專利名稱：光學(xué)近距修正的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及光學(xué)近距修正(OPC, Optical Proximity Correction ) 6勺方'法。
背景技術(shù)：
隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的飛速發(fā)展，半導(dǎo)體器件為了達(dá)到更快的運(yùn)算速度、 更大的資料存儲(chǔ)量以及更多的功能，半導(dǎo)體芯片向更高集成度方向發(fā)展；而 半導(dǎo)體芯片的集成度越高，則半導(dǎo)體器件的臨界尺寸(CD， Critical Dimension) 越小。為了實(shí)現(xiàn)微小的CD，必須使光掩模上更加精細(xì)的圖像聚焦在半導(dǎo)體襯底 的光刻膠上，并且必須增強(qiáng)光學(xué)分辨率，以制造接近光掩模工藝中光學(xué)分辨 率極限的半導(dǎo)體器件。分辨率增強(qiáng)技術(shù)包括利用短波長(zhǎng)光源、相移掩模方法 和利用軸外照射(OAI， Off-Axis Illumination)的方法。申請(qǐng)?zhí)枮?2131645.7 的中國(guó)專利申請(qǐng)公開了一種軸外照射方法，理論上講，在利用OAI的情況下， 分辨率大約比利用傳統(tǒng)照射時(shí)的分辨率高約1.5倍，并且能夠增強(qiáng)聚焦深度 (DOF， depth of focus )。通過(guò)OAI技術(shù)，由光學(xué)系統(tǒng)印制在半導(dǎo)體襯底上 CD的最小空間周期可以被進(jìn)一步縮短，但是會(huì)產(chǎn)生光學(xué)近距效應(yīng)(OPE， Optical Proximity Effect)。光學(xué)近距效應(yīng)源于當(dāng)光掩模上節(jié)距非?？拷碾娐?圖形以微影方式轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體襯底的光刻膠上時(shí)，由于相鄰圖形的光波互相 作用，亦即衍射，而造成最后轉(zhuǎn)移到光刻膠上的圖形扭曲失真，產(chǎn)生依圖形 形狀而定的變動(dòng)。在深亞微米器件中，由于電路圖形非常密集，光學(xué)近距效 應(yīng)會(huì)降低光學(xué)系統(tǒng)對(duì)于曝光圖形的分辨率?，F(xiàn)行的半導(dǎo)體器件制作工藝均是先利用計(jì)算機(jī)系統(tǒng)來(lái)對(duì)待膝光電路圖形 進(jìn)行光學(xué)近距修正以消除光學(xué)近距效應(yīng)，然后再依據(jù)修正過(guò)的待曝光電路圖形制作電路圖形，形成于光掩模上。如圖1所示，在待曝光電路圖形100的各邊上形成分割點(diǎn)w,、 w2、 w3、 w4、 w5、 w6、 w7、 w8、 w9、 w1()，將各邊分成長(zhǎng)度接近曝光工藝臨界尺寸的分割邊，其中分割點(diǎn)W,和\￥2之間的是第 一分割邊u,，分割點(diǎn)w2和w3之間的是第二分割邊u2,分割點(diǎn)w3和w4之間的是第三分割邊U3，分割點(diǎn)\￥4和Ws之間的是第四分割邊U4,分割點(diǎn)w5和w6之間的是第五分割邊u5,分割點(diǎn)w6和w7之間的是第六分割邊u6, 分割點(diǎn)w7和w8之間的是第七分割邊u7，分割點(diǎn)w8和w9之間的是第八分 割邊u8，分割點(diǎn)w9和w1()之間的是第九分割邊u9,分割點(diǎn)w1()和w,之間的是第十分割邊Uu)。在第一分割邊u,上選取第一評(píng)估點(diǎn)SP其中第一評(píng)估點(diǎn)s,位于第一分割邊中間點(diǎn)士第一分割邊長(zhǎng)10%;用OPC模型對(duì)第一評(píng)估點(diǎn)Si進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，如杲第一評(píng)估點(diǎn)S!上的光強(qiáng)值正好等于與具體工藝相關(guān)的光強(qiáng)閾值，就不需要移動(dòng)第一分割邊U,，將第一分割邊U,視為第一邊一次修正邊Un,所述光 強(qiáng)閾值是光刻膠被顯影時(shí)所需要的光強(qiáng)劑量；而當(dāng)評(píng)估點(diǎn)S,光強(qiáng)值小于光強(qiáng) 閾值，那么就需要將第一分割邊U!向外移動(dòng)，形成第一邊一次修正邊Un;評(píng)估點(diǎn)s,光強(qiáng)值大于光強(qiáng)閾值，那么就需要將第一分割邊u,向內(nèi)移動(dòng)，第一邊一次修正邊Uu;計(jì)算第一邊一次修正邊Un的掩模誤差增強(qiáng)因子，所述掩 模誤差增強(qiáng)因子為圖形在晶圓上的臨界尺寸與圖形在光罩上的臨界尺寸的比 值。用上述方法，在第二分割邊U2選取第一評(píng)估點(diǎn)S2后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第二邊一次修正邊1112，計(jì)算第二邊一次修正邊U,2的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第三分割邊U3選取第一評(píng)估點(diǎn)S3后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第三邊一次修正邊U13，計(jì)算第三邊一次修正邊Uu的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第四分割邊U4選取第一評(píng)估點(diǎn)S4后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第四邊一次修正邊Uw，計(jì)算第四邊一次修正邊U,4的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第五分割邊Us選取第一評(píng)估點(diǎn)Ss后進(jìn)行 光強(qiáng)計(jì)算，形成第五邊一次修正邊1115,計(jì)算第五邊一次修正邊U,s的掩模誤 差增強(qiáng)因子；在第六分割邊U6選取第一評(píng)估點(diǎn)S6后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第六 邊一次修正邊Ut6，計(jì)算第六邊一次修正邊U,6的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第七分割邊U7選取第一評(píng)估點(diǎn)S7后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第七邊一次修正邊Ul7，計(jì)算第七邊一次修正邊Un的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第八分割邊118選取第一評(píng)估點(diǎn)Ss后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第八邊一次修正邊Ui8,計(jì)算第八邊一次修正邊U,8的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第九分割邊U9選取第一評(píng)估點(diǎn)S9后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第九邊一次修正邊U,9，計(jì)算第九邊一次修正邊Uw的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第十分割邊Uw選取第一評(píng)估點(diǎn)S,。