專利名稱：一種基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)及對準方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及封裝光刻機的對準，特別涉及一種基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)及對準方法。
背景技術(shù)：
在光刻封裝設(shè)備中，要將描繪在掩模版上的管腳或電路圖案通過投影曝光裝置成像在涂有光刻膠等感光材料的曝光對象表面上，曝光對象通常就是前道工藝加工后的帶有電路圖案的將要進行封裝的硅片。之后通過后道刻蝕工藝在曝光對象上形成管腳或電路圖案。
用投影曝光裝置做曝光前，掩模與曝光對象的位置必須對準，通常掩模側(cè)方與曝光對象上均配置有用于對準的標(biāo)記，通過一定的位置對準裝置和位置對準方法，建立起掩模與曝光對象之間的相對位置關(guān)系。掩模和曝光對象的對準需要建立相應(yīng)的對準模型算法。
在申請?zhí)枮?00610023153的中國專利中，設(shè)備中的曝光裝置設(shè)計為寬波段方式，主要是為了消除光學(xué)投影系統(tǒng)在對準波段的色差問題，但這種曝光裝置制造成本偏高、設(shè)計和裝配復(fù)雜。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)及對準方法，通過采用窄波段的設(shè)計方式，并配合色差補償鏡頭，以降低系統(tǒng)的制造成本和系統(tǒng)復(fù)雜度。
為了達到上述的目的，本發(fā)明提供一種基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)，設(shè)置于一個至少由光源、掩模版、承版臺、承版臺運動控制裝置、光學(xué)投影系統(tǒng)、曝光對象、承片臺以及承片臺運動控制裝置組成的投影曝光裝置上，所述的對準系統(tǒng)包括以光學(xué)投影系統(tǒng)的光軸為軸心均勻分布的至少兩套位置對準裝置、設(shè)置于掩模版上的掩模標(biāo)記、設(shè)置于曝光對象上的曝光對象標(biāo)記、設(shè)置于承片臺上的基準標(biāo)記，所述的位置對準裝置通過檢測所述的掩模標(biāo)記、曝光對象標(biāo)記、基準標(biāo)記的位置信息并傳送給承版臺運動控制裝置和承片臺運動控制裝置，以控制掩模版、曝光對象、承片臺位置調(diào)整使其對準，其中，所述的對準系統(tǒng)對應(yīng)每一套位置對準裝置還設(shè)有一色差補償鏡頭和一鏡頭校準單元。
在上述的基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)中，所述的色差補償鏡頭和鏡頭校準單元位于承版臺和光學(xué)投影系統(tǒng)之間，該色差補償鏡頭用于補償光學(xué)投影系統(tǒng)在對準波段的色差。
在上述的基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)中，所述的鏡頭校準單元可通過控制機構(gòu)實現(xiàn)對色差補償鏡頭位置的自動調(diào)整。
在上述的基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)中，所述的位置對準裝置包括照明單元，用于均勻照明掩模標(biāo)記、曝光對象標(biāo)記和基準標(biāo)記；成像單元，用于接受對準標(biāo)記的像；分束棱鏡，用于將標(biāo)記成像到成像單元；以及成像校準單元，用于校準成像單元的位置。
在上述的基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)中，所述的成像校準單元可通過控制機構(gòu)實現(xiàn)對成像單元位置的自動調(diào)整。
本發(fā)明的另一方案是提供一種采用如前所述的對準系統(tǒng)進行位置對準的方法，所述方法包括下列步驟(1)根據(jù)基準標(biāo)記在成像單元內(nèi)的位置信息，由成像校準單元和鏡頭校準單元分別對成像單元和色差補償鏡頭的位置進行校準；(2)獲取掩模標(biāo)記在成像單元中的位置信息，計算掩模版的平移量和旋轉(zhuǎn)量；(3)獲取曝光對象標(biāo)記在成像單元中的位置信息，計算曝光對象的平移量和旋轉(zhuǎn)量；(4)由承版臺運動控制裝置和承片臺運動控制裝置實現(xiàn)掩模版和曝光對象的對準。
