例性實施例采用的圖像處理裝置中,限制了圖像 處理單元10的投影儀16的成像光投影方向。因此,即使攝像機14的圖 像拾取方向受到限制時,攝像機14也可以通過接收透過半鏡12的光或 者由半鏡12反射的光來拾取目標(biāo)的圖像。因此,攝像機14具有兩個圖 像拾取方向,在圖像拾取中有更大的自由度。
此外,借助于可移動光學(xué)阱18,圖像拾取所不需要的光不能到達(dá)攝 像機14,可以恰當(dāng)?shù)厥叭∧繕?biāo)300的圖像。
此外,由于可以調(diào)節(jié)投影儀16的成像光投影方向,所以可以將半鏡 12排除出投影范圍。這樣,可以將圖像直接投射在屏幕200上。此外, 由于可以沿垂直方向調(diào)節(jié)圖像處理單元10的位置和設(shè)置角度,所以可以 適當(dāng)?shù)卦O(shè)置圖像處理單元10與目標(biāo)300之間的位置關(guān)系以拾取目標(biāo)的圖 像并且投射成像光。
在上述示例性實施例中,在圖像處理單元10位于使得鏡50處于攝 像機14的圖像拾取范圍內(nèi)的位置的情況下,將攝像機14拾取的圖像左 右反轉(zhuǎn)。在圖像處理單元10位于使得鏡50處于投影儀16的成像光投影 范圍內(nèi)的位置的情況下,停止從投影儀16投射成像光,或者將鏡50向 上翻。然而,也可以限制圖像處理單元10的位置,以使得圖像處理單元 10不能移動到讓鏡50進入攝像機14的圖像拾取范圍或者投影儀16的成 像光投影范圍的位置,或者使得圖像處理單元IO不能在這樣的位置靜止 不動。
雖然在上述示例性實施例中將圖像處理單元設(shè)置在可滑動地接合于 臺架41的可移動擱板41上,但是也可以將圖像處理單元10安裝在桌子、 地板或者盒狀基座的水平表面上,或者可以將其接合于諸如墻面的垂直 面上。另選的是,可以將圖像處理單元10接合于天花板。
如上所述,根據(jù)本發(fā)明的圖像處理裝置可以允許目標(biāo)的更大自由度, 并且可以有效地工作。
對本發(fā)明示例性實施例的前述描述是為了例示和描述的目的而提供
的。其并非旨在窮舉或者將本發(fā)明限于所公開的確切形式。顯然,許多 修改和變型對于本領(lǐng)域技術(shù)人員是顯而易見的。選擇并描述這些示例性 實施例是為了最好地說明本發(fā)明的原理及其實際應(yīng)用,從而使得本領(lǐng)域 其他技術(shù)人員能夠理解本發(fā)明的適用于所構(gòu)想特定用途的各種實施例和 各種變型例。旨在由所附權(quán)利要求及其等同物來限定本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1、 一種圖像處理裝置,該圖像處理裝置包括-第一圖像拾取單元; 投影單元,其投射成像光;光學(xué)單元,其透射從第一圖像拾取方向進入的光的一部分并將這部 分光導(dǎo)向所述第一圖像拾取單元,同時反射從所述投影單元投射的成像 光的一部分并沿所述第一圖像拾取方向輸出反射光,并且,其反射從第 二圖像拾取方向進入的光的一部分并將這部分光導(dǎo)向所述第一圖像拾取 單元,同時透射從所述投影單元投射的成像光的 一部分并沿所述第二圖 像拾取方向輸出這部分成像光;以及衰減單元,其可移動地設(shè)置在可以接收透過所述光學(xué)單元的成像光 的位置與可以接收由所述光學(xué)單元反射的成像光的位置之間,并且對接 收的成像光進行衰減。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的圖像處理裝置,該圖像處理裝置進一步包 括殼體,所述殼體遮蔽所述第一圖像拾取單元、所述投影單元中的至少 光學(xué)系統(tǒng)、以及所述光學(xué)單元,其中,所述殼體具有第一光射入/射出單元,其接收來自第一圖像拾取方 向的光,并發(fā)射由所述投影單元投射的成像光的一部分;以及第二光射 入/射出單元,其接收來自第二圖像拾取方向的光,并發(fā)射由所述投影單 元投射的成像光的一部分;并且,所述衰減單元被設(shè)計為選擇性地遮蔽所述第一光射入/射出單元和 所述第二光射入/射出單元。