后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第十邊 一次修正邊UM，計(jì)算第十邊一次修正邊U2()的掩模誤差增強(qiáng)因子。如圖2所示，將第一邊一次修正邊Uu至第十邊一次修正邊U2o的掩模誤 差增強(qiáng)因子與經(jīng)驗(yàn)值進(jìn)行比較，如果其中有一條一次修正邊的掩模誤差增強(qiáng) 因子大于等于經(jīng)驗(yàn)值，所述經(jīng)驗(yàn)值為1.3~1.7，那么不管其余一次修正邊的掩 模誤差增強(qiáng)因子是否小于經(jīng)驗(yàn)值，對(duì)每條第一次修正邊都進(jìn)行進(jìn)一步修正； 首先在第一邊一次修正邊Un上選取第二評(píng)估點(diǎn)Su,所述第二評(píng)估點(diǎn)Sn位于 第一邊一次修正邊Un中間點(diǎn)士第一邊一次修正邊Uu長(zhǎng)度10%,用OPC模型 對(duì)第二評(píng)估點(diǎn)Su進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，并將光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值比較，通過(guò)比較結(jié)果 移動(dòng)第一邊一次修正邊Un，形成第一邊二次修正邊1121，計(jì)算第一邊二次修 正邊U21的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第二邊一次修正邊U,2選取第二評(píng)估點(diǎn)Sl2后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第二邊二次修正邊U22，計(jì)算第二邊二次修正邊U22的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第三邊一次修正邊Ui3選取第二評(píng)估點(diǎn)Sn后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第三邊二次修正邊U23，計(jì)算第三邊二次修正邊1123的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第四邊一次修正邊U,4選取第二評(píng)估點(diǎn)S,4后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第四邊二次修正邊U24，計(jì)算第四邊二次修正邊U24的掩模誤差增強(qiáng)因子；在 第五邊一次修正邊Ui5選取第二評(píng)估點(diǎn)Su后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第五邊二次修正邊U25，計(jì)算第五邊二次修正邊U25的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第六邊一次 修正邊U,6選取第二評(píng)估點(diǎn)S16,后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第六邊二次修正邊U26， 計(jì)算第六邊二次修正邊U26的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第七邊一次修正邊Un選 取第二評(píng)估點(diǎn)Sn后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第七邊二次修正邊1127，計(jì)算第七邊 二次修正邊U27的掩4莫誤差增強(qiáng)因子；在第八邊一次修正邊U18選取第二評(píng)估 點(diǎn)Si8后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第八邊二次修正邊U28,計(jì)算第八邊二次修正邊 U28的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第九邊一次修正邊Uw選取第二評(píng)估點(diǎn)S,9后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，形成第九邊二次修正邊U29，計(jì)算第九邊二次修正邊U29的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第十邊一次修正邊U2o選取第二評(píng)估點(diǎn)S加后進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算， 形成第十邊二次修正邊U3G，計(jì)算第十邊二次修正邊U3Q的掩模誤差增強(qiáng)因子。 循環(huán)上述圖2步驟，直至所有M次修正邊的掩模誤差增強(qiáng)因子小于經(jīng)驗(yàn) 值時(shí)結(jié)束修正?，F(xiàn)有技術(shù)由于需要循環(huán)6 8次才能結(jié)束對(duì)待曝光電路圖形的修正，并且由 于每次循環(huán)都要對(duì)每條修正邊進(jìn)行評(píng)估點(diǎn)選取、光強(qiáng)計(jì)算及修正，因此花費(fèi) 時(shí)間長(zhǎng)。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明解決的問(wèn)題是提供一種光學(xué)近距修正的方法，節(jié)省光學(xué)近距修正 所用時(shí)間。為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供一種光學(xué)近距修正的方法，包括下列步驟a. 將待曝光電路圖形的各邊分割成尺寸為曝光工藝臨界尺寸80%~120% 的第一分割邊、第二分割邊......第N分割邊；b. 分別對(duì)第一分割邊、第二分割邊......第N分割邊進(jìn)行一次修正，獲得對(duì)應(yīng)的一次修正邊，并計(jì)算一次修正邊掩才莫誤差增強(qiáng)因子；c. 將第一分割邊、第二分割邊......第N分割邊的一次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子分別與經(jīng)驗(yàn)值進(jìn)行比較；d. 只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的一次修正邊進(jìn)行再次修 正，獲得對(duì)應(yīng)的二次修正邊，并計(jì)算二次修正邊對(duì)應(yīng)掩模誤差增強(qiáng)因子；e. 同理以此類推，只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的二次修正邊進(jìn)行再次修正，計(jì)算分割邊對(duì)應(yīng)三次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子.......直到只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的M次修正邊進(jìn)行M+l次修正，得到 所有分割邊對(duì)應(yīng)M+l次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子小于經(jīng)驗(yàn)值時(shí)結(jié)束修正。