本發(fā)明是基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)及對準方法，利用成像單元及色差補償鏡頭的位置校準技術(shù)簡化了系統(tǒng)復(fù)雜度，并且利用色差補償鏡頭使投影曝光裝置設(shè)計相對簡單，降低成本。另外，在曝光過程中，色差補償鏡頭固定不動，可提高系統(tǒng)穩(wěn)定性，并提高產(chǎn)率。


通過以下對本發(fā)明的一實施例結(jié)合其附圖的描述，可以進一步理解其發(fā)明的目的、具體結(jié)構(gòu)特征和優(yōu)點。其中，附圖為圖1為用于制造集成電路或印刷電路板的投影曝光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為掩模版上掩模標(biāo)記及通光窗口的示意圖；圖3為曝光對象和承片臺的位置關(guān)系示意圖；圖4為圖3中基準標(biāo)記的放大示意圖；圖5為曝光對象上曝光對象標(biāo)記的示意圖；圖6為對準系統(tǒng)光路和曝光光路的色差補償原理示意圖；圖7為基于圖像技術(shù)的定位方法的原理圖；圖8為利用成像校準單元和鏡頭校準單元對成像單元和色差補償鏡頭進行位置校準的工作示意圖；圖9為標(biāo)記搜索路徑的示意圖；圖10為掩模位置對準的工作示意圖；圖11為曝光對象位置對準的工作示意圖；圖12為掩模位置對準的流程圖；圖13為曝光對象位置對準的流程圖。
具體實施例方式
以下將對本發(fā)明的基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)及對準方法作進一步的詳細描述。
如圖1所示，用于制造集成電路或印刷電路板的投影曝光裝置，至少包括描繪曝光電路圖案的掩模版5，其置于承版臺51上，并通過承版臺運動控制裝置60在X’、Y’、Z’方向上移動；施加光刻膠的曝光對象8，其置于承片臺9上，并通過承片臺運動控制裝置61在X、Y、Z方向上移動；光學(xué)投影系統(tǒng)7，通過曝光光源1的紫外線曝光，可將掩模版5上的電路圖案投影并轉(zhuǎn)移到曝光對象8上，光學(xué)投影系統(tǒng)7的放大倍率決定掩模版5上的電路圖案投影到曝光對象8上后電路圖案的大小。
本發(fā)明的對準系統(tǒng)設(shè)置于該投影曝光裝置中，其包括以光學(xué)投影系統(tǒng)7的光軸71為軸心均勻分布的至少兩套位置對準裝置(圖中僅畫出兩套，分別表示為2、3，也可根據(jù)需要設(shè)置多套)，設(shè)置于掩模版5上的掩模標(biāo)記52、53，設(shè)置于曝光對象8上的曝光對象標(biāo)記81、82，以及設(shè)置于承片臺9上的基準標(biāo)記91。
繼續(xù)參閱圖1，位置對準裝置2由照明單元23、成像單元24、分束棱鏡21和成像校準單元22組成。分束棱鏡21的作用是使照明單元23和成像單元24共軸照明單元23的光線可通過分束棱鏡21沿光路L25照射到掩模標(biāo)記52、53、曝光對象標(biāo)記81、82以及基準標(biāo)記91上，同時，掩模標(biāo)記52、53、曝光對象標(biāo)記81、82以及基準標(biāo)記91通過分束棱鏡21沿光路L25成像于成像單元24上。成像校準單元22是一個機械校準機構(gòu)，用于對位置對準裝置2的水平和垂向位置進行小行程精確自動調(diào)整，精度為微米級，水平向調(diào)節(jié)時可改變標(biāo)記在成像單元24上的位置，垂向調(diào)節(jié)時可改變成像單元24的焦距。位置對準裝置3同樣由照明單元33、成像單元34、分束棱鏡31以及成像校準單元32組成，在空間布局上位置對準裝置3和位置對準裝置2關(guān)于光學(xué)投影系統(tǒng)7的光軸71對稱，掩模標(biāo)記52和53可以分別同時成像在成像單元24和34上。