3、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的圖像處理裝置,該圖像處理裝置進一步包 括對由所述投影單元投射的成像光的方向進行調(diào)節(jié)的第一調(diào)節(jié)機構(gòu)。
4、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的圖像處理裝置,該圖像處理裝置進一步包 括第二圖像拾取單元,所述第二圖像拾取單元對通過由所述投影單元投 射的成像光而在其上投影了圖像的預(yù)定顯示區(qū)域的圖像進行拾取。
5、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的圖像處理裝置,該圖像處理裝置包括 圖像處理單元,其由所述第一圖像拾取單元、所述投影單元、所述光學(xué)單元、以及所述衰減單元形成;以及第二調(diào)節(jié)機構(gòu),其調(diào)節(jié)所述圖像處理單元的位置和設(shè)置角度中的至 少一個。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的圖像處理裝置,該圖像處理裝置進一步包 括反射單元,當(dāng)通過所述第二調(diào)節(jié)機構(gòu)的位置調(diào)節(jié)而使得所述圖像處理 單元位于預(yù)定位置時,所述反射單元位于所述第一圖像拾取單元的圖像 拾取范圍內(nèi)。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的圖像處理裝置,該圖像處理裝置進一步包 括對所述圖像處理單元的位置進行檢測的檢測單元。
8、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的圖像處理裝置,其中,當(dāng)由所述檢測單元 檢測到的所述圖像處理單元的位置是使得所述反射單元位于所述第一圖 像拾取單元的圖像拾取范圍內(nèi)的位置時,所述投影單元投射與通過對由 所述第一圖像拾取單元拾取的圖像進行反轉(zhuǎn)而獲得的圖像對應(yīng)的成像 光。
9、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的圖像處理裝置,其中,當(dāng)由所述檢測單元 檢測到的所述圖像處理單元的位置是使得所述反射單元位于所述投影單 元的成像光投影范圍內(nèi)的位置時,所述投影單元停止投射成像光。
10、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的圖像處理裝置,該圖像處理裝置進一步 包括排除機構(gòu),當(dāng)由所述檢測單元檢測到的所述圖像處理單元的位置是 使得所述反射單元位于所述投影單元的成像光投影范圍內(nèi)的位置時,所 述排除機構(gòu)將所述反射單元排除出所述投影單元的成像光投影范圍。
11、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的圖像處理裝置,其中,所述圖像處理單元接合于天花板。
12、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的圖像處理裝置,其中,所述圖像處理單元可滑動地接合于臺架。
全文摘要
本發(fā)明提供圖像處理裝置。該圖像處理裝置包括第一圖像拾取單元;投射成像光的投影單元;光學(xué)單元,其透射從第一圖像拾取方向進入的光的一部分并將這部分光導(dǎo)向所述第一圖像拾取單元,同時反射從所述投影單元投射的成像光的一部分并沿所述第一圖像拾取方向輸出反射光,并且,其反射從第二圖像拾取方向進入的光的一部分并將這部分光導(dǎo)向所述第一圖像拾取單元,同時透射從所述投影單元投射的成像光的一部分并沿所述第二圖像拾取方向輸出這部分成像光;以及衰減單元,其可移動地設(shè)置在兩個位置之間。
文檔編號G03B17/02GK101122729SQ20071009109
公開日2008年2月13日 申請日期2007年4月9日 優(yōu)先權(quán)日2006年8月9日
發(fā)明者安部勉, 新宮淳 申請人:富士施樂株式會社