b步驟中一次修正包括如下步驟在第一分割邊上選取第一評(píng)估點(diǎn)，并對(duì) 第一評(píng)估點(diǎn)進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算；將第一評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值進(jìn)行比較，根據(jù) 比較值對(duì)第一分割邊進(jìn)行修正形成第一分割邊對(duì)應(yīng)一次修正邊；以此類推修 正第二分割邊、第三分割邊......第N分割邊，形成對(duì)應(yīng)的一次修正邊。一次修正還包括如下步驟第一評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值小于光強(qiáng)閾值，將對(duì)應(yīng)分 割邊向外移動(dòng)，形成對(duì)應(yīng)的一次修正邊；當(dāng)?shù)谝辉u(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值大于光強(qiáng)閾值， 將對(duì)應(yīng)分割邊向內(nèi)移動(dòng)，形成對(duì)應(yīng)一次修正邊；當(dāng)?shù)谝辉u(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值等于光 強(qiáng)閾值，將分割邊作為對(duì)應(yīng)的一次修正邊。第一評(píng)估點(diǎn)位置=分割邊中間點(diǎn)土分割邊長(zhǎng)10%。e步驟中M+l次修正包括如下步驟只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于 經(jīng)驗(yàn)值的分割邊的M次修正邊上選取第M+l評(píng)估點(diǎn)，并對(duì)第M+l評(píng)估點(diǎn)進(jìn) 行光強(qiáng)計(jì)算；將第M+1評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值進(jìn)行比較，根據(jù)比較值對(duì)相 應(yīng)的M次修正邊修正，形成對(duì)應(yīng)M+l次修正邊，其中M為自然數(shù)。M+l次修正還包括如下步驟第M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值小于光強(qiáng)閾值，將對(duì) 應(yīng)M次修正邊向外移動(dòng)，形成對(duì)應(yīng)的M+l次修正邊；第M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值 大于光強(qiáng)閾值，將對(duì)應(yīng)M次修正邊向內(nèi)移動(dòng)，形成對(duì)應(yīng)的M+l次修正邊；第 M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)l直等于光強(qiáng)閾值，將M次修正邊作為對(duì)應(yīng)的M+l次修正邊，其中M為自然數(shù)。第M+l評(píng)估點(diǎn)位置- M次修正邊中間點(diǎn)士M次修正邊長(zhǎng)10%。 所述光強(qiáng)閾值是光刻膠^1顯影時(shí)所需要的光強(qiáng)劑量。 所述經(jīng)-瞼值為1.3~1.7。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)本發(fā)明只對(duì)大于或等于經(jīng)驗(yàn)值 的待曝光電路圖形修正邊進(jìn)行再修正，而對(duì)小經(jīng)驗(yàn)值的修正邊不進(jìn)行修正， 這樣隨著修正次數(shù)增加，需要修正的修正邊數(shù)量是依次遞減的，修正的時(shí)間 也依次隨之遞減。因此降低了待曝光電路圖形總修正的時(shí)間，提高了效率。


圖1至圖2是現(xiàn)有技術(shù)對(duì)待曝光電路圖形進(jìn)行光學(xué)近距修正的示意圖； 圖3至圖5是本發(fā)明對(duì)待曝光電路圖形進(jìn)行光學(xué)近距修正的實(shí)施例示意圖；圖6為本發(fā)明對(duì)待曝光電路圖形進(jìn)行光學(xué)近距修正過(guò)程中分割邊及修正 邊移動(dòng)距離同光強(qiáng)與光強(qiáng)閾值差值的關(guān)系圖；圖7是本發(fā)明對(duì)待曝光電路圖形進(jìn)行光學(xué)近距修正的流程圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)有技術(shù)由于需要循環(huán)6~8次才能結(jié)束對(duì)待曝光電路圖形的修正，并且 由于每次循環(huán)都要對(duì)每條修正邊進(jìn)行評(píng)估點(diǎn)選取、光強(qiáng)計(jì)算及修正，因此花 費(fèi)時(shí)間長(zhǎng)。本發(fā)明只對(duì)大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的待曝光電路圖形修正邊進(jìn)行再修 正，而對(duì)小經(jīng)驗(yàn)值的修正邊不進(jìn)行修正，這樣隨著修正次數(shù)增加，需要修正 的修正邊數(shù)量是依次遞減的，修正的時(shí)間也依次隨之遞減。因此降低了待曝 光電路圖形總修正的時(shí)間，提高了效率。為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu) 點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式
做詳細(xì)的說(shuō)明。圖7是本發(fā)明對(duì)待曝光電路圖形進(jìn)行光學(xué)近距修正的流程圖。如圖7所示，執(zhí)行步驟S201將待曝光電路圖形的各邊分割成尺寸為曝光工藝臨界尺寸 80%~120%的第一分割邊、第二分割邊......第N分割邊。執(zhí)行步驟S202分別對(duì)第一分割邊、第二分割邊......第N分割邊進(jìn)行一次修正，獲得對(duì)應(yīng)的一次修正邊，并計(jì)算一次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子。本實(shí)施例中， 一次修正包括在第一分割邊上選取第一評(píng)估點(diǎn)，并對(duì)第 一評(píng)估點(diǎn)進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算；將第一評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值進(jìn)行比較，根據(jù)比 較值對(duì)第 一分割邊進(jìn)行修正形成第 一分割邊對(duì)應(yīng) 一次修正邊；以此類推修正 第二分割邊、第三分割邊......第N分割邊，形成對(duì)應(yīng)的一次修正邊。一次修正還包括第一評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值小于光強(qiáng)閾值，將對(duì)應(yīng)分割邊向外 移動(dòng)，形成對(duì)應(yīng)的一次修正邊；當(dāng)?shù)谝辉u(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值大于光強(qiáng)閾值，將對(duì)應(yīng) 分割邊向內(nèi)移動(dòng)，形成對(duì)應(yīng)一次修正邊；當(dāng)?shù)谝辉u(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值等于光強(qiáng)閾值， 將分割邊作為對(duì)應(yīng)的一次修正邊。