圖2是掩模版5上掩模標(biāo)記52、53的示意圖，掩模標(biāo)記52、53是反射型標(biāo)記，設(shè)于掩模版5上電路圖案50的周邊，在空間布局上相對電路圖案50呈中心對稱。掩模標(biāo)記52、53的尺寸在亞毫米級別，其形狀為“十”字型，該形狀可根據(jù)需要設(shè)定，無特殊限制。為了使曝光對象標(biāo)記81(82)和掩模標(biāo)記52(53)，或者基準標(biāo)記91和掩模標(biāo)記52(53)能同時清晰成像在成像單元24(34)上，掩模版5上還開設(shè)有通光窗口56、57，其在掩模版5上的位置請參見圖2。
圖3是曝光對象8在承片臺9上的位置關(guān)系示意圖，同一電路圖案80在曝光對象8上不同的位置進行曝光，并經(jīng)過后道工藝加工后成型。承片臺基準標(biāo)記91設(shè)置在承片臺9上，該標(biāo)記91為反射型標(biāo)記，其尺寸在亞毫米級別，一種典型的基準標(biāo)記91結(jié)構(gòu)可參閱圖4。
圖5是曝光對象標(biāo)記81、82在曝光對象8上的位置示意圖，圖中的曝光對象標(biāo)記81、82被放大顯示，實際情況是該標(biāo)記81、82形成于前道工藝所形成的電路圖案83上，相對于電路圖案83很小，尺寸在亞毫米級別，另外該標(biāo)記81、82形狀可根據(jù)需要設(shè)定，任何形狀均可，無特殊限制。
利用上述三種標(biāo)記(掩模標(biāo)記52、53，曝光對象標(biāo)記81、82，基準標(biāo)記91)可建立掩模版5和曝光對象8之間精確的位置關(guān)系。另外，掩模標(biāo)記、曝光對象標(biāo)記以及承片臺基準標(biāo)記的數(shù)量可根據(jù)不同工藝需要適當(dāng)增減。
由于本發(fā)明采用了窄波段的設(shè)計方式，例如，使光學(xué)投影系統(tǒng)7的設(shè)計波段為350～450nm，則相比現(xiàn)有的寬波段設(shè)計的投影曝光裝置，可大大簡化光學(xué)投影系統(tǒng)7的結(jié)構(gòu)并降低其設(shè)計和制造成本。然而，由于在對準時不能使用350～450nm波段的光線作為對準光源，否則會使曝光對象8提前曝光，使得曝光對象8失效。因此，在對準時為避開曝光波長350～450nm，對準系統(tǒng)波長設(shè)計為550～650nm，這樣在對準時就不會使光刻膠感光，使得曝光對象8失效。
但是由于曝光波長和對準波長不同會使光學(xué)投影系統(tǒng)7在對準波段存在色差問題，如圖6所示，曝光時，曝光波長為350～450nm，掩模版5上的電路圖案經(jīng)過光學(xué)投影系統(tǒng)7后，清晰成像于f’面上；對準時，對準波長為550～650nm，掩模版5上的掩模標(biāo)記(和掩模電路圖案在同一平面上)經(jīng)過光學(xué)投影系統(tǒng)7后清晰成像于f面上。因此，曝光光路和對準光路存在光程差Δff’。
根據(jù)光學(xué)光路的共軛原理，只有f面上的曝光對象標(biāo)記才能清晰成像于掩模版5上，成像單元24(34)才能通過通光窗口56(57)清晰成像曝光標(biāo)記。但實際的曝光對象標(biāo)記在f’面上，利用波長為550～650nm的對準光源進行對準時，曝光對象標(biāo)記在成像單元24(34)中成虛像，使圖像處理單元4無法準確識別標(biāo)記和標(biāo)記位置，使判斷出現(xiàn)誤差。
為解決上述問題，必須補償光學(xué)投影系統(tǒng)7在對準波段的色差，因此本發(fā)明在對準光路中，對應(yīng)每一套位置對準裝置2(3)增加一個色差補償鏡頭54(55)，對曝光光線L11和對準光線L25經(jīng)過光學(xué)投影系統(tǒng)7后的光程差Δff’進行補償，這樣當(dāng)f面與f’重合時，曝光對象標(biāo)記就可在成像單元24(34)成清晰像，使圖像處理單元4準確識別曝光對象標(biāo)記的位置。
色差補償鏡頭54位于通光窗口56的下方，鏡頭校準單元58位于掩模版51和光學(xué)投影系統(tǒng)7之間，其可對色差補償鏡頭54的水平位置進行小行程精確調(diào)整，精度為微米級。通光窗口57、色差補償鏡頭55以及鏡頭校準單元59分別和通光窗口56、色差補償鏡頭54以及鏡頭校準單元58關(guān)于光軸71對稱。這樣的結(jié)構(gòu)設(shè)計是為了將承版臺運動控制裝置60設(shè)計成小行程運動機構(gòu)，降低承版臺51的設(shè)計成本和復(fù)雜度，提高掩模版5的對準效率。同時將承版臺51和承片臺9運動到指定位置，可使基準標(biāo)記91、曝光對象標(biāo)記81、82通過光學(xué)投影系統(tǒng)7以及色差補償鏡頭54(或55)成像到成像單元24(或34)上。