第一評(píng)估點(diǎn)位置=分割邊中間點(diǎn)±分割邊長(zhǎng)10%。執(zhí)行步驟S203將第一分割邊、第二分割邊......第N分割邊的一次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子分別與經(jīng)驗(yàn)值進(jìn)行比較。本實(shí)施例中，所述經(jīng)驗(yàn)值為1.3-1.7,具體經(jīng)驗(yàn)值為1.3、 1.4、 1.5、 1.6 或1.7。執(zhí)行步驟S204只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的一次修正邊進(jìn) 行再次修正，獲得對(duì)應(yīng)的二次修正邊，并計(jì)算二次修正邊對(duì)應(yīng)掩模誤差增強(qiáng) 因子。執(zhí)行步驟S205同理以此類推，只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值 的二次修正邊進(jìn)行再次修正，計(jì)算分割邊對(duì)應(yīng)三次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子.......直到只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的M次修正邊進(jìn)行M+l次修正，得到所有分割邊對(duì)應(yīng)M+l次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子小于經(jīng)驗(yàn) 值時(shí)結(jié)束修正。本實(shí)施例中，M+l次修正包括如下步驟只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或 等于經(jīng)驗(yàn)值的分割邊的M次修正邊上選取第M+l評(píng)估點(diǎn)，并對(duì)第M+l評(píng)估 點(diǎn)進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算；將第M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值進(jìn)行比較，根據(jù)比較值 對(duì)相應(yīng)的M次^修正邊1參正，形成對(duì)應(yīng)M+l次^"正邊，其中M為自然數(shù)。M+l次修正還包括如下步驟第M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值小于光強(qiáng)閾值，將對(duì) 應(yīng)M次修正邊向外移動(dòng)，形成對(duì)應(yīng)的M+l次修正邊；第M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值 大于光強(qiáng)閾值，將對(duì)應(yīng)M次修正邊向內(nèi)移動(dòng)，形成對(duì)應(yīng)的M+l次修正邊；第 M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值等于光強(qiáng)閾值，將M次修正邊作為對(duì)應(yīng)的M+l次修正邊， 其中M為自然數(shù)。第M+l評(píng)估點(diǎn)位置=M次修正邊中間點(diǎn)士M次修正邊長(zhǎng)10%。圖3至圖5是本發(fā)明對(duì)電路圖形進(jìn)行光學(xué)近距修正的示意圖。如圖3所 示，在待曝光電路圖形200的各邊上形成分割點(diǎn)W1()1、 W1()2、 W1()3、 W104、 W105、 W1Q6、 W1Q7、 W1Q8、 W1Q9、 Wu。，將各邊分成長(zhǎng)度接近曝光工藝臨界尺 寸的分割邊；其中分割點(diǎn)W1()1和W1()2之間的分割邊為第 一分割邊U1()1 ，分割 點(diǎn)\￥1()2和Wu)3之間的分割邊為第二分割邊U1()2,分割點(diǎn)W旭和\￥1()4之間的分割邊是第三分割邊U1Q3，分割點(diǎn)WiQ4和Wu)5之間的分割邊是第四分割邊U104，分割點(diǎn)Wu)5和\￥1()6之間的分割邊是第五分割邊U1()5，分割點(diǎn)W賜和 W107之間的分割邊是第六分割邊U106,分割點(diǎn)W107和W108之間的分割邊是第七分割邊U,，分割點(diǎn)W咖和W!09之間的分割邊是第八分割邊Uu)8，分割點(diǎn) Wu)9和Wuo之間的分割邊是第九分割邊U，，分割點(diǎn)Wuo和W,o!之間的分割邊是第十分割邊Uuo。本實(shí)施例中，所述接近曝光工藝臨界尺寸的分割邊為分割邊長(zhǎng)度是曝光工藝臨界尺寸的80%~120%，具體第一分割迫Uhm......第十分割邊Un。的長(zhǎng)度可以為曝光工藝臨界尺寸的80%、 90%、 100%、 110°/。或120°/。。在第一分割邊u101上選取第一評(píng)估點(diǎn)s朋，其中第一評(píng)估點(diǎn)s101位于第一分割邊U朋中間點(diǎn)士第一分割邊U,w長(zhǎng)度10%;用OPC模型對(duì)第一評(píng)估點(diǎn)S101 進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，如果笫一評(píng)估點(diǎn)S1Q1上的光強(qiáng)值正好等于與具體工藝相關(guān)的 光強(qiáng)閾值，就不需要移動(dòng)第一分割邊U1()1,將第一分割邊U而作為第一邊一 次修正邊Um，所述光強(qiáng)閾值是光刻膠被顯影時(shí)所需要的光強(qiáng)劑量；而當(dāng)評(píng) 估點(diǎn)Sun光強(qiáng)值小于光強(qiáng)閾值，那么就需要將第一分割邊U,向外移動(dòng)，形 成第一邊一次修正邊Um;當(dāng)評(píng)估點(diǎn)Sun光強(qiáng)值大于光強(qiáng)閾值，那么就需要將 第一分割邊Uhm向內(nèi)移動(dòng)，形成第一邊一次修正邊Uin;具體移動(dòng)距離根據(jù) 光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值的比值大小來(lái)決定，即移動(dòng)距離的大小同光強(qiáng)與光強(qiáng)閾 值之間的差值成正比(如圖6所示)；計(jì)算第一邊一次修正邊Um的掩模誤 差增強(qiáng)因子，所述掩模誤差增強(qiáng)因子為圖形在晶圓上的臨界尺寸與圖形在光 罩上的臨界尺寸的比值。