圖7是基于圖像技術(shù)的定位方法的原理圖，該方法適用于掩模版5和曝光對象8的對準。圖7(a)中，標(biāo)記處于程序設(shè)定的對準目標(biāo)位置a，由于掩模上版和曝光對象上片存在一定誤差，使標(biāo)記實際處于位置a’，如圖7(b)所示，位置a和位置a’存在位置偏差Δa，利用圖像處理單元4對成像單元24(或34)中的標(biāo)記圖像進行處理，可計算出該位置偏差Δa。
下面結(jié)合圖8～圖13對本發(fā)明的對準方法進行詳細描述。
首先，根據(jù)基準標(biāo)記91在成像單元24(34)內(nèi)的位置信息，由成像校準單元22(32)和鏡頭校準單元58(59)分別對成像單元24(34)和色差補償鏡頭54(55)的位置進行校準。如圖8所示，在位置對準裝置2和3與投影曝光裝置集成時，成像單元和色差補償鏡頭的位置都由于安裝誤差偏離光學(xué)投影系統(tǒng)7的光軸71，分別為圖中的24’(34’)和54’(55’)。承片臺運動控制裝置61是大行程高精度運動平臺，由于承片臺基準標(biāo)記91在系統(tǒng)中的位置是確定的，因此可以利用成像校準單元22(32)、鏡頭校準單元58(59)、基準標(biāo)記91以及大行程高精度的承片臺運動控制裝置61以及承片臺9對偏離光學(xué)投影系統(tǒng)7的光軸71的成像單元24’(34’)和色差補償鏡頭54’(55’)進行自動校準，圖中的24(34)和54(55)為校準后的成像單元和色差補償鏡頭的位置。
接著，獲取掩模標(biāo)記52(53)在成像單元24(34)中的位置信息，計算掩模版5的平移量和旋轉(zhuǎn)量，其計算原理如圖10所示。圖中，a、b分別為程序設(shè)定的掩模標(biāo)記52、53的對準目標(biāo)位置，分別在成像單元24、34上的位置是確定的，其距離ab是已知的。由于掩模上版和曝光對象上片誤差，使標(biāo)記實際處于位置a’。在成像單元24、34上，掩模標(biāo)記52、53的實際位置a’、b’分別和程序設(shè)定的對準位置a、b存在位置偏差Δa和Δb，位置偏差Δa和Δb可以通過圖像處理單元4計算得到。根據(jù)Δa、Δb以及a和b之間的距離ab可計算出掩模對準時，承版臺需要運動的平移量和旋轉(zhuǎn)量，完成掩模對準。
下面結(jié)合圖12對掩模位置對準的具體過程進行說明。步進承版臺5到程序設(shè)定位置，判斷掩模標(biāo)記52是否在成像單元24的視場內(nèi)，如果掩模標(biāo)記52在視場內(nèi)，則計算其中心在成像單元24中的位置a’；如果掩模標(biāo)記52部分在成像單元24中，則粗略計算掩模標(biāo)記52的中心在成像單元24中的位置a’，通過計算位置a’與目標(biāo)位置a的偏差，運動承版臺51使掩模標(biāo)記52位于目標(biāo)位置附近，然后再次精確計算掩模標(biāo)記52的中心在成像單元24中的位置a’；如果成像單元24中沒有掩模標(biāo)記52，則按如圖9所示預(yù)先設(shè)定的路徑(按螺旋狀從內(nèi)到外)進行搜索，直到搜索到標(biāo)記52，并計算掩模標(biāo)記52中心在成像單元的位置a’。若按預(yù)先設(shè)定的路徑搜索完最大范圍，成像單元24中仍然沒有掩模標(biāo)記52，則終止掩模對準。
判斷掩模標(biāo)記53是否在成像單元34的視場內(nèi)，如果掩模標(biāo)記53在視場內(nèi)，則計算其中心在成像單元34中的位置b’。如果掩模標(biāo)記53不在視場內(nèi)，則判斷成像單元34中是否有掩模標(biāo)記53的部分，如果有，則計算掩模標(biāo)記53部分的中心在成像單元34中的位置b’，步進承版臺5使掩模標(biāo)記53在成像單元34中，然后計算掩模標(biāo)記53的中心在成像單元34中的位置。如果成像單元34中沒有掩模標(biāo)記53，則按如圖9所示預(yù)先設(shè)定的路徑進行搜索，直到搜索到標(biāo)記53，并計算掩模標(biāo)記53中心在成像單元34的位置b’。若按預(yù)先設(shè)定的路徑搜索完最大范圍，成像單元34中仍然沒有掩模標(biāo)記53，則終止掩模對準。