用上述方法，在第二分割邊U,02上選取第一評(píng)估點(diǎn)Su)2，對(duì)第一評(píng)估點(diǎn)S啦進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，并將光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值比較，根據(jù)比較結(jié)果修正第二分割 邊Uu)2,形成第二邊一次修正邊U112，計(jì)算第二邊一次修正邊Un2的掩模誤 差增強(qiáng)因子；在第三分割邊U朋上選取第一評(píng)估點(diǎn)S1()3,對(duì)第一評(píng)估點(diǎn)Sli)3 進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，并將光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值比較，根據(jù)比較結(jié)果修正第三分割邊 U103,形成第三邊一次修正邊Um,計(jì)算第三邊一次修正邊UH3的掩模誤差增 強(qiáng)因子；在第四分割邊U1()4上選取第 一評(píng)估點(diǎn)S1()4，計(jì)算第一評(píng)估點(diǎn)S1()4光強(qiáng)， 比較光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值，根據(jù)比較值修正第四分割邊U1()4，形成第四邊一次 修正邊U,M,計(jì)算第四邊一次修正邊Um的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第五分割 邊U朋上選取第一評(píng)估點(diǎn)S1()5,計(jì)算第一評(píng)估點(diǎn)Su)5光強(qiáng)，并將光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值比較，根據(jù)比較結(jié)果修正第五分割邊Uu)5,形成第五邊一次修正邊Uu5，計(jì)算第五邊一次修正邊Un5的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第六分割邊U賜上選取第一評(píng)估點(diǎn)Su)6，計(jì)算第一評(píng)估點(diǎn)Su)6光強(qiáng)，并將光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值比較，根據(jù)比較結(jié)杲修正第六分割邊U,。6,形成第六邊一次修正邊Un6,計(jì)算第六邊一次修正邊U116的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第七分割邊Un)7上選取第一評(píng)估點(diǎn) S107,計(jì)算第一評(píng)估點(diǎn)Sun光強(qiáng)，并將光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值比較，根據(jù)比較結(jié)果 修正第七分割邊U1G7，形成第七邊一次修正邊U117，計(jì)算第七邊一次修正邊Un7的掩模誤差增強(qiáng)因子；在第八分割邊Un)8上選取第一評(píng)估點(diǎn)Sn)8,計(jì)算第一評(píng)估點(diǎn)S順光強(qiáng)，并將光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值比較，根據(jù)比較結(jié)果修正第八分 割邊Uu)8，形成第八邊一次修正邊U118，計(jì)算第八邊一次修正邊Uns的掩模 誤差增強(qiáng)因子；在第九分割邊Uu)9上選取第一評(píng)估點(diǎn)S1Q9,計(jì)算第一評(píng)估點(diǎn)Sw光強(qiáng)，并將光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值比較，根據(jù)比較結(jié)果修正第九分割邊U,，形成第九邊一次修正邊U 9,計(jì)算第九邊一次修正邊Um的掩模誤差增強(qiáng)因 子；在第十分割邊Uu。上選取第一評(píng)估點(diǎn)S，，計(jì)算第一評(píng)估點(diǎn)Sn。光強(qiáng)，并 將光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值比較，根據(jù)比較結(jié)果修正第十分割邊Uu。，形成第十邊 一次修正邊U12。，計(jì)算第十邊一次修正邊U1M的掩模誤差增強(qiáng)因子。本實(shí)施例中，第一評(píng)估點(diǎn)S,。2位于第二分割邊U啦中間點(diǎn)士第二分割邊 U啦長(zhǎng)度10%、第一評(píng)估點(diǎn)S朋位于第三分割邊U朋中間點(diǎn)士第三分割邊U")3長(zhǎng)度10%、第一評(píng)估點(diǎn)Su)4位于第四分割邊Uu)4中間點(diǎn)士第四分割邊Ui04長(zhǎng)度 100/。、第一評(píng)估點(diǎn)S朋位于第五分割邊U,05中間點(diǎn)士第五分割邊U朋長(zhǎng)度10%、 第一評(píng)估點(diǎn)Su)6位于第六分割邊U,06中間點(diǎn)士第六分割邊UK)6長(zhǎng)度10%、第一 評(píng)估點(diǎn)Sk)7位于第七分割逸Uh)7中間點(diǎn)士第七分割邊U麗長(zhǎng)度10%、第一評(píng)估 點(diǎn)S咖位于第八分割邊Uu)8中間點(diǎn)士第八分割邊111()8長(zhǎng)度10%、第一評(píng)估點(diǎn) Sn)9位于第九分割邊U1()9中間點(diǎn)土第九分割邊Uu)9長(zhǎng)度10%、第一評(píng)估點(diǎn)Sll0位于第十分割邊U11()中間點(diǎn)士第十分割邊U11Q長(zhǎng)度10%。如圖4所示，將第一邊一次修正邊U川至第十邊一次修正邊Um的掩模誤差 增強(qiáng)因子與經(jīng)驗(yàn)值進(jìn)行比較，所述經(jīng)驗(yàn)值為1.3 1.7，本實(shí)施例優(yōu)選1.5;對(duì)小于經(jīng)驗(yàn)值的一次修正邊不進(jìn)行評(píng)估及修正，而對(duì)大于等于經(jīng)驗(yàn)值的一次修正 邊進(jìn)行進(jìn)一步修正。由于第一邊一次修正邊U川的掩模誤差增強(qiáng)因子大于等于經(jīng)驗(yàn)值，在第一 邊一次修正邊U出上選取第二評(píng)估點(diǎn)Sm,所述第二評(píng)估點(diǎn)Sm位于第一邊一次 修正邊U山中間點(diǎn)士第一邊一次修正邊U川長(zhǎng)度10%；用OPC模型對(duì)第二評(píng)估點(diǎn) S,u進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，如果第二評(píng)估點(diǎn)Sm上的光強(qiáng)值正好等于與具體工藝相關(guān) 的光強(qiáng)閾值，就不需要移動(dòng)第一邊一次修正邊U出，將第一邊一次修正邊U川 作為第一邊二次修正邊11121;而當(dāng)?shù)诙u(píng)估點(diǎn)Sm光強(qiáng)值小于光強(qiáng)閾值，那么 就需要將第一邊一次修正邊Um向外移動(dòng)，形成第一邊二次修正邊11121;當(dāng)?shù)?二評(píng)估點(diǎn)Sm光強(qiáng)值大于光強(qiáng)閾值，那么就需要將第一邊一次修正邊U川向內(nèi) 移動(dòng)，形成第一邊二次修正邊Um;其中，具體移動(dòng)距離根據(jù)光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾 值的比值大小來(lái)決定，即移動(dòng)距離的大小同光強(qiáng)與光強(qiáng)闞值之間的差值成 正比(如圖6所示)；計(jì)算第一邊二次修正邊1)121的掩模誤差增強(qiáng)因子。