在承版臺5的步進過程中，承版臺5會記錄下步進位置，根據(jù)這些位置、掩模標(biāo)記52、53對準目標(biāo)位置之間的距離ab以及掩模標(biāo)記52、53分別在成像單元24、34上的位置a’、b’，可以計算出掩模對準時，承版臺的步進量和旋轉(zhuǎn)量。
然后，獲取曝光對象標(biāo)記81(82)在成像單元24(34)中的位置信息，計算曝光對象8的平移量和旋轉(zhuǎn)量，其計算原理如圖11所示。圖中，a是掩模標(biāo)記52在成像單元24上的位置，c是曝光對象標(biāo)記81在成像單元24上的位置，曝光對象8對準時，掩模標(biāo)記52和曝光對象標(biāo)記81同時成像于成像單元24上，Δac是程序設(shè)定的曝光對象8對準時掩模標(biāo)記52和曝光對象標(biāo)記81的位置偏差。通常情況下，由于曝光對象8上片到承片臺9后存在一定的位置誤差，因此存在實際的掩模標(biāo)記52和曝光對象標(biāo)記81的位置偏差為Δac’，Δac’-Δac是掩模標(biāo)記52和曝光對象標(biāo)記81對準時的位置偏差，該值可以通過圖像處理單元4得到。利用此方法通過控制高精度承片臺運動控制裝置61，按程序設(shè)定的路徑分別運行到n個曝光對象標(biāo)記處，也可得到n個曝光對象標(biāo)記和掩模對象標(biāo)記的位置偏差(Δac’-Δac)n，根據(jù)這些位置偏差，通過總控制裝置6的位置對準算法可計算出掩模版5和曝光對象8對準時，承片臺運動控制裝置61的平移量和旋轉(zhuǎn)量。
下面結(jié)合圖13對曝光對象位置對準的具體過程進行說明。步進承片臺9到程序設(shè)定位置，判斷曝光對象標(biāo)記81是否在成像單元24的視場內(nèi)，如果曝光對象標(biāo)記81在視場內(nèi)，則計算其中心和掩模標(biāo)記52中心之間的位置偏差Δac’；如果曝光對象標(biāo)記81部分在成像單元24中，則粗略計算曝光對象標(biāo)記81中心在成像單元24中的位置，通過計算該位置與目標(biāo)位置的偏差，運動承片臺8使曝光對象標(biāo)記81位于目標(biāo)位置附近，然后再次精確計算出曝光對象標(biāo)記81的中心在成像單元24中的位置，并得到曝光對象標(biāo)記81中心與掩模標(biāo)記52中心的位置偏差Δac’。如果成像單元24中沒有曝光對象標(biāo)記81，則按如圖9所示預(yù)先設(shè)定的路徑(按螺旋狀從內(nèi)到外)進行搜索，直到搜索到曝光對象標(biāo)記81，計算曝光對象標(biāo)記81中心到掩模標(biāo)記中心52中的位置偏差Δac’。若按預(yù)先設(shè)定的路徑搜索完最大范圍，成像單元24中仍然沒有曝光對象標(biāo)記81，則終止曝光對象對準。
曝光對象8步進到程序設(shè)定的下一個曝光對象標(biāo)記處，循環(huán)執(zhí)行上述程序，直到計算出所有的規(guī)劃路徑上對應(yīng)的曝光對象標(biāo)記中心和掩模標(biāo)記52中心的位置偏差Δac’。
承片臺9步進過程中，記錄下步進位置，根據(jù)這些位置以及規(guī)劃路徑上對應(yīng)的曝光對象標(biāo)記中心分別在成像單元24上的位置，可以計算出曝光對象8對準時，承片臺9的平移量和旋轉(zhuǎn)量。
上述曝光對象8對準方法單獨利用成像單元24實現(xiàn)曝光對象8對準只是實施例之一，實際上，也可以通過單獨利用成像單元34實現(xiàn)曝光對象8對準，甚至為了提高效率，可以同時利用24、34實現(xiàn)曝光對象8對準。
最后，由承版臺運動控制裝置60和承片臺運動控制裝置61實現(xiàn)掩模版5和曝光對象8的對準，即由承版臺運動控制裝置60和承片臺運動控制裝置61根據(jù)掩模版5和曝光對象8相應(yīng)的平移量和旋轉(zhuǎn)量進行運動，實現(xiàn)掩模版5和曝光對象8的對準。
權(quán)利要求
1.一種基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)，設(shè)置于一個至少由光源、掩模版、承版臺、承版臺運動控制裝置、光學(xué)投影系統(tǒng)、曝光對象、承片臺以及承片臺運動控制裝置組成的投影曝光裝置上，所述的對準系統(tǒng)包括以光學(xué)投影系統(tǒng)的光軸為軸心均勻分布的至少兩套位置對準裝置、設(shè)置于掩模版上的掩模標(biāo)記、設(shè)置于曝光對象上的曝光對象標(biāo)記、設(shè)置于承片臺上的基準標(biāo)記，所述的位置對準裝置通過檢測所述的掩模標(biāo)記、曝光對象標(biāo)記、基準標(biāo)記的位置信息并傳送給承版臺運動控制裝置和承片臺運動控制裝置，以控制掩模版、曝光對象、承片臺位置使其對準，其特征在于，所述的對準系統(tǒng)對應(yīng)每一套位置對準裝置還設(shè)有一色差補償鏡頭和一鏡頭校準單元。
2.如權(quán)利要求1所述的基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)，其特征在于所述的色差補償鏡頭和鏡頭校準單元位于承版臺和光學(xué)投影系統(tǒng)之間，該色差補償鏡頭用于補償光學(xué)投影系統(tǒng)在對準波段的色差。
3.如權(quán)利要求1或2所述的基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)，其特征在于所述的鏡頭校準單元可通過控制機構(gòu)實現(xiàn)對色差補償鏡頭位置的自動調(diào)整。
4.如權(quán)利要求1所述的基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)，其特征在于所述的位置對準裝置包括照明單元，用于均勻照明掩模標(biāo)記、曝光對象標(biāo)記和基準標(biāo)記；成像單元，用于接受對準標(biāo)記的像；分束棱鏡，用于將標(biāo)記成像到成像單元；以及成像校準單元，用于校準成像單元的位置。
5.如權(quán)利要求4所述的基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)，其特征在于所述的成像校準單元可通過控制機構(gòu)實現(xiàn)對成像單元位置的自動調(diào)整。
6.一種采用如權(quán)利要求4所述的對準系統(tǒng)進行位置對準的方法，其特征在于，所述方法包括下列步驟(1)根據(jù)基準標(biāo)記在成像單元內(nèi)的位置信息，由成像校準單元和鏡頭校準單元分別對成像單元和色差補償鏡頭的位置進行校準；(2)獲取掩模標(biāo)記在成像單元中的位置信息，計算掩模版的平移量和旋轉(zhuǎn)量；(3)獲取曝光對象標(biāo)記在成像單元中的位置信息，計算曝光對象的平移量和旋轉(zhuǎn)量；(4)由承版臺運動控制裝置和承片臺運動控制裝置實現(xiàn)掩模版和曝光對象的對準。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種基于圖像技術(shù)的對準系統(tǒng)及對準方法，該對準系統(tǒng)設(shè)置于至少由光源、掩模版、承版臺、承版臺運動控制裝置、光學(xué)投影系統(tǒng)、曝光對象、承片臺以及承片臺運動控制裝置組成的投影曝光裝置上，其包括以光學(xué)投影系統(tǒng)光軸為軸均勻分布的至少兩套位置對準裝置、設(shè)于掩模版上的掩模標(biāo)記、設(shè)于曝光對象上的曝光對象標(biāo)記、設(shè)于承片臺上的基準標(biāo)記，該位置對準裝置通過檢測各類標(biāo)記的位置信息并傳送給運動控制裝置，以控制掩模版、曝光對象、承片臺位置調(diào)整使其對準，所述的對準系統(tǒng)對應(yīng)每一套位置對準裝置還設(shè)有一色差補償鏡頭和一鏡頭校準單元。本發(fā)明通過采用窄波段的設(shè)計方式，并配合色差補償鏡頭，可以降低系統(tǒng)的制造成本和系統(tǒng)復(fù)雜度。
文檔編號G03F7/20GK101021694SQ20071003783
公開日2007年8月22日 申請日期2007年3月6日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月6日
發(fā)明者王鵬程, 徐兵 申請人:上海微電子裝備有限公司