由于第二邊一次修正邊Un2的掩模誤差增強(qiáng)因子小于經(jīng)驗(yàn)值，不需要對(duì)第 二邊一次修正邊Un2進(jìn)行選取第二評(píng)估點(diǎn)、對(duì)第二評(píng)估點(diǎn)進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算以及對(duì) 修正第二邊一次修正邊Um等步驟。由于第三邊一次修正邊Un3的掩模誤差增強(qiáng)因子大于等于經(jīng)驗(yàn)值，在第三邊一次修正邊Um上選取第二評(píng)估點(diǎn)Sn3，所述第二評(píng)估點(diǎn)Sm位于第三邊一次修正邊Uu3中間點(diǎn)士第三邊一次修正邊Uu3長(zhǎng)度10%，對(duì)第二評(píng)估點(diǎn)Su3進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，根據(jù)光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值的比較結(jié)果修正第三邊一次修正邊Un3，形成 第三邊二次修正邊Um，并計(jì)算第三邊二次修正邊11123的掩模誤差增強(qiáng)因子；由于第四邊一次修正邊Un4的掩模誤差增強(qiáng)因子大于等于經(jīng)驗(yàn)值，在第四邊一 次修正邊Uu4上選取第二評(píng)估點(diǎn)Sn4,第二評(píng)估點(diǎn)Sn4位于第四邊一次修正邊Um中間點(diǎn)土第四邊一次修正邊Um長(zhǎng)度10。/。，計(jì)算第二評(píng)估點(diǎn)Su4的光強(qiáng)，比 較光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值，并根據(jù)比較結(jié)果形成第四邊二次修正邊11124,計(jì)算第四邊二次修正邊U,24的掩模誤差增強(qiáng)因子；第五邊一次修正邊Un5的掩模誤差增 強(qiáng)因子大于等于經(jīng)驗(yàn)值，在第五邊一次修正邊Uu5上選取第二評(píng)估點(diǎn)Sn5,第二評(píng)估點(diǎn)s, 15位于第五邊一 次修正邊u, 15中間點(diǎn)±笫五邊一 次修正邊u, 15長(zhǎng)度10%，計(jì)算第二評(píng)估點(diǎn)Sns的光強(qiáng)，根據(jù)光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值的比較結(jié)果形成第五邊二次修正邊U,25，計(jì)算第五邊二次修正邊U,25的掩模誤差增強(qiáng)因子；第六 邊一次修正邊Uu6的掩模誤差增強(qiáng)因子大于等于經(jīng)驗(yàn)值，在第六邊一次修正邊 Uu6上選取第二評(píng)估點(diǎn)Su6，第二評(píng)估點(diǎn)Sn6位于第六邊一次修正邊Un6中間點(diǎn) ±第六邊一次修正邊11 6長(zhǎng)度10%,計(jì)算第二評(píng)估點(diǎn)Sn6的光強(qiáng)，根據(jù)光強(qiáng)值與 光強(qiáng)閾值比較結(jié)果形成第六邊二次修正邊11126，計(jì)算第六邊二次修正邊11126的掩模誤差增強(qiáng)因子；第七邊一次修正邊Un7的掩模誤差增強(qiáng)因子大于等于經(jīng)驗(yàn)值，在第七邊一次修正邊Un7上選取第二評(píng)估點(diǎn)Su7，第二評(píng)估點(diǎn)Sn7位于第七 邊一次修正邊Uu7中間點(diǎn)士第七邊一次修正邊Uu7長(zhǎng)度10。/c),計(jì)算第二評(píng)估點(diǎn)Su7的光強(qiáng)，根據(jù)光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值比較結(jié)果形成第七邊二次修正邊Um,計(jì)算第七邊二次修正邊11127的掩模誤差增強(qiáng)因子。由于第八邊一次修正邊Um的掩模誤差增強(qiáng)因子小于經(jīng)驗(yàn)值，不需要對(duì)第八邊一次修正邊Um進(jìn)行選取第二評(píng)估點(diǎn)、對(duì)第二評(píng)估點(diǎn)進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算以及對(duì) 修正第八邊一次修正邊U! 18等步驟。由于第九邊一次修正邊Uu9的掩模誤差增強(qiáng)因子大于等于經(jīng)驗(yàn)值，在第九邊一次修正邊Un9上選取第二評(píng)估點(diǎn)Su9，第二評(píng)估點(diǎn)Su9位于第九邊一次修正 邊Uu9中間點(diǎn)士第九邊一次修正邊Un9長(zhǎng)度10。/。，計(jì)算第二評(píng)估點(diǎn)Sn9的光強(qiáng)，比較光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值，并根據(jù)比較結(jié)果形成第九邊二次修正邊11129，計(jì)算第九邊二次修正邊U,29的掩模誤差增強(qiáng)因子；第十邊一次修正邊U,2o的掩模誤差 增強(qiáng)因子大于等于經(jīng)驗(yàn)值，在第十邊一次修正邊U，上選取第二評(píng)估點(diǎn)S，， 第二評(píng)估點(diǎn)Sw位于第十邊一次修正邊U^中間點(diǎn)±第十邊一 次修正邊11120長(zhǎng)度10%,計(jì)算第二評(píng)估點(diǎn)S,2Q的光強(qiáng)，根據(jù)光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值比較結(jié)果形成第 十邊二次修正邊U，，計(jì)算第十邊二次修正邊U,3。的掩模誤差增強(qiáng)因子。如圖5所示，將第一邊二次修正邊Um、第三邊二次修正邊Um、第四邊二次修正邊Um、第五邊二次修正邊Uu5、第六邊二次修正邊U！26、第七邊二次修正邊Um、第九邊二次修正邊U!29和第十邊二次修正邊U，的掩模誤差增強(qiáng) 因子與經(jīng)驗(yàn)值進(jìn)行比較，所述經(jīng)驗(yàn)值為1.3 1.7，本實(shí)施例優(yōu)選1.5;對(duì)小于經(jīng) 驗(yàn)值的第二次修正邊不進(jìn)行評(píng)估及修正，而對(duì)大于等于經(jīng)驗(yàn)值的第二次修正 邊進(jìn)行進(jìn)一步修正。由于第 一邊二次修正邊Um的掩模誤差增強(qiáng)因子小于經(jīng)驗(yàn)值，不需要對(duì)第 一邊二次修正邊Um進(jìn)行選取第三評(píng)估點(diǎn)、對(duì)第三評(píng)估點(diǎn)進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算以及對(duì)修正第一邊二次修正邊1;121等步驟。由于第三邊二次修正邊11123的掩模誤差增強(qiáng)因子大于等于經(jīng)驗(yàn)值，在第三 邊二次修正邊Um上選取第三評(píng)估點(diǎn)S123，所述第三評(píng)估點(diǎn)S 123位于第三邊二次 修正邊Um中間點(diǎn)±第三邊二次修正邊11123長(zhǎng)度10%;用OPC才莫型對(duì)第三評(píng)估點(diǎn) S,23進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算，將光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值比較，根據(jù)比較結(jié)果修正第三邊二次 修正邊Um，形成第三邊三次修正邊Un3;計(jì)算第三邊三次修正邊11133的掩模 誤差增強(qiáng)因子。由于第四邊二次修正邊11124的掩模誤差增強(qiáng)因子小于經(jīng)驗(yàn)值，不需要對(duì)第 四邊二次修正邊Um進(jìn)行選取第三評(píng)估點(diǎn)、對(duì)第三評(píng)估點(diǎn)進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算以及對(duì)修正第四邊二次修正邊Uo4等步驟。由于第五邊二次修正邊U!25的掩模誤差增強(qiáng)因子大于等于經(jīng)驗(yàn)值，在第五 邊二次修正邊Uu5上選取第三評(píng)估點(diǎn)S,25，所述第三評(píng)估點(diǎn)S,25位于第五邊二次 修正邊11125中間點(diǎn)士第五邊二次修正邊U!25長(zhǎng)度10。/。，對(duì)第三評(píng)估點(diǎn)S,25進(jìn)行光 強(qiáng)計(jì)算，根據(jù)光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值的比較結(jié)杲修正第五邊二次修正邊11125，形成第五邊三次修正邊U,35，并計(jì)算第五邊三次修正邊U,35的掩模誤差增強(qiáng)西子； 第六邊二次修正邊U,26的掩模誤差增強(qiáng)因子大于等于經(jīng)驗(yàn)值，在第六邊二次修 正邊Ui26上選取第三評(píng)估點(diǎn)Su6，第三評(píng)估點(diǎn)S,26位于第六邊二次修正邊Ut26中 間點(diǎn)士第六邊二次修正邊U!26長(zhǎng)度100/。，計(jì)算第三評(píng)估點(diǎn)S!26的光強(qiáng)，比較光強(qiáng) 值與光強(qiáng)閾值，并根據(jù)比較結(jié)果形成第六邊三次修正邊Ui36,計(jì)算第六邊三次 修正邊Un6的掩模誤差增強(qiáng)因子。由于第七邊二次修正邊11127的掩模誤差增強(qiáng)因子小于經(jīng)驗(yàn)值，不需要對(duì)第 七邊二次修正邊U,27進(jìn)行選取第三評(píng)估點(diǎn)、對(duì)第三評(píng)估點(diǎn)進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算以及對(duì) 修正第七邊二次修正邊U,27等步驟。第九邊二次修正邊U。9的掩模誤差增強(qiáng)因子大于等于經(jīng)驗(yàn)值，在第九邊 二次修正邊11129上選取第三評(píng)估點(diǎn)S129，第三評(píng)估點(diǎn)Su9位于第九邊二次修正 邊Uu9中間點(diǎn)±第九邊二次修正邊11129長(zhǎng)度10%，計(jì)算第三評(píng)估點(diǎn)S,29的光強(qiáng)， 根據(jù)光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值的比較結(jié)果形成第九邊三次修正邊U139,計(jì)算第九邊 三次修正邊U139的掩模誤差增強(qiáng)因子。由于第十邊二次修正邊1113()的掩模誤差增強(qiáng)因子小于經(jīng)驗(yàn)值，不需要對(duì)第 十邊二次修正邊U加進(jìn)行選取第三評(píng)估點(diǎn)、對(duì)第三評(píng)估點(diǎn)進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算以及對(duì) 修正第十邊二次修正邊Un。等步驟。繼續(xù)將第三邊三次修正邊Un3、第五邊三次修正邊11135、第六邊三次修正邊11136和第九邊三次修正邊U,39的掩模誤差增強(qiáng)因子與經(jīng)驗(yàn)值進(jìn)行比較，對(duì) 掩模誤差增強(qiáng)因子小于經(jīng)驗(yàn)值的三次修正邊不進(jìn)行評(píng)估及修正，而只對(duì)掩模 誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的三次修正邊進(jìn)行再次修正，計(jì)算分割邊對(duì) 應(yīng)四次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子.......直到只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的M次修正邊進(jìn)行M+1次修正，得到所有分割邊對(duì)應(yīng)M+l次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子小于經(jīng)驗(yàn)值時(shí)結(jié)束修正。本實(shí)施例中，M+l次修正包括如下步驟只對(duì)掩^t誤差增強(qiáng)因子大于或 等于經(jīng)驗(yàn)值的分割邊的M次修正邊上選取第M+l評(píng)估點(diǎn)，并對(duì)第M+l評(píng)估 點(diǎn)進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算；將第M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值進(jìn)行比較，根據(jù)比較值 對(duì)相應(yīng)的M次纟務(wù)正邊^(qū)f奮正，形成對(duì)應(yīng)M+l次〗務(wù)正邊，其中M為自然數(shù)。M+l次修正還包括如下步驟第M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值小于光強(qiáng)閾值，將對(duì) 應(yīng)M次修正邊向外移動(dòng)，形成對(duì)應(yīng)的M+l次修正邊；第M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值 大于光強(qiáng)閾值，將對(duì)應(yīng)M次修正邊向內(nèi)移動(dòng)，形成對(duì)應(yīng)的M+l次修正邊；第 M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值等于光強(qiáng)閾值，將M次修正邊作為對(duì)應(yīng)的M+l次修正邊， 其中M為自然數(shù)。雖然本發(fā)明己以較佳實(shí)施例披露如上，但本發(fā)明并非限定于此。任何本 領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動(dòng)與修改， 因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1. 一種光學(xué)近距修正的方法，其特征在于，包括下列步驟a.將待曝光電路圖形的各邊分割成尺寸為曝光工藝臨界尺寸80％～120％的第一分割邊、第二分割邊......第N分割邊；b.分別對(duì)第一分割邊、第二分割邊......第N分割邊進(jìn)行一次修正，獲得對(duì)應(yīng)的一次修正邊，并計(jì)算一次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子；c.將第一分割邊、第二分割邊......第N分割邊的一次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子分別與經(jīng)驗(yàn)值進(jìn)行比較；d.只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的一次修正邊進(jìn)行再次修正，獲得對(duì)應(yīng)的二次修正邊，并計(jì)算二次修正邊對(duì)應(yīng)掩模誤差增強(qiáng)因子；e.同理以此類推，只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的二次修正邊進(jìn)行再次修正，計(jì)算分割邊對(duì)應(yīng)三次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子......直到只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的M次修正邊進(jìn)行M+1次修正，得到所有分割邊對(duì)應(yīng)M+1次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子小于經(jīng)驗(yàn)值時(shí)結(jié)束修正。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)近距修正的方法，其特征在于b步驟中一次 修正包括如下步驟在第一分割邊上選取第一評(píng)估點(diǎn)，并對(duì)第一評(píng)估點(diǎn)進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算；將第一 評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值與光強(qiáng)閾值進(jìn)行比較，根據(jù)比較值對(duì)第一分割邊進(jìn)行修正形 成第一分割邊對(duì)應(yīng)一次修正邊；以此類推修正第二分割邊、第三分割 邊......第N分割邊，形成對(duì)應(yīng)的一次修正邊。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)近矩修正的方法，其特征在于 一次修正還包 括如下步驟第一評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值小于光強(qiáng)閾值，將對(duì)應(yīng)分割邊向外移動(dòng)，形成對(duì)應(yīng)的一 次修正邊；當(dāng)?shù)谝辉u(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值大于光強(qiáng)闞值，將對(duì)應(yīng)分割邊向內(nèi)移動(dòng)，形成對(duì)應(yīng)一次修正邊；當(dāng)?shù)谝辉u(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值等于光強(qiáng)閾值，將分割邊作為 對(duì)應(yīng)的一次^修正邊。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)近矩修正的方法，其特征在于第一評(píng)估點(diǎn)位 置=分割邊中間點(diǎn)±分割邊長(zhǎng)10%。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)近距修正的方法，其特征在于e步驟中M+l 次修正包括如下步驟只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的分割邊的M次修正邊上選取 第M+l評(píng)估點(diǎn)，并對(duì)第M+l評(píng)估點(diǎn)進(jìn)行光強(qiáng)計(jì)算；將第M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng) 值與光強(qiáng)閾值進(jìn)行比較，根據(jù)比較值對(duì)相應(yīng)的M次修正邊修正，形成對(duì)應(yīng) M+l次修正邊，其中M為自然數(shù)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)近距修正的方法，其特征在于M+l次修正還 包括如下步驟第M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值小于光強(qiáng)閾值，將對(duì)應(yīng)M次修正邊向外移動(dòng)，形成 對(duì)應(yīng)的M+l次修正邊；第M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值大于光強(qiáng)閾值，將對(duì)應(yīng)M次 修正邊向內(nèi)移動(dòng)，形成對(duì)應(yīng)的M+l次修正邊；第M+l評(píng)估點(diǎn)光強(qiáng)值等于 光強(qiáng)閾值，將M次^^正邊作為對(duì)應(yīng)的M+l次^修正邊，其中M為自然數(shù)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)近距修正的方法，其特征在于第M+1評(píng)估點(diǎn) 位置=M次f務(wù)正邊中間點(diǎn)士M次》務(wù)正邊長(zhǎng)10%。
8. 根據(jù)權(quán)利要求2至7任何一項(xiàng)所述的光學(xué)近距修正的方法，其特征在于 所述光強(qiáng)閾值是光刻膠被顯影時(shí)所需要的光強(qiáng)劑量。
9. 才艮據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)近距修正的方法，其特征在于所述經(jīng)驗(yàn)值為 1.3 1.7。
全文摘要
一種光學(xué)近距修正的方法，包括將待曝光電路圖形的各邊分割成第一分割邊……第N分割邊，進(jìn)行一次修正，獲得對(duì)應(yīng)的一次修正邊，計(jì)算一次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子；將一次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子分別與經(jīng)驗(yàn)值進(jìn)行比較；只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的一次修正邊進(jìn)行再次修正，獲得對(duì)應(yīng)的二次修正邊，計(jì)算二次修正邊對(duì)應(yīng)掩模誤差增強(qiáng)因子；同理，只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的二次修正邊進(jìn)行再次修正，計(jì)算三次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子……直到只對(duì)掩模誤差增強(qiáng)因子大于或等于經(jīng)驗(yàn)值的M次修正邊進(jìn)行M+1次修正，得到所有M+1次修正邊掩模誤差增強(qiáng)因子小于經(jīng)驗(yàn)值時(shí)結(jié)束修正。經(jīng)上述步驟，降低了修正的時(shí)間，提高了效率。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101246313SQ20071003767
公開日2008年8月20日 申請(qǐng)日期2007年2月13日 優(yōu)先權(quán)日2007年2月13日
發(fā)明者劉慶煒 申請(qǐng